catalyseurs electrochimiques en couches minces pour l ... - Iuvsta.org
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PROPRIETES TRIBOLOGIQES ET RESISTANCE A L’OXYDATION À<br />
CHAUD DE REVETEMENTS NANOSTRUCTURES Cr-Si-N<br />
SYNTHETISES PAR UN PROCEDE HYBRIDE ARC-MAGNETRON<br />
V. Rachpech 1 , V. Chapusot 2 , J.F. Pierson 1 , A. Billard 1 , J. von Stebut 1<br />
1 Laboratoire de Sci<strong>en</strong>ce et Génie des Surfaces – Ecole des Mines – Parc de Saurupt – CS14234 -<br />
54042 Nancy cedex<br />
2 PVDco s.à.r.l. – 55, Grand rue – 54360 Méhoncourt<br />
Contact : V. Rachpech<br />
Tél. (+33) 3 83 58 42 56<br />
Fax (+33) 3 83 53 47 64<br />
Mél. vishnu.rachpech@mines.inpl-nancy.fr<br />
L’usinage sans lubrification nécessite la protection des plaquettes de coupe par des<br />
revêtem<strong>en</strong>ts durs et résistant à l’oxydation à chaud et aux chocs thermiques. Parmi les<br />
candidats susceptibles de remplir ces conditions, les revêtem<strong>en</strong>ts nanostructurés obt<strong>en</strong>us par<br />
des procédés PVD sembl<strong>en</strong>t intéressants, du fait notamm<strong>en</strong>t de leur niveau de dureté élevé (><br />
40 GPa) comparé à celui des revêtem<strong>en</strong>ts céramiques classiques (CrN, TiN, …).<br />
Nous prés<strong>en</strong>tons ici le cas des revêtem<strong>en</strong>ts Cr-Si-N synthétisés par un procédé hybride<br />
consistant <strong>en</strong> l’évaporation par arc cathodique d’une cible de chrome et la pulvérisation<br />
simultanée d’une cible de silicium à partir d’une source magnétron sur des substrats mus <strong>en</strong><br />
rotation, le tout <strong>en</strong> prés<strong>en</strong>ce d’une atmosphère réactive argon-azote.<br />
Après une brève description des relations <strong>en</strong>tre les conditions de synthèse des revêtem<strong>en</strong>ts,<br />
leurs propriétés structurales et morphologiques et leur dureté, nous nous attachons à<br />
caractériser leurs propriétés tribologiques ainsi que leur résistance à l’oxydation à chaud <strong>en</strong><br />
fonction de leur t<strong>en</strong>eur <strong>en</strong> silicium. Dans ce travail, nous portons une att<strong>en</strong>tion particulière à<br />
l’évolution de la morphologie et de la dureté des films après recuit, issues de leur<br />
cristallisation au cours des traitem<strong>en</strong>ts thermiques réalisés jusqu’à 900°C.
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