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Untersuchung des reaktiven Sputterprozesses zur Herstellung von ...

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6.2. Ätzverhalten <strong>von</strong> ZnO-Einkristallen 131<br />

einem Ätzschritt in Kalilauge. In der Abbildung heben sich die einzelnen Kristallitsäulen<br />

<strong>von</strong>einander ab. Durch einen selektiven Ätzangriff werden einzelne Gruppen <strong>von</strong><br />

Kristallitsäulen entfernt, während andere Säulen nur langsam abgetragen werden. Dadurch<br />

entstehen bis zum Substrat reichende Löcher, deren senkrecht zum Substrat verlaufende<br />

Seitenwände durch die benachbarten Kristallitsäulen gebildet werden. Die Kristallite in<br />

der Umgebung <strong>von</strong> entfernten Kristallitsäulen werden zusätzlich <strong>von</strong> der Seite angegriffen,<br />

so dass sich die entstandenen Löcher mit der Ätzdauer lateral ausdehnen.<br />

Die beste, <strong>zur</strong> Zeit bekannte Oberflächenstruktur für die Anwendung in Silizium-<br />

Dünnschichtsolarzellen ist die in Abb. 2.13 gezeigte, regelmäßige Kraterstruktur der Schicht<br />

RF3.<br />

Alle hier beschriebenen ZnO:Al-Schichten besitzen eine kolumnare Struktur und eine starke<br />

Textur mit der c-Achse senkrecht <strong>zur</strong> Substratoberfläche. Die meisten Schichten besitzen zusätzlich<br />

eine kompakte Schichtstruktur, die vergleichbar mit der Zone 2 <strong>des</strong> modifizierten Thornton-<br />

Modells ist [Kluth et al. (2003)]. Das unterschiedliche Ätzverhalten der im Rahmen dieser Arbeit<br />

untersuchten, kompakten Schichten konnte nicht auf strukturelle Eigenschaften, die mittels XRD<br />

bestimmt wurden, <strong>zur</strong>ückgeführt werden. Das bedeutet, dass sich ZnO:Al-Schichten mit nahezu<br />

identischen elektrischen, optischen und strukturellen Eigenschaften in einem Ätzschritt deutlich<br />

unterschiedlich verhalten können.<br />

Ein vollständiges, mikroskopisches Verständnis <strong>des</strong> Ätzverhaltens konnte bislang nicht erarbeitet<br />

werden. Es ist nicht klar, welche Eigenschaft der ZnO:Al-Schichten für das unterschiedliche<br />

Ätzverhalten oder für den bevorzugten Ätzangriff an bestimmten Positionen verantwortlich<br />

ist. Um die Komplexität <strong>des</strong> Ätzverhaltens der ZnO:Al-Schichten besser verstehen zu können,<br />

wird das Ätzverhalten am einfachsten Beispiel, den ZnO-Einkristallen, betrachtet.<br />

6.2 Ätzverhalten <strong>von</strong> ZnO-Einkristallen<br />

Das Ätzverhalten <strong>von</strong> Zinkoxid wurde bereits vor mehreren Jahrzehnten an Einkristallen untersucht<br />

[Mariano und Hanneman (1963), Heiland und Kunstmann (1969)]. Die REM-Aufnahmen<br />

der Einkristall-Oberflächen in Abb. 6.2 wurden <strong>von</strong> Müller (2004) nach einem Ätzschritt in<br />

Salzsäure (oben) oder Natronlauge (unten) angefertigt. Die Bilder zeigen die Zink-terminierte<br />

(001)-Oberfläche (links) und die Sauerstoff-terminierte (001)-Oberfläche (rechts). Diese beiden<br />

gegenüberliegenden, polaren Oberflächen entwickeln in den Ätzmedien deutlich unterschiedliche<br />

Morphologien. Auf der Zink-terminierten (001)-Oberfläche erfolgt der Angriff der Salzsäure<br />

fast ausschließlich an den Positionen <strong>von</strong> Kristalldefekten, an denen sich hexagonale Krater<br />

mit einem festem Öffnungswinkel bilden. Die Seitenflächen der Krater entsprechen den un-

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