S m t - UMEL

Vakuové napařování- uvést podmínky pro úspěšnénapařování- uvést čístění a aktivace povrchuZdroj: Soutor,Šavel, Žůrek, Hybridní integrované obvody, SNTL 1982Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 1

Vakuové napařováníZdroj: Soutor,Šavel, Žůrek, Hybridní integrované obvody, SNTL 1982Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 2

Vakuové napařováníVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 3

Vakuové napařování – ohřev elektronyVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 4

Výroba metalizovaných fólií (napařování)Source:W.Umrath, Fundamentals of Vacuum Technology, Cologne, August 1998Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 5

Výroba vrtev pro optické součásti (napařování)-Skleněná zrcadla, čočky –předehřev na 300 C- Plastové součásti, skla brýlíapod. 80 CSource:W.Umrath, Fundamentals of Vacuum Technology, Cologne, August 1998Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 6

Katodové naprašováníV prostoru se udržuje doutnavý výboj – materiál katody se rozprašuje, trvá hodinyPlyn nesmí reagovat s napařovaným kovem, stačí menší vakuum, lepší adhese vrstevVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 7

Katodové naprašování (Kathode Sputtering)Zdroj: W.Umrath, Fundamentals of Vacuum Technology, Cologne, August 1998Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 8

Katodové naprašování – plastové součástiSource:W.Umrath, Fundamentals of Vacuum Technology, Cologne, August 1998Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 9

Katodové naprašování – skleněné deskySource:W.Umrath, Fundamentals of Vacuum Technology, Cologne, August 1998Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 10

Měření tlouštěk vrstvy Metody založené na přírůstku hmotnostiRozladění krystalového oscilátoruíVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 11

Měření tloušťky vrstev Metody založené na přírůstku hmotnostiMikrováhyt =mS.ρVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 12

Měření tloušťky vrstev - Metody založené na změně elektrických veličinZměna elektrického odporu- vhodné pro vodivé,odporové a polovodivé materiály – nepřesnosti, pro tenkouvrstvu jiná měrná resistivita, současně se za stejných podmínek nanáší měřícívrstva – namalovat obrázek-přesnost měření -+ 0.01% měření odporu, -+ 5% měření odporuZměna kapacity – napařování mezi hřebenový systém elektrodZměna jakosti cívky – měří se tlumení a rozladění resonančníhoobvoduVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 13

Měření tloušťky vrstev – optické metodyInterferenčním mikroskopemVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 14

Měření tloušťky vrstev – optické metodyMěření absorbce světlaVacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 15