Ð¢ÐµÑ Ð½Ð¾Ð»Ð¾Ð³Ð¸Ñ SiPM и возможноÑÑи ÐµÑ Ð¿ÑÐ¸Ð¼ÐµÐ½ÐµÐ½Ð¸Ñ Ð´Ð»Ñ ...
Ð¢ÐµÑ Ð½Ð¾Ð»Ð¾Ð³Ð¸Ñ SiPM и возможноÑÑи ÐµÑ Ð¿ÑÐ¸Ð¼ÐµÐ½ÐµÐ½Ð¸Ñ Ð´Ð»Ñ ...
Ð¢ÐµÑ Ð½Ð¾Ð»Ð¾Ð³Ð¸Ñ SiPM и возможноÑÑи ÐµÑ Ð¿ÑÐ¸Ð¼ÐµÐ½ÐµÐ½Ð¸Ñ Ð´Ð»Ñ ...
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
Технология SiФЭУ и<br />
возможности её применения для<br />
регистрации 175 нм фотонов<br />
Попова Елена Викторовна<br />
МИФИ<br />
13 апреля 2012
Содержание:<br />
•Что такое SiФЭУ. Конструкция и принцип<br />
действия<br />
•Основные параметры SiФЭУ<br />
•SiФЭУ сегодня<br />
•Примеры использования SiФЭУ<br />
•Разработка SiФЭУ для регистрации света 175нм
Экспериментальная физика для регистрации света слабой<br />
интенсивности широко использует вакуумные ФЭУ<br />
Основные недостатки ФЭУ:<br />
•большие размеры,<br />
•высокое напряжение питания<br />
•чувствительность к магнитным полям<br />
Нужен детектор нового типа – замена вакуумного ФЭУ.<br />
Изобретен в России в конце 20 века (Гасановым А.Г., Головиным<br />
В.М., Садыговым З.Я., Юсиповым Н.Ю)<br />
МИФИ - группа проф.Б.А.Долгошеина – одни из первых разработчиков – 1993г.
SiФЭУ<br />
Новый фотодетектор: кремниевый фотоэлектронный<br />
умножитель (SiФЭУ)<br />
ячейки<br />
hν<br />
R 50Ω<br />
подложка<br />
U смещ<br />
∼60V<br />
SiФЭУ – основные особенности:<br />
Ячейки одинаковые!<br />
Ячейки должны быть независимые! – основная проблема SiФЭУ<br />
Ячейка – стандартный сигнал – состояние 0 или 1<br />
SiФЭУ – суммарный сигнал на выходе – аналоговый<br />
Ячейка –p-n-переход в гейгеровском режиме<br />
SiФЭУ - твердотельный аналог ФЭУ
SiФЭУ<br />
p-n-переход при обратном смещении<br />
n<br />
-<br />
+<br />
ОПЗ<br />
p<br />
Ударная ионизация<br />
Лавинное умножение<br />
E<br />
Гейгеровский разряд<br />
Особенности гейгеровского режима<br />
R<br />
U смещения<br />
•Выходной сигнал не зависит от входного<br />
•Выходной сигнал Q определяется зарядом,<br />
накопленным на емкости ячейки C ячейка<br />
Внутреннее усиление<br />
1<br />
PIN<br />
ЛФД<br />
Гейгеровский<br />
режим<br />
Напряжение пробояU<br />
Q = C ячейка<br />
⋅(U- U пробой<br />
)<br />
М= Q/е –усиление<br />
М=10 5 -10 7<br />
Длительность гейгеровского разряда<br />
около 1 нс и его прекращение<br />
происходит благодаря<br />
ограничивающему резистору
SiФЭУ<br />
Свет слабой интенсивности<br />
Функция отклика SiФЭУ с разным числом ячеек<br />
light<br />
свет<br />
шум<br />
интенсивность света увеличена<br />
шум<br />
“световые” и “шумовые” сигналы<br />
одинаковы<br />
Number of pixels fired<br />
1000<br />
100<br />
10<br />
1<br />
1 10 100 1000 10000<br />
⎡<br />
N<br />
firedcells<br />
= N<br />
total<br />
⋅ ⎢1<br />
⎢⎣<br />
Number of photoelectrons<br />
−<br />
e<br />
−<br />
N<br />
576<br />
1024<br />
4096<br />
photon<br />
N<br />
•Возможна коррекция насыщения<br />
total<br />
⋅ PDE<br />
⎤<br />
⎥<br />
⎥⎦
15000<br />
Основные параметры SiФЭУ<br />
1 ячейка<br />
•Эффективность регистрации<br />
пьедестал<br />
2 ячейки<br />
света PDE<br />
Число отсчетов<br />
10000<br />
5000<br />
3 ячейки<br />
•Усиление G<br />
•Кросстолк xt<br />
4 ячейки<br />
•послеимпульсы ap<br />
0<br />
5 ячеек 6 ячеек<br />
100 200 300 400<br />
•Темновой счет f<br />
номер канала АЦП<br />
Основные параметры SiФЭУ определяются<br />
из одноэлектронного спектра<br />
•Время восстановления ячейки τ<br />
Очень важно –PDE, усиление, кросстолк<br />
(послеимпульсы) определяются независимо
параметры SiФЭУ<br />
Усиление и эффективность регистрации света<br />
в зависимости от напряжения смещения<br />
20<br />
40<br />
Усиление ячейки M, 10 5<br />
15<br />
10<br />
5<br />
0<br />
0<br />
0 1 2 3 4 5 6<br />
U пробой<br />
=48V<br />
Перенапряжение ΔU=U-U пробой , V<br />
30<br />
20<br />
10<br />
Эффективность регистрации света ε , %
параметры SiФЭУ<br />
Скорость счета темновых импульсов SiФЭУ в<br />
зависимости от перенапряжения для разных<br />
температур<br />
1<br />
Dark rate, MHz<br />
0,1<br />
1x1mm type 100B<br />
T = +30 0 C (U bd<br />
=33,56)<br />
T = +25 0 C (U bd<br />
=33,44)<br />
T = +20 0 C (U bd<br />
=33,32)<br />
T = +15 0 C (U bd<br />
=33,)<br />
T = +10 0 C (U bd<br />
=33,)<br />
T = +5 0 C (U bd<br />
=33,)<br />
T = 0 0 C (U bd<br />
=33,)<br />
34 35 36 37 38 39<br />
Bias voltage U, V
параметры SiФЭУ<br />
Усиление SiФЭУ для разных температур<br />
Pixel gain. 10 5<br />
30<br />
25<br />
20<br />
15<br />
10<br />
type 100A .<br />
T = +20 U bd<br />
=34,15<br />
T = +15 U bd<br />
=34,04<br />
T = +10 U bd<br />
=33,91<br />
T = +5 U bd<br />
=33,79<br />
T = 0 U bd<br />
=33,65<br />
T = -5 U bd<br />
=33,49<br />
T = -10 U bd<br />
=33,36<br />
T = -20 U bd<br />
=33,08<br />
T = -30 U bd<br />
=32,81<br />
T = -40 U bd<br />
=32,53<br />
T = -50 U bd<br />
=32,26<br />
T = -60 U bd<br />
=31,98<br />
T = -70 U bd<br />
=31,71<br />
T = -80 U bd<br />
=31,43<br />
5<br />
0<br />
32,5 35,0 37,5 40,0<br />
Bias voltage U, V<br />
U breakdown<br />
напряжение пробоя G=0<br />
Перенапряжение ΔU=U-U breakdown<br />
С понижением температуры уменьшается напряжение пробоя U breakdown<br />
-<br />
температурная чувствительность SiФЭУ
параметры SiФЭУ<br />
Напряжение пробоя SiФЭУ в зависимости от температуры<br />
34,0<br />
33,5<br />
Усиление G = C 0<br />
(V-V bd<br />
(T))<br />
G (T 0 ) :0,5 % / 0 C<br />
G(V) 1.2%/50 mV<br />
33,0<br />
U bd<br />
, V<br />
32,5<br />
32,0<br />
31,5<br />
-80 -60 -40 -20 0 20<br />
Temperature T, 0 C<br />
HPK-50: 3 % / 0 C<br />
2.5%/50 mV
параметры SiФЭУ<br />
Время восстановления ячейки<br />
Метод парных импульсов (сравнение амплитуды сигнала SiФЭУ от задержанного<br />
второго светового импульса после засвечивания первым импульсом)<br />
τ=R*C, где R- гасящий резистор, С-емкость ячейки<br />
2000<br />
Recovery tim e. <strong>SiPM</strong> Z105 (U=60,13). U breakdown<br />
=52,4V. 13/01/2005<br />
LED L53SYC (595nm), t impulse<br />
=10ns, U gen<br />
=-9v, L=1sm.<br />
Amplitude of the second impulse, mV<br />
1800<br />
1600<br />
1400<br />
1200<br />
1000<br />
800<br />
600<br />
400<br />
200<br />
0<br />
Data: Data1_amp<br />
Model: ExpDecay1<br />
Equation: y = y0 + A1*exp(-(x-x0)/t1)<br />
W eighting:<br />
y No weighting<br />
Chi^2/DoF = 565.44691<br />
R^2 = 0.99897<br />
y0 1932.69131 ±11.98254<br />
x0 77.60337 ±--<br />
A1 -1926.00611 ±--<br />
t1 1615.08307 ±37.05734<br />
Charge<br />
first and second impulse arear = (-2,6:10) ns = -10,60622 V*ns<br />
one pixel arear = (-0,4:4)ns = -0,01907 V*ns<br />
N pixels<br />
= 556<br />
0 2000 4000 6000 8000 10000 12000<br />
Distance between two light impulses, ns
параметры SiФЭУ
параметры SiФЭУ<br />
Оптическая связь: одна из основных проблем SiФЭУ<br />
Оптическая связь – вероятность, что сработавшая ячейка вызовет<br />
срабатывание другой ячейки<br />
A.Lacaita et al. IEEE TED(1993)<br />
Гейгеровский разряд приводит к<br />
излучению вторичных фотонов<br />
3 фотона с Е>1.14эВ/10 5 носителей<br />
Свечение ячеек SiФЭУ<br />
Эмиссионный микроскоп, MPI
события<br />
события<br />
30000<br />
20000<br />
10000<br />
Влияние оптической связи на сигнал SiФЭУ:<br />
4000<br />
3000<br />
2000<br />
1000<br />
0<br />
параметры SiФЭУ<br />
Одинаковое количество первоначально сработавших ячеек N0<br />
оптическая связь<br />
~ 64%<br />
100 200 300 400<br />
опт. связь<br />
~1%<br />
0<br />
0 200 400 600 800 1000<br />
каналы<br />
N 0 =4.30±0.05 (определено из вероятности «0» сигнала)<br />
0<br />
N<br />
0 − N − N<br />
P (0 )<br />
=<br />
0!<br />
⋅ e<br />
0<br />
=<br />
e<br />
0<br />
•Искажение формы<br />
амплитудного распределения<br />
и ухудшение энергетического<br />
разрешения<br />
•Уменьшение эффективного<br />
динамического диапазона<br />
Пристремленииоптическойсвязи<br />
к 100%, SiФЭУ перестает быть<br />
SiФЭУ и становится лавинным<br />
фотодиодом, работающим в<br />
гейгеровском режиме
параметры SiФЭУ<br />
Влияние оптической связи на шум SiФЭУ<br />
темновой счет, Гц<br />
10 6<br />
10 5<br />
10 4<br />
10 3<br />
10 2<br />
10 1<br />
10 0<br />
10 -1<br />
усиление 7Е5<br />
усиление 1Е6<br />
усиление 1.3Е6<br />
0 2 4 6 8 10 12 14 16<br />
порог, ячейки<br />
Скорость счета темновых импульсов, Гц<br />
10 7<br />
10 6<br />
Без подавления оптической связи<br />
с подавлением оптической связи<br />
Пуассон<br />
10 5<br />
10 4<br />
10 3<br />
10 2<br />
10 1<br />
0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18<br />
Порог, ячейки<br />
f пор =f·xt T , где xt-оптическая связь, Т-порог в ячейках<br />
Медленное падение частоты темновых шумов от величины порога - основной<br />
недостаток SiФЭУ с высокой оптической связью<br />
В экспериментах, где требуется вырабатывать «самотриггер», скорости счета<br />
темновых импульсов не позволяют установить минимальный уровень порога.
SiФЭУ сегодня
SiФЭУ сегодня<br />
Подавление оптической связи. SiФЭУ МИФИ<br />
Распространение вторичного<br />
оптического сигнала внутри SiФЭУ:<br />
Подавление вторичного<br />
оптического сигнала внутри SiФЭУ:<br />
Нет защиты от<br />
оптической связи<br />
1. Прямые фотоны<br />
2. Диффузионные носители<br />
3. Фотоны, отраженные от<br />
обратной стороны кристалла<br />
Комплексная защита<br />
канавки<br />
второй p-n-переход<br />
область повышенного поглощения<br />
света на обратной стороне кристалла<br />
и/или в объеме подложки<br />
3<br />
3<br />
2<br />
1<br />
1<br />
2<br />
Комплексная защита подавляет оптическую связь в 50-100 раз.
эффективность регистрации света, %<br />
60<br />
50<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
SiФЭУ сегодня<br />
Параметры SiФЭУ, разработанных в МИФИ (ячейка<br />
100х100 микрон 2 , чувствительная площадь 1х1, 3х3мм 2 )<br />
Спектральная чувствительность<br />
ФЭУ XP2020Q<br />
(согласно<br />
Philips Photonics)<br />
0<br />
300 350 400 450 500 550 600<br />
длина волны λ, нм<br />
SiФЭУ<br />
ΔU=4.7В<br />
Оптическая связь<br />
0,5<br />
0,4<br />
0,3<br />
0,2<br />
0,1<br />
Оптическая<br />
связь<br />
MPPC Hamamatsu 3x3мм 2<br />
MPPC Hamamatsu 1x1мм 2<br />
SiФЭУ 3x3мм 2<br />
SiФЭУ 1x1мм 2<br />
0,0<br />
0 1 2 3 4 5 6<br />
Перенапряжение ΔU, В<br />
Рекордные параметры –<br />
чувствительность к коротковолновому свету<br />
+подавление оптической связи<br />
SiФЭУ, чувствительных к свету 175 нм, нет
SiФЭУ в ФВЭ<br />
Прототип тайлового адронного калориметра на основе<br />
SiФЭУ для международного линейного коллайдера<br />
(коллаборация CALICE, МНТЦ проект 3090 (2005-2007))<br />
пучок<br />
7620 SiФЭУ – первое в мире массовое применение<br />
SiФЭУ изготовлены совместно МИФИ-ПУЛЬСАР, протестированы в ИТЭФ
SiФЭУ в ФВЭ<br />
Исследования прототипа тайлового адронного<br />
калориметра на тестовых пучках в DESY, CERN и FNAL<br />
Реконструкция ливней<br />
Энергетическое разрешение<br />
адронных ливней<br />
E<br />
E<br />
Фит: 45.3% ⊕ 1.97% ⊕ 0.966%<br />
E<br />
E
SiФЭУ в космосе<br />
Международная космическая станция<br />
15 апреля,2005<br />
Эксперимент “LAZIO”(МИФИ-INFN коллаборация)<br />
Зависимость интенсивности потока<br />
космических частиц от широты<br />
Научная задача:Измерение потоков частиц низкой энергии и радиационный<br />
контроль<br />
Техническая задача :проверка работы SiФЭУ в космосе
SiФЭУ в LXe<br />
Vacuum UV detection by <strong>SiPM</strong> (LXe scintillation, 178nm,-95C):<br />
E.Aprile,P.Cushman,K.Nu,P.Shagin<br />
The goal:LXe detectorwith very low threshold<br />
for dark matter WIMPs search
УФ SiФЭУ<br />
Разработка SiФЭУ для регистрации<br />
излучения 175 нм<br />
Эффективность регистрации света ε:<br />
ε=Т*QE*G(U)*A,<br />
где<br />
T-коэффициент пропускания света,<br />
QE- внутренняя квантовая эффективность,<br />
G(U) – вероятность развития гейгеровского<br />
разряда,<br />
А – доля активной площади ячейки SiФЭУ<br />
Возможна независимая оптимизация всех<br />
факторов<br />
Активная<br />
область<br />
ячейка<br />
Считаем, что G(U) и А нами уже оптимизированы<br />
Задача для регистрации света 175нм: оптимизировать Т и QE
УФ SiФЭУ<br />
SiФЭУ, разработанные в МИФИ<br />
100<br />
PDE = T ⋅QE<br />
⋅ A⋅G(U)<br />
Просветление (расчет)<br />
100<br />
80<br />
Внутренняя квантовая<br />
эффективность<br />
80<br />
Internal QE<br />
60<br />
40<br />
InternalQE =<br />
QE<br />
AR<br />
Efficiency, %<br />
60<br />
40<br />
20<br />
PDE для SiФЭУ 100В (эксп)<br />
0<br />
200 300 400 500 600 700 800 900 1000<br />
Wavelength λ, nm<br />
Внешняя<br />
квантовая<br />
эффективность<br />
(эксперимент)<br />
A*Geiger(U)<br />
20<br />
100<br />
0<br />
200 300 400 500 600 700 800 900 1000<br />
80<br />
60<br />
40<br />
20<br />
A=80%<br />
Geiger=1<br />
Wavelength λ, nm<br />
A ⋅ Geiger(<br />
U ) =<br />
0<br />
200 300 400 500 600 700<br />
Wavelength λ, nm<br />
PDE<br />
QE
УФ SiФЭУ<br />
Просветление SiФЭУ<br />
1<br />
Френелевское<br />
отражение<br />
воздух<br />
воздух<br />
Si<br />
Si<br />
2<br />
Интерференция в тонких<br />
пленках<br />
нитрид<br />
оксид<br />
Прохождение света внутрь кремния, %<br />
1,0<br />
0,8<br />
0,6<br />
0,4<br />
0,2<br />
1<br />
0,0<br />
150 200 250 300 350 400 450 500 550 600<br />
2<br />
Длина волны света, нм<br />
Френель<br />
300_50<br />
300_70<br />
300_10
УФ SiФЭУ<br />
Просветление SiФЭУ<br />
7<br />
6<br />
5<br />
показатели<br />
4<br />
3<br />
2<br />
175 нм<br />
преломления n<br />
экстинкции k<br />
1<br />
0<br />
150 200 250 300 350 400 450 500 550 600<br />
длина волны света, нм
QE SiФЭУ<br />
Глубина поглощения света в кремнии<br />
10000<br />
глубина поглощения света, нм<br />
1000<br />
100<br />
10<br />
1<br />
150 200 250 300 350 400 450 500 550 600<br />
длина волны света, нм<br />
Типичная толщина<br />
входного<br />
окна SiФЭУ<br />
Свет с длиной волны ~400 нм и менее поглощается в<br />
необедненном слое входного окна – носители должны попасть в<br />
область высокого поля – ВНУТРЕННЯЯ КВАНТОВАЯ ЭФФЕКТИВНОСТЬ
QE SiФЭУ<br />
Квантовый выход в кремнии от энергии фотона<br />
для разных температур<br />
8<br />
7<br />
Энергия фотона<br />
6<br />
5<br />
4<br />
3<br />
2<br />
1<br />
0<br />
150 200 250 300 350 400 450 500 550 600<br />
длина волны света, нм<br />
При энергии фотона >3еВ (
Технология!<br />
Послеимпульсы<br />
1000<br />
Темновой счет SiФЭУ в зависимости от<br />
перенапряжения для разных температур<br />
Темновой счет, кГц<br />
100<br />
10<br />
1<br />
T = 0 0 C<br />
T = -10 0 C<br />
T = -20 0 C<br />
T = -30 0 C<br />
T = -40 0 C<br />
T = -50 0 C<br />
T = -60 0 C<br />
T = -70 0 C<br />
T = -80 0 C<br />
Проблема!<br />
Возможно,<br />
0 1 2 3 4 5 ловушки<br />
Перенапряжение, В<br />
(послеимпульсы)
Послеимпульсы<br />
Темновые импульсы и<br />
послеимпульсы SiФЭУ при низкой<br />
температуре
УФ SiФЭУ<br />
Разработка новых модификаций SiФЭУ<br />
Для каждого из приложений<br />
необходима разработка<br />
SiФЭУ с оптимальными<br />
параметрами –<br />
Технологическое<br />
моделирование одной ячейки<br />
SiФЭУ в программе DIOS ISE<br />
•количество ячеек,<br />
•площадь чувствительной<br />
поверхности,<br />
•спектральный диапазон<br />
•амплитуда выходного<br />
сигнала<br />
• ит.д..<br />
Компьютерное моделирование ISE TCAD
Выводы<br />
• В МИФИ разработаны SiФЭУ с рекордной<br />
эффективностью ≥ 50% для света с длиной волны<br />
350 − 450 нм и одновременно с низким уровнем<br />
оптической связи 3−6%.<br />
• Оптимизированы геометрическая и гейгеровская<br />
эффективность.<br />
• Задачи для разработки SiФЭУ с чувствительностью к<br />
свету с длиной волны 175нм:<br />
o оптимизация просветляющего покрытия;<br />
o оптимизация входного окна (внутренней квантовой<br />
эффективности);<br />
o подавление послеимпульсов для обеспечения<br />
работы при температуре LXe.
• Backup slides
Cooled <strong>SiPM</strong> matrixes module for astropartical applications<br />
P. Buzhan et al. / NIM A 610 (2009) 131–134<br />
<strong>SiPM</strong> 5x5mm2 signals<br />
Δ=20ns<br />
50 Ohm<br />
load<br />
Cooled module with 4 <strong>SiPM</strong>s 5x5mm2<br />
Δ=2.5ns<br />
Specially<br />
designed<br />
FE
Timing with 3x3mm 2 100B <strong>SiPM</strong><br />
40ps laser 405nm single photon mode<br />
T=-40C<br />
Count<br />
700<br />
600<br />
500<br />
400<br />
300<br />
200<br />
100<br />
U=38 V<br />
FWHM = 205 ps<br />
FWHM, ps<br />
400<br />
350<br />
300<br />
250<br />
200<br />
150<br />
100<br />
50<br />
0<br />
540 560 580 600 620 640 660<br />
20 ps/ch<br />
0<br />
33 34 35 36 37 38<br />
U, V<br />
Best value for 3x3mm 2 100B <strong>SiPM</strong> is 205 ps (FWHM)
Voltage stability <strong>SiPM</strong> 100B for 5V (15%) overvoltage<br />
32<br />
16<br />
0,12<br />
12<br />
Gain *10 5<br />
28<br />
24<br />
20<br />
16<br />
12<br />
8<br />
4<br />
0<br />
0<br />
0 1 2 3 4 5 6<br />
60<br />
Overvoltage (U), V<br />
dG<br />
GdU<br />
14<br />
12<br />
10<br />
8<br />
6<br />
4<br />
2<br />
Relative gain variation, %/100mV<br />
2.0%<br />
( 5V<br />
) =<br />
100 mV<br />
6<br />
crosstalk xt<br />
0,10<br />
0,08<br />
0,06<br />
0,04<br />
0,02<br />
0,00<br />
0 1 2 3 4 5 6<br />
Overvoltage, V<br />
dxt<br />
xtdU<br />
10<br />
8<br />
6<br />
4<br />
2<br />
0<br />
Relative xt variation, %/100mV<br />
5.6%<br />
( 5V<br />
) =<br />
100mV<br />
PDE(435nm), %<br />
50<br />
40<br />
30<br />
20<br />
10<br />
4<br />
2<br />
Relative pde variation, %/100mV<br />
dε<br />
0.25%<br />
( 5V<br />
) =<br />
εdU<br />
100mV<br />
0<br />
0<br />
0 1 2 3 4 5 6<br />
Overvoltage, V
Temperature stability <strong>SiPM</strong> 100B<br />
ΔV=4V (12%) overvoltage for T=20ºC<br />
33,6<br />
24<br />
33,4<br />
26.4±0.4mV/ºC<br />
23<br />
var = 0,5 % / 0 C<br />
Ubreakdown (V)<br />
33,2<br />
33,0<br />
Pixel gain. 10 5<br />
22<br />
21<br />
20<br />
32,8<br />
0 5 10 15 20 25 30<br />
Temperature, C<br />
19<br />
-5 0 5 10 15 20 25 30 35<br />
Tem perature T, 0 C<br />
Number of pixels fired (595nm)<br />
1,65<br />
1,60<br />
var = 0,2 % / 0 C<br />
1,55<br />
-5 0 5 10 15 20 25 30 35<br />
Temperature T, 0 C<br />
Crosstalk<br />
0,05<br />
0,04<br />
0,03<br />
var = 2,1 % / 0 C<br />
0,02<br />
-5 0 5 10 15 20 25 30 35<br />
Temperature T, 0 C
Main <strong>SiPM</strong>’s parameters. Intrinsic jitter.<br />
1000<br />
800<br />
Laser in single photon mode<br />
3x3mm<br />
1x1mm 2 2<br />
Temperature -40C<br />
Room temperature<br />
1x1 mm 2<br />
576 pixels (42 μm)<br />
700<br />
600<br />
Count<br />
600<br />
400<br />
FW HM=140 ps<br />
events<br />
500<br />
400<br />
300<br />
U=38 V<br />
FWHM = 205 ps<br />
200<br />
200<br />
100<br />
0<br />
1000 1100 1200 1300 1400 1500 1600 1700 1800 1900 2000<br />
TDC channel (1 ch=5 ps)<br />
0<br />
540 560 580 600 620 640 660<br />
20 ps/ch<br />
35ps FWHM timing resolution was measured with100μm SPAD using single photons<br />
A.Gulinatti, P.Maccagnani, I.Rech, M.Ghioni and S.Cova
Main <strong>SiPM</strong>’s parameters.<br />
Jitter vs light intensity.<br />
σ ~<br />
1<br />
N phe<br />
ADVANCED TECHNOLOGY & PARTICLE PHYSICS Proceedings of the 7th International Conference on ICATPP-7<br />
Villa, Olmo, Como, Italy, 15 - 19 October 2001<br />
B.Dolgoshein et al.“THE ADVANCED STUDY OF SILICON PHOTOMULTIPLIER”
CPTA(Golovin)/Photonique SSPM<br />
<strong>SiPM</strong>s with 60-80% geometric factor (for 50-100 μm cell pitch) were produced<br />
High sensitivity in green-red region<br />
With optical crosstalk suppression
Zecotek<br />
Y. Musienko (Iouri.Musienko@cern.ch)
Послеимпульсы<br />
Послеимпульсы<br />
Частота послеимпульсов, с -1<br />
10 7<br />
Т=20С<br />
10 6<br />
10 5<br />
10 4<br />
10 3<br />
10 -2 10 -1 10 0 10 1 10 2<br />
задержка после срабатывания, μc