Aufrufe
vor 3 Jahren

Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

Entwicklung einer Nanotechnologie-Plattform für die ... - JuSER

4 DIE

4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN Lack-Homogenität durch die Air-Cushion Technik zu erkennen. Mit Hilfe der NX-2000 können somit durch homogene Druckverteilungen auch z.B. Einflüsse von Partikeln oder Unebenheiten von Stempel und Substrat kompensiert werden. Auch Probleme durch unebene oder verkippte Parallelplatten werden bei der Druckluftpresse gänzlich umgangen [103]. Folie Druckluft Vakuum a) b) Abbildung 4.2: Funktionsdarstellung der Nanoimprint-Anlage NX-2000, a) Evakuieren der Prozesskammer, b) Nanoimprint-Prozess durch Fluten der Prozesskammer mit Druckluft. a) b) Abbildung 4.3: Vergleich zweier Ergebnisse, wie sie mit einer Parallelplattenpresse (a) und einer Druckluftpresse (b) auf einem 100 mm Wafer erzielt worden sind [103]. 35

4 DIE HERSTELLUNGSTECHNOLOGIEN Die NX-2000 wird über einen PC gesteuert, wobei die Bedienungsoberfläche auf der Programmierungs-Software „Labview“ basiert [104]. Hier können Parameter wie Imprint-Zeit, -Druck, und -Temperatur gewählt werden. Diese Parameter müssen stets den gegebenen Umständen, wie der Lackdicke, -viskosität oder Stempeltiefe, angepasst werden. Die Dosis, welche der vollständigen Härtung der UV-Lacke dient, wird über die Belichtungszeit während des Imprints festgelegt. Für thermische Prozesse kann die Belüftungstemperatur gewählt werden, welche stets unterhalb der Glasübergangstemperatur der verwendeten Polymere liegen muss, damit sich diese während der Druckverringerung in fester Form befinden (vergleiche Abbildung 2.1 c). Ferner wird über die NX-2000 Software die Evakuierungszeit vor dem Druckluftprozess bestimmt. Diese sollte bei wenig viskosen UV-Lacken jedoch nicht zu lang gewählt werden, da sich durch deren gute Fließfähigkeit unerwünschte Verformungen ergeben können. Der Standardwert für UV-NIL-Prozesse wurde mit 20 s empirisch ermittelt. Die Druck- und Temperaturverläufe während eines Prozesses können im Desktopfenster in-situ abgelesen werden. Abbildung 4.4 zeigt einen typischen Verlauf der Druck und Temperaturparameter während eines UV-Imprint-Prozesses. 550 450 Imprint Zylinder Druck [psi] 350 250 150 Temperatur [°C] 50 -50 45 35 25 15 5 0 500 1000 1500 2000 Temperatur Belichtung 0 500 1000Zeit 1500 2000 Abbildung 4.4: Druck- und Temperaturverlauf während eines UV-Nanoimprint-Prozesses. 36