Laboratório - Nabertherm
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Modelo padrão para operação por lotes<br />
Tmáx 1100 °C<br />
Termoelemento tipo K<br />
Modelo de forno em mesa, com reator de vidro de sílica com abertura de ambos os lados<br />
Reator é retirado para esvaziar o forno<br />
Modelo extra para operação por lotes<br />
Sistemas de introdução de gás diferentes<br />
Modelo de vácuo, conforme a bomba empregue até 10 -2 mbar<br />
Reator em vidro de sílica com abertura de ambos os lados, ondulado para melhor movimento da carga no tubo<br />
Indicações sobre os diferentes tubos de trabalho, vide pág. 39<br />
Jogo para facilitar o carregamento e o descarregamento do tubo de trabalho no seguinte modelo:<br />
- Reator fechado de um lado em vidro de sílica ou aço inox 1.4841, com pá integrada para misturar melhor a<br />
carga<br />
- Mecanismo basculante esquerda/direita. Para o enchimento e para o tratamento térmico, o forno é tombado<br />
para a direita no batente, para que a carga seja alimentada para dentro do forno. Para esvaziar, o forno é<br />
tombado para o outro lado para voltar a extrair o pó de dentro do reator.<br />
- Retirada do reator deixa de ser necessária<br />
- Forno montado na estrutura inferior<br />
- Estrutura inferior guiada sobre roletes<br />
Estrutura com fuso manual para regulação do ângulo de inclinação ao encher, durante o tratamento térmico e<br />
para esvaziar o tubo<br />
Mostrador digital do ângulo de inclinação do forno<br />
Modelo padrão para processos contínuos<br />
Tmáx 1100 °C<br />
- Termoelemento tipo K<br />
- Tubo de trabalho com abertura de ambos os lados em vidro de sílica<br />
Tmáx 1300 °C<br />
- Termoelemento tipo S<br />
- Tubo de trabalho aberto de ambos os lados em cerâmica C 530, não estanque a gás<br />
RSR 120/1000/13 com tremonha e garrafa<br />
de coleta na evacuação<br />
Sem-fim de alimentação com rotação<br />
regulável<br />
Sem-fins de alimentação com inclinações<br />
diferentes para adaptação à quantidade<br />
debitada<br />
Gerador de vibrações na tremonha para<br />
melhor condução de pós<br />
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