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Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...

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Abbildung 19: Durchstimmbarer Spektrometertyp. ................................................................................ 45<br />

Abbildung 20: Statischer Spektrometertyp. ................................................................................................ 46<br />

Abbildung 21: a) reales Spektrum einer monochromatischen Welle, b) aufgezeichnetes<br />

Spektrum eines realen Spektrometers. ......................................................................................................... 46<br />

Abbildung 22: a) das von der Lichtquelle ausgestrahlte Spektrum, b) die einzelnen<br />

Intensitäten der Resonatoren, welche <strong>zu</strong>sammen das Gesamtspektrum abbilden. ................... 47<br />

Abbildung 23: Mikroskopaufnahme eines 3-D-Nanoimprint-Stempels mit bis <strong>zu</strong> 64<br />

verschiedenen Höhen [105]. .............................................................................................................................. 54<br />

Abbildung 24: Weißlichtinterferometermessung der Oberflächenstruktur eines 3-D-<br />

Nanoimprint-Stempels. Die Zahlen repräsentieren die designte Höhe und die gemessene (in<br />

Klammern). Die untere Zeichnung zeigt eine Liniendarstellung des Profils [105]. .................... 54<br />

Abbildung 25: WLI-Messung, um die Oberflächenrauigkeit einer Mesavertiefung <strong>zu</strong><br />

analysieren [105]. ................................................................................................................................................... 55<br />

Abbildung 26: Stempel (oben) und da<strong>zu</strong>gehörige Prägung (unten). Die Oberflächenrauigkeit<br />

beträgt jeweils weniger als 1 nm. .................................................................................................................... 55<br />

Abbildung 27: Abhängigkeit der Schichtdicke von der Schleuderdrehzahl (nach Backschritt)<br />

bei einer Schleuderdauer von 60 s für mr-UVCur06 (links) und mr-UVCur21 (rechts) laut<br />

Hersteller [119], [120]. ........................................................................................................................................ 58<br />

Abbildung 28: Messaufbau mit a) Spektrometer, b) Lichtquelle, c) Transmissionsmessung<br />

sowie d) Reflexionsmessung. ............................................................................................................................. 63<br />

Abbildung 29: Mikroskopspektrometer Axio Imager D1 der Firma Carl Zeiss. ........................... 64<br />

Abbildung 30: Temporärer Messaufbau der Firma Opsolution. ......................................................... 65<br />

Abbildung 31: Darstellung eines EVG501-Manual-Thermo-Compression-Bonder-Systems.<br />

Dieses System wird für die Heißprägungen an der TU Braunschweig verwendet [159]. ........ 67<br />

Abbildung 32: Schematische Zeichnung der EVG501-Heißprägeanlage beim Bestücken der<br />

Prägekammer. Der Schichtstapel aus (von unten nach oben) elastischer Unterlage <strong>zu</strong>r<br />

Druckverteilung, opakem Stempel und beschichtetem Substrat wird auf dem unteren<br />

Probenhalter justiert. ............................................................................................................................................ 68<br />

Abbildung 33: Schematische Zeichnung der EVG501-Heißprägeanlage während des<br />

Prägeprozesses. Nach dem Evakuieren der Prägekammer wird die Prägung mittels Druck<br />

und Hitze ausgeführt. ............................................................................................................................................ 69<br />

Abbildung 34: Schematische Zeichnung der EVG501-Heißprägeanlage nach dem Abkühlen.<br />

Das geprägte PMMA wird mittels Pressluftkühlung unter seine Glastemperatur abgekühlt,<br />

um es so wieder formstabil <strong>zu</strong> machen. Der Stapel aus Stempel und Substrat kann nun<br />

manuell herausgenommen und getrennt werden. ................................................................................... 69<br />

Abbildung 35: Am INA hergestellte Stempel nach den Prägeversuchsreihen. Der linke<br />

Stempel ist noch mit dem Substrat verbunden. Eine erfolgreiche Trennung war nicht<br />

möglich. Rechts <strong>zu</strong> sehen ist ein Teilstück eines bei einem Trennungsversuch zerbrochenen<br />

Stempels. .................................................................................................................................................................... 70<br />

Abbildung 36: Karl-SÜSS-MA4-Mask-Aligner. ............................................................................................ 72<br />

Abbildung 37: Transmission von Borosilicatglas bei einer Dicke von 2 mm [161]. ................... 74<br />

Abbildung 38: Vakuum-Adapter für den MA4 im INA. Material: Quarzglas. In der<br />

Explosionszeichnung (links) sind von unten nach oben <strong>zu</strong> erkennen: erste Quarzplatte mit<br />

IV

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