Galvanik mit Fotolack-Masken - MicroChemicals GmbH
Galvanik mit Fotolack-Masken - MicroChemicals GmbH
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<strong>Galvanik</strong> <strong>mit</strong> dem AZ ® 125 nXT Negativlack<br />
<strong>Fotolack</strong>e, Entwickler, Remover, Haftver<strong>mit</strong>tler, Ätzchemikalien und Löse<strong>mit</strong>tel ...<br />
Fon: +49 (0)731 36080-409 Fax: +49 (0)731 36080-908 e-Mail: sales@microchemicals.eu<br />
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<strong>MicroChemicals</strong> <strong>GmbH</strong><br />
AZ ® 125 nXT ist ein Negativlack für Schichtdicken bis über 100 µm bei gleichzeitig sehr hoher<br />
Flankensteilheit. Seine Quervernetzung und sehr gute Lackhaftung macht ihn in für alle<br />
üblichen <strong>Galvanik</strong>-Anwendungen stabil. Dieser Lack benötigt keinen post exposure bake<br />
oder Pausen zwischen den Prozessschritten, so dass sich die Prozessierung sogar noch einfacher<br />
als <strong>mit</strong> Positivlacken gestaltet.<br />
����� 30- 100 µm über Einfachbelackung<br />
����� Wässrig alkalisch entwickelbar (TMAH-basiert, z. B. <strong>mit</strong> AZ ® 326/726/826 MIF)<br />
����� Sehr gute Lackhaftung, kein Unterwachsen der Lackstrukturen<br />
����� Kein post exposure bake, keine Wartezeiten zwischen Prozessschritten notwendig<br />
����� Kompatibel <strong>mit</strong> vielen Substratmaterialien wie Cu, Au, Ti, NiFe, GaAs, …<br />
����� Geeignet für nahezu alle üblichen <strong>Galvanik</strong>-Bädern für Cu, Ni, Au, Lötzinn, ...<br />
����� Nasschemisch entfernbar<br />
Bei Interesse senden wir Ihnen gerne die technischen Datenblätter, Details zur Prozessierung<br />
oder ein kostenloses Muster. Bitte nehmen Sie <strong>mit</strong> uns Kontakt auf!<br />
Die in diesem Dokument gezeigten Abbildungen entstammen den technischen Dokumentationen des<br />
Herstellers AZ-EM. AZ ® und das AZ Logo sind eingetragene Markenzeichen der AZ Electronic Materials<br />
(Germany) <strong>GmbH</strong>.
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