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vi reuniao de trabalho fisica nuclear - Sociedade Brasileira de Física

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D. Caracterizaclo <strong>de</strong> estados cristalinos e Iocalizag5o <strong>de</strong> <strong>de</strong>fei<br />

tos'por canaliza45o.<br />

Seri talvez oportuno comentar aqui como as ticnicas a<br />

naliticas po<strong>de</strong>m ser utilizadas para a interpretacio <strong>de</strong> results<br />

dos <strong>de</strong> experiencias <strong>de</strong> <strong>fisica</strong> feitas em outro contexto. Por e-<br />

xempla, o bombar<strong>de</strong>amento <strong>de</strong> superficies por ions <strong>de</strong> energies <strong>de</strong>s<br />

<strong>de</strong> alguns keV ate alguns MeV, provoca o feniimeno <strong>de</strong> pulverizac5o<br />

(sputtering). E essencial conhecer o rendimento (niimero <strong>de</strong> itomos<br />

emitidos no semi espago <strong>de</strong> on<strong>de</strong> provem o feixe, por ion inci<strong>de</strong>nte),<br />

a natureza dos itomos emitidos, no caso do alvo ser u<br />

ma liga ou uma mistura, e sua distribuicio angular. Para tanto,<br />

6 comum cobrir o alvo com uma pequena calota esferica com um fu<br />

ro em sua parte central por on<strong>de</strong> passa o feixe inci<strong>de</strong>nte colima<br />

do. Os Stomas ou agregados <strong>de</strong> 5tomos pulverizados v5o se incrus<br />

tar na pare<strong>de</strong> interna da calota, em geral <strong>de</strong> carbon() ou revesti<br />

da <strong>de</strong> alumTnio. Tecnicas <strong>de</strong> PIXE e RBS s5o usadas para fornecer<br />

respostas is perguntas acima formuladas.<br />

Vale a pena mencionar tambem o aspecto complementar<br />

dos aceleradores <strong>de</strong> que estamos nos ocupando. Um implantador <strong>de</strong><br />

ions trabalha normalmente com tenses que v5o ate 200 ou 400kV.<br />

Depen<strong>de</strong>ndo das massas da matriz e do material implantado, a tec<br />

nica <strong>de</strong> RBS se imp -6e para analisar o perfil da implantacio. Ora,<br />

o implantador se. po<strong>de</strong> fornecer ions He ate 400 ou 800 keV<br />

conforme sua tensio maxima. Isso limita enormemente sua utilida<br />

<strong>de</strong> como instrumento <strong>de</strong> an5lise. Um acelerador <strong>de</strong> 2 a 6 MV 6 en-<br />

tic) indispens5vel para a anelise por RBS. Apenas para ilustrar,<br />

mencionaremos o problema muito atual <strong>de</strong> mistura (ion beam mix-<br />

ing) em que uma camada superficial fina 6 empurrada para <strong>de</strong>n-<br />

tro <strong>de</strong> uma amostra por colisaes <strong>de</strong><strong>vi</strong>das a um feixe, frequentemente<br />

<strong>de</strong> um terceiro elemento (em geral um gis como o arganio).<br />

Sendo as massas que se misturam compar5veis, o perfil da distri<br />

buic5o final <strong>de</strong>ve ser obtido com alta resoluc5o que po<strong>de</strong> mesmo<br />

exigir a execucio <strong>de</strong> RBS com ions pesados <strong>de</strong> alta energia,se as<br />

massas forem muito proximas.<br />

Quando se trata da implanta45o <strong>de</strong> ions leves (hidroge<br />

nac5o, bolhas <strong>de</strong> helio etc...), outras tecnicas analiticas se<br />

impOe coma as reacOes <strong>nuclear</strong>es inversas. Enfim, boa parte das<br />

experiencias <strong>de</strong> implantacio sic) complementadas com o use <strong>de</strong> outro<br />

acelerador com o qual se <strong>de</strong>terminar5o os efeitos da implan-<br />

tacio.<br />

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