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赛灵思全新7 系列产品刷新FPGA 技术 - Xilinx

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封面专题<br />

前几代产品的系统性能的基础上提升两<br />

倍以上。<br />

作 为 低 成 本 市 场 上 S p a r t a n - 6<br />

FPGA 的平稳过渡,新款 ArtixTM-7 系列<br />

将面向低成本、低功耗应用在价格、功耗<br />

和小尺寸方面引领整个行业。<br />

三个系列中的最后一个系列完美地<br />

填补了高端的 Virtex-7 和低端的 Artix-7<br />

之间的空白。KintexTM-7 具有优异的性<br />

价比优势,是赛灵思用于替代主流 ASIC<br />

和 ASSP 的平台。<br />

2x Price /<br />

Performance<br />

ASICs/ASSP<br />

Market<br />

赛灵思可编程平台开发高级副总裁<br />

Victor Peng 预计,像 Kintex-7 这样的中<br />

坚产品便于赛灵思提供综合而完整的产<br />

品系列,从而适用于更多的应用。<br />

Peng 表示:“以前,为了填补中端<br />

市场,赛灵思需要同时开发一款 Spartan<br />

的高性能、大容量版本和一款 Virtex 的<br />

低成本、小容量和低性能版本。但是<br />

Spartan 和 Virtex 在架构、IP 和引脚数量<br />

方面存在显著差异。现在,Artix、Kintex<br />

和 Virtex 系列均采用统一的 7 系列架构,<br />

6 赛灵思中国通讯 37 期<br />

2x System<br />

Performance<br />

40nm<br />

FPGA<br />

Market<br />

2x Power<br />

Reduction<br />

客户能够更加方便地在系列间移植设计,<br />

让其 IP 投资发挥出更大的成效。”<br />

因为可扩展式处理平台(EPP)和<br />

7 系列器件均使用相同的 Virtex 逻辑架<br />

构结构,客户还可以把 7 系列上的设计<br />

块移植到即将发布的 EPP 逻辑部分(详<br />

见《Xcell 杂志》第 71 期封面报道:http://<br />

www.xilinx.com/publications/archives/<br />

xcell/Xcell71.pdf)。此外,该通用逻辑架<br />

构还支持 ARM AXI4(高级可扩展接口)<br />

协议。这意味着赛灵思的内部 IP 开发人<br />

7 Series<br />

(28nm)<br />

图1 — 赛灵思最新 7 系列进一步丰富了 FPGA 产品<br />

员和数以百计的 IP 合作伙伴可以更加方<br />

便地就赛灵思 FPGA 选用并实施兼容于<br />

AXI 的 IP。如果许多客户已经构建了兼<br />

容于 AXI 的 IP,这样就能更加便于把设<br />

计从 ASIC 或者 ASSP 移植到 7 系列<br />

FPGA。<br />

2.5x<br />

Capacity<br />

Peng 指出,除了能够给客户和 IP<br />

合作伙伴带来重大优势,该统一架构还<br />

能让赛灵思今后的开发工作更加重点突<br />

出、分工明确。Peng 表示:“这意味着我<br />

们的企业可以一次性完成相关工作。”<br />

28nm HPL:功耗、容量和性能的完美<br />

组合<br />

随着新款 7 系列的推出,赛灵思通<br />

过与台湾晶圆厂 TSMC 合作,引入了最<br />

新优化的高 k 金属门(HKMG)高性能、<br />

低功耗(HPL)工艺,完成了制造策略的<br />

调整,使之进一步与现代 IC 设计的实际<br />

情况相结合。<br />

过去,FPGA 厂商都是在晶圆厂<br />

推出最新的半导体工艺之后,立即在其<br />

性能最高的变种上实施设计。不过,从<br />

90nm 工艺开始,漏电就成为一个严重的<br />

问题。而且该问题针对 65nm 和 40nm<br />

更为严重。在 28nm 工艺节点上,如果<br />

不加以处理,漏电电流将占器件功耗的<br />

50% 以上。除了在器件没有工作的时候<br />

还耗用电力,运行时的漏电电流还会产<br />

生额外的热量,而这种热量会进而加重<br />

漏电。特别是对连续使用的高性能应用<br />

而言,这种恶性循环会缩短器件的寿命,<br />

导致灾难性的 IC 故障。这会严重影响在<br />

给定应用中使用 FPGA 的可行性以及系<br />

统的可靠性。<br />

在限制 28nm 的高性能工艺的漏<br />

电问题上,晶圆厂已经取得了重大进展。<br />

赛灵思与其新的晶圆厂合作伙伴 TSMC<br />

合作,针对 7 系列对该厂的新款 HKMG<br />

HPL 工艺进行了优化,重点是在缩小几<br />

何尺寸的同时提高容量和系统性能,同<br />

时降低功耗。<br />

Peng 表示,通过用 HPL 工艺取代<br />

HP 工艺,赛灵思可以将功耗降低 50%,<br />

而性能方面的降幅只有 3%。通过融合<br />

HPL 工艺与在 7 系列中实现的综合性强<br />

化节能措施,与上一代密度相同的产品<br />

相比,可以让总体能耗下降 50%。<br />

Peng 表示, 50% 的能耗下降可以<br />

带给设计小组两个选择:“在 7 系列中以<br />

此前一半的功耗实现类似规模的 Virtex-6<br />

或者 Spartan-6 设计,或者在 [ 新 ] 设计

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