El fotocatalizador: sÃntesis, propiedades y limitaciones
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Sputtering de radiofrecuencia RF<br />
Con este tipo de fuente se puede realizar sputtering sobre<br />
materiales no conductivos<br />
Se usa un fracuencia rf de (13.56 MHz), la cual es situada entre la<br />
frecuencia de plasma del ion y la frecuencia de plasma del<br />
electrón. La razón de depósito es directamente proporcional a la<br />
potencia rf aplicada al cátodo
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