Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...
Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...
Untersuchungen zu Fabry-Pérot Filterfeldern - KOBRA - Universität ...
Erfolgreiche ePaper selbst erstellen
Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.
Abbildung 19: Durchstimmbarer Spektrometertyp. ................................................................................ 45<br />
Abbildung 20: Statischer Spektrometertyp. ................................................................................................ 46<br />
Abbildung 21: a) reales Spektrum einer monochromatischen Welle, b) aufgezeichnetes<br />
Spektrum eines realen Spektrometers. ......................................................................................................... 46<br />
Abbildung 22: a) das von der Lichtquelle ausgestrahlte Spektrum, b) die einzelnen<br />
Intensitäten der Resonatoren, welche <strong>zu</strong>sammen das Gesamtspektrum abbilden. ................... 47<br />
Abbildung 23: Mikroskopaufnahme eines 3-D-Nanoimprint-Stempels mit bis <strong>zu</strong> 64<br />
verschiedenen Höhen [105]. .............................................................................................................................. 54<br />
Abbildung 24: Weißlichtinterferometermessung der Oberflächenstruktur eines 3-D-<br />
Nanoimprint-Stempels. Die Zahlen repräsentieren die designte Höhe und die gemessene (in<br />
Klammern). Die untere Zeichnung zeigt eine Liniendarstellung des Profils [105]. .................... 54<br />
Abbildung 25: WLI-Messung, um die Oberflächenrauigkeit einer Mesavertiefung <strong>zu</strong><br />
analysieren [105]. ................................................................................................................................................... 55<br />
Abbildung 26: Stempel (oben) und da<strong>zu</strong>gehörige Prägung (unten). Die Oberflächenrauigkeit<br />
beträgt jeweils weniger als 1 nm. .................................................................................................................... 55<br />
Abbildung 27: Abhängigkeit der Schichtdicke von der Schleuderdrehzahl (nach Backschritt)<br />
bei einer Schleuderdauer von 60 s für mr-UVCur06 (links) und mr-UVCur21 (rechts) laut<br />
Hersteller [119], [120]. ........................................................................................................................................ 58<br />
Abbildung 28: Messaufbau mit a) Spektrometer, b) Lichtquelle, c) Transmissionsmessung<br />
sowie d) Reflexionsmessung. ............................................................................................................................. 63<br />
Abbildung 29: Mikroskopspektrometer Axio Imager D1 der Firma Carl Zeiss. ........................... 64<br />
Abbildung 30: Temporärer Messaufbau der Firma Opsolution. ......................................................... 65<br />
Abbildung 31: Darstellung eines EVG501-Manual-Thermo-Compression-Bonder-Systems.<br />
Dieses System wird für die Heißprägungen an der TU Braunschweig verwendet [159]. ........ 67<br />
Abbildung 32: Schematische Zeichnung der EVG501-Heißprägeanlage beim Bestücken der<br />
Prägekammer. Der Schichtstapel aus (von unten nach oben) elastischer Unterlage <strong>zu</strong>r<br />
Druckverteilung, opakem Stempel und beschichtetem Substrat wird auf dem unteren<br />
Probenhalter justiert. ............................................................................................................................................ 68<br />
Abbildung 33: Schematische Zeichnung der EVG501-Heißprägeanlage während des<br />
Prägeprozesses. Nach dem Evakuieren der Prägekammer wird die Prägung mittels Druck<br />
und Hitze ausgeführt. ............................................................................................................................................ 69<br />
Abbildung 34: Schematische Zeichnung der EVG501-Heißprägeanlage nach dem Abkühlen.<br />
Das geprägte PMMA wird mittels Pressluftkühlung unter seine Glastemperatur abgekühlt,<br />
um es so wieder formstabil <strong>zu</strong> machen. Der Stapel aus Stempel und Substrat kann nun<br />
manuell herausgenommen und getrennt werden. ................................................................................... 69<br />
Abbildung 35: Am INA hergestellte Stempel nach den Prägeversuchsreihen. Der linke<br />
Stempel ist noch mit dem Substrat verbunden. Eine erfolgreiche Trennung war nicht<br />
möglich. Rechts <strong>zu</strong> sehen ist ein Teilstück eines bei einem Trennungsversuch zerbrochenen<br />
Stempels. .................................................................................................................................................................... 70<br />
Abbildung 36: Karl-SÜSS-MA4-Mask-Aligner. ............................................................................................ 72<br />
Abbildung 37: Transmission von Borosilicatglas bei einer Dicke von 2 mm [161]. ................... 74<br />
Abbildung 38: Vakuum-Adapter für den MA4 im INA. Material: Quarzglas. In der<br />
Explosionszeichnung (links) sind von unten nach oben <strong>zu</strong> erkennen: erste Quarzplatte mit<br />
IV