Elektrotechnické materiály a výrobní procesy Garant předmětu
Elektrotechnické materiály a výrobní procesy Garant předmětu
Elektrotechnické materiály a výrobní procesy Garant předmětu
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ<br />
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ<br />
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong><br />
a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong><br />
<strong>Garant</strong> <strong>předmětu</strong>:<br />
Prof. Ing. Jiří Kazelle, CSc.<br />
Autoři textu:<br />
Prof. Ing. Jiří Kazelle, CSc.<br />
Doc. Ing. Karel Liedermann, CSc.<br />
Doc. Ing. Josef Jirák, CSc.<br />
Ing. Svatopluk Havlíček, CSc.<br />
Ing. Jiří Vaněk
2 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Studijní program: Elektrotechnika, elektronika, komunikační a řídicí technika<br />
Studium: Bakalářské<br />
Studijní obor: Mikroelektronika a technologie<br />
Název <strong>předmětu</strong>: <strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> (MVP)<br />
<strong>Garant</strong>ující ústav: Elektrotechnologie<br />
<strong>Garant</strong>: Prof. Ing. Jiří Kazelle, CSc.<br />
Rozsah <strong>předmětu</strong>: 4/3 (91 hod), z toho: přednášky 52 hod<br />
Kredity: 8 cvičení 39 hod<br />
P N L C O hod kredit garant<br />
52 15 15 0 9 7 8 UETE<br />
Anotace:<br />
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> (EMV)<br />
2B1 – P – 7/8 – zk - UETE<br />
Materiály v elektrotechnice; složení, struktura, výroba a použití. Plasty, sklo, keramika a sklokeramika; druhy,<br />
vlastnosti, zpracovatelské technologie. Kompozity. Kovy; klasifikace a vlastnosti. Zpracování kovů, výroba<br />
vodičů a fólií. Polovodičové <strong>materiály</strong>; klasifikace, vlastnosti, aplikační oblasti. Příprava polovodičových<br />
materiálů a základních polovodičových struktur. Povrchové úpravy, laky a spojování materiálů. Svazkové,<br />
radiační, elektroerozivní, ultraakustické a další významné <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong>.<br />
Osnova:<br />
1. Materiály v elektrotechnice - složení, struktura, klasifikace, použití. Řízení vlastností<br />
materiálů. Kompozity.<br />
2. Organické a anorganické izolanty, dielektrika. Plasty, elastomery, slídové výrobky, sklo,<br />
keramika (silikátová, oxidová, bezkyslíkatá), sklokeramika, tvrdé <strong>materiály</strong>.<br />
3. Plastikářské technologie. Výroba a opracování anorganických nekovových materiálů.<br />
4. Kovové <strong>materiály</strong>. Klasifikace, vlastnosti, použití. Materiály s fero- a ferimagnetickými<br />
vlastnostmi. Slinuté <strong>materiály</strong>.<br />
5. Zpracování kovů. Výroba drátů a fólií. Výroba kabelů a vodičů. Výroba materiálů pro<br />
plošné spoje.<br />
6. Polovodičové <strong>materiály</strong> - klasifikace, struktura, složení, vlastnosti.<br />
7. Polovodičové <strong>materiály</strong> - vlastnosti a aplikační možnosti. Příprava polovodičových<br />
materiálů.<br />
8. Výroba základních polovodičových struktur.<br />
9. Povrchové úpravy, laky, spojování materiálů.<br />
10. Elektronové <strong>procesy</strong>, účinky elektronového svazku a jeho využití. Iontové <strong>procesy</strong>.<br />
11. Rentgenové <strong>procesy</strong>. Radiační technologie. Jaderné <strong>procesy</strong>.<br />
12. Laserové <strong>procesy</strong>, rozdělení laserů, vlastnosti a některé aplikace laserů.<br />
13. Ultraakustické <strong>procesy</strong>, zdroje ultrazvuku, využití účinků ultrazvuku. Elektroerozivní<br />
<strong>procesy</strong> a jejich použití.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 13<br />
2.4 Technologické <strong>procesy</strong> zpracování kovů<br />
2.4.1 Tváření kovů<br />
Neustálý pokrok ve strojírenství přináší stále nové, přesnější, výkonnější a<br />
hospodárnější způsoby výroby polotovarů. Objem obráběných polotovarů se stále zmenšuje a<br />
obrábění není někdy ani nutné. Mezi tyto způsoby patří především tváření, kterého se dnes<br />
používá stále častěji, neboť patří k nejproduktivnějším oborům technologie zpracování kovů a<br />
nekovů. Dnes si již neumíme představit sériovou a hromadnou výrobu automobilů, letadel,<br />
elektrických strojů a přístrojů apod. bez použití součástí vyrobených tvářením.<br />
Je to metoda s vysokou produktivitou a hospodárností, a tedy s velkou perspektivou.<br />
Výrobky jsou přesné, pevné a lehké. Využití materiálu je velmi hospodárné, s nejmenším<br />
odpadem. Při obrábění odpadá průměrně 50 %, při tváření jen asi 5 až 10 % materiálu.<br />
Výkonnost strojního zařízení je velká. Výrobní pochody se mohou velmi dobře mechanizovat,<br />
takže se podstatně snižují <strong>výrobní</strong> náklady.<br />
2.4.1.1 Základní pojmy<br />
Při tváření se působením vnějších sil mění tvar, aniž by se porušila celistvost<br />
materiálu, tzn., že částice materiálu se pouze trvale přemísťují. Toto přemístění je umožněno<br />
kovovou vazbou atomů, která zůstává zachována, probíhá-li tváření za optimálních podmínek<br />
(teplota a deformace materiálu). K tváření se proto hodí materiál s nízkou mezí pružnosti (aby<br />
nebylo zapotřebí velké síly) a vysokou pevností, tj. materiál tvárný (plastický). Kromě ocelí<br />
se tváří i neželezné kovy, popř. některé nekovové <strong>materiály</strong>.<br />
Tváření se děje buď působením klidných sil (válcováním, lisováním apod.), nebo rázy<br />
(kováním, nýtováním apod.), a to za studena nebo za tepla.<br />
Tvářením za studena se kovy zpevňují. Čím větší je stupeň přetváření, tím větší je<br />
zpevnění. Tvářením za studena se zvyšuje mez průtažnosti, pevnost v tahu a tvrdost, ale<br />
zmenšuje se houževnatost. Zpracování není v celém průřezu zcela rovnoměrné, vznikají<br />
nebezpečná vnitřní napětí, která mohou porušit materiál.<br />
Při tváření za tepla se ohřevem zmenšuje pevnost a houževnatost materiálu, a tím se<br />
zlepšuje jeho tvárnost. Struktura je jemnější a rovnoměrnější. Ocel se ohřívá na teplotu 250 až<br />
300°C pod solidem. Této teplotě se říká teplota tváření. Nejnižší teplota, při níž je ještě<br />
možno tvářet, je u podeutektoidních ocelí teplota Ac3, u nadeutektoidních teplota Ac1.<br />
Rozhodující pro vlastnosti tvářené oceli je hlavně teplota konečná, čili teplota, při níž<br />
se tváření ukončilo. Tváření má být dokončováno při teplotě asi 50 °C nad Ac3 nebo Ac1, kdy<br />
má ocel nejjemnější strukturu a největší pevnost při velké houževnatosti. Tváření pod teplotou<br />
Ac3 nebo Ac1 je vlastně tváření oceli za studena, to znamená, že se ocel zpevňuje. Není-li<br />
tváření při této teplotě ještě skončeno, je nutno předmět znovu přiměřeně ohřát, tzv. tváření na<br />
jedno, dvě i více ohřátí.<br />
Tvářet se má pokud možno s nejmenším počtem ohřátí, protože se každým ohřevem<br />
část ohřívaného materiálu přemění v oxid železa. Zoxidovaný povrch materiálu se při tváření<br />
odlupuje v šupinách, kterým se říká okuje. Tím vznikají ztráty opalem, které činí při jednom<br />
ohřevu asi 3 až 5 %.<br />
Materiál určený k tváření se ohřívá v pecích různého provedení a velikosti. Nejčastěji<br />
jsou to pece plamenné, průchozí (kontinuální), nebo elektrické indukční.<br />
Hutní polotovary<br />
Tyto polotovary jsou jedním z nejpoužívanějších druhů polotovarů ve strojírenství.<br />
Vyrábějí se přímo v hutích a jsou normalizovány v různých profilech o různé rozměrové a<br />
geometrické přesnosti.
14 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Válcované polotovary<br />
Válcování je tváření kovů rotujícími válci, mezi něž je materiál vtahován a zároveň je<br />
stlačován a prodlužován. Válcuje se za studena a za tepla. Válce (hladké nebo ka1ibrované),<br />
jsou uloženy ve stojanech a s příslušenstvím tvoří válcovací stolici. Práce se zpravidla<br />
nedokončí v jedné válcovací stolici, a proto jsou válcovací stolice uspořádány buď vedle<br />
sebe, nebo za sebou a tvoří tak válcovací trať. Podle velikosti předvalků a vývalků, které se<br />
na jednotlivých tratích vyrábějí, jsou těžké, hrubé, střední a jemné tratě.<br />
Podle počtu válců a způsobů práce jsou válcovací stolice dvouválcové (dua),<br />
tříválcové (tria), univerzální aj. Žádaného průřezu vývalku se dosáhne postupně, buď<br />
přibližováním válců, nebo změnou kalibru (tj. díry mezi tvarovými povrchy válců). Kromě<br />
těchto základních typů se stavějí ještě další válcovací tratě k různým účelům.<br />
Válcováním vznikne z ingotu nejdříve předvalek (polotovar) na předválcovacích<br />
stolicích. Z těchto předvalků se pak vyrobí na doválcovacích zařízeních konečný výrobek -<br />
vývalek, tj. tyčový a profilový materiál, plechy aj.<br />
Tažené polotovary<br />
Výchozí polotovar (tyč, drát apod.) se protahuje (kalibruje) průvlakem (kalibrem) z<br />
kalené oceli, slinutého karbidu nebo diamantu.<br />
Tažené profily jsou velmi přesné (h9, hl1), takže se nemusí dále obrábět. Používají se<br />
hlavně v sériové a hromadné výrobě při výrobě součástí na revolverových soustruzích a<br />
automatech.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 15<br />
Dráty do průměru 5 mm se táhnou nepřetržitě na bubnových tažecích strojích -<br />
drátotazích. Žádané tloušťky drátu se dosáhne postupným protahováním stále menšími<br />
průvlaky. Několikerým tažením drát ztvrdne a zkřehne a nelze jej dál táhnout. Musí se proto<br />
po určitém počtu tahů normalizačně žíhat.<br />
Výroba trubek<br />
Trubky se vyrábějí z materiálů kovových (ocelí, litin, neželezných kovů) i nekovových<br />
(plastů). Litinové trubky se vyrábějí litím na stojato nebo odstředivým litím. Ocelové trubky<br />
jsou buď svařované (švové), nebo bezešvé.<br />
Svařované trubky se vyrábějí z pásové oceli. Okraje se svaří na tupo, přeplátováním<br />
nebo ve šroubovici. Jakost svařovaných trubek se rozvojem <strong>výrobní</strong> technologie (svařování)<br />
zlepšuje. Proto dnes v mnoha odvětvích nahrazují svařované trubky dražší trubky bezešvé.<br />
Bezešvé trubky se používají tam, kde nestačí pevnost trubek svařovaných. Nejčastěji<br />
se vyrábějí Mannesmannovým způsobem, tj. válcováním vývalku mezi dvěma válci s<br />
mimoběžnými osami a se stejným smyslem otáčení; kromě otáčení vzniká ještě šroubovitý<br />
posuv. Tím, že na vývalek působí jednosměrný tlak, vzniká v jeho středu velké tahové napětí,<br />
které porušuje materiál a ve vývalku tak vzniká dutina. K vytvoření dutiny není tedy zapotřebí<br />
trnu. Pokud se používá, tak jen proto, aby se usnadnilo vytvoření hladké dutiny. Tímto<br />
způsobem se vytvářejí krátké tlustostěnné trubky, které se pak zpracovávají na potřebnou<br />
tloušťku válcováním.<br />
Volba a použiti hutních polotovarů<br />
Normalizované hutni polotovary patří k nejlevnějším druhům polotovarů. Je to<br />
zejména válcovaný i tažený tyčový materiál. Jeho normalizované rozměry jsou odstupňovány<br />
v řadě velikostí. Při volbě rozměru polotovaru se volí nejbližší rozměr, který je větší, než je<br />
průměr součásti zvětšený o přídavek na obrábění. To vede mnohdy k neúměrnému odpadu<br />
třísek (zvlášť nevýhodné u legovaných materiálů). Proto tam, kde vyhovuje přesnost rozměrů<br />
a jakost povrchu tažených polotovarů, volí se raději ty. V sériové výrobě bude mnohdy<br />
výhodnější volit jako polotovar zápustkový výkovek.<br />
Tváření kovů za tepla<br />
Nejvíce používaný způsob tváření za tepla je kování. Kováním se dává materiálu<br />
vhodný tvar buď údery (rázy) kladiva či beranů bucharů, nebo klidným tlakem lisů. Dosahuje<br />
se tak lepších mechanických vlastností, jemnější a stejnoměrnější struktury. Kování je volné<br />
nebo v zápustkách, ková se ručně nebo strojně.<br />
Při volném kování může materiál tvářený údery nebo tlakem "volně téci", hlavně ve směru<br />
kolmém k působení síly. Při kování v zápustkách je materiál vtlačován údery nebo tlakem do<br />
kovové formy (zápustky).<br />
Strojní kováni<br />
Strojní kování ulehčuje těžkou práci dělníka, zrychluje a zproduktivňuje výrobu<br />
malých a středních výkovků a umožňuje výrobu těžkých výkovků, na které lidská síla nestačí.<br />
Materiál se ková na různých tvářecích strojích, z nichž nejdůležitější jsou buchary a lisy.<br />
Buchary působí na tvářený materiál údery (rázy), ale prokovou jej jen do určité<br />
hloubky. Hospodárně lze kovat středně velké výkovky, popř. předkovky. Předkovky se dále
16 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
kovou v zápustkách na požadovaný tvar výkovku. Při úderech beranu bucharu odpadávají z<br />
tvářeného materiálu okuje, a proto je povrch výkovku čistý. Rázy se však přenášejí do<br />
základů stroje a působí otřesy i v okolí.<br />
Lisy působí na tvářený materiál klidným tlakem a prokovou materiál v celém průřezu.<br />
Kovou se na nich i nejtěžší výkovky. Práce na lisech je bezpečnější než na bucharech.<br />
Volné strojní kováni. Je v podstatě stejné jako kování ruční. Tímto způsobem se<br />
vyrábějí velké hřídele turbogenerátorů, ojnice apod. Předměty se vykovou jen zhruba a hrubé<br />
výkovky se pak obrábějí na přesný tvar na obráběcích strojích. Kovářská práce závisí na<br />
řemeslné zručnosti a zkušenosti kováře. Je zdlouhavá a drahá.<br />
Zápustkové kování. Zápustka je ocelová dvoudílná forma, jejíž obě poloviny<br />
vytvářejí dutinu, odpovídající vnějšímu tvaru výkovku. Ohřátý materiál se vloží do zápustky a<br />
působí se na něj silou tvářecího stroje. Materiál postupně vyplňuje zápustku, až vyplní celou<br />
její dutinu. Při kování na bucharu je zápustková dutina vyplňována postupně během několika<br />
úderů beranu bucharu. Při kování na lisech je tvar výkovku zhotoven v průběhu jednoho<br />
zdvihu. Přebytečný kov je vytlačen do stran a vytváří výronek, nebo uprostřed blánu, které se<br />
odstraní ostřižením.<br />
Výkovky ze zápustek jsou velmi jakostní, mají přesný tvar, takže se buď nemusí<br />
obrábět, nebo se obrábějí jen zčásti. Průběh vláken materiálu sleduje obrys výkovku. Výroba<br />
zápustky je však drahá, a proto se tento způsob hodí jen pro sériovou a hromadnou výrobu.<br />
Výkovky nelze vždy vykovat v jedné zápustce. Někdy se musí nejdříve předkovat v<br />
předběžné (předkovací) zápustce a dokončí se v zápustce dokončovací. Takovým zápustkám<br />
se říká postupové zápustky.<br />
Tváření (lisování) kovů za studena<br />
Tvářením za studena (tzv. lisovací technika) se uskutečňuje trvalá změna tvaru<br />
výchozího materiálu bez odběru třísek působením vnější síly; podle převládajícího průběhu<br />
deformace je tváření plošné a objemové.<br />
Plošným tvářením se dosáhne žádaného tvaru součásti (převážně z plechu) bez<br />
podstatné změny průřezu nebo tloušťky výchozího materiálu. Mechanické vlastnosti se<br />
nemění.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 17<br />
Objemovým tvářením se dosáhne žádaného tvaru součásti změnou průřezu nebo tvaru<br />
výchozího materiálu. Objem se nemění, ale materiál se zpevňuje a současně klesá jeho<br />
tažnost. Tím je omezen počet tvářecích operací.<br />
Lisování za studena se rozšířilo pro své mnohé přednosti (velká výkonnost, nízké<br />
<strong>výrobní</strong> náklady, malé ztráty materiálu odpadem a příznivé podmínky pro automatizaci),<br />
prokázané praxí v moderní průmyslové výrobě. Základní práce při lisování jsou stříhání<br />
(oddělování materiálu) a tvářeni (přemísťování materiálu).<br />
Stříhání je postup tváření, při kterém je materiál postupně nebo současně oddělován v<br />
celém průřezu.<br />
Tváření je mechanické zpracování materiálu přemísťováním jeho částic tahem nebo<br />
tlakem bez porušení jeho soudržnosti. Podle potřeby převládá tah nebo tlak.
18 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Stříhání<br />
Tímto způsobem se vytvářejí rozmanité polotovary nebo výrobky z plechu nebo pásů.<br />
Stříhá se nůžkami nebo střihacími nástroji - střihadly. Tyto nástroje se vyrábějí v různém<br />
provedení a velikostech, podle druhu výrobků a použité technologie.<br />
Ke stříhání plechu rovnými střihy se používají tabulové nůžky. Nestříhá se celá šířka<br />
plechu najednou, ale jen určitá část, jejíž velikost je pro daný úhel sklonu a druh nůžek stálá.<br />
Střihadla. Hlavní částí střihadla je střižník a střižnice. Materiál se vkládá mezi<br />
střižník a střižnici a je veden vodícími lištami. Jeho posuv (krok) mezi jednotlivými zdvihy<br />
střižníku je omezen dorazem. Střihadla jsou doplněna různými zařízeními a nářadím,<br />
zajišťujícími správný chod nástroje, jako např. ústrojí (části) upevňovací, posuvové,<br />
vyhazovací aj.<br />
Jednoduché střihadlo je určeno pro vystřihování jednoduchých tvarů - výstřižků z<br />
pásu plechu. Poloha pásu při stříhání je zajištěna pevným koncovým dorazem. Před dalším<br />
vystřižením se pás posune o hodnotu kroku k.<br />
Postupové střihad1o zhotovuje výstřižky postupně. V prvním kroku je to děrování, v<br />
dalším vystřižení tvaru (obvodu) výstřižku. K vymezení správné polohy pásu pro jeho<br />
umístění v nástroji se pro děrování použije tzv. načínací doraz. V dalším průběhu práce je<br />
poloha pásu zajištěna pevným koncovým dorazem.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 19<br />
Sloučené střihad1o. Při jednom pracovním zdvihu nástroje je ve stejné poloze pásu<br />
děrován a vystřihován hotový výstřižek.<br />
Sdružené střihad1o sdružuje ve dvou krocích různé pracovní úkony, jako např.<br />
děrování, stříhání a ohýbání.<br />
Ohýbání<br />
Ohýbání je způsob tváření materiálu, při němž se vytváří ostré nebo oblé hrany. Je to<br />
proces pružně plastické deformace, která má různý průběh od povrchu materiálu k neutrální<br />
ose. Při ohybu jsou napětí v krajních vláknech materiálu opačného smyslu (tah, tlak). Kolem<br />
střední části průřezu ohýbaného materiálu jsou tahová napětí malá, v přechodu mezi tímto<br />
pásmem jsou vlákna bez napětí a bez deformace. Jejich spojnice tvoří tzv. neutrální osu<br />
(plochu), v níž není napětí a která se při ohýbání ani neprodlouží, ani nezkrátí. Neutrální osa<br />
(vlákno) je v ohýbané části materiálu posunuta k vnitřní straně ohybu. Není tedy totožná s<br />
těžištní osou ohýbaného materiálu (profilu). U tenkých plechů není tento rozdíl patrný. Při<br />
ohýbání tlustých plechů se však musí s touto okolností počítat. Z délky neutrální osy v<br />
ohýbaných částech a z délky rovných úseků se určuje rozvinutá délka polotovaru před<br />
ohybem. Vypočítaná délka se ověřuje praktickou zkouškou.<br />
Zpětné odpružení ohýbaných součástí (výlisků) je způsobeno zejména vlivem pružné<br />
deformace materiálu. Velikost úhlu odpružení závisí na tvárnosti materiálu, na poloměru<br />
ohybu a způsobu ohýbání (bývá 3 až 15°). Proto se materiál ohýbá navíc o úhel odpružení.<br />
Ka1ibrací nebo prolisy výlisků se vliv odpružení téměř odstraní.<br />
Nástroj pro ohýbání je ohýbadlo, výrobkem je výlisek. Hlavní částí ohýbadla je<br />
ohybník a ohybnice (pohyblivá a pevná čelist). Podle druhu ohybu dělíme ohýbadla na<br />
ohýbání do tvaru V, U apod.<br />
Osa ohybu má být kolmá na směr vláken materiálu vzniklých při válcování plechu (tzv. ohyb<br />
napříč vláken, obr. 109). Odpružení materiálu je sice větší, ale není nebezpečí vzniku trhlin na<br />
vnější straně ohybu. Poloměr ohybu se volí se zřetelem na odpružení materiálu co nejmenší,<br />
se zřetelem na tvárnost a tloušťku ohýbaného materiálu co největší.<br />
Zakružování a lemování<br />
Zakružování se používá při výrobě válcových nebo kuželových plášťů nádob, kotlů apod., a<br />
to i z tlustších plechů (kolem 30 mm). Stroje používané pro tuto tvářecí operaci se nazývají
20 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
zakružovad1a. Jsou buď tříválcová nebo víceválcová. Jejich konstrukce provedení je závislá<br />
na tloušťce zpracovávaného plechu.<br />
Lemování je vytváření podélných žlábků uprostřed nebo na okraji plechu, aby se<br />
zvětšila tuhost plechových výlisků.<br />
Tažení<br />
Při tažení je rovný plech (přístřih, výstřižek) tvářen v dutou polozavřenou nádobu<br />
rotačních i nerotačních tvarů. Výtažky se většinou již neupravují. Proto má tažení velký<br />
význam, zvláště v sériové a hromadné výrobě. Tvářený plech musí mít dostatečnou tažnost.<br />
Rozměry přístřihu se určují z podmínky stálosti objemu (početně, graficky nebo<br />
přibližně, zkusmo). Objem výtažku je roven objemu přístřihu (platí všeobecně).<br />
Nástrojem pro tažení je tažid1o, výrobkem výtažek. Hlavní části tažidla jsou tažník,<br />
(pohyblivá část) a tažnice (pevná část), popř. přidržovač (přidržuje plech k tažnici).<br />
Má-li se z přístřihu vytáhnout např. válcová nádoba, musí se přebytečný materiál<br />
přemístit, tzn. vytáhnout ve směru poloměru a zároveň ve směru obvodu stlačit. Jinak by se<br />
zvětšovala tloušťka nebo by se materiál zv1nil. To se při tažení tenkého plechu stává, tvoří se<br />
přehyby materiálu a při zvětšení odporu se utrhne dno. Tomu se zabrání přidržením materiálu<br />
zvláštní deskou - přidržovačem. Mezi přidržovačem a horní plochou tažnice se vytvoří<br />
mezera, v níž může přístřih klouzat, ale nemůže se vlnit. Při zpětném pohybu tažníku má<br />
přidržovač funkci stírače. Tažení mělkých nádob z tlustších plechů se může provádět bez<br />
přidržovače. Hlubší a složitější nádoby se nemohou vyrobit na jeden tah, ale postupným<br />
tažením.<br />
K tažení se používají většinou mechanické lisy, které jsou vybaveny zařízením<br />
k ovládání přidržovače a k vyvození tažné síly na tažníku. Jsou to tzv. dvojčinné lisy (lis<br />
s beranem přidržovače a beranem tažníku).<br />
Sdružené tažidlo sdružuje operace stříhání a tažení.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 21<br />
Protlačování<br />
Při protlačování za studena je výchozí polotovar podroben tlaku průtlačníku a<br />
průtlačnice. V polotovaru vzniká tlak (až 3000 MPa), který dosáhne hodnoty přetvárného<br />
odporu (materiál se chová jako by byl tekutý). Tvářený materiál se přemísťuje a směr jeho<br />
pohybu je určen konstrukcí nástroje - protlačovadla. Získaný výrobek se nazývá protlaček.<br />
Podle směru pohybu tvářeného materiálu vzhledem k pohybu průtlačníku je protlačování<br />
dopředné, zpětné a sdružené. Vzhledem k velikosti přetvárných odporů jsou k protlačování<br />
vhodné <strong>materiály</strong> s tažností větší než 50%, např. oceli s obsahem uhlíku do 0,2%. Tímto<br />
způsobem se zpracovává také olovo, cín, měď, hliník a jejich slitiny.<br />
Polotovary k protlačování mohou mít tvar plných i dutých špalíků, prstenců apod.<br />
Jejich objem a objem protlačku je stejný. Většinou se žíhají na měkko a vniklé okuje se<br />
odstraňují omíláním nebo otryskáváním. Povrch ocelových polotovarů se fosfátuje, aby se<br />
snížilo tření a přetvárný odpor při protlačování.<br />
Protlačování ocelí i neželezných kovů se používá zejména v elektrotechnice,<br />
elektronice a v automobilovém průmyslu. Protlačky jsou duté a trubkovité součásti s tenkými<br />
stěnami různého průřezu. Jejich rozměry jsou přesné s minimálními přídavky na obrábění.<br />
Dosažitelná (hospodárná) přesnost protlačků je v rozmezí IT 8 až IT 10, což vyžaduje lisy s<br />
velkou tuhostí a přesností. Jednotlivé způsoby protlačování mají podle možných tvarů<br />
protlačků své optimální oblasti použití. Hluboké nádoby z hliníku lze vyrábět protlačováním i<br />
tažením. Výroba protlačováním je hospodárnější.<br />
2.4.2 Svařování<br />
Svařováním se vytváří pevné a nerozebíratelné spojení kovových částí do jednoho<br />
dílu, který se nazývá svařenec. Tyto části jsou většinou z hutních polotovarů (tyče, pásy,<br />
plechy aj.), někdy také z výkovků a odlitků. Výhodou tohoto spojení je těsnost, trvanlivost a<br />
velká pevnost. Svařování zvyšuje produktivitu práce, zmenšuje spotřebu materiálu,<br />
zjednodušuje konstrukci, podstatně zkracuje <strong>výrobní</strong> časy a umožňuje rychlou realizaci<br />
konstrukčních návrhů. Nevýhodou je nerozebíratelnost spojů, potřeba kvalifikovaných<br />
dělníků, změna struktury i mechanických vlastností svarového spoje, vznik vnitřních pnutí a<br />
deformací.<br />
Svařování se používá téměř ve všech <strong>výrobní</strong>ch oborech při výrobě nových strojů a<br />
konstrukcí i při opravách. Svařované součásti často nahrazují odlitky a výkovky zejména<br />
velkých a složitých součástí (jsou až o 50 % lehčí). Také zavádění moderních způsobů<br />
svařování má mimořádný význam pro zvyšování produktivity práce.<br />
Svařování působením tepla (tavné)<br />
Při tomto způsobu svařování vzniká spoj místním natavením svarových ploch<br />
základního materiálu, aniž by se použilo tlaku nebo rázů. Obvykle se ještě používá<br />
přídavného materiálu stejného nebo podobného složení, jako má základní materiál.<br />
Svařování plamenem<br />
Zdrojem tepla je plamen, který vzniká spalováním směsi hořlavého plynu, většinou<br />
acetylénu s kyslíkem. Místo acetylénu se používá i jiných plynů, jako vodíku, propanu aj.<br />
Svařovací plamen se nejčastěji posuzuje podle poměru mísení plynů.
22 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Svařovací souprava se skládá z lahví s lahvovými a redukčními ventily, hadic, hořáků<br />
a příslušenství. Všechna tato zařízení mohou být různé konstrukce, vždy však schválené<br />
inspektorátem bezpečnosti práce.<br />
Pro <strong>materiály</strong> tloušťky větší než 1,5 mm se používá k vyplnění spáry, tj. k vytvoření housenky<br />
přídavný materiál - svařovací drát. Jeho tloušťka je od 1 do 8 mm. Pouze litinové tyčinky mají<br />
tloušťku až 15 mm.<br />
Oxidaci roztaveného kovu zabraňují tavidla. Tvoří s roztaveným kovem vrstvu<br />
ochranné strusky, která brání přístupu vzdušného kyslíku, a tím i vzniku těžko tavitelných<br />
oxidů (při svařování některých neželezných kovů).<br />
Příprava materiálu pro svařování plamenem<br />
Svarové plochy se zbaví nečistot, barvy, rzi aj. Svarové plochy se upravují podle<br />
tloušťky materiálu tak, aby bylo zajištěno dokonalé provaření. Správná poloha součástí během<br />
svařování se zajistí nastehováním, mechanickým upnutím nebo jiným způsobem.<br />
Způsoby svařování<br />
Podle polohy hořáku, svařovacího drátu a postupu při svařování se rozeznává<br />
levosměrný způsob (doleva, dopředu) a pravosměrný způsob (doprava, dozadu) svařování.<br />
Svařovat se může v poloze vodorovné, svislé nebo nad hlavou. Pro snazší svařování (v<br />
nejvhodnější poloze) se používá různých svařovacích přípravků (polohovadel). Svařování<br />
plamenem se používá v kusové a malosériové výrobě, v opravárenství pro svařování ocelí do<br />
tloušťky 5 mm, litiny a pro navařování. Pro velkou pracnost je u větších tlouštěk nahrazeno<br />
svařováním elektrickým obloukem, zejména svařováním v CO2. Tenké plechy se často svařují<br />
elektricky odporově (svařování bodové, švové).<br />
Svařování elektrickým obloukem<br />
V dnešní době je to nejpoužívanější způsob tavného svařování. Zdrojem tepla je<br />
elektrický oblouk, který vznikne mezi elektrodou a svařovaným materiálem (nebo mezi<br />
dvěma elektrodami), jestliže je zapojíme na vhodný zdroj elektrického proudu. Teplem<br />
elektrického oblouku dojde k místnímu natavení a ke spojení (svaření) svařovaných součástí.<br />
Při svařování se používá stejnosměrného nebo střídavého proudu o napětí 10 až 70 V a<br />
intenzitě 30 až 500 A, popř. i více. Proto se proud ke svařování nemůže odebírat přímo ze sítě<br />
(230 nebo 400 V). Zdrojem stejnosměrného proudu jsou točivé svařovací agregáty (např.<br />
Triodyn K 220, K 230) a usměrňovače (např. SM 200, 502, KM 350, WTS 500), zdrojem<br />
střídavého proudu jsou svařovací transformátory (např. TR 260, 350).<br />
Elektrody mohou být netavné nebo tavné. Netavné elektrody (uhlíkové, wolframové)<br />
slouží jen jako prostředek k vytvoření oblouku a neposkytují svarový kov. Tavné elektrody
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 23<br />
mají zpravidla stejné nebo podobné složení jako svařovaný materiál, teplem oblouku se<br />
odtavují a dodávají do svaru přídavný (svarový) kov. Mohou být holé nebo obalené.<br />
Holé elektrody se používají pouze při svařování v ochranné atmosféře nebo svařování<br />
pod tavidlem. Obalené elektrody se používají jak pro proud stejnosměrný, tak střídavý.<br />
Polarita elektrody závisí na druhu jejího obalu. Účelem obalu je stabilizovat oblouk, chránit<br />
svarový kov před přístupem vzduchu, zpomalit chladnutí svaru vytvořenou struskou, popř.<br />
dodat do tavné lázně některé přísadové prvky (Cr, Ni, Mo, V aj.).<br />
Rozhodující vliv na jakost svaru má při ručním svařování průměr elektrody, svařovací<br />
proud, délka oblouku a rychlost svařování. Průměr elektrody se volí podle tloušťky<br />
svařovaného materiálu, tvaru, rozměru a polohy svaru, druhu obalu a podle velikosti<br />
svařovacího proudu. Snaha po zvýšení produktivity ručního svařování vedla k výrobě<br />
speciálních druhů elektrod. Jsou to zejména elektrody větších průměrů, hlubokozávarové a<br />
vysokovýkonné (vysokovýtěžkové) elektrody.<br />
Svařování obalenou elektrodou.<br />
Teplem oblouku se taví svařovaný materiál, kovové jádro elektrody i obal. Struska<br />
vytvořená z obalu chrání odtavované kapky kovu před škodlivými účinky vzduchu tím, že<br />
jednak kapky kovu obaluje (usadí se na nich ve formě strusky) a jednak vytváří plynovou<br />
clonu, která zabraňuje přístupu vzduchu (kyslíku, dusíku) k nim. Svařuje se nejčastěji ručně,<br />
ve všech polohách.<br />
Svařování pod tavidlem<br />
Elektroda (holý svařovací drát) je odvíjena z bubnu a podávána do místa svaru, které<br />
bylo předtím pokryto vrstvou zrněného anorganického tavidla. Svařuje se nejčastěji<br />
automaticky stejnosměrným i střídavým proudem. Stejnosměrného proudu se používá pro<br />
tenké plechy, protože zajišťuje i při nízké intenzitě dostatečnou stabilitu elektrického oblouku.<br />
Hlavní předností této metody je velká produktivita (proti ručnímu svařování až 5x<br />
vyšší, oblouk neozařuje okolí, metalurgické reakce mezi svarovým kovem a aktivní<br />
(natavenou) částí tavidla příznivě ovlivňují jakost svaru. Teplo oblouku je soustředěno do<br />
úzkého pásma, takže lze svařit plech až 15 mm oboustranně bez úkosů. Svařovat se dá i<br />
dvěma elektrodami, použije-li se automat s dvojitou hlavou. Zvýší se tím rychlost a<br />
produktivita svařování.<br />
Svařování pod tavidlem je vhodné pro svařování nízkolegovaných konstrukčních<br />
ocelí. Mechanické vlastnosti svaru vyhovují nejvyšším požadavkům. Touto metodou se<br />
svařují důležité konstrukce (např.mosty, kotlové pláště) tupými nebo koutovými svary.<br />
Tloušťka svařovaných částí může být 2 až 200 mm.
24 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Svařování v ochranném plynu<br />
Jinou možností ochrany svarového kovu před účinky okolní atmosféry je obklopení<br />
oblouku a nataveného kovu umělou atmosférou, vytvořenou vhodným ochranným plynem.<br />
Podle použitého plynu se rozlišují i způsoby svařování.<br />
Svařováni v ochranné atmosféře oxidu uhličitého, metoda MAG (Metal Aktiv<br />
Gas)<br />
Elektrický oblouk hoří mezi kovovou elektrodou (holý drát o průměru 0,8 až 2,4 mm)<br />
a svařovaným materiálem v atmosféře CO2. Plyn musí mít čistotu alespoň 99,5 %. Při tomto<br />
poloautomatickém nebo automatickém způsobu se svařuje výhradně proudem stejnosměrným<br />
při kladné polaritě elektrody. Výhodou je nízká cena plynu, velká odtavovací rychlost<br />
elektrody, možnost svařovat i navařovat a velká produktivita. Hluboký závar umožňuje<br />
svařovat<br />
plechy do tloušťky 12 mm bez úkosů. Při svařování v CO2 lze přivádět současně s plynem<br />
magnetické tavidlo. Účinkem svařovacího proudu je zmagnetizován drát, na jehož povrchu se<br />
tavidlo zachytí. Tavidlo zvyšuje stabilitu elektrického oblouku a chrání svar vrstvou strusky.<br />
Svařování s magnetickým tavidlem se používá pro <strong>materiály</strong> do tloušťky 3 mm.<br />
Svařováni v argonu netavnou elektrodou, metoda WIG (Wolfram Inert Gas)<br />
Elektrický oblouk hoří mezi wolframovou elektrodou a svařovaným materiálem v<br />
proudu netečného plynu argonu. Argon chrání svarový kov před přístupem vzduchu a zvyšuje<br />
stabilitu oblouku, protože má nízké ionizační napětí. Svařuje se zpravidla ručně, střídavým<br />
nebo stejnosměrným proudem. Zapojí-li se elektroda na kladný pól (obrácená polarita),<br />
dopadají kladně nabité ionty argonu na povrchovou vrstvu oxidu, kterou rozrušují a tím i čistí.<br />
Závar je mělký a široký, elektroda tlustá. Při zapojení elektrody na záporný pól (přímá<br />
polarita), nemá argon čisticí účinek. Závar je úzký a hluboký, elektroda tenká. Při zapojení na<br />
střídavý proud se k čištění argonem využívá kladné půlperiody. Druh zapojení se volí podle<br />
velikosti a druhu oxidové vrstvy na svařovaném materiálu.<br />
Metody WIG se používá s úspěchem pro svařování korozivzdorných a žáropevných<br />
ocelí, lehkých kovů a jejich slitin, mosazí a niklu.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 25<br />
Svařování působením tepla a tlaku<br />
Teplem natavené stykové plochy jsou k sobě současně přitlačovány tak, že dojde k<br />
jejich svaření. Z metalurgického hlediska je lhostejné, jaký zdroj tepla se použije. Volí se<br />
takový, který v praxi nejlépe vyhovuje.<br />
Elektrické odporové svařování<br />
Svařovaným materiálem protéká v místě spoje elektrický proud. V tomto místě je<br />
nejmenší přechodový odpor, materiál se ohřeje na teplotu tavení a tlakem se spojí (svaří).<br />
Vzhledem k nízkým hodnotám pracovního napětí (0,5 až 20 V) a elektrického odporu<br />
(součásti krátké a masivní), se musí použít vysokých proudů (až přes 105 A). Potřebné<br />
množství tepla pro svařování se získá buď působením vysokých proudů v krátkém čase (tzv.<br />
tvrdý režim), nebo působením nižších proudů po delší dobu (tzv. měkký režim). U moderních<br />
svářeček se dává přednost tvrdému režimu.<br />
Odporové svařování se používá v kusové i sériové výrobě. Jeho výhoda je v možnosti<br />
mechanizace a automatizace. Každá odporová svářečka má dvě části: elektrickou a<br />
mechanickou. Elektrická část se skládá ze svařovacího transformátoru a slouží k ohřevu<br />
materiálu na teplotu svařování. Mechanická část se skládá z upínacího a přítlačného zařízení.<br />
Všechny odporové svářečky pracují tak, že nejprve sevřou svařované součásti dosedacím<br />
tlakem a teprve<br />
potom se do elektrod vpustí svařovací proud. Po svaření se nejdříve přeruší přívod<br />
svařovacího proudu a potom přestane působit dosedací tlak.<br />
Svařování stykové<br />
Střídavý proud se přivádí ze sítě na svorky primárního vinutí transformátoru. V<br />
sekundární cívce se indukuje proud o napětí 1 až 12 V. Svařuje se nejčastěji odtavovacím<br />
způsobem.<br />
Stykové plochy nemusí být pečlivě očištěny a upraveny, protože nerovnosti se<br />
odstraní odtavením. Součásti se k sobě přitlačí a vlivem přechodového odporu se okolí<br />
stykových ploch ohřeje na odtavovací teplotu. Po zažehnutí oblouku nastává vlastní<br />
odtavování, ze svarových ploch srší proud jisker (ochrana proti oxidaci spoje). Protože<br />
materiál ubývá, musí se součásti k sobě přibližovat. V další fázi se součásti (bez přerušení<br />
jiskření) k sobě přitlačí a svaří. Přitlačením se ještě odstraní zbylé nečistoty a vytvoří se<br />
charakteristický otřep. Svar má velmi dobrou jakost.
26 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Svařování bodové<br />
Součásti se přeplátují a sevřou mezi dvě elektrody. Potom se zapne elektrický proud.<br />
Roztavení a svaření nastane ve stykových plochách obou součástí, v místě nejmenšího<br />
přechodového odporu. Jakmile je svar hotov, svařovací obvod se automaticky vypne. Svar<br />
tuhne dále pod tlakem, takže je zabráněno vzniku staženin. Elektrody jsou z mědi nebo jejích<br />
slitin.<br />
Uvnitř jsou chlazeny vodou. Vlivem chladicího účinku má svar jemnozrnnou strukturu. K<br />
časovému omezování proudů se používá elektromagnetických stykačů (do 0,1 s) nebo<br />
elektronických prvků. Svařovací tlak i proud jsou v určité časové závislosti. Moderní<br />
svařovací stroje mají programovací řízení, které umožňuje složitější svařovací cykly.<br />
Svařování švové<br />
Švové svařování je obdobou bodového svařování. Elektrody chlazené vodou, mají tvar<br />
kotouče.Lze jimi svařovat průběžně. Plechy do tloušťky 1 mm se svařují nepřerušovaným<br />
střídavým proudem (za 1 s vznikne 100 proudových impulsů, čili 100 svarů). Plechy větších<br />
tlouštěk se svařují proudem přerušovaným. Svary mohou být přeplátované nebo tupé.<br />
Obr. Svařování tlakem za studena<br />
Svařování působením tlaku za studena<br />
Podstata metody záleží v přitlačení spojovaných součástí na vzdálenost odpovídající<br />
řádově parametru jejich krystalové mřížky. Ke svaření dojde vlivem difůze, při níž se ve<br />
stykových plochách vytvoří vazby mezi hraničními mřížkami.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 27<br />
Svařované součásti se přiloží k sobě plochami zbavenými oxidů a čelistmi se stlačí<br />
tak, aby byl ve stykových plochách tlak vyšší, než je mez plasticity základního materiálu.<br />
Tlak závisí hlavně na druhu materiálu; bývá v rozmezí 300 až 3 800 MPa. Nejlepších<br />
výsledků se dosahuje u hliníku a jeho slitin. Dobře se také svařují nikl, olovo, měď a stříbro.<br />
Tohoto způsobu se používá při výrobě konzervových krabic, nádrží, trubek aj.Tloušťka<br />
svařovaných plechů nepřesahuje 5 mm. Svary jsou buď švové nebo bodové.<br />
Tohoto způsobu se s výhodou také používá při svařování hliníkových a měděných<br />
vodičů většího průřezu.<br />
Svařování ultrazvukem<br />
Při svařování ultrazvukem jsou spojované <strong>materiály</strong> vystaveny účinkům ultrazvuku za<br />
současného působení tlaku. Mechanické kmity jsou přenášeny vlnovcem na tzv. sonotrody,<br />
jejichž úkolem je soustředit tlakovou sílu a mechanické kmity do místa svaru. Při svařování<br />
kovů působí tlaková síla a mechanické kmity ve vzájemně kolmých směrech.Ultrazvukem lze<br />
svařovat nejen kovy (různého druhu, velmi malé tloušťky - 0,005 až 3 mm), ale i plasty.<br />
Omezená je jen jedna tloušťka svařované součásti, druhá může být libovolně tlustá. Spoje se<br />
dělají přeplátované, bodové nebo švové.<br />
2.4.3 Pájení<br />
Pájení je způsob nerozebíratelného spojení kovů stejného nebo rozdílného chemického<br />
složení roztaveným kovem - pájkou. Pájka proniká do základního materiálu a rozpouští se v<br />
něm (vytváří se tuhý roztok). Její teplota tavení je vždy nižší, než je teplota tavení základního<br />
materiálu. Pájený spoj má horší mechanické vlastnosti než pájený kov. Pájka musí mít dobrou<br />
zatékavost, vzlínavost, vyhovující mechanické vlastnosti, malý rozdíl elektrického potenciálu<br />
vůči základnímu materiálu a nízkou cenu. Podle teploty tavení se pájky dělí na měkké (do<br />
500 °C) a tvrdé (500 až 1 000 °C).<br />
Měkké pájky jsou cínové a zvláštní. Dodávají se ve tvaru litých tyček, trubiček s<br />
náplní tavidla, zrn apod. Měkké pájky se používají na spoje malé pevnosti (20 až 60 MPa).<br />
Tvrdé pájky jsou založeny na bázi slitin mědi, hliníku a stříbra. Dodávají se ve formě<br />
housek, drátů apod. Používají se na spoje větší pevnosti (až 500 MPa).<br />
Tavidla jsou kapalné nebo tuhé chemické látky, které odstraňují z pájených ploch<br />
nečistoty a zabraňují jejich dodatečné oxidaci. Aby působila co nejúčinněji, musí se tavit při<br />
teplotě o 200 až 300 °C nižší, než je teplota pájení.<br />
Měkké pájení se používá ke spojování měkkých i tvrdých ocelí, pozinkovaných i<br />
pocínovaných ocelových plechů, hliníku, slitin mědi apod. K pájení slouží pájedla, jejichž<br />
hroty jsou ohřívány elektricky nebo plamenem.<br />
Tvrdé pájení se používá hlavně tam, kde je spoj namáhán zejména na tah. Pájí se<br />
hliník a jeho slitiny, ocel s jinými kovy apod. K ohřevu se nejčastěji používá<br />
kyslíkoacetylenového, nebo kyslíkopropanbutanového plamene, seřízeného na teplotu pájení.<br />
2.4.4 Výroba drátů<br />
Jádra kabelů a vodičů se nejčastěji zhotovují z mědi a hliníku. Měděný drát je do<br />
kabeloven dodáván ve svitcích o hmotnosti:<br />
a) 80 až 120 kg - válcovaný z bárníků, lisovaný z čepů (bloků)<br />
b) 1 až 5 t - kontinuálně litý a válcovaný event. tažený.
28 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Jeho průměr se většinou pohybuje v rozmezí 6 až 10 mm, při výrobě dynamovodičů větších<br />
průřezů se používá drátů i s větším průměrem. Měděný drát musí mít bezvadný povrch, bez<br />
nečistot, šupin, převalků a trhlin, nesmí mít vměstky, oxidy ani dutiny, jednak aby se netrhal<br />
při dalším zpracování (tažení), jednak aby drát v konečné dimenzi měl povrch jakosti<br />
potřebné pro nanesení izolační vrstvy. Povrch drátu však nemá být příliš hladký, má mít malé<br />
prohlubeniny, aby se v nich dobře zachytil mazací prostředek pro tažení. Ulpívá-li mazací<br />
film na povrchu drátu špatně, stoupá opotřebení tažecích průvlaků i kotoučů.<br />
Válcovaný drát je na povrchu okysličen a nehodí se bez další úpravy ke zpracování.<br />
Vrstva kysličníku z povrchu měděného drátu se odstraňuje mořením ve zředěné kyselině<br />
sírové (60 až 80 °C, 20 až 30 minut). Velmi důležité je důkladné opláchnutí drátu po moření<br />
a pasivaci povrchu.<br />
Měděný drát, vyráběný kontinuální technologií (Properzi, Southwire, Hazelett,<br />
Contirod, Dip-forming, Outkompu) má ve většině případů povrch vhodným způsobem<br />
pasivován tak, aby k oxidaci nedocházelo. Takovýto drát je možno zpracovávat bez moření.<br />
Hliníkový drát přichází do kabeloven ve svitcích o hmotnosti do 1 600 kg. Jeho<br />
průměr se obvykle pohybuje v rozmezí 8 až 12 mm. Je-li určen pro zpracování na zařízení<br />
Conform, je jeho průměr vyšší (14 až 20 mm). U Al drátu není třeba před tažením provádět<br />
úpravu povrchu.<br />
Vlastní výroba drátů v kabelovnách se provádí tažením na vhodný průměr<br />
s následným žíháním, vyžadují-li to další technologické operace.<br />
Tažení drátů<br />
Tažení drátů je tvářecí proces, při kterém se za studena postupně zmenšuje průměr<br />
drátu protahováním tažecími průvlaky pomocí tažecích kotoučů. Tím se drát postupně<br />
prodlužuje, a proto musí být odtahová rychlost každého dalšího tažecího kotouče vyšší než<br />
kotouče předcházejícího. Tento požadavek se u tažecích strojů řeší dvěma zásadními způsoby:<br />
Tandemové tažečky. Všechny tažecí kotouče mají stejný průměr, každý kotouč má<br />
jiné otáčky (postupně se zvyšují). Průvlaky a tažecí kotouče jsou řazeny za sebou, v tandemu.<br />
Kuželové tažečky. Všechny tažecí kotouče mají stejné otáčky, každý kotouč je jiného<br />
průměru (postupně se zvyšuje). Průvlaky jsou uspořádány v řadě, tažecí kotouče tvoří na<br />
hřídelích kužel.<br />
Aby měl drát hladký a lesklý povrch, musí se při tažení intenzívně mazat. Měděné a<br />
hliníkové dráty se táhnou za mokra. Tažecí průvlaky a kotouče jsou zkrápěny proudem tažecí<br />
emulze, případně jsou kotouče v emulzi částečně nebo zcela ponořeny. Tažecí emulze<br />
současně odvádí vyvíjené přetvárné teplo. Složení emulze závisí na materiálu taženého drátu a<br />
jeho průměru, v menší míře též na typu tažečky. Většinou jsou to vodní emulze oleje, tuků a<br />
mýdla. Pro tažení hliníkových drátů se používají tažecí oleje s přídavkem různých tuků, např.<br />
lanolínu.<br />
Pro výrobu kabelů a vodičů je potřebný rozsah průměrů tažených drátů velmi široký,<br />
asi od 0,01 do 4,5 mm průměru. Tomu odpovídá i velký počet typů, provedení a konstrukcí<br />
tažecích strojů. Zhruba se tažečky rozdělují podle vstupního a konečného průměru drátu na<br />
tyto druhy: hrubotahy, střední tahy, jemné tahy a zvlášť jemné tahy.<br />
Přesnost rozměrů a jakost povrchu tažených drátů je dána v prvé řadě přesností<br />
tažecích průvlaků a jejich dokonalých opracováním. Průvlak se skládá z jádra (diamantového<br />
nebo tvrdokovového) a objímky. V jádru vybroušený tažný otvor má čtyři funkční části.<br />
Vstupní kužel (mazací kužel), kterým se do průvlaku přivádí mazadlo ke snížení tření při<br />
tažení. Tažný kužel, ve kterém se vstupní průměr taženého drátu přetváří na menší. Kalibrační
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 29<br />
válec, kterým se tažený drát kalibruje na předepsaný průměr. A konečně výstupní kužel,<br />
chránící kalibrační část průvlaku před poškozením.<br />
Podle stupně opotřebení se tažecí průvlaky jen brousí a leští nebo se před broušením<br />
ještě brousí nahrubo. Při všech těchto operacích se průvlaky obrábějí brusnou pastou,<br />
diamantové diamantovým práškem v oleji, tvrdokovové karbidem bóru ve vazelíně.<br />
Žíhání drátů<br />
Tažením se mění krystalická struktura Cu, a tím i její fyzikální vlastnosti. Tažnost<br />
klesá, pevnost stoupá – drát je tvrdý. Aby se znovu získaly původní vlastnosti materiálu<br />
(tažnost, ohebnost), musí se drát zahřát na rekrystalizační teplotu 200 až 400 °C. Dráty se<br />
musí žíhat. Vyžaduje-li to technologie tažení (překročí-li redukce průměru 90 až 95 %), je<br />
zařazeno i mezižíhání.<br />
Žíhání se musí provádět v ochranné atmosféře, aby měděný drát byl ochráněn před<br />
oxidací. Vlastní žíhání se provádí:<br />
a) průběžně (odporově – Jouleovým teplem)<br />
b) v pecích (hrncových, komorových).<br />
Cínování drátů<br />
Cínováním se chrání měděné dráty před korozním účinkem určitých složek pryžových<br />
směsí (zejména síry) nebo před vlivy povětrnosti. Jádra některých typů vodičů se cínují<br />
z toho důvodu, aby se usnadnilo jejich pájení při montáži. Tloušťka cínové vrstvy bývá<br />
0,002 až 0,015 mm. Měděné dráty se cínují buď za tepla nebo elektrolyticky.<br />
Cínování za tepla. Při cínování za tepla se měděný drát protahuje nádrží s roztaveným<br />
cínem (50 až 80 % cínu, zbytek olovo) teploty 320 až 420 o C. Uprostřed nádrže jsou ponorné<br />
držáky s diamantovými nebo tvrdokovovými vodítky. Cínovací lázně se většinou staví<br />
v tandemu s tažecími stroji.<br />
Cínování elektrolytické. Při elektrolytickém cínování je měděný drát katodou, cínová<br />
deska anodou. Jednochodé cínovací zařízení pracuje průběžně, drát prochází v přímce<br />
postupně sekcí čisticí, cínovací a chladicí. Tloušťka vrstvy se řídí velikostí proudu a<br />
odtahovou rychlostí.
30 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Část 3.<br />
Magnetické <strong>materiály</strong><br />
Obsah:<br />
3.1. Struktura a vlastnosti fero- a ferimagnetik<br />
3.2. Fero- a ferimagnetické <strong>materiály</strong><br />
3.3. Speciální magnetické <strong>materiály</strong><br />
3.3 SPECIÁLNÍ MAGNETICKÉ MATERIÁLY<br />
Fero- a ferimagnetické <strong>materiály</strong> pro specifická použití<br />
A. Magnetické granáty<br />
B. Granáty pro bublinové paměti<br />
C. Magnetická kompozita<br />
D. Materiály s magnetostrikčními vlastnostmi<br />
E. Aktivní povlaky magnetických pásků<br />
F. Magneticky měkké amorfní slitiny kovů<br />
F e r i t y<br />
• Ferity magneticky měkké<br />
1. Ferity se spinelovou strukturou<br />
ferospinely (Ferroxcube,Fonox)<br />
MO.Fe2O3<br />
M ... Mn, Mg, Zn, Ni, Cd, Cu, příp.Co<br />
spinelová struktura:<br />
normální - ferit nemagnetický (ferit Zn, ferit Cd)<br />
inversní - ferit magneticky aktivní<br />
smíšená - ferit magneticky aktivní<br />
2. Ferity s granátovou strukturou<br />
Fe 2 O 3 + oxidy vzácných zemin<br />
3. Ferity s hexagonální strukturou<br />
(Ferroxplan)<br />
(MO)x.(BaO).(Fe 2 O 3 )y<br />
M ... Mg, Mn, Co<br />
• Ferity magneticky tvrdé<br />
1. Ferity s hexagonální strukturou<br />
(Durox)<br />
MO.6Fe2O3<br />
M ... Ba, Pb, Sr, Ca<br />
• Ferity se speciálními vlastnostmi<br />
1. Mikrovlnné ferity s granátovou strukturou<br />
2. Ferity s pravoúhlou hysterézní smyčkou<br />
3. Magnetostrikční ferity<br />
Magnetostrikční ferity pro rezonátory<br />
Magnetostrikční ferity pro měniče<br />
4. Ferity pro záznamové a čtecí hlavy
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 31<br />
Část 4.<br />
Polovodičové <strong>materiály</strong><br />
Obsah:<br />
4.1 Nerovnovážné stavy koncentrace nosičů proudu<br />
4.2 Přechod PN<br />
4.3 MIS (MOS) struktura<br />
4.1 NEROVNOVÁŽNÉ STAVY KONCENTRACE NOSIČŮ PROUDU<br />
Rovnovážné stavy v polovodiči splňují podmínku termodynamické rovnováhy<br />
n.p = ni 2 (4.1)<br />
Nerovnovážné stavy koncentrace nosičů tuto podmínku nesplňují a v případě, že<br />
n.p > ni 2 (4.2)<br />
musí existovat zdroj injekce nosičů do polovodiče, při<br />
n.p < ni 2 (4.3)<br />
dochází k extrakci nosičů z polovodiče.<br />
Ve všech dalších úvahách se omezíme na případ nízké úrovně injekce, při které se výrazně<br />
mění pouze koncentrace menšinových nosičů v polovodiči, zatímco koncentrace většinových<br />
nosičů zůstává prakticky zachována.<br />
Pro nadbytečné nosiče musí být též splněna podmínka elektrické neutrality<br />
∆n = ∆p (4.4)<br />
a pro výsledné koncentrace nosičů tak lze psát<br />
n = n0 + ∆n (4.5)<br />
p = p0 + ∆p (4.6)<br />
kde index 0 značí koncentrace splňující podmínku termodynamické rovnováhy.<br />
(Příklad nízké úrovně injekce pro křemík N typu dotovaný 10 16 donory v cm -3 a pokojovou<br />
teplotu:<br />
n = 1,45.10<br />
i<br />
10<br />
cm<br />
16<br />
0 D 10 cm -3<br />
n N =<br />
n<br />
( ) 2<br />
10<br />
10<br />
-3 10 -3<br />
1.10 cm<br />
2<br />
0 i<br />
ND<br />
16<br />
10<br />
4<br />
10 cm -3<br />
p<br />
Uvažujme injekci párů elektron díra o koncentraci ∆n = ∆p = 10 10 cm -3 ,<br />
potom<br />
n n0 n 10 10 10<br />
16 10 16<br />
= +∆ = + cm -3<br />
p = p +∆ p=<br />
+ <br />
4 10 10<br />
0 10 10 10<br />
cm<br />
-3
32 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Koncentrace většinových nosičů se nezměnila, naopak dochází k výraznému růstu<br />
koncentrace menšinových nosičů.)<br />
Přestane-li působit příčina vyvolávající nerovnovážný stav, vrací se polovodič do<br />
rovnovážného stavu rekombinací (případ injekce) nebo generací nosičů (při extrakci).<br />
Při řešení nerovnovážných stavů se vychází z rovnice kontinuity, která pro elektrony má tvar<br />
a pro díry<br />
∂ n 1<br />
= G− R+ divJ<br />
∂t<br />
q<br />
∂ p 1<br />
= G−R− divJ<br />
∂t<br />
q<br />
n<br />
p<br />
(4.7)<br />
(4.8)<br />
kde G (m –3 s –1 ) je počet nosičů generovaných v jednotkovém objemu a čase (generační<br />
rychlost), R (m –3 s –1 ) je počet nosičů rekombinovaných v jednotkovém objemu a čase<br />
(rekombinační rychlost) a J n a J p jsou vektory proudové hustoty elektronů a děr.<br />
4.1.1 Doba života minoritních nosičů<br />
Předpokládejme rovnoměrně osvětlenou desku polovodiče N typu, přičemž energie záření je<br />
tak velká, že dochází ke generaci párů elektron-díra rovnoměrně v celém objemu polovodiče.<br />
Situace je znázorněna na obr.4.1.<br />
Obr. 4.1 Koncentrace menšinových nosičů v polovodičovém materiálu při objemové generaci<br />
párů elektron díra vnějším zdrojem.<br />
Uvažujme případ nízké úrovně injekce. Vzhledem k tomu, že v daném případě se koncentrace<br />
většinových nosičů prakticky nemění, budeme se zabývat pouze menšinovými nosiči, dírami.<br />
Je-li generační rychlost párů elektron-díra způsobená osvětlením GL (m -3 s -1 ), můžeme rovnici<br />
kontinuity pro díry psát<br />
∂p<br />
∂t<br />
n<br />
= G + G −R<br />
L T<br />
(4.9)<br />
kde GT (m -3 s -1 ) je generační rychlost nosičů teplem ( odpovídající termodynamické<br />
rovnováze), R (m -3 s -1 ) je celková rekombinační rychlost nosičů.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 33<br />
Zavedeme pojem tzv. čisté rekombinační rychlosti U (m -3 s -1 ), vztahující se k nerovnovážným<br />
nosičům náboje<br />
U = R – GT (4.10)<br />
Je zřejmé, že ve stavu termodynamické rovnováhy, kdy tepelná generace nosičů je<br />
v rovnováze s jejich rekombinací je U = 0.<br />
Předpokládejme tzv. lineární rekombinaci, kdy pro čistou rekombinační rychlost platí<br />
1<br />
U = p − p ) (4.11)<br />
τ<br />
( n n0<br />
p<br />
Veličina τp má rozměr času a je to doba života minoritních nosičů v polovodiči.<br />
Dosazením do vztahu (4.9) dostáváme<br />
∂pn<br />
1<br />
= G − p − pn<br />
)<br />
(4.12)<br />
∂t<br />
τ<br />
L ( n 0<br />
p<br />
V ustáleném stavu, kdy se osvětlení polovodičové desky nemění<br />
∂p<br />
∂t<br />
n<br />
= 0<br />
dostáváme řešením (4.12) pro koncentraci menšinových děr při osvětlení pnL<br />
nL n0 p L<br />
(4.13)<br />
p = p + τ G (4.14)<br />
Přestane-li následně zdroj světla, generující nerovnovážné nosiče působit (GL = 0), klesá<br />
koncentrace nerovnovážných nosičů<br />
∂p<br />
∂t<br />
n<br />
1<br />
=− ( p −p<br />
τ<br />
p<br />
n n0<br />
Řešení (4.15) s počáteční podmínkou pn(0) = pnL<br />
) (4.15)<br />
⎛ t ⎞<br />
pn() t = pn0 + ( pnL − pn0).exp⎜− ⎜<br />
⎟ (4.16)<br />
⎝ τ ⎟<br />
p ⎠<br />
je graficky znázorněno na obr. 4.2.<br />
Obr. 4.2 Pokles koncentrace menšinových nosičů v polovodičovém materiálu pro různé doby<br />
života menšinových nosičů τp.
34 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Vidíme, že jakmile přestal působit vnější zdroj generace nadbytečných nosičů, polovodič se<br />
vrací do stavu termodynamické rovnováhy podle exponenciální funkce času, přičemž rychlost<br />
návratu je závislá na době života menšinových nosičů náboje.<br />
4.1.2 Povrchová rekombinace<br />
U reálných polovodičů nedochází nikdy k rovnoměrné rekombinaci nosičů v celém<br />
objemu polovodiče. U povrchu polovodiče, který představuje porušení struktury materiálu, se<br />
významně uplatňuje povrchová rekombinace.<br />
Předpokládejme, že v desce polovodičového materiálu N typu z předešlého případu<br />
dochází ke zvýšené rekombinaci pouze na ploše ležící v rovině x = 0 (obr.4.3) V tomto<br />
případě se bude koncentrace děr v určitém místě vzorku měnit také vlivem toku nosičů k této<br />
ploše, kde je jejich koncentrace díky zvýšené rekombinaci nižší než v objemu.<br />
Obr.4.3 Koncentrace menšinových nosičů v polovodičovém materiálu při objemové generaci<br />
nerovnovážných párů elektron díra vnějším zdrojem a povrchové rekombinaci na<br />
ploše<br />
x = 0.<br />
Rovnici kontinuity pro díry lze v tomto případě psát<br />
∂pn 1 ∂J<br />
p<br />
= GL−U −<br />
4.17)<br />
∂t q ∂x<br />
(<br />
kde proudová hustota děr tekoucích k povrchu<br />
∂p<br />
J qp E qD<br />
x<br />
n<br />
p = µ p − p<br />
∂ (4.18)<br />
se skládá z driftové a difúzní složky proudové hustoty. Lze dokázat, že pro případ nízké<br />
úrovně injekce lze driftovou složku proudové hustoty menšinových nosičů zanedbat a<br />
uvažovat pouze difúzní složku proudové hustoty menšinových nosičů, v našem případě děr,<br />
tekoucích k povrchu.<br />
2<br />
∂p p − p ∂ p n<br />
G Dp<br />
( 4.19)<br />
2<br />
∂t ∂x<br />
n n n0<br />
= L − +<br />
τ p<br />
Budeme uvažovat řešení pro ustálený stav (konstantní osvětlení), kdy<br />
∂p<br />
∂t<br />
n<br />
= 0<br />
(4.13)
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 35<br />
a pro okrajové podmínky<br />
p ( ∞ ) = p = p + τ G ( 4.20)<br />
n nL n0<br />
p L<br />
∂pn<br />
Dp x= 0 sp[ pn(0) pn<br />
(4.21)<br />
∂x<br />
= − ] 0<br />
První okrajová podmínka vyjadřuje, že koncentrace mešinových děr v objemu polovodiče,<br />
daleko od povrchu kde rekombinují, je rovna nerovnovážné koncentraci stanovené<br />
v předchozím případě. Druhá podmínka vyjadřuje, že všechny díry, které difúzí dorazí<br />
k povrchu pro x = 0, zde rekombinují. Stejně jako u objemové rekombinace se předpokládá,<br />
že děj je úměrný přebytku děr u povrchu oproti rovnovážné koncentraci. Konstantou<br />
úměrnosti je rychlost povrchové rekombinace menšinových děr, sp (m s -1 ). Řešení rovnice<br />
(4.19) pro ustálený stav a okrajové podmínky (4.20) a (4.21) je<br />
s τ ⎛ ⎞<br />
p p x<br />
pn( x) = pnL −( pnL − pn0).<br />
.exp⎜−<br />
⎜<br />
⎟,<br />
( 4.22)<br />
Lp ⎝ L ⎟<br />
p ⎠<br />
kde L = D τ<br />
(4.23)<br />
p p<br />
Lp (m) je difúzní délka děr.<br />
p<br />
Na obr.4.4 je graficky znázorněno řešení rovnice (4.22) pro různé povrchové rekombinační<br />
rychlosti a pro jednu difúzní délku děr, řešení znázorněné na obr.4.5 vyjadřuje vliv rozdílných<br />
difúzních délek nosičů při velmi vysoké povrchové rekombinační rychlosti děr.<br />
Obr.4.4 Koncentrace menšinových nosičů v polovodičovém materiálu při objemové generaci<br />
nerovnovážných párů elektron díra vnějším zdrojem a povrchové rekombinaci na<br />
ploše<br />
pro x<br />
= 0 s různou povrchovou rekombinační rychlostí sp.
36 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obr. 4.5 Koncentrace menšinových nosičů v polovodičovém materiálu při objemové generaci<br />
nerovnovážných párů elektron díra vnějším zdrojem a povrchové rekombinaci<br />
s vysokou povrchovou rekombinační rychlostí sp na ploše pro x = 0 pro tři různé<br />
difúzní délky nosičů Lp.<br />
Obdobným postupem lze odvodit pro polovodič N typu rozložení menšinových děr při jejich<br />
generaci v povrchové vrstvě (pro x = 0) a rekombinaci v objemu. V daném případě se řeší se<br />
rovnice kontinuity pro ustálený stav<br />
∂ p 1<br />
D ( p p ) = 0<br />
p<br />
2<br />
n − 2<br />
∂x<br />
τ p<br />
n − n0<br />
p ( ∞ ) = p<br />
( 4.26)<br />
n0<br />
(4.24)<br />
Okrajové podmínky vyjadřují konstantní koncentraci menšinových nosičů v místě jejich<br />
generace a jejich rovnovážnou koncentraci v objemu, daleko od povrchu kde jsou<br />
generovány.<br />
Řešení má tvar<br />
pn(0) = konst. (4.25)<br />
n<br />
⎛ x ⎞<br />
pn( x) = pn0 + [ pn(0) − pn0]<br />
.exp⎜− ⎜<br />
⎝ Lp ⎠<br />
⎟ (4.27)<br />
a je znázorněno pro různé difúzní délky nosičů na obr. 4.6.<br />
Obr.4.6 Koncentrace menšinových nosičů v polovodičovém materiálu při generaci na povrchu<br />
pro x = 0 a objemové rekombinaci pro různé difúzní délky minoritních nosičů Lp.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 37<br />
4.1.3 Mechanismus rekombinace<br />
Přechod elektronu z vodivostního pásu do valenčního a jeho rekombinace s volnou dírou se<br />
nazývá mezipásmový rekombinační přechod a uplatňuje se především u polovodičů s tzv.<br />
přímou pásovou strukturou (např. některé polovodiče ze skupiny A III B V ) . Doba života<br />
menšinových nosičů u mezipásmového přechodu klesá s rostoucí koncentrací většinových<br />
nosičů.<br />
Dalším typem rekombinace je rekombinace prostřednictvím rekombinačních (generačních)<br />
center, jejichž energetické hladiny se nacházejí v zakázaném pásu polovodiče, poblíž středu<br />
tohoto pásu. Centra jsou vytvářena různými druhy příměsí (tzv. hluboké příměsi na rozdíl od<br />
mělkých příměsí donorů a akceptorů, nacházejících se u okrajů zakázaného pásu) nebo<br />
poruchami krystalové mříže. Energetické hladiny v blízkosti středu zakázaného pásu slouží<br />
jako stupně k převádění elektronů a děr mezi valenčním a vodivostním pásem. Lze ukázat, že<br />
rekombinace bude nejúčinnější pro centra, která vytvářejí hladiny co nejblíže středu<br />
zakázaného pásu. Doba života menšinových nosičů je potom ovlivněna koncentrací těchto<br />
účinných center. Příkladem takového centra je zlato, které v křemíku vytváří celkem čtyři<br />
hladiny, z nichž dvě leží blízko středu zakázaného pásu. Při koncentraci Au v rozmezí 10 20 až<br />
10 23 m -3 se doba života mění v mezích 2.10 -7 až 10 -10 s.<br />
4.2 PŘECHOD PN<br />
Polovodičové součástky využívají elektrických vlastností přechodu mezi polovodiči typu P a<br />
N. Idealizovaný jednorozměrný model přechodu PN s průběhem koncentrací nosičů je<br />
znázorněn na obr. 4.7.<br />
Obr.4.7 Jednorozměrný model přechodu PN s průběhem koncentrací donorů, akceptorů,<br />
většinových a menšinových nosičů.<br />
Na přechodu dochází vlivem koncentračního spádu k difúznímu toku většinových nosičů do<br />
oblasti, ve které se stávají nosiči menšinovými. Předpokládáme, že v oblasti blízké přechodu<br />
je v důsledku tohoto odtoku nosičů koncentrace pohyblivých nosičů malá ve srovnání<br />
s koncentrací nepohyblivých, ionizovaných donorů a akceptorů. Nevykompenzovaný
38 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
elektrický náboj těchto ionizovaných příměsí vytváří elektrické pole, které brání dalšímu<br />
odtoku většinových nosičů. Elektrický náboj nevykompenzovaných příměsí vytváří v oblasti<br />
přechodu tzv. oblast prostorového náboje.<br />
Tedy při spojení polovodiče typu P s polovodičem typu N přecházejí vlivem koncentračního<br />
spádu elektrony z oblasti N do P a díry z P do N polovodiče tak dlouho, až vzniklé elektrické<br />
pole dalšímu toku zabrání, neboli dochází k rovnováze mezi difúzní a driftovou složkou<br />
proudové hustoty<br />
∂n<br />
J n = qnµ nE+ qDn = 0<br />
(4.28)<br />
∂ x<br />
∂p<br />
J p = qpµ pE−qDp = 0<br />
(4.29)<br />
∂ x<br />
Řešením rovnice (4.28), příp.(4.29) můžeme určit velikost potenciálu elektrického pole<br />
v oblasti prostorového náboje na přechodu. Při použití Einsteinova vztahu a označíme-li<br />
celkovou změnu potenciálu jako difúzní napětí na přechodu UD, pro velikost difúzního napětí<br />
dostáváme<br />
U<br />
D<br />
kT pp kT nn<br />
= ln = ln<br />
(4.30)<br />
q p q n<br />
n p<br />
Řešením předchozích rovnic (4.28), příp. (4.29) lze též ukázat, že bez vnějšího napětí na<br />
přechodu je poloha Fermiho hladiny přes celý přechod PN konstantní<br />
WF = konst. (4.31)<br />
4.2.1 Elektrostatické řešení přechodu PN<br />
Elektrostatické řešení přechodu vychází z Poissonovy rovnice, kterou jednorozměrně můžeme<br />
vyjádřit<br />
dE( x) Q( x)<br />
= (4.32)<br />
dx εε<br />
0<br />
r<br />
Známe-li rozložení elektrického náboje Qx ( ) v oblasti přechodu, integrací stanovíme<br />
intenzitu elektrického pole Ex. ( ) Vzhledem k platnosti vztahu<br />
dU( x)<br />
Ex ( ) =− a (4.33)<br />
dx<br />
W( x) =− qU( x)<br />
(4.34)<br />
pro energii elektronu, můžeme z rozložení intenzity elektrického pole následně stanovit<br />
rozložení potenciálu, resp. energií.<br />
Naznačíme si grafické řešení Poissonovy rovnice pro jednu z používaných idealizací<br />
rozložení náboje na přechodu, pro tzv. strmý přechod, u kterého se koncentrace donorů ND<br />
mění v místě přechodu pro x = 0 skokem na koncentraci akceptorů NA . Oblast prostorového<br />
náboje o celkové šířce w leží částečně v polovodiči typu N (-xn, 0), částečně v polovodiči typu<br />
P (0, xp) – viz obr. 4.8.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 39<br />
a) Koncentrace příměsí pro idealizovaný strmý PN přechod. Koncentrace na přechodu se<br />
mění skokem z ND na NA<br />
b) Oblast prostorového náboje pro strmý přechod<br />
c) Intenzita elektrického pole pro strmý přechod. Průběh intenzity dostaneme řešením<br />
Poissonovy rovnice (4.32). Plocha pod křivkou je rovna velikosti difúzního napětí<br />
d) Průběh energetických hladin na přechodu, WF = konst. Průběh energetických hladin<br />
v oblasti prostorového náboje bude mít parabolický tvar a je dán řešením rovnic (4.33) a<br />
(4.34)<br />
Obr.4.8 Elektrostatické řešení strmého přechodu PN.<br />
Z podmínky nábojové neutrality plyne, že celkový náboj musí být po obou stranách přechodu<br />
stejný a tedy
40 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
NDxn = NAxp (4.35)<br />
Ze vztahu (4.35) plyne, že oblast prostorového náboje na přechodu PN se rozšiřuje převážně<br />
do té části polovodiče, která je méně dotována příměsemi.<br />
Pro maximální intenzitu elektrického pole na strmém přechodu lze řešením Poissonovy<br />
rovnice odvodit<br />
qN qN<br />
D<br />
A<br />
Emax = xn<br />
=<br />
εε 0 r εε 0 r<br />
a pro velikost difúzního napětí<br />
1<br />
U E<br />
2<br />
x p<br />
(4.36)<br />
D = max w (4.37)<br />
Z rovnic (4.36) a (4.37) lze určit šířku oblasti prostorového náboje pro strmý přechod PN<br />
w<br />
2εε 0 r NA + ND<br />
= U D<br />
(4.38)<br />
q N N<br />
A D<br />
Pro nesymetrický přechod, kdy např. ND >> NA dostaneme<br />
w<br />
2εε 1<br />
q N<br />
0 r = U (4.39)<br />
D<br />
A<br />
a prakticky celá oblast prostorového náboje se realizuje v oblasti polovodiče typu P.<br />
Je-li k přechodu přiloženo vnější napětí U musí se toto napětí při stanovení šířky oblasti<br />
prostorového náboje přičítat k difúznímu napětí v rovnici (4.38) s kladným znaménkem pro<br />
zpětný směr ( U D − U)<br />
a se záporným znaménkem ( U D + U)<br />
pro přímý směr.<br />
4.2.2 Ideální voltampérová charakteristika PN přechodu<br />
Přiložíme-li vnější zdroj napětí na přechod tak, že kladné napětí je straně P a záporné na<br />
straně N, potom vnější elektrické pole sníží potenciálovou barieru na přechodu. Na přechodu<br />
dochází k růstu difúzních složek proudových hustot, nastává injekce nosičů, oblast<br />
prostorového náboje je zaplavena injekovanými nosiči, prochází proud v přímém směru.<br />
Přechod představuje malý odpor, šířka oblasti prostorového náboje w se zmenší. Elektrický<br />
proud v oblasti P je zprostředkován dírami, v oblasti N elektrony. Díry, které se dostanou přes<br />
přechod představují v oblasti N menšinové nosiče, nemohou tam stabilně existovat a<br />
rekombinují postupně s elektrony. Situace je schematicky znázorněna na obr. 4.9.<br />
Jiná situace nastává, je-li polarita přiloženého napětí opačná. Dochází ke zvýšení potenciálové<br />
bariery na přechodu, šířka oblasti prostorového náboje se zvětšuje, jak elektrony na straně N,<br />
tak díry na straně P se vzdalují od přechodu, přechodem prochází pouze malý zbytkový<br />
proud. Přechod je orientován v závěrném směru a představuje velký odpor.<br />
Úpravou vztahu (4.30) můžeme pro původní rovnovážné koncentrace (označíme indexem 0)<br />
psát<br />
pp 0 ⎛qU D ⎞<br />
= exp⎜<br />
4.40)<br />
pn0⎝ kT<br />
⎠<br />
⎟ (
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 41<br />
Při přiložení napětí U v přímém směru se potenciálová bariéra zmenší o velikost tohoto napětí<br />
a analogicky pro koncentrace p1 a p2 z obr. 4.9 můžeme uvést<br />
p ⎡ 1 qU ( D −U)<br />
⎤ pp<br />
0 ⎛ qU⎞<br />
= exp ⎢ ⎥ = exp⎜−<br />
⎟<br />
p2 ⎣ kT ⎦ pn0<br />
⎝ kT ⎠<br />
( 4.41)<br />
Koncentrace děr p2 se skládá z původní koncentrace rovnovážné pno a z koncentrace<br />
injektovaných děr ∆p2 , obdobně též p1<br />
p = p +∆ p<br />
2 n0<br />
1 p0<br />
2<br />
1<br />
(4.42)<br />
p = p +∆ p<br />
(4.43)<br />
Vzhledem k tomu, že koncentrace vstřikovaných nosičů je malá v porovnání s koncentrací<br />
většinových nosičů ppo >> ∆p1 (nízkoúrovňová injekce), je p1 ppo a koncentrace<br />
vstřikovaných menšinových děr do oblasti N typu<br />
⎡ ⎛qU ⎞ ⎤<br />
∆ p2 = pn0<br />
⎢exp⎜ ⎟−1⎥<br />
( 4.44)<br />
⎢⎣ ⎝ kT ⎠ ⎥⎦<br />
⎡ ⎛qU ⎞ ⎤<br />
∆ n1 = np0<br />
⎢exp⎜ ⎟−1⎥<br />
( 4.45)<br />
⎢⎣ ⎝ kT ⎠ ⎥⎦<br />
Podobně platí pro elektrony vstřikované do oblasti polovodiče P typu<br />
Z předchozích dvou vztahů je patrné, že koncentrace injektovaných menšinových nosičů<br />
závisí pouze na napětí na přechodu a na rovnovážné koncentraci menšinových nosičů<br />
v oblasti, do které se nosiče vstřikují. Koncentrace nosičů v oblasti odkud dochází k<br />
injekci nemá vliv.<br />
Pro oblast typu N můžeme koncentraci nadbytečných minoritních nosičů z obr. 4.9 vyjádřit<br />
(viz kap.4.1.3, vztah (4.27))<br />
⎛ x ⎞<br />
pn( x) = pn0 + [ pn(0) − pn0]<br />
exp⎜−<br />
⎜<br />
⎟<br />
⎝ L ⎟<br />
p ⎠<br />
Proudovou hustotu děr těsně za oblastí přechodu vypočítáme<br />
∂∆pn(<br />
x)<br />
J p ( x= 0) =−qDp<br />
∂x<br />
D<br />
q<br />
L<br />
p<br />
x=<br />
0<br />
p<br />
= ∆ 2<br />
(4.46)<br />
p (4.47)<br />
Obdobným postupem lze pro proudovou hustotu elektronů těsně za oblastí přechodu stanovit<br />
D<br />
= ∆ (4.48)<br />
n J n q n1<br />
Ln<br />
Pro celkovou proudovou hustotu tak dostáváme<br />
⎡D D ⎤ ⎡<br />
n p D D ⎤⎡<br />
n<br />
p ⎛qU ⎞ ⎤<br />
J = J n + J p = q⎢ ∆ n1+ ∆ p2⎥ = q⎢ np0 + pn0⎥⎢exp⎜<br />
⎟−1⎥<br />
⎣⎢Ln Lp ⎦⎥ ⎣⎢Ln Lp ⎦⎥⎣⎢<br />
⎝ kT ⎠ ⎦⎥<br />
Po úpravě<br />
(4.49)
42 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
případně<br />
⎡ ⎛qU ⎞ ⎤<br />
J = J 0 ⎢exp⎜ ⎟−1⎥<br />
( 4.50)<br />
⎢⎣ ⎝ kT ⎠ ⎥⎦<br />
⎡ ⎛qU ⎞ ⎤<br />
I = I0⎢exp⎜<br />
⎟−1⎥<br />
( 4.51)<br />
⎢⎣ ⎝ kT ⎠ ⎥⎦<br />
kde zbytkový proud Io<br />
⎡DD⎤ n<br />
p<br />
I0= A J 0 = Aq⎢ np0 + pn0⎥<br />
( 4.52)<br />
⎢⎣Ln Lp<br />
⎥⎦<br />
A je plocha přechodu.<br />
Vztah (4.51) bývá označován jako ideální voltampérová charakteristika přechodu PN.<br />
Z ideální voltampérové charakteristiky vyplývá, že závěrný proud je konstantní a roven Io ,<br />
jakmile je napětí záporné a větší, než několik kT/q. Naopak v přímém směru narůstá proud<br />
prakticky exponenciálně s napětím, pouze pro malá napětí U < kT/q se projeví vliv jedničky<br />
v závorce. Ideální voltampérová charakteristika je znázorněna na obr.4.10. Reálná<br />
voltampérová charakteristika přechodu se od ideální odlišuje jak v propustném, tak<br />
v závěrném směru.<br />
4.3 MIS (MOS) STRUKTURA<br />
Struktura MIS (MOS) je ideálním prostředkem k vyšetřování povrchových vlastností<br />
polovodičových materiálů. Pochopení fyzikálních základů této struktury, umožní proniknout<br />
do činnosti MIS (MOS) polovodičových součástek.<br />
Řez strukturou je znázorněn na obr. 4.11. Struktura je tvořena kovovou elektrodou, označenou<br />
M, izolační vrstvou (I) a polovodičem (S). Je-li izolační vrstvou oxid polovodičového<br />
materiálu, struktura se označuje MOS.<br />
Obr.4.11 Řez strukturou MIS (MOS)<br />
Výklad vlastností struktury zjednodušíme pro případ, kdy uvažujeme, že výstupní práce<br />
elektronu z kovu elektrody i z polovodiče je stejná, nejsou vázané elektrické náboje<br />
v izolantu, ani na rozhraní mezi izolantem a polovodičem.<br />
Zobrazenou strukturou s dokonalým izolantem nemůže protékat stejnosměrný proud. Oblast<br />
prostorového náboje, která se vytvoří v podpovrchové oblasti polovodiče u rozhraní s izolační
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 43<br />
vrstvou, tak zůstává v termodynamické rovnováze, tj. platí zde vztah n . p = ni 2 . Důsledkem<br />
je, že poloha Fermiho hladiny v polovodiči, bez ohledu na napětí UH přiložené na kovovou<br />
elektrodu - hradlo, je konstantní. Náboj indukovaný napětím na hradle v podpovrchové oblasti<br />
polovodiče vyvolává v této oblasti změnu potenciálu, která se projeví zkřivením<br />
energetických hladin v pásovém modelu struktury MIS (viz řešení Poissonovy rovnice pro<br />
přechod PN, kap.4.2.1).<br />
Při záporném napětí na hradle jsou k povrchu polovodiče přitahovány kladné náboje - díry<br />
z objemu polovodiče. V polovodiči typu P tak vzniká pod povrchem vrstva se zvýšenou<br />
koncentrací děr – obohacená vrstva. Stav bývá označován jako obohacení většinovými nosiči.<br />
Kladný náboj děr v obohacené vrstvě vyvolává změnu potenciálu a zakřivení energetických<br />
hladin znázorněné na obr. 4.12 a. Na obrázku je uvedeno i rozložení elektrických nábojů na<br />
hradle a v polovodiči. V náhradním schématu struktury se uplatňuje kapacita izolační vrstvy<br />
v sérii s odporem polovodiče.<br />
Obr. 4.12 Pásové diagramy, rozložení náboje a náhradní schéma struktury MIS s polovodičem<br />
P typu pro stavy<br />
a) obohacení většinovými nosiči<br />
b) ochuzení většinovými nosiči a<br />
c) inverzi polovodiče<br />
Je-li k hradlu přiloženo malé kladné napětí, budou v prvé fázi od povrchu polovodiče<br />
odpuzovány kladné díry, jejich koncentrace v podpovrchové oblasti poklesne a vytvoří se tzv.<br />
ochuzená vrstva. Stav se označuje jako ochuzení většinovými nosiči. Náboj části<br />
akceptorových iontů v podpovrchové oblasti polovodiče nebude v tomto případě<br />
kompenzován nábojem děr. Na jednotku plochy povrchu bude vázán náboj<br />
Q =−qN x (4.53)<br />
s<br />
A b<br />
kde xb je šířka povrchové ochuzené vrstvy. Roste-li kladné napětí na hradle, šířka ochuzené<br />
vrstvy se nejprve zvětšuje. Odpovídající změna potenciálu, projevující se ohybem<br />
energetických hladin v pásovém modelu, také roste. Pásový model struktury pro stav<br />
ochuzení je znázorněn na obr. 4.12b . Na obr.4.12b je uvedeno i rozložení elektrických nábojů<br />
na hradle a v polovodiči ve stavu ochuzení. V náhradním schématu struktury se uplatňuje<br />
kapacita izolační vrstvy v sérii s kapacitou polovodiče danou nábojem ionizovaných příměsí<br />
v ochuzené vrstvě.<br />
Jakmile se v podpovrchové oblasti polovodiče přiblíží spodní hranice vodivostního pásu Wc<br />
k Fermiho hladině WF, dojde u povrchu polovodiče k růstu koncentrace elektronů ve<br />
vodivostním pásu. Další zvýšení kladného potenciálu na hradle se projeví v pásovém modelu<br />
protnutím Fermiho hladiny s dolním okrajem pásu vodivostního, dochází k inverzi polovodiče<br />
s prudkým zvýšením koncentrace elektronů. Náboj těchto elektronů Qn vyvolá vznik velmi<br />
tenké povrchové vrstvy s vodivostí typu N - tzv. inverzní vrstvy. Šířka ochuzené vrstvy<br />
přestane s napětím dále růst, dosáhne své maximální hodnoty xb max, protože každé další (i<br />
velmi malé) zvětšení ohybu energetických hladin vede k velkým změnám velikosti náboje<br />
v inverzní vrstvě. V podmínce silné inverze je tedy na jednotku plochy vázán náboj<br />
Q = Q − qN x<br />
(4.54)<br />
n<br />
A bmax
44 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Pásový model struktury MIS pro stav inverze je znázorněn na obr. 4.12c, na obrázku je<br />
uvedeno i rozložení elektrických nábojů na hradle a v polovodiči ve stavu inverze.<br />
Z praktického hlediska jsou nejzajímavější případy ochuzení a inverze. Jak již bylo uvedeno<br />
řešení Poissonovy rovnice pro daný elektrický náboj v podpovrchové oblasti polovodiče<br />
umožní stanovit rozložení intenzity elektrického pole, následně potenciálu i zakřivení<br />
energetických hladin v této oblasti polovodiče. Pro maximální šířku ochuzené oblasti lze<br />
odvodit vztah<br />
, (4.55)<br />
kde ΦF je vzdálenost mezi Fermiho hladinou a Fermiho hladinou vlastního polovodiče Wi.<br />
Tato vzdálenost je mírou dotace polovodičového materiálu příměsemi. Závislost maximální<br />
šířky ochuzené oblasti na koncentraci příměsí v polovodičovém materiálu je uvedena na obr.<br />
4.13.<br />
Obr.4.13 Závislost šířky ochuzené oblasti na koncentraci příměsí v polovodiči<br />
4.3.1 C-V charakteristika struktury MIS (MOS)<br />
Závislost kapacity struktury MIS na napětí na hradle UH s polovodičem P typu je znázorněna<br />
na obr. 4.14.<br />
Obr.4.14 C-V charakteristika struktury MIS s polovodičem P typu<br />
Při záporném napětí na hradle se uplatňuje pouze kapacita izolantu Co. Při kladném napětí na<br />
hradle dostáváme sériovou kombinaci dvou kapacit, kapacity izolantu Co a kapacity<br />
polovodiče, která je funkcí šířky ochuzené vrstvy CS = f(xb) , a tedy i napětí na hradle.<br />
Celková kapacita v této oblasti klesá, což je dáno růstem šířky ochuzené vrstvy. Po dosažení<br />
stavu inverze při napětí na hradle UH = UT je kapacita konstantní a je dána sériovou<br />
kombinací kapacity izolantu Co a kapacity polovodiče pro maximální šířku ochuzené vrstvy<br />
CS (xb max ).<br />
V případě, že nejsou splněny úvodní zjednodušující podmínky, tj. není stejná výstupní práce<br />
elektronu z kovu a z polovodiče, případně se projeví vázané elektrické náboje v izolantu, resp.<br />
na rozhraní izolantu a polovodiče, dochází k posuvu C-V charakteristik. Odpovídající C-V<br />
charakteristiky jsou znázorněny na obr. 4.14 čárkovaně.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 45<br />
4.3.2 Vliv frekvence na charakteristiku C-V<br />
Výše uvedené C-V charakteristiky lze naměřit za předpokladu, že ve stavu ochuzení se každá<br />
změna napětí na hradle projeví změnou náboje na okraji ochuzené vrstvy. Tento předpoklad je<br />
správný pouze při měření při vysokých frekvencích. Je-li naopak měřicí frekvence dostatečně<br />
nízká, takže mechanismus generace-rekombinace nosičů stačí sledovat změny malého signálu,<br />
ovlivní tento děj náboj inverzní vrstvy.<br />
Abychom tuto situaci lépe pochopili, představme si, co se stane při malém zvýšení kladného<br />
napětí na hradle. Bezprostředně po zvýšení napětí se v polovodiči indukuje přírůstek<br />
záporného náboje. Při vysokých frekvencích to znamená, že z ochuzené vrstvy jsou vytlačeny<br />
další díry a ochuzená vrstva se trochu rozšíří. Pokud se však stačí v ochuzené vrstvě<br />
vytvořit generací páry elektron-díra dříve, než napětí na hradle opět poklesne, nahradí<br />
generované díry ty díry, které byly vytlačené z okraje ochuzené vrstvy a přebytečné elektrony<br />
se objeví u povrchu polovodiče. Malá změna napětí hradla se tedy vykompenzuje malou<br />
změnou náboje elektronů u povrchu polovodiče a kapacita zůstává na hodnotě Co.<br />
Výsledkem popsaného mechanismu je frekveneční závislost C-V charakteristik struktur MIS<br />
znázorněná na obr. 4.15.<br />
Obr.4.15 Vliv frekvence měřicího signálu na C-V charakteristiku<br />
Přechod od vysoko- k nízkofrekvenčnímu typu C-V charakteristik může být při dané<br />
frekvenci způsoben také vzrůstem generačně-rekombinační rychlosti, např. při zvýšení<br />
teploty nebo při ozáření polovodiče.
46 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obsah:<br />
5.1. Struktura a vlastnosti izolantů<br />
5.2. Klasifikace izolantů<br />
5.3. Přírodní anorganické izolanty<br />
5.4. Anorganická skla<br />
5.5. Keramické <strong>materiály</strong><br />
5.6. Plasty<br />
5.7. Elastomery<br />
5.8. Přírodní organické tuhé izolanty<br />
5.9. Kompozity<br />
5.10.Laky a kompaundy<br />
5.11.Kapalné a plynné izolanty<br />
Část 5.<br />
Dielektrické <strong>materiály</strong><br />
5.1 STRUKTURA A VLASTNOSTI IZOLANTŮ<br />
5.1.1 Fyzikální jevy v izolantech<br />
Základní fyzikální jevy v izolantech po vložení do elektrického pole<br />
• dielektrická polarizace (pohyb vázaných elektrických nábojů)<br />
• elektrická vodivost (pohyb volných elektrických nábojů)<br />
• dielektrické ztráty<br />
• elektrický výboj<br />
A. Odkaz<br />
Elektronické texty „Materiály a technická dokumentace“<br />
Část „Materiály v elektrotechnice“<br />
Kapitola 5.1 ÷ 5. 5<br />
B. Doplňky<br />
I. Dielektrická polarizace<br />
Základní vztahy<br />
µi = α El (5.1)<br />
P = n µi = n α El (5.2)<br />
n … koncentrace polarizovatelných částic (m -3 )<br />
α … polarizovatelnost (F m 2 )<br />
El … intenzita vnitřního (lokálního) elektrického pole (V m -1 )<br />
El ≠ E<br />
E … intenzita vnějšího (makroskopického) elektrického pole (V m -1 )<br />
+Q0, -Q0 … volné náboje na deskách kondenzátoru ve vakuu (C)<br />
+ Qv, -Qv … vázané náboje na hraničních plochách dielektrika (C); Q = Q0,<br />
+ Qv<br />
Q0 = C0U (5.3)<br />
D0 = ε0<br />
E<br />
(5.4)
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 47<br />
C = ε´<br />
C<br />
0<br />
D= εε ´ E = ε´D<br />
(5.6)<br />
ε´<br />
0<br />
0 v<br />
= = = = +<br />
0<br />
0 0 0<br />
(5.5)<br />
C Q Q + Q Qv<br />
1 (5.7)<br />
C Q Q Q<br />
0 0<br />
0<br />
D= D + P= ε E+ P<br />
(5.8)<br />
Obr. 5.1 Nabíjení vakuového a technického kondenzátoru<br />
Lokální (vnitřní, efektivní) elektrické pole<br />
• elektrické pole, bezprostředně působící na polarizovatelnou částici<br />
• intenzita El > E (pro plyny El E)<br />
• model Lorentzovy koule<br />
• lokální elektrické pole působící na molekulu dielektrika (A)<br />
El = E + E1 + E2 (5.9)<br />
E … intenzita elektrického pole, je-li dielektrikem vakuum<br />
E1… intenzita elektrického pole, které vytváří polarizované prostředí vně koule<br />
následkem vázaného náboje, který n vrchu kulové dutiny vytvoří konce řetězců<br />
polarizovaných molekul vně koule<br />
P<br />
E1<br />
= (5.10)<br />
3ε<br />
0<br />
E2 … intenzita elektrického pole od všech polarizovaných molekul uvnitř koule<br />
(s výjimkou sledované molekuly A)<br />
E2 0<br />
Poznámka:<br />
Neplatí v silně polárních látkách<br />
El =<br />
ε+ ´ 2<br />
3<br />
E<br />
(intenzita Mosottiho pole) (5.11)
48 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obr. 5.2 Model Lorentzovy koule<br />
Clausiova-Mosottiho rovnice<br />
ε´<br />
− 1 n α<br />
= = p<br />
ε´ + 2 3ε<br />
0<br />
p … měrná polarizace (-)<br />
1+ 2p<br />
ε´<br />
=<br />
1−<br />
p<br />
(5.12)<br />
(5.13)<br />
N A ρh<br />
n = (5.14)<br />
M<br />
NA … Avogadrova konstanta (6,025.10 26 kmol -1 )<br />
M … molekulová hmotnost (kg kmol -1 )<br />
ρh … hustota (měrná hmotnost) látky (kg m -3 )<br />
ε´<br />
− 1 M N A α<br />
= = π<br />
(5.15)<br />
ε´ + 2 ρ 3ε<br />
h<br />
0<br />
π … molární polarizace (m 3 kmol -1 )<br />
• obecně platí<br />
ε −1<br />
M N α<br />
= = π<br />
*<br />
A<br />
*<br />
ε + 2 ρh3ε0 (5.16)<br />
• index lomu světla homogenního isotropního prostředí (z Maxwellovy elektromagnetické<br />
teorie světla)<br />
n ε µ<br />
* *<br />
D = (5.17)<br />
µ * … komplexní permeabilita<br />
n −1<br />
M N A α<br />
= = π<br />
n 2 ρ 3ε<br />
2<br />
D<br />
2<br />
D + h<br />
Polarizační mechanismy<br />
a. Polarizace elektronová<br />
0<br />
(molární refrakce) (5.18)
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 49<br />
• vyskytuje se u všech dielektrik<br />
• probíhá beze ztrát,nezávisí na teplotě<br />
• doba ustavení: 10 -16 – 10 -14 s<br />
3<br />
• elektronová polarizovatelnost: αe= 4π<br />
ε0R<br />
R … poloměr atomu, resp.iontu<br />
• synonyma: polarizace deformační, atomová, optická<br />
• optická permitivita ε∞ … ε´ pro f → ∞<br />
b. Polarizace iontová<br />
• vyskytuje se u iontových krystalů<br />
• probíhá beze ztrát, je závislá na teplotě<br />
• doba ustavení : 10 -13 – 10 -12 s<br />
• iontová polarizovatelnost : α<br />
2<br />
q<br />
=<br />
ν … součinitel pružné vazby mezi ionty<br />
• synonyma: polarizace infračervená<br />
c. Polarizace dipólová<br />
i<br />
ν<br />
• vyskytuje se u polárních látek<br />
• je provázena ztrátami energie v dielektriku, je závislá na teplotě a na kmitočtu<br />
• doba ustavení: 10 -12 – 10 -8 s u látek nízkomolekulárních; u makromolekulárních látek<br />
o mnoho řádů vyšší<br />
2<br />
µ<br />
• dipólová polarizovatelnost α d =<br />
3kT<br />
k … Boltzmannova konstanta)<br />
• synonyma: polarizace dipólová tepelná, orientační<br />
d. Polarisace iontová - relaxační<br />
• vyskytuje se v iontových látkách s netěsným uložením iontů (anorganická skla, keramika)<br />
• je provázena ztrátami energie v dielektriku, je závislá na teplotě a na kmitočtu<br />
• doba ustavení: 10 -12 – 10 -8 s<br />
• polarizovatelnost iontová-relaxační α =<br />
2<br />
q<br />
l 2<br />
l … vzdálenost vysunutí iontu<br />
II. Elektrická vodivost<br />
Model dvojité potenciálové jámy<br />
ir<br />
12kT<br />
• Mechanismus pohybu iontů v kapalinách: přeskokový mezi rovnovážnými polohami,<br />
oddělenými potenciálovými bariérami - viz model dvojité potenciálové jámy<br />
• Silná závislost konduktivity kapaliny na teplotě je vyvolána především výraznou teplotní<br />
změnou driftové pohyblivosti iontů. Vyjádření γ = F(T) vyplývá z řešení modelu dvojité<br />
potenciálové jámy předpokladu, že působící elektrické pole není příliš silné.<br />
• Model dvojité potenciálové jámy a matematické vyjádření
50 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obr. 5.3 Model dvojité potenciálové jámy<br />
A. V nepřítomnosti elektrického pole:<br />
Pravděpodobnosti přeskoku iontu p(A - B) = p(B - A)<br />
Koncentrace ion.ů přemísťujících se v 1 s<br />
n<br />
nf ⎛ W ⎞<br />
= ⎜− ⎟=<br />
(5.19)<br />
6 ⎝ kT ⎠<br />
0 0<br />
AB exp nBA<br />
B. V přítomnosti stejnosměrného elektrického pole v intenzitě E:<br />
Pravděpodobnosti přeskoku iontu p´(A - B) > p´(B - A)<br />
Koncentrace iontů přemísťujících se v 1 s<br />
n<br />
n<br />
nf ⎛ W −∆W<br />
⎞<br />
= ⎜−<br />
⎟ 5.20a)<br />
6 ⎝ kT ⎠<br />
(<br />
0 0 ´ AB exp<br />
nf ⎛ W +∆W<br />
⎞<br />
= ⎜−<br />
⎟ ( 5.20b)<br />
6 ⎝ kT ⎠<br />
0 0 ´ BA exp<br />
n0 ... koncentrace slabě vázaných iontů (předpoklad - nemění se s teplotou) (m -3 )<br />
6 ... dosazeno za zjednodušujícího předpokladu, že ionty kmitají ve směru os x, y, z<br />
f0 ... kmitočet v1astních tepelných kmitů okolo rovnovážných poloh (~10 13 Hz)<br />
v místě lokálního minima (Hz)<br />
∆W … energie elektrostatického pole (= q l E/2) (J)<br />
n0<br />
f … vyjadřuje počet pokusů přeskočit potenciálovou přehradu W (protože f0 krát<br />
0 6<br />
za 1 s se kmitající iont pohybuje ve směru +x)<br />
exp W ⎛ ⎞<br />
⎜−⎟…<br />
vyjadřuje pravděpodobnost účasti<br />
iontu na pohybu ve směru +x<br />
⎝ kT ⎠<br />
Za předpokladu ∆W
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 51<br />
• Teplotní závislost konduktivity je následně<br />
A2 ⎛ W ⎞<br />
γ = exp⎜−<br />
⎟<br />
T ⎝ kT<br />
⎠<br />
2<br />
Za úvahy: A<br />
T <br />
A<br />
⎛ b ⎞<br />
je γ = A exp⎜−<br />
⎟<br />
⎝ T ⎠<br />
A, A1, A2, b … materiálové konstanty<br />
III. Komplexní permitivita<br />
A. Případ: jedna relaxační doba τ (Debyeho teorie)<br />
• matematická formulace<br />
εs−ε∞ = +<br />
1+<br />
jωτ<br />
*<br />
ε ε∞<br />
εs … statická permitivita (pro f → 0)<br />
ε∞ … optická permitivita (pro f → ∞)<br />
• grafické vyjádření<br />
Coleho – Cloeho kruhové diagramy<br />
(5.23)<br />
⎛ W ⎞<br />
⎜b=<br />
⎟ 5.24)<br />
⎝ k ⎠<br />
(<br />
B. Případ: distribuce relaxačních dob τ (s nejpravděpodobnější hodnotou τ0)<br />
B.a. Přístup: Debye – Cole-Cole<br />
• matematická formulace<br />
* εs−ε∞ ε = ε∞+<br />
1−α<br />
1 + ( jωτ<br />
)<br />
0<br />
α ∈ 0,<br />
1 je činitel, vyjadřující rozložení relaxačních časů.<br />
• grafické vyjádření<br />
Coleho – Coleho kruhový diagram se středem pod osou ε´<br />
B.b. Přístup: Cole - Davidson<br />
• matematická formulace<br />
εs−ε∞ = +<br />
(1 + jωτ<br />
)<br />
*<br />
ε ε∞<br />
β … distribuční činitel<br />
• grafické vyjádření<br />
0<br />
β<br />
Coleho – Davidsonův asymetrický diagram<br />
(5.25)<br />
(5.26)<br />
(5.27)
52 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
B.c. Přístup: Havriliak – Negami<br />
• matematická formulace<br />
ε −ε<br />
*<br />
s ∞<br />
ε = ε∞+<br />
1−α<br />
β<br />
⎡1 + ( jωτ<br />
0)<br />
⎤<br />
⎣ ⎦<br />
• grafické vyjádření<br />
Havriliakův – Negamiho asymetrický diagram<br />
Obr. 5.4 Závislost ε ´´ = F(ε´) podle Havriliaka a Negamiho<br />
5.1.2 Zvláštní polarizační jevy<br />
A. Zvláštní polarizační jevy<br />
• Elektrostrikce<br />
• Pyroelektrický jev<br />
• Piezoelektrický jev<br />
A.1 Elektrostrikce<br />
(5.28)<br />
Elektrostrikce. - mechanické deformace, tj. změny geometrických rozměrů dielektrického<br />
tělesa následkem polarizace. Působí-li elektrické pole na jakékoli dielektrikum, dochází k jeho<br />
deformaci tím, že se polarizací v jeho molekulách indukují elektrické dipóly, které se ve<br />
směru působení pole vzájemně elektrostaticky přitahují a tím se přibližují. Tomuto<br />
přibližování brání síly pružnosti materiálu, takže přitahování molekul ustane v okamžiku,<br />
jakmile nastane rovnováha mezi oběma silami - elektrostatickými a pružnostními.<br />
A.2 Pyroelektrický jev<br />
Pyroelektrický jev se vyskytuje u všech přirozených krystalických elektretů, tj. u některých<br />
krystalů bez středové souměrnosti, spontánně polarizovaných , takže na jejich koncových<br />
povrchových plochách jsou permanentní vázané náboje. Pyroelektrický jev spočívá v tom, že<br />
zahřátím nebo ochlazením krystalu se změní vzdálenost mezi atomy a tím se změní polarizace<br />
uvnitř krystalu. To se projeví tím, že se změní polarita obou konců krystalu: byl-li v chladném<br />
stavu jeden konec krystalu nabit kladně a druhý záporně, je tomu po zahřátí naopak.<br />
Následkem vázaných elektrických nábojů by měl být krystal trvale elektricky nabit. To se<br />
však v normálním stavu neprojevuje, poněvadž na povrchu krystalu je vlhkost a nečistoty,<br />
jimiž je náboj neutralizován. Teprve zahřátím nebo ochlazením krystalu se tento rovnovážný<br />
stav nábojů poruší a na obou koncích krystalu se objeví příslušné náboje. Pyroelektriky jsou<br />
všechny látky se spontánní polarizací.<br />
A.3 Piezoelektrický jev<br />
Piezoelektrický jev spočívá v schopnosti některých krystalických dielektrik, že se<br />
mechanickou deformací (namáháním tlakem, tahem, ohybem nebo kroucením) elektricky<br />
polarizují, čímž na jejich povrchu vzniknou elektrické náboje. Tento jev - tzv. přímý<br />
piezoelektrický jev, provázený vznikem piezoelektřiny - se vyskytuje jen v krystalech s<br />
anizotropními vlastnostmi, které nemají střed souměrnosti (jsou středově nesouměrné,<br />
acentrické). Takové látky se nazývají piezoelektrika (křemen, turmalín, boritokřemičitan<br />
Al-MgCa a četné látky keramické.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 53<br />
Piezoelektřinou se nazývá i tzv. obrácený (reciproký) piezoelektrický jev - tj. schopnost<br />
deformace (změny rozměrů nebo tvaru krystalu) působením vnějšího elektrického pole (E),<br />
přičemž tato změna rozměrů je intenzitě elektrického pole přímo úměrná.<br />
Poněvadž se tento jev často chybně zaměňuje s elektrostrikcí, je třeba uvést rozdíly mezi<br />
oběma jevy:<br />
• elektrostrikce se vyskytuje u všech dielektrik bez výjimky, tedy i u těch, která nejsou<br />
piezoelektriky;<br />
• elektrostrikce je úměrná energii elektrického pole, akumulované v krystalu, je tedy<br />
elektrostrikce úměrná E 2 a nikoli E jako jev piezoelektrický.<br />
Piezoelektrické vlastnosti mají všechny látky feroelektrické: existuje však mnoho<br />
piezoelektrických látek, které nejsou feroelektriky.<br />
B. Látky<br />
• Elektrety<br />
• Piezoelektrika<br />
• Pyroelektrika<br />
• Feroelektrika<br />
Látky s nenulovou polarisací bez současné přítomnosti vnějšího pole<br />
B.1 Elektrety<br />
Polarizace je u nich sice vyvolána předchozím působením vnějšího pole, ale dlouhodobě<br />
existuje i po jeho vypnutí.<br />
Elektretem se nazývá dielektrické těleso, které je schopno po předchozí polarizaci vytvářet ve<br />
svém okolí po dlouhou dobu elektrické pole.<br />
Elektretový stav je možno vyvolat celou řadou způsobů, podle nichž se elektrety rozdělují na:<br />
a) termoelektrety<br />
polarizace v elektrickém poli za současného ochlazení z vyšší teploty<br />
b) fotoelektrety<br />
polarizace v elektrickém poli za současného osvětlení (dielektrika vyznačující se<br />
fotovodivostí)<br />
c) elektroelektrety<br />
polarizace v elektrickém poli za pokojové teploty<br />
d) magnetoelektrety<br />
ochlazení roztavené látky v silném magnetickém poli<br />
e) pseudoelektrety<br />
vytvoření prostorového náboje v dielektriku orientovaným ozářením β - nebo -γ paprsky<br />
f) chemoelektrety<br />
polarizace aktivací iontů ve vodivých kapalinách<br />
Klasifikace elektretů podle druhu nosičů nábojů<br />
I. Dipólové elektrety<br />
Elektretový jev je vyvolán uspořádáním dipólů dielektrika nebo dipólů příměsí (plastifikátory,<br />
vulkanizátory). Dipóly se uspořádají zahřátím na teplotu tání v elektrickém poli a<br />
ochlazením za stálého působení pole o intenzitě cca 10 6 V m -1 . Tyto elektrety patří do<br />
kategorie termoelektretů.
54 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
II. Elektrety s vnitřním prostorovým nábojem<br />
Elektretový jev je vyvolán různými nosiči náboje, jako jsou ionty nečistot, ionty vody, cizími<br />
mikroskopickými částicemi s nábojem, mikrokrystaly s piezoelektrickými nebo<br />
pyroelektrickými vlastnostmi. Při zahřátí dielektrika klesne viskozita matrice natolik, že se<br />
nabité částice zorientují a začnou putovat k přiloženým elektrodám. Po ochlazení stoupne<br />
viskozita matrice natolik, že je zabráněno zpětné migraci nosičů prostorového náboje. V<br />
tomto případě nemusí mít dielektrikum elektricky aktivní molekuly. Tento druh elektretů<br />
patří rovněž do skupiny termoelektretů.<br />
III. Elektrety s injektovanými náboji<br />
Elektretový jev je vyvolán ionty, které se do dielektrika dostanou z okolního prostředí<br />
působením elektrod přiložených za studena k dielektriku. Jde o ionty pocházející ze vzduchu<br />
nebo ionty předané přímo elektrodám. Někdy se provádí aktivace ve vodivých kapalinách<br />
(roztok NaOH, HCl, etylalkohol), které jsou vydatnými zdroji iontů. Tento druh elektretů<br />
patří do skupiny chemoelektretů.<br />
IV. Elektrety s deponovanými náboji<br />
Elektretový jev je vyvolán cizími ionty nebo elektrony, které se do dielektrika dostanou<br />
plazmatickým výbojem na vzduchu nebo elektronovým bombardováním ve vakuu. Volí se<br />
taková rychlost nábojů, aby zůstaly v maximálním množství zachyceny v dielektriku.<br />
Obvykle se volí energie elektronů v rozmezí 10 až 50 keV.<br />
Elektrety s vlastními nosiči nábojů (dipólové elektrety a elektrety s vnitřním prostorovým<br />
nábojem) mají menší stabilitu v závislosti na čase a na teplotě než elektrety s deponovanými<br />
náboji.<br />
B.2 Piezoelektrika<br />
Polarizace je u nich vyvolána působením vnějších mechanických sil. Piezoelektřina může<br />
existovat pouze na krystalech. Z celkového počtu 32 krystalografických tříd se<br />
piezoelektrický jev vyskytuje ve 20 třídách. Jsou to všechno třídy bez středu symetrie.<br />
B.3 Pyroelektrika<br />
B.4 Feroelektrika<br />
Feroelektrikum je látkou spontánně polarizovanou, jejíž polarizaci lze otočit přiloženým<br />
elektrickým polem. Obrácení směru vektoru spontánní polarizace nazýváme přepolarizací.<br />
Z hlediska krystalové struktury se feroelektrika vyznačují tzv. pseudosymetrií.<br />
Pseudosymetrická struktura je charakterizována tím, že její mřížkové parametry se jen velmi<br />
málo liší od mřížkových parametrů struktury s vyšší symetrií. Tak např. u tetragonální<br />
symetrie platí pro délky krystalových os a b c. Vyšší symetrií je krychlová, pro niž platí<br />
a = b = c. Feroelektrický titaničitan barnatý BaTiO3<br />
krystalizuje při normální teplotě v<br />
symetrii tetragonální, u níž poměr délek os c : a = 1,01. Liší se od jedničky tedy pouze o 1%,<br />
tudíž nepatrně od symetrie krychlové (kubické). Říkáme proto, že BaTiO3 je tetragonální<br />
pseudokubický.<br />
Se základní charakteristikou feroelektrik, tj. s možností otočení směru spontánní polarisace,<br />
úzce souvisí tyto charakteristické fenomény feroelektrického stavu:<br />
• hysteresní smyčka,<br />
• teplotní interval existence feroelektrického stavu, který je shora omezen tzv. Curieho<br />
teplotou,
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 55<br />
• vysoká hodnota permitivity a charakteristický její teplotní průběh s maximem v Curieho<br />
bodu,<br />
• doménová struktura,<br />
• piezoelektrický jev.<br />
Feroelektrické látky se často označují jako látky seignettoelektrické. Název je odvozen od<br />
Seignettovy soli (vinan sodnodraselný), na níž byly feroelektrické vlastnosti poprvé zjištěny.<br />
U pyroelektrik a feroelektrik existuje polarizace samovolně, spontánně bez jakéhokoli<br />
předchozího vnějšího působení a nazýváme ji proto polarisací spontánní. Může existovat<br />
pouze na krystalech, a to jenom u 10 ze 32 krystalografických tříd. Všechny tyto třídy jsou<br />
obsaženy ve dvaceti třídách, u nichž se vyskytuje piezoelektřina. Vyznačují se tzv. polární<br />
osou. Polární osa neotočí svůj směr při žádné z příslušných operací symetrie. Z uvedené<br />
skutečnosti vyplývá, že všechna pyroelektrika a feroelektrika jsou vždy současně i<br />
piezoelektriky.<br />
Rozdíl mezi pyroelektriky a feroelektriky spočívá v tom, že u feroelektrik lze vektor<br />
spontánní polarizace otočit přiložením vnějšího elektrického pole, u pyroelektrik nikoliv.<br />
Tento rozdíl lze však pokládat za víceméně formální, protože můžeme předpokládat, že i u<br />
pyroelektrik by bylo možné obrátit vektor spontánní polarizace dostatečně vysokým polem,<br />
jehož hodnota je však větší, než elektrická pevnost tuhé látky. Dříve než k přepolarizaci,<br />
dojde k elektrickému průrazu.<br />
U pyroelektrik i feroelektrik existuje tedy spontánní polarizace. Její velikost se však u obou<br />
skupin výrazně liší. U feroelektrik má hodnotu řádově 10 0 až 10 2 µC cm -2 , u pyroelektrik<br />
naproti tomu jen 10 -2 µC cm -2 , tedy podstatně menší. Tak malé hodnoty se experimentálně<br />
velmi obtížně zjišťují, protože elektrostatické pole buzené polarizačním nábojem přitahuje<br />
volné náboje vždy přítomné v látce samé i v okolním prostředí, které spontánní polarizaci<br />
kompensují. V praxi je proto u pyroelektrik možné měřit pouze změny spontánní polarizace,<br />
dříve než dojde ke kompensaci. Tyto změny spontánní polarizace se nejsnáze dosáhnou<br />
změnou teploty; takto byly také objeveny a odtud pochází název pyroelektřina.<br />
5.1.3 Struktura křemičitanů<br />
Struktura křemičitanů<br />
• základ struktury: kostra Si-O iontů s velmi pevnými vazbami<br />
• vazba Si-O je polární (částečně kovalentní, částečně iontová; kovalentní dipólová);<br />
poněvadž iontové vazby rozhodují o vlastnostech a chování krystalů, počítají se<br />
křemičitany (silikáty) v prvém přiblížení k iontovým krystalům<br />
• kyslík … Z = 8 K – 2, L - 6<br />
k nasycení (vytvoření oktetu) chybí dva elektrony, aby vznikl aniont O 2-<br />
křemík … Z = 14 K – 2, L – 8, M – 4<br />
může tvořit čtyři vazby: Si předá svoje valenční elektrony čtyřem sousedním atomům O<br />
a získá tak konfiguraci oktetu<br />
• ionty kyslíku jsou poměrně velké v porovnání s ionty křemíku ; protože síla vazby Si-O je<br />
velká, rozloží se ionty kyslíku ve vrcholech pravidelného čtyřstěnu (tetraedru), takže tím<br />
malý iont Si 4+ zcela obklopí<br />
• tvorba tetraedrů – základní stavební princip pro všechny krystalické křemičitany<br />
[ SiO4]<br />
• tetraedr [ SiO4] není valenčně nasycen; k nasycení chybí každému iontu kyslíku ještě<br />
jeden elektron, aby vznikl aniont O 2- ; tento chybějící elektron mu může dodat buď<br />
atom kovu, s nímž kyslík vytvoří iontovou vazbu nebo
56 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
k nasycení dojde tím, že iont kyslíku vytvoří vazbu s dalším iontem křemíku;<br />
ve druhém případě je O 2- společně sdílen dvěma ionty křemíku (můstkový, nemůstkový<br />
kyslík)<br />
• rozmanité tvary spojení [ SiO4] - různá seskupení tetraedrů; o typu spojení tetraedrů<br />
rozhoduje poměr O : Si ⇒ podle toho různé struktury silikátů.<br />
Struktury silikátů<br />
1. Struktura ostrůvková<br />
samostatné tetraedry nebo dvojtetraedry<br />
forsterit Mg2[ SiO4], olivín (Mg, Fe)2[ SiO4], zirkon Zr[ SiO4]<br />
2. Struktura skupinová<br />
kruhově uspořádané tetraedry – trojčlenný, čtyřčlenný nebo šestičlenný kruh<br />
3. Struktura řetězová<br />
nekonečné řetězy tetraedrů<br />
pyroxeny – minerály zastoupené ve vyvřelých horninách, jako enstatit Mg2[ Si2O6],<br />
spodumen LiAl[ Si2O6], wollastonit Ca2[ Si2O6]<br />
4. Struktura pásová<br />
nekonečný dvojitý řetěz aniontů [ Si2O6] 4-<br />
minerály skupiny amfibolů – amfibolové azbesty<br />
5. Struktura plošná<br />
nekonečná dvojrozměrná vrstva tetraedrů [ SiO4]<br />
slída, jílové minerály typu kaolinit, vermikulit; mastek<br />
6. Struktura prostorová<br />
souvislá trojrozměrná síť - mříž<br />
různé modifikace SiO2, živce, zeolity – použití jako iontoměničů<br />
1. Struktury ostrůvkové<br />
2. Struktury skupinové<br />
Obr. 5.5 Ostrůvkové a skupinové struktury křemičitanů
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 57<br />
5.1.4 Struktura a vlastnosti makromolekulárních látek<br />
Makromolekulární látky<br />
Makromolekulární (vysokomolekulární) látky – chemické sloučeniny s vysokou molekulovou<br />
hmotností, zpravidla vyšší než 5 000, většinou v rozsahu 10 4 – 10 7 .<br />
Základní klasifikace<br />
1. Anorganické makromolekulární sloučeniny (polymerní oxid křemičitý [SiO2]n nebo<br />
hlinitý [Al2O3]n; řada vysokomolekulárních křemičitanů, rozšířených převážně v zemské<br />
kůře)<br />
2. Organické makromolekulární sloučeniny<br />
2.1 Přírodní (celuloza, škrob, bílkoviny, přírodní kaučuk)<br />
2.2 Syntetické (plasty)<br />
Výstavba a struktura organických makromolekulárních látek<br />
Zatímco nízkomolekulární látky vznikají slučováním jednoduchých látek, je syntéza<br />
makromolekulárních látek založena na polyreakcích nenasycených nebo cyklických<br />
sloučenin. Podmínkou reakcí je, aby výchozí látka (monomer) byla alespoň bifunkční.<br />
Základními chemickými reakcemi jsou polymerace, polykondenzace a polyadice. Polyadiční<br />
reakce jsou méně časté; kromě toho bývají někdy nesprávně zařazovány k reakcím<br />
polykondenzačním. Makromolekuly jsou složeny z velkého počtu základních stavebních<br />
jednotek. Počet těchto jednotek v makromolekule udává tzv. polymerační stupeň<br />
makromolekuly. Průměrný polymerační stupeň je řádově 10 2 – 10 4 . Příznačná je<br />
polydisperznost – jednotlivé molekuly makromolekulární látky jsou různě velké.<br />
Na vlastnosti makromolekulární látky má významný vliv chemické složení, molekulová<br />
hmotnost, tvar a struktura makromolekuly. Podle tvaru a uspořádání makromolekuly se<br />
rozlišují látky<br />
• s lineární,<br />
• s lineární a následně zesíťovanou<br />
• a s prostorovou strukturou.<br />
Typy makromolekul<br />
Lineární makromolekuly vznikají postupným připojováním výchozí nízkomolekulární látky<br />
v jednom směru. Makromolekuly tvoří v podstatě dlouhý řetězec, délky řádově 10 -7 m.<br />
Kratším úsekem řetězců se segment (obsahuje 10 – 20 atomů základního řetězce). Ten je<br />
kineticky samostatný a koná tepelné pohyby jako molekuly látek nízkomolekulárních. Určitá<br />
volnost pohybu úseků řetězové molekuly má svůj důsledek v ohebnosti lineárních<br />
makromolekul. Naproti tomu vnitřní otáčivost kolem kovalentních vazeb není volná, neboť ji<br />
omezují vztahy k sousedním atomům nebo skupinám atomů. Ohebnost molekul závisí tedy na<br />
interakci. V reálných makromolekulárních látkách nejsou lineární řetězce rovné, ale různě<br />
zkroucené, svinuté či vzájemně propletené. Některé řetězce jsou navíc rozvětvené, což je<br />
nejčastěji vyvoláno tím, že některá základní molekula je trifunkční. Pohyblivost rozvětvených<br />
řetězců je pochopitelně menší než u lineárních. Lineární makromolekulární látky tvoří<br />
podstatu termoplastů, které jsou rozpustné a tavitelné.<br />
V lineárních řetězcích, které obsahují asymetrický uhlík, mohou vznikat podle podmínek<br />
polymerace různé stereospecifické polymery. Jsou-li atomy, resp. skupiny atomů stejného<br />
druhu ( R ) vázány vždy na téže straně lineárního řetězce, tvoří se izotaktický polymer.
58 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
H H<br />
│ │<br />
─ CH2 ─ C ─ CH2 ─ C ─<br />
│ │<br />
R R<br />
při pravidelném střídavém rozmístění – syndiotaktický polymer<br />
H R<br />
│ │<br />
─ CH2 ─ C ─ CH2 ─ C ─<br />
│ │<br />
R H<br />
a při nepravidelném rozmístění – ataktický polymer. Polymery s pravidelným prostorovým<br />
uspořádáním mají výhodnější fyzikální a chemické vlastnosti než ataktické.<br />
Zesíťované makromolekuly vznikají propojením lineárních řetězců příčnými vazbami. Děj se<br />
nazývá zesíťováním nebo vulkanizací. Nejznámější je vulkanizace kaučuku sírou, kdy<br />
dochází k vytvoření můstků složených z atomů síry, které spojují navzájem jednotlivé lineární<br />
řetězce. Dalšími vulkanizačními činidly jsou peroxidy, speciální epoxidové nebo<br />
formaldehydové pryskyřice.<br />
Výhodou dodatečného zesíťování lineárních molekul je možnost řízení hustoty zesíťování<br />
a tím i ovlivňování vlastností vznikajících produktů. Při slabém zesítění se charakteristické<br />
vlastnosti příliš neliší od látek s lineární strukturou, až na to, že látky jsou nerozpustné<br />
a netavitelné. Při silném zesíťování nabývají látky vlastností látek s prostorovými<br />
molekulami.<br />
Prostorové makromolekuly vznikají narůstáním molekuly do prostoru ve všech směrech.<br />
Mohou vznikat z výchozích látek, které mají tři tzv. funkční (reaktivní) skupiny, schopné<br />
tvořit chemické vazby. Důsledkem je velká pevnost makromolekuly, malá rozpustnost<br />
a netavitelnost.<br />
Vazební síly<br />
V makromolekulárních látkách působí síly přitažlivé a odpudivé. Důsledkem jejich působení<br />
je konkrétní vzdálenost atomů nebo částí molekul. O vlastnostech makromolekulárních látek<br />
rozhodují<br />
▪ primární (hlavní) vazební síly<br />
▪ sekundární (vedlejší) vazební síly.<br />
Primární (hlavní) je kovalentní vazba. Nasycená primární kovalentní vazba poutá atomy<br />
v molekule. Její energie je při pokojové teplotě 200 – 800 kJ . mol -1 při vzdálenosti<br />
(0,75 – 3) . 10 -10 m. Jde o poměrně pevnou vazbu. Sekundární (vedlejší) jsou van der<br />
Waalsovy síly (disperzní, orientačně-dipólové, indukční), resp. vazba vodíkovým můstkem.<br />
Působí jen na nepatrnou vzdálenost. Energie vazby je 2 – 40 kJ . mol -1 při vzdálenosti<br />
(3 – 10) . 10 -10 m.<br />
Krystalická a amorfní fáze<br />
Rentgenograficky se zjistilo, že látky s lineární strukturou mohou existovat v orientovaném<br />
i v neorientovaném stavu. Tomu v polymeru odpovídá krystalický a amorfní podíl.<br />
Krystalické oblasti polymeru se označují jako krystality. Jsou to zóny, v nichž jsou polymerní<br />
molekuly uspořádány v určitém pořádku ve třech prostorových směrech. Od pravých krystalů
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 59<br />
se liší tím, že nemají formu charakterizovanou ostrými hranami krystalu. Krystalický podíl<br />
ovlivňuje mechanickou pevnost látky. Pro strukturu je příznačné, že řetězce lineárních<br />
makromolekul jsou statisticky neuspořádané. Příčinami amorfního stavu jsou<br />
• prostorové zábrany, které omezují sklon ke krystalizaci tím, že při polymeraci vznikají<br />
nepravidelnosti makromolekul různým vzájemným uspořádáním monomerních molekul,<br />
• neuspořádaný růst řetězců,<br />
• složité boční skupiny nebo atomy o velkém poloměru, které se v řetězci opakují<br />
v nestejných vzdálenostech.<br />
V řadě polymerů se vyskytuje částečně krystalická struktura s jistými podíly amorfní<br />
a krystalické fáze. Krystalický podíl propůjčuje látce velkou mechanickou pevnost, tvrdost,<br />
odolnost proti rozpouštědlům a chemickým činitelům. Amorfní oblasti zajišťují látce<br />
pružnost, houževnatost, odolnost proti nárazu, ohebnost, lepší tekutost za zpracovatelských<br />
teplot.<br />
Poznámka: Amorfní a krystalické oblasti nelze od sebe oddělit ani fyzikálně ani chemicky.<br />
Stupeň krystalinity lze ovlivnit třemi činiteli:<br />
1. dobou krystalizace – dlouhodobým zahříváním pod oblastí tavení krystalitů se stupeň<br />
krystalinity zvětšuje;<br />
2. teplotou – rychlým ochlazením polymeru zahřátého nad oblast tavení krystalitů se získá<br />
čistě amorfní látka;<br />
3. mechanickým namáháním (protažením) polymeru, zahřátého pod oblast tavení krystalitů,<br />
přičemž vzniká tzv. orientovaná struktura.<br />
Klasifikace organických makromolekulárních látek<br />
A. Klasifikace podle chování při zahřívání<br />
1. Termoplasty<br />
• Působením tepla měknou a ochlazením opět tuhnou. Vlastnosti se při zahřívání<br />
mění vratně (PE, PVC, PMMA, PS, PA).<br />
• K termoplastům patří převážně látky vzniklé polymerací.<br />
2. Reaktoplasty<br />
• Působením tepla se chemickou reakcí vytvrzují a přecházejí nevratně do<br />
netavitelného a nerozpustného stavu (PF, trojrozměrné PUR).<br />
• Do této skupiny patří většinou makromolekulární látky vzniklé polykondenzací.<br />
B. Klasifikace podle výchozích surovin<br />
1. Látky vznikající zušlechtěním z přírodních makromolekulárních látek (estery, celulosy<br />
– CA, CN).<br />
2. Látky vyráběné synteticky z jednoduchých nízkomolekulárních sloučenin (PE, PVC,<br />
PMMA, PF, SI).<br />
C. Klasifikace podle technických vlastností<br />
1. Elastomery<br />
• Vykazují velkou pružnost v širokých mezích protažení (PIB, BR).<br />
2. Plastomery<br />
• Termoplasty, reaktoplasty<br />
D. Klasifikace podle chemické struktury hlavního řetězce<br />
1. Látky, v nichž se základní řetězec skládá ze stejných atomů – C – C – C – C – nebo<br />
aromatických kruhů (přírodní kaučuk – makromolekulární uhlíkové sloučeniny<br />
nasycené, nenasycené a aromatické)<br />
2. Látky, u nichž se základní řetězec skládá ze dvou nebo většího počtu různých atomů –<br />
polymery s heterogenním řetězcem (bílkoviny, celuloza; PA, PUR, PES, MF, UF)<br />
karboxyplasty - C – O -
60 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
karbozoplasty - C – N -, příp. - C – N – O -<br />
karbothioplasty - C – S -, příp. - C – S – O -<br />
silikony - Si – O -<br />
E. Klasifikace podle druhu chemických reakcí, kterými vznikly<br />
1. Polykondenzáty<br />
2. Polymery<br />
3. Polyadukty<br />
4. Modifikované plasty získané<br />
• mechanickým hnětením s jinými plasty (rázuvzdorný PS a PVC)<br />
• roubováním<br />
• ozařováním paprsky<br />
Procesy přípravy organických makromolekulárních látek<br />
Polyadice<br />
Reakce, při níž vzniká makromolekulární produkt adicí výchozích látek, které mají vhodné<br />
funkční skupiny, při čemž nevzniká vedlejší nízkomolekulární sloučenina. Příkladem je vznik<br />
PUR z diizokyanátů a glykolů. Složení konečného produktu se při polyadici neliší od výchozí<br />
směsi. Polyadiční reakce se podobají polymeračním v tom, že při nich rovněž nevzniká<br />
nízkomolekulární látka; jinak se tyto reakce více podobají polykondenzačním.<br />
Polykondenzace<br />
Reakce, při níž reagují molekuly jedné nebo několika různých nízkomolekulárních látek<br />
a vytvářejí makromolekulární produkt. Zároveň vznikají vedlejší jednoduché sloučeniny<br />
(voda, halogenvodíky). Podle počtu funkčních skupin výchozích látek mohou vznikat<br />
polykondenzační produkty buď strukturou lineární nebo prostorovou:<br />
• dvě funkční skupiny – látky s lineární strukturou (PA typu Nylon)<br />
• tři funkční skupiny – látky s prostorovou strukturou (PF).<br />
Při polykondenzaci se chemické složení konečného produktu liší od výchozích látek.<br />
K nejdůležitějším polykondenzačním reakcím patří<br />
• polyesterifikace, tj. kondenzace dikarbonových kyselin a glykolů,<br />
• polyamidace, tj. kondenzace dikarbonových kyselin s diaminy,<br />
• vznik polykarbonátů – kondenzací dianů (skupiny dihydroxysloučenin) s fosgenem,<br />
• vznik epoxidových pryskyřic – kondenzací epichlorhydrinu s diany.<br />
Hlavními činiteli, které mají vliv na konečný polykondenzační produkt, jsou:<br />
• chemické složení a struktura výchozích látek,<br />
• reakční podmínky (teplota),<br />
• poměr výchozích složek, přítomnost a druh katalyzátorů a způsob odstraňování vedlejších<br />
zplodin.<br />
Podle technologie výroby polykondenzačních produktů lze uskutečnit<br />
a) polykondenzaci v tavenině<br />
(v tom případě, kdy výchozí látky jsou stálé při bodu tání; uskutečňuje se při 200 – 300 °C<br />
v inertní atmosféře s dokončením ve vakuu, aby bylo možno odstranit vznikající<br />
nízkomolekulární látku)<br />
b) polykondenzaci v roztoku<br />
(lze ji uskutečnit při nízkých teplotách, ale používá se zřídka)<br />
c) polykondenzaci na mezifázovém rozhraní
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 61<br />
(podstata – výchozí látky se rozpustí v navzájem nemísitelných rozpouštědlech, takže se<br />
polykondenzát může tvořit jen na mezifázovém rozhraní).<br />
Průběh polykondenzace se podstatně odlišuje od polymerace. Při polykondenzaci narůstají<br />
makromolekuly postupně, tj. postupně narůstá molekulová hmotnost. U polymerace jde<br />
o řetězovou reakci, molekulová hmotnost narůstá lavinovitě. Polykondenzace je reakce<br />
probíhající jen do určitého stavu rovnováhy mezi látkami, které do reakce vstupují a z ní<br />
vystupují. Při dosažení rovnováhy se reakce přeruší a růst řetězce se zastaví.<br />
Polymerace<br />
Reakce, při níž spojováním molekul vzniká polymerní produkt, který má stejné chemické<br />
složení jako monomer. Jde o řetězovou reakci, typickou pro sloučeniny, obsahující násobné<br />
vazby. Průběh polymerace lze rozdělit do jednotlivých dílčích reakcí:<br />
1. vznik řetězce – iniciace<br />
2. růst řetězce – propagace<br />
3. ukončení růstu řetězce – terminace.<br />
Iniciace řetězce znamená otevření násobné vazby ; iniciace může být vyvolána přítomností<br />
radikálů (polymerace radikálová) nebo iontů (polymerace iontová). Radikály mohou vznikat<br />
buď přímo z monomeru nebo jako radikály vystupují látky, které se k monomeru přidávají<br />
(chemická iniciace). Vznik radikálů z monomerů se uskutečňuje buď působením tepla<br />
(termická polymerace) nebo působením světla (fotochemická polymerace) nebo ozářením<br />
o dostatečně vysokých energiích. Otevření násobné vazby bude tím snazší, čím bude tato<br />
vazba polárnější. Ježto je mírou polarity dipólový moment, lze podle velikosti tohoto<br />
momentu usuzovat na vhodnost pro tvorbu polymeru.<br />
Propagace probíhá tak, že se na vzniklý radikál připojují další molekuly monomeru. Tato<br />
reakce se velmi rychle opakuje.<br />
Terminace nastává nejčastěji tak, že se setkají dva radikály, které se spolu sloučí.<br />
Poznámka: Radikál – skupina atomů, z nichž jeden má jeden nespárovaný elektron.<br />
Elektricky je neutrální, neboť součet nábojů jader souhlasí s počtem elektronů.<br />
Technologické <strong>procesy</strong> polymerace<br />
• Bloková polymerace probíhá v prostředí samotného monomeru. Výhodou je, že polymer<br />
neobsahuje žádné vedlejší příměsi; ovládání polymerace je však obtížnější, neboť reakční<br />
teplo, které se uvolňuje při polymeraci, se špatně odvádí. Prakticky se využívá při výrobě<br />
PS a PMMA.<br />
• Suspenzní polymerace (perličková) probíhá ve vodní suspenzi s přídavkem iniciátorů<br />
rozpustných v monomeru. Polymer se získává ve formě hrubého prášku nebo perliček.<br />
Výhodou je snadná ovladatelnost polymeračního pochodu a skutečnost, že neobsahuje<br />
zbytky emulgátorů.<br />
• Emulzní polymerace se provádí ve vodním prostředí za přítomnosti emulgátoru. Jako<br />
emulgátory se používají látky, které s vodou vytvářejí koloidní roztoky. Polymerace je<br />
iniciována iniciátorem rozpustným ve vodě. Polymerace je dobře ovladatelná, avšak<br />
produkty obsahují zbytky emulgátoru, které způsobují mléčné zabarvení (PVC).<br />
• Roztoková polymerace probíhá v prostředí rozpouštědla, v němž se rozpouští monomer<br />
a v němž zůstává rozpuštěn i polymer. Při tomto způsobu výroby se vytvářejí pouze látky<br />
o menší molekulové hmotnosti (v důsledku působení rozpouštědla jako přenašeče řetězce.
62 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Kopolymerace<br />
Pochod, při němž probíhá současně polymerace dvou nebo více monomerů. Složení<br />
kopolymeru závisí na reaktivitě jednotlivých monomerů, na jejich poměrném zastoupení a na<br />
mechanismu polymerace. Při výrobě mohou vzniknout<br />
1. kopolymery blokové<br />
- Ax – By – AZ – Bq -<br />
2. kopolymery sledové<br />
a) se střídavým sledem<br />
- A – B – A – B -<br />
b) s náhodným sledem<br />
- A – B – B – A – A – A –<br />
3. kopolymery roubované – v tomto případě vytváří druhého polymeru větve, naroubované<br />
na kmen vytvořený základním polymerem<br />
- A – A – A – A - …<br />
׀ ׀<br />
B B<br />
׀ ׀<br />
B B<br />
׀ ׀<br />
U roubovaných kopolymerů ovlivňuje vyšší stupeň strukturálního uspořádání jednotlivých<br />
složek charakter polymeru, takže vlastnosti výsledného polymeru jsou spíše součtem<br />
vlastností obou složek než jejich průměrem.<br />
Značná část metod příprav roubovaných polymerů spočívá ve vytváření volných radikálů na<br />
řetězci základního polymeru, se kterým se přitom nechá reagovat jiný polymer. Podmínky pro<br />
vznik roubovaných polymerů možno vyvolat např.<br />
• působením ionizačního záření na polymery,<br />
• intenzivním mechanickým mícháním směsi polymerů na hnětacím stroji a za<br />
nepřítomnosti kyslíku nebo<br />
• rozkladem polymerních peroxidů.<br />
Elektrické vlastnosti makromolekulárních látek<br />
• Většinou vykazují velmi dobré elektroizolační vlastnost.<br />
• Permitivita a ztrátový činitel souvisejí s<br />
chemickou výstavbou (počet polárních skupin, jejich rozložení v makromolekule a<br />
dipólový moment) a<br />
pohyblivostí iontů.<br />
• Úroveň elektrické vodivosti je malá (γv < 10 -8 S m -1 ); je vyvolána především ionty<br />
nízkomolekulárních složek; v nepatrné míře se uplatňuje i vlastní vodivost, která se<br />
přisuzuje volným elektronům a ionizaci účinkem tepla. Cizí ionty pocházejí hlavně<br />
z <strong>výrobní</strong>ho procesu: jde o katalyzátory, zbytky nízkomolekulárních výchozích látek či<br />
nízkomolekulárních reakčních zplodin.<br />
• V silných elektrických polích se může vyskytnout<br />
čistě elektrický průraz, podmíněný elektronovým mechanismem (nárazová ionizace<br />
nebo emise elektronů účinkem pole), uskutečňující se v rozmezí < µs; s ><br />
tepelný průraz s dobou rozvinutí řádově sekund až minut.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 63<br />
Destrukce molekul<br />
• Destrukce mohou způsobovat činidla<br />
chemická (atmosférická oxidace, voda, kyseliny, alkoholy)<br />
fyzikální (působení světla – UV, jiných druhů záření – rtg., tepla, částečných nebo<br />
povrchových výbojů, opakované sorpce a desorpce vody), mechanické síly,<br />
průmyslové exhalace; někdy se přidružují i vlivy mikrobiální.<br />
Relace: skladba strukturní – elektrické a fyzikální vlastnosti<br />
Strukturní jednotka<br />
H R 1<br />
│ │<br />
─ C ─ C ─<br />
│ │<br />
H R 2<br />
polymer R1 R2<br />
polárnost krystalinita µ[D]<br />
polyetylen (vysokotlaký) H H N K 0<br />
polypropylen (ataktický) H CH3 N A 0,35<br />
polypropylen (izotaktický) H CH3 N K<br />
polyizobutylen CH3 CH3 N A<br />
polystyren H C6H5 N A 0,37<br />
polyvinylchlorid H Cl P A 1,44<br />
polymetylmetakrylát CH3 COOCH3 P A<br />
5.2 KLASIFIKACE IZOLANTŮ<br />
1. Plynné izolanty<br />
1.1 Obecné plyny N, H, O, CO2<br />
1.2 Vzácné (inertní) plyny Ne, Kr, Ar, Xe<br />
1.3 Elektronegativní plyny SF6, CCl2F2<br />
2. Kapalné izolanty<br />
2.1 Minerální oleje a. - parafinické, naftenické, olefinické<br />
b. - transformátorové, kabelové, kondensátorové<br />
2.2 Rostlinné oleje lněný, dřevný, ricinový olej<br />
3. Tuhé izolanty<br />
3.1 Organické tuhé izolanty<br />
3.1.1 Přírodní nízkomolekulární látky<br />
3.1.1.1 Vosky parafin, ceresin, včelí vosk, zemní vosk (ozokerit)
64 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
3.1.1.2 Asfalty, bitumeny<br />
3.1.2 Přírodní makromolekulární látky<br />
3.1.2.1 Přírodní pryskyřice šelak, kalafuna, kopály, jantar<br />
3.1.2.2 Vláknité látky na podstatě celulosy<br />
papír, lepenka, textilní izolanty<br />
3.1.2.3 Přírodní kaučuk, pryž<br />
3.1.3 Syntetické makromolekulární látky<br />
3.1.3.1 Termoplasty polyetylen, polypropylen, polystyren, polyvinylchlorid,<br />
polyizobutylen, polymetylmetakrylát,<br />
polytetrafluoretylen, polychlortrifluoretylen,<br />
polyformaldehyd, polyamidy, linární polyuretany,<br />
linární polyestery, polykarbonáty<br />
3.1.3.2 Reaktoplasty fenoplasty, aminoplasty, nenasycené polyestery,<br />
prostorové polyuretany, epoxidy<br />
3.1.3.3 Elastomery izoprénový, butadienový, chloroprenový, silikonový<br />
kaučuk, pryž<br />
3.1.3.4 Teplovzdorné plasty silikony, polyfenylénoxid, polysulfony, polyimidy<br />
3.2 Anorganické tuhé izolanty<br />
3.2.1 Anorganické přírodní izolanty<br />
křemen, azbest, slída<br />
3.2.2 Sklo křemičitá skla, křemenné sklo, fosfátové sklo,<br />
bezkyslíkatá skla (halogenidová, chalkogenidová)<br />
3.2.3 Keramika<br />
3.2.3.1 Křemičitá (silikátová) keramika<br />
porcelán, kamenina, steatitová, forsteritová,<br />
spodumenová, kordieritová, mullitová, celsiánová,<br />
korundová keramika<br />
3.2.3.2 Oxidová (kysličníková) keramika<br />
slinutý korund, titaničitá keramika<br />
3.2.3.3 Bezkyslíkatá keramika boridy, nitridy, karbidy<br />
5.3 PŘÍRODNÍ ANORGANICKÉ IZOLANTY<br />
Anorganické izolanty - dielektrika<br />
• Součást anorganického světa, světa minerálů – složeného převážně z makromolekulárních<br />
sloučenin.<br />
• Makromolekulární látkou je nesporně SiO2, který tvoří velmi stálé trojrozměrné molekuly.<br />
Zvlášť rozšířenou modifikací SiO2 je křemen – hlavní složka většiny hornin a písků.<br />
• Také hlinité látky se skládají pravděpodobně z makromolekulárních křemičitanů hlinitých<br />
(alumosilikáty) proměnlivé stavby.<br />
• Za makromolekulární křemičitany (silikáty) složité struktury se považují minerály slída<br />
a azbest.<br />
Přednosti, výhody<br />
• vysoká odolnost proti působení vyšších teplot (teplotní třída C, mezní teploty > 180 °C);<br />
nehořlavost<br />
• v převážné většině případů malá hygroskopičnost<br />
• velmi dobré elektrické vlastnosti
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 65<br />
• výborná odolnost proti působení elektrických výbojů<br />
• dosti dobré mechanické vlastnosti<br />
• značná stabilita, tj. neměnnost charakteristických vlastností s časem.<br />
Negativní vlastnosti, nevýhody<br />
• malá mechanická pevnost při rázovém namáhání<br />
• lámavost, křehkost.<br />
Anorganická dielektrika ve velké většině představují iontová spojení (vazba iontová –<br />
určující; vazba kovalentní dipólová) a vyskytují se v monokrystalické, polykrystalické a<br />
amorfní podobě.<br />
Klasifikace anorganických dielektrik<br />
1. hledisko struktury, povahy<br />
2. hledisko chemického složení<br />
A. Klasifikace z hlediska struktury, povahy<br />
a) látky amorfní (anorganická skla)<br />
• izotropie vlastností<br />
• schopnost přecházet z tuhého skupenství do kapalného postupně, bez přesně<br />
určené teploty tání (tavení)<br />
• struktura: zcela nepravidelné uspořádání částic; v podstatě přechlazená kapalina, tj.<br />
kapalina, jejíž viskozita vzrostla na velmi vysokou hodnotu, ale zachovala si svoje<br />
vnitřní uspořádání<br />
• oproti krystalům vykazují určitý přebytek vnitřní energie ⇒ jsou méně stálé; je<br />
možný samostatný přechod z amorfního stavu do krystalického<br />
• reálně nekrystalické tuhé látky – amorfnímu stavu se více méně přibližují;<br />
vykazují určitý malý stupeň pravidelnosti uspořádání částic (sklo … skelná<br />
struktura)<br />
b) látky krystalické (azbest, slída, SiO2, Al2O3, vínany)<br />
• anizotropie vlastností<br />
• přesně určená teplota tání (tavení)<br />
• reálné krystalické látky; poruchy<br />
c) látky keramické<br />
• keramický sloh: fáze krystalická, fáze amorfní, fáze plynná<br />
B. Klasifikace podle chemického složení<br />
(křemičitany, hlinitany, hořečnany, titaničitany)<br />
a) Soustava Al2O3 – SiO2 sillimanit Al2O3 . SiO2<br />
kaolinit Al2O3 . 2SiO2 .<br />
2H2O<br />
mullit 3Al2O3 . 2SiO2<br />
b) Soustava MgO – SiO2 enstatit (klino-) MgO . SiO2<br />
forsterit 2MgO . SiO2<br />
steatit 3MgO . 4SiO2 . H2O<br />
c) Soustava MgO – Al2O3 spinel MgO . Al2O3<br />
d) Soustava MgO- Al2O3 – SiO2 kordierit 2MgO . 2Al2O3 . 5SiO2
66 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
e) Soustava MgO – TiO2 periklas MgO<br />
titaničitan hořečnatý (meta-)<br />
rutil TiO2<br />
anatas TiO2<br />
brookit TiO2<br />
MgO . TiO2<br />
f) Soustava Li2O - Al2O3 – SiO2 spodumen LiO2 . Al2O3 . 4SiO2<br />
g) Soustava ZrO2 – SiO2 zirkon ZrO2 . SiO2<br />
h) Soustava R2O - Al2O3 – SiO2 ortoklas (živec draselný)<br />
RO- Al2O3 – SiO2<br />
Minerály - SiO2 cristobalit, tridymit<br />
CaCO3 vápenec<br />
MgCO3 magnezit<br />
BaSO4 baryt (těživec)<br />
Al2O3 korund<br />
5.3.1 Azbestové izolanty<br />
Makrostruktura azbestu: vláknitá (silikátová struktura pásová)<br />
Základní mineralogická klasifikace azbestů<br />
1. Azbesty serpentinové (hadcové) - chrysotil<br />
2. Azbesty amfibolové – krokydolit<br />
Charakteristické vlastnosti:<br />
nehořlavost, možnost spřádání<br />
V elektrotechnice se používá:<br />
chrysotil 3MgO . 2SiO2 . 2H2O<br />
- kalcinační teplota 400 °C<br />
- teplota tavení 1 150 °C<br />
Elektrické vlastnosti:<br />
vnitřní rezistivita: 10 8 – 10 10 Ωm<br />
K2O3 . Al2O3 . 6SiO2<br />
albit (živec sodný) Na2O . Al2O3 . 6SiO2<br />
anorthit (živec vápenatý)<br />
CaO . Al2O3 . 2SiO2<br />
Použití v elektrotechnice – ve formě<br />
a) dlouhých vláken<br />
• příze a tkaniny<br />
b) krátkých vláken<br />
• azbestový papír, azbestová lepenka<br />
c) velmi krátkých vláken<br />
• azbestocementové výrobky (spolu s cementem a azbestovou moučkou)<br />
d) azbestové moučky
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 67<br />
5.3.2 Slídové izolanty<br />
Makrostruktura slídy: vrstevnatá (silikátová struktura plošná)<br />
Základní mineralogická klasifikace slíd<br />
• skupina muskovitu (muskovit)<br />
• skupina biotitu (flogopit, biotit)<br />
• skupina slíd lithných (lepidolit)<br />
Charakteristické vlastnosti:<br />
• štípatelnost, v tenkých lístcích ohebnost, pružnost, nehořlavost, chemická odolnost<br />
Poznámka: slída odolává oleji chemicky, olej však slídu rozrušuje mechanicky; proto nelze<br />
slídu a slídové výrobky používat v přítomnosti oleje.<br />
V elektrotechnice se používá:<br />
• muskovit (Ruby) K2O . 3Al2O3 . 6SiO2 . 2H2O<br />
• flogopit (Amber) K2O . 6MgO . Al2O3 . 6SiO2 . 2H2O<br />
kalcinační teploty:<br />
muskovit 600 °C<br />
flogopit 900 °C<br />
Elektrické vlastnosti: anizotropní<br />
• ε´ 5 – 7,7<br />
• tg δ 10 -3 – 4.10 -4<br />
• ρv 10 12 – 10 14 Ωm<br />
• Ep 10 7 V m -1 (1 mm, 50 Hz)<br />
Obchodní druhy slídy<br />
• bloková či tabulková slída (0,15; 0,80 mm)<br />
• kalibrovaná slída (tolerance setin mm – pro vakuovou techniku<br />
• tolerance tisícin mm – pro kondenzátorovou techniku)<br />
• štípaná slída (splitting) (15; 25 µm)<br />
• mletá slída<br />
• mikromletá slída<br />
Slída a slídové výrobky<br />
1. Výrobky z čisté slídy<br />
2. Slídové izolanty vrstvené s pojivem<br />
2.1 Tuhé slídové vrstvené izolanty s pojivem – mikanity<br />
2.2 Svitkové vrstvené izolanty ohebné<br />
2.2.1 Mikafólium<br />
2.2.2 Slídová páska<br />
3. Mikalex<br />
4. Slídové izolanty na podkladě upravené slídy<br />
5. Mletá a mikromletá slída<br />
Výrobky z čisté slídy<br />
• podložky, drážky a rozpěrky (vakuová technika), vložky komutátorů, kondenzátory nn,<br />
vn, vf<br />
Mikanity<br />
• vrstvená složená soustava: papír – slídové lístky – pryskyřičné pojivo
68 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
• vlastnosti ovlivňuje: druh pojiva (šelak, fenolformaldehydová pryskyřice, modifokovaný<br />
alkyd, epoxidová pryskyřice, asfaltové laky) - obsah pojiva - teplota formován - tlak při<br />
formování<br />
• druhy<br />
broušený, nebroušený<br />
komutátorový, topný, prokládací, ohebný, k formování<br />
Mikafólium<br />
• vrstvená složená soustava: papír – slídové lístky – pryskyřičné pojivo<br />
• ohebný výrobek (muskovit) – tvarované izolace<br />
Slídová páska<br />
• vrstvená složená soustava: papír, resp. tenká tkanina (hedvábná nebo skelná) – slídové<br />
lístky - pojivo<br />
Mikalex<br />
• složená soustav: mletá slída (60 % hm.) – sklo (nízkoztrátové, 40 % hm.)<br />
• lisování za teploty měknutí skla (cca 600 °C) a za tlaku 50 – 70 MPa<br />
• možnost opracování<br />
• anizotropní vlastnosti, necitlivost vůči elektrickému oblouku<br />
Upravená slída<br />
• zpracování slídového odpadu<br />
<strong>výrobní</strong> cyklus<br />
1. etapa – rozštěpení slídových lístků<br />
2. etapa – vytvoření ohebných fólií<br />
3. etapa – zpracování fólií<br />
• technologie štěpení slídových lístků<br />
1. způsob tepelně chemický<br />
1.1 Bardetův způsob<br />
1.2 alternativní Bardetův způsob (lázeň chloridu amonného)<br />
1.3 kvasný způsob<br />
2. způsob mechanický<br />
• tuzemské <strong>materiály</strong>: remika, remikanit, remikafólium, foremika<br />
• přednosti upravené slídy<br />
možnost dokonalého proimpregnování v důsledku pórovitosti fólie<br />
možnost mechanizace výroby<br />
rovnoměrná tloušťka<br />
rovnoměrné rozložení pojiva, tím i rovnoměrné vlastnosti elektrické i mechanické<br />
ekonomizace výroby<br />
Syntetická slída<br />
• slída flogopitového typu, vypěstovaná z taveniny - bez krystalicky vázané vody; namísto<br />
skupin OH obsahuje F<br />
5.4 ANORGANICKÁ SKLA<br />
Základní charakteristika anorganického skla<br />
• Z fyzikálního hlediska je anorganické sklo podchlazená kapalina, u níž při tuhnutí<br />
nedochází k vytvoření krystalické struktury, neboť její viskozita s klesající teplotou velmi
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 69<br />
rychle vzrůstá. Skupiny molekul „zamrznou“ a zůstávají po ztuhnutí v tuhém stavu jako<br />
v kapalině.<br />
• Základem převážné většiny anorganických skel je síť Si-O iontů. V křemenném skle jsou<br />
skupiny Si-O vázány podobně jako v případě krystalického křemene, avšak jejich stavba<br />
je oproti stavbě křemene nepravidelná a nesymetrická. V případě technických skel jsou<br />
volné prostory ve stavbě sítě zaplněny ionty modifikátorů.<br />
• Sklo je termodynamicky nestabilní a má sklon k odskelnění, tj. k vytvoření<br />
termostabilních krystalů, a to tehdy, je-li udržováno dostatečně dlouhou dobu na<br />
dostatečně vysoké teplotě (devitrifikace < = > skelně krystalické látky).<br />
• Z technického hlediska je sklo anorganická, chemicky těžko napadnutelná tavenina oxidů,<br />
která je po ztuhnutí tvrdá, křehká, obvykle průhledná, prakticky nepropustná pro plyny<br />
a lasturovitého lomu.<br />
Definice skla podle ČSN<br />
• Sklo je látka ve skelném stavu.<br />
• Skelný stav je amorfní nekrystalický stav látek ze teplot pod transformačním intervalem.<br />
• Transformační interval teplot je rozmezí teplot, ve kterém při ochlazování taveniny<br />
přechází tavenina do skelného stavů<br />
Poznámka:<br />
Definice se vztahuje na skla připravovaná adičním způsobem; existují však i netradiční<br />
způsoby, např. napařování, slinování gelů<br />
Základní pojmy a definice<br />
• Sklo: obecně všechny látky, které jsou ve skelném stavu. V užším slova smyslu se názvem<br />
sklo obvykle označují anorganické látky ve skelném stavu.<br />
• Sklovina: roztavené sklo (tavenina) za teplot nad transformačním intervalem (např. při<br />
tavení, čeření, tvarování).<br />
• Skelný stav: amorfní (reálně nekrystalický) stav látek za teploty pod transformačním<br />
intervalem.<br />
• Skelně krystalická látka: látka podobná keramice, ale vyráběná tavením skla s následnou<br />
řízenou krystalizací.<br />
Fyzikální podstata skla<br />
Typy kapalin<br />
1. Kapaliny Frenkelova typu<br />
• málo viskózní kapaliny vznikající jako tavenina většiny anorganických látek (H2O,<br />
LiCl, Na, Zn, Fe: η ∼ 10 -3 Pa s)<br />
• při ochlazování proběhne za teploty tání rychlá krystalizace<br />
• při velmi rychlém ochlazení je možné přechlazení i o několik stupňů Celsia pod bod<br />
tuhnutí; tento stav však nelze udržet neomezeně dlouho a proběhne krystalizace<br />
2. Kapaliny Bernalova typu<br />
• vysoce viskózní kapaliny, vznikající jako tavenina některých látek (As2O3, B2O3,<br />
GeO2, SiO2, BeF2: η = 10 4 – 10 6 Pa s)<br />
• při pomalém ochlazování kapalina alespoň částečně zkrystalizuje<br />
• při rychlém ochlazování krystalizace neproběhne<br />
3. Kapaliny Stewartova typu<br />
• taveniny některých organických látek<br />
• v okolí bodu tání jeví anizotropii vlastností (dvojlom)<br />
• při ochlazování se mohou chovat jako kapaliny Bernalova typu
70 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obr. 5.6 Změna objemu při tuhnutí kapaliny s krystalizací (F) a při tvorbě skla (B)<br />
Tg [K]/Tt[K] = 2/3<br />
(F) … platí pro kapaliny Frenkelova typu<br />
(B) … platí pro kapaliny Bernalova typu<br />
Transformační interval<br />
• Transformační interval teplot (interval zeskelnění)<br />
rozmezí teplot, ve kterém při ochlazování kapaliny (taveniny) přechází přechlazená<br />
kapalina (tavenina) do skelného stavu.<br />
• Transformační teplota (Tg)<br />
teplota, při které nastává změna směru křivky v závislosti objemu na teplotě.<br />
Sklotvornost, krystalizace<br />
• Schopnost převedení kapaliny (taveniny) do skelného stavu je podmíněna:<br />
- rychlostí ochlazování<br />
- nukleační rychlostí<br />
- krystalizační rychlostí<br />
- polohou teplotních oblastí nukleace a krystalizace<br />
• Nukleační rychlost<br />
−W1 −W2<br />
RT RT<br />
I = Ce . . e<br />
(5.29)<br />
• Krystalizační rychlost<br />
−W3<br />
W4<br />
⎛ ⎞<br />
RT RT<br />
u = K. e ⎜1−e<br />
⎟<br />
⎝ ⎠<br />
( 5.30)<br />
R … plynová konstanta (R = 8,314.10 3 J kmol -1 K -1 )<br />
W1, W2, W3, W4 … energie charakterizující průběhy I a u (J kmol -1 )<br />
C, K … materiálové konstanty
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 71<br />
Obr. 5.7 Nukleační a krystalizační proces sklotvorné látky<br />
H … růst na krystalech zanesených zvenčí<br />
S … optimální podmínky samovolné krystalizace<br />
η … dynamická viskozita<br />
Chemická podstata skla<br />
Empirická pravidla<br />
• Sklotvornost je závislá na periodických vlastnostech prvků.<br />
• Prvky VI. skupiny periodické soustavy mají schopnost samy o sobě tvořit tzv.<br />
jednoprvková skla, sestávající z atomů jediného prvku.<br />
• Prvky VI. skupiny periodické soustavy si podrží sklotvornost, jsou-li spolu sloučeny, tj.<br />
mohou tvořit tzv. dvojprvková skla (skla obsahující dva různé prvky VI. skupiny).<br />
• Prvky VI. skupiny (za určitých podmínek i prvky VII. skupiny) mají zásadní význam pro<br />
tvorbu skla. Bez jejich přítomnosti nemůže vznikat ani dvojprvkové sklo, ani vícesložkové<br />
sklo.<br />
• Prvky VI. skupiny vytvářejí dvojprvková skla s prvky III., IV. a V. skupiny.<br />
• Prvky III., IV. a V. skupiny spolupůsobí při tvorbě chemicky složitějších skel, ale samy<br />
o sobě netvoří jednoprvková skla.<br />
• Prvky VII. skupiny mohou být za určitých podmínek významné z hlediska sklotvornosti.<br />
Samy o sobě tyto prvky však netvoří jednoprvková skla.<br />
Systematika sklotvorných látek a soustav<br />
1. Jednoprvková skla<br />
2. Dvojprvková skla<br />
2.1 Oxidová skla<br />
2.2 Bezkyslíkatá skla<br />
2.2.1 Halogenidová skla<br />
2.2.2 Chalkogenidová skla<br />
3. Vícesložková skla<br />
3.1 Oxidová skla<br />
3.2 Bezkyslíkatá skla<br />
3.2.1 Halogenidová skla
72 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
3.2.2 Chalkogenidová skla<br />
3.3 Směsná skla<br />
3.3.1 Halogenido-oxidová skla<br />
3.3.2 Chalkogenido-oxidová skla<br />
3.3.3 Halogenido-chalkogenidová skla<br />
4. Pseudoskla<br />
Příklady:<br />
• Jednoprvková skla<br />
prvky ve skelném stavu (S, Se)<br />
• Dvojprvková skla<br />
základní sklotvorné sloučeniny (SiO2, B2O3, P2O5, ZnCl2, As2O3)<br />
• Vícesložková skla<br />
chemicky složitější soustavy, kde jako jedna složka je vždy dvojprvkové sklo<br />
• Pseudoskla<br />
jiné sklotvorné, resp. sklu podobné látky (Si3N4, slitiny Au – Si)<br />
5.4.1 Křemičitá skla<br />
Struktura oxidových skel<br />
Strukturní hypotézy skelného stavu<br />
• hypotéza ideálně neuspořádané mřížky (Zachariasenova – Warrenova hypotéza)<br />
• hypotézy reálně neuspořádané mřížky<br />
polymero-krystalitová hypotéza<br />
hypotéza amorfní diferencované struktury<br />
hypotéza o mikroheterogenní podstatě skla<br />
Struktura oxidových skel<br />
• skelná síť – aperiodická mřížka, viz obr. 5.8
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 73<br />
Obr. 5.8 Struktura křemenného a křemičitého skla (rovinný řez)<br />
Typy oxidů skel<br />
1. Sklotvorné oxidy (síťotvořiče)<br />
1.1 vysloveně sklotvorné oxidy – velmi snadno tvoří skla samy o sobě (dvojprvková skla)<br />
a jsou základními sklotvornými složkami vícesložkových oxidových skel<br />
(SiO2, B2O3, GeO2, As2O3)<br />
1.2 podmíněně sklotvorné oxidy – samotné nemají schopnost vytvořit dvojprvková skla<br />
(resp. tvoří dvojprvková skla jen velmi nesnadno - Bi2O3), ale představují základní<br />
sklotvorné složky vícesložkových skel<br />
(Al2O3, TiO2, MoO3, WO3, V2O5)<br />
2. Pozměňovače sítě (modifikátory) – oxidy, především alkalické oxidy a oxidy alkalických<br />
zemin; jsou náhodně rozmístěny ve volných prostorách základní skelné sítě<br />
(Na2O, K2O, Li2O, CaO )<br />
3. Síťobytné (mřížkobytné) oxidy - pozměňovače sítě, které mohou za vhodných podmínek<br />
nebo při vhodném chemickém složení v omezené míře vstupovat do skelné sítě<br />
(BeO, Fe2O3, ZnO, CdO, PbO)<br />
Výroba oxidových skel<br />
Oxidová skla obsahují zpravidla jako základ oxid – SiO2<br />
- křeměnné sklo SiO2<br />
- křemičitá skla<br />
SiO2 + Li2O, Na2O, K2O, CaO, ZnO, BaO, MgO, PbO, B2O3, Al2O3, P2O5<br />
- boritokřemičitá skla<br />
Oxidy dodány formou minerálních látek<br />
SiO2 - sklářský tavný písek – více méně<br />
čistý křemen<br />
Na2O - bezvodá soda Na2CO3<br />
K2O - potaš K2CO3, draselný živec – ortoklas, dusičnan draselný KNO3 (ledek<br />
draselný)<br />
CaO - vápenec CaCO3<br />
MgO - dolomit MgCO3, CaCO3, magnesit MgCO3<br />
PbO - suřík – minium Pb3O4
74 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
B2O3 - kyselina boritá H3BO3 nebo borax (tetraboritan sodný)<br />
Al2O3 - živec, kaolin, hydratovaný oxid hlinitý Al2O3 . 3H2O<br />
Základní pojmy<br />
• práškové suroviny – předepsaný hmotnostní poměr – homogenizovaná směs – sklářský<br />
kmen<br />
• sklářský kmen (2/3) + drcené skleněné střepy (1/3) - vsázka<br />
Pomocné látky<br />
• Urychlovače tavení<br />
urychlují tavicí nebo čeřicí proces<br />
borax, kyselina boritá, fluoridy, křemičitan sodný<br />
• Čeřiva<br />
k odstranění plynů ze skloviny; za vysoké teploty uvolňují plyny, které snadno<br />
difundují taveninou k povrchu, přičemž s sebou strhávají bubliny – z hladiny se<br />
bubliny snadno odstraní<br />
síran sodný, směs arseniku As2O3 s draselným ledkem KNO3<br />
• Barviva<br />
při barvení lze rozeznat dva případy<br />
1. barvivo se ve skle rozpouští, ať již je v něm nositelem zbarvení iont nebo molekula<br />
- iontová barviva<br />
- molekulární barviva<br />
2. barvivo je přítomno jako koloidní částice<br />
- koloidní barviva<br />
• Odbarviva<br />
k dosažení čirosti, průzračnosti<br />
arsenik, ledek, burel MnO2<br />
• Kaliva<br />
způsobují zákal skla (opalescenci), příčinou je difusní odraz způsobený rozptýlenými<br />
částicemi s jiným indexem lomu než má základní látka<br />
kryolit Na3AlF6<br />
Výrobní proces<br />
• Příprava sklářského kmene a vsázky<br />
• Tavení vsázky v tavicí peci – přetváření ve sklovinu, tavení při teplotách nad Tg<br />
<strong>procesy</strong> při tavení<br />
- chemické reakce složek v tuhé fázi (vznik křemičitanů)<br />
- rozklad minerálů na oxidy<br />
- fyzikální pochody (tavení, rozpouštění) spojené se vznikem homogenní skloviny<br />
etapy tavení<br />
I. vlastní tavení<br />
II. čeření<br />
III. homogenizace (rozpouštění zbytků tuhých látek, zvláště SiO2)<br />
tavicí pece<br />
- vanové pece<br />
pracují nepřetržitě; při hromadné strojní výrobě<br />
- pánvové pece<br />
menší, méně výkonné a méně hospodárné; výroba poměrně malých množství se<br />
speciálními vlastnostmi (pro elektrotechniku)<br />
• Tvarování<br />
sklovině ochlazené na pracovní teplotu se udílí žádaný tvar skleněného výrobku
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 75<br />
- foukání<br />
- lisování<br />
- tažení<br />
- válcování (tabule se zalisovanou drátovou vložkou)<br />
- lití (zvláště odstředivé – obrazovky)<br />
- slinování<br />
- zpracování sklofoukačským způsobem na kahanu<br />
• Chlazení<br />
řízený tepelný pochod, jímž se odstraňuje nepřípustné vnitřní pnutí nebo se zabraňuje<br />
jeho vzniku<br />
Viskozita a povrchové napětí<br />
Technologie výroby a zpracování skla spočívá na dvou fyzikálních vlastnostech skloviny<br />
• na viskozitě<br />
• na povrchovém napětí<br />
Viskozita, viskozitní křivka<br />
log η= FT ( )<br />
• Vogelova – Fulcherova – Tamannova rovnice<br />
B<br />
logη=<br />
A +<br />
T −T0<br />
A, B, T0 … konstanty<br />
(5.31)<br />
• Viskozitní body<br />
vyjadřují dekadický logaritmus dynamické viskozity η (Pa s)<br />
13,5<br />
12,3<br />
dolní chladicí teplota Ts<br />
(η = 2.10 12 Pa s) transformační bod Tg transformační interval<br />
12,0 horní chladicí teplota Ta<br />
7,0 dolní teplota tvarování<br />
3,0 horní teplota tvarování<br />
1,0 teplota tavení<br />
• Ta teplota, při níž se pnutí ve skle (způsobené nestejným chlazením) odstraní za<br />
15 minut, až na výši 10 % (není již pro zpracování podstatně důležité)<br />
Klasifikace skel podle polohy bodu Ta<br />
Ta < 380 – 450 °C > měkká skla<br />
< 450 – 500 °C > středně tvrdá skla<br />
> 500 °C středně tvrdá skla<br />
• η < 10 3 ; 10 7 Pa s >: důležité pro zpracování – odpovídá zpracování na sklářském<br />
plameni<br />
Klasifikace skel podle relace η < 10 3 ; 10 7 Pa s > / ∆T<br />
- dlouhé sklo<br />
široký rozsah teplot, (vhodné pro ruční zpracování)<br />
- krátké sklo<br />
nízký rozsah teplot s prudkým poklesem η v průběhu zpracování – (pro<br />
zpracování na sklářských automatech, kde je možno teplotu přesně nastavit)<br />
Povrchové napětí<br />
• při zpracování má stejný význam jako viskozita<br />
• roztavené sklo má poměrně velké povrchové napětí, málo závislé na teplotě<br />
• při čeření se snížením povrchového napětí usnadní únik bublin<br />
• při tvarování je povrchové napětí příčinou snahy skla stahovat povrch výrobků:<br />
příznivý vliv
76 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
vyrovnání případných nerovností povrchu při tvarování<br />
nepříznivý vliv<br />
zaoblení hran a rohů, které mají zůstat ostré; zúžení tažených trubic, prohnutí tabulí.<br />
Vady skla<br />
• Kamínky<br />
zbytky neprotavených tuhých součástí (ze sklářských surovin, úlomky vyzdívky pecí)<br />
• Šlíry<br />
skelné nestejnorodosti, projevující se jako proudy nebo provazce ve skle (nedostatečné<br />
promísení vsázky)<br />
• Bubliny<br />
mj. znečistěním střepů prachem<br />
• Vrstevnatost<br />
těžší složky při tavení segregují od lehčích<br />
Vlastnosti skel<br />
• Mechanické vlastnosti<br />
pevnost v tlaku vysoká (na úrovni kovů)<br />
pevnost v tahu nízká (cca 10 % pevnosti v tlaku)<br />
tvrdost: 5 – 7,5 podle Mohse<br />
• Teplotní roztažnost<br />
lkové roztažnosti: 0,55 – 12,8 . 10 -6 K -1<br />
teplotní součinitel dé<br />
- křemenné sklo 0,55 . 10 -6 K -1<br />
- tvrdá skla 3,0 – 5,0 . 10 -6 K -1<br />
- měkká skla 8,5 – 11,0 . 10 -6 K -1<br />
odolnost skel proti náhlým změnám teplot<br />
- křemenné sklo 1 200 K<br />
- boritokřemičitá skla 200 – 250 K<br />
- alkalická skla 150 K<br />
• Elektrické vlastnosti<br />
permitivita<br />
- dominantní polarizace: iontová relaxační<br />
- rozsah permitivit < 3,7; 35 ><br />
- ε´= 2,2 ρ (hustota)<br />
vnitřní rezistivita<br />
- iontový charakter vodivosti<br />
- rozsah vnitřních rezistivit 10 9 – 10 15 Ω m<br />
- Raschova – Hinrichsenova rovnice<br />
b<br />
T . Ae ρ = (5.32)<br />
v<br />
- bod TK 100: teplota, při níž ρv = 100 Ω m …10 6 Ω m<br />
(v rozmezí teplot 150 – 550 °C)<br />
povrchová rezistivita<br />
- vliv tenké povrchové vodní vrstvy<br />
ztrátový činitel<br />
- druhy ztrát<br />
· ztráty vodivostní (modifikátory)<br />
· ztráty relaxační (modifikátory)<br />
· ztráty vibrační (modifikátory)<br />
· ztráty deformační (skelná síť)
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 77<br />
Obr. 5.9 Kmitočtová závislost tg δ (X) se složkou vodivostní (1), relaxační (2), vibrační (3)<br />
a deformační (4)<br />
- druhy iontů<br />
(Li + , Na + · lehce pohyblivé ionty )<br />
· špatně pohyblivé (K + , Mg ++ )<br />
· nepohyblivé ionty (Pb ++ , Ba ++ )<br />
- přístupy ke snížení dielektrických ztrát<br />
· kombinace pohyblivých a nepohyblivých iontů<br />
· vzájemné působení dvou druhů pohyblivých iontů (Na + , Li + )<br />
· částečná náhrada vazeb Si-O silnějšími vazbami B-O<br />
- nízkoztrátová skla<br />
· olovnatá skla (ε´ ∼ 7 – 8)<br />
· boritokřemičitá skla (ε´ ∼ 4 – 5)<br />
elektrická pevnost<br />
- převážně tepelný průraz<br />
• Optické vlastnosti<br />
křemičitá skla: propustnost ve viditelné části spektra<br />
křemenné sklo, fosfátové sklo: propustnost i v ultrafialové části spektra<br />
Klasifikace skel<br />
Hlediska klasifikace<br />
• poloha viskozitních bodů<br />
A. skla<br />
měkká<br />
středně tvrdá<br />
tvrdá<br />
B. skla<br />
dlouhá<br />
krátká<br />
• chemické složení<br />
alkalická<br />
alkalicko – olovnatá (vysoký index lomu světla)<br />
alkalicko – vápenatá (vysoký lesk)<br />
hlinito – vápenatá
78 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
boritá<br />
hlinito – boritá<br />
fosfátová<br />
• použití v elektrotechnice<br />
nízkoztrátová skla<br />
zátavová skla<br />
skla odolná proti kovovým parám<br />
skla eutektická<br />
Nízkoztrátová skla<br />
• křemenné sklo<br />
• vycor (96 % SiO2 + malé množství alkálií)<br />
• boritokřemičitá skla – eutal (sklo E)<br />
• olovnaté sklo<br />
Zátavová skla<br />
• tvrdá - MoKa (Mo-Kavalier)<br />
WoKa<br />
kovarové sklo<br />
Pyrex (obd. Simax)<br />
- v podstatě boritokřemičitan s malým obsahem alkálií<br />
• měkká - olovnatá<br />
5.4.2 Halogenidová a chalkogenidová skla<br />
Skla na bázi chalkogenidů<br />
V souladu s empirickými pravidly pro tvorbu skla byla prokázána sklotvornost sloučenin<br />
zejména v soustavách:<br />
• skupiny prvků dvojprvková skla v soustavě<br />
VI – VI Se – S<br />
V – VI P – Se, As – Se, As – S<br />
IV – VI Ge – Se<br />
III – VI Tl v soustavě As – Se – Tl<br />
Tato dvojprvková skla jsou základem pro další vícesložková skla s jinými sulfidy nebo pro<br />
směsná skla s oxidy nebo halogenidy.<br />
Mnohá skla v důsledku svých výhodných vlastností našla praktické uplatnění v optice.<br />
V elektronice se uplatňují jako pasivní, ale zejména jako aktivní komponenty.<br />
Příklady použití chalkogenidových skel<br />
• As – S<br />
skla složením blízká As2S3 jsou propustná pro infračervené záření<br />
slouží pro infračervenou optiku<br />
z tohoto skla lze připravit i vlákna pro infračervenou vláknovou optiku<br />
• As – S – Se<br />
sklo z této soustavy může sloužit jako nízkotající izolátor pro hermetizaci diod, které<br />
nesnášejí působení vyšších teplot<br />
• As – Te – J
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 79<br />
skla jsou uvažována pro spínací a paměťové prvky<br />
• As – Se – Te<br />
sklo lze aplikovat pro fotovodivé prvky<br />
• As – Ge – Si – Te<br />
sklo je propustné pro infračervené záření a stálé za vysokých teplot.<br />
Na bázi chalkogenidů byla vypracována i skla pro elektroniku tenkých vrstev. Počet<br />
dvojprvkých chalkogenidových skel je v současnosti značný a přesahuje počet klasických<br />
dvojprvkových oxidových skel. Jejich příprava tavením v uzavřených trubicích je však velmi<br />
náročná s ohledem na nezbytnou čistotu. Skla jsou neklasická svým složením, jejich příprava<br />
je v podstatě klasická – tj. tavení, avšak za speciálních podmínek.<br />
5.4.3 Speciální skla<br />
Speciální skla pro elektrotechniku a elektroniku<br />
A. Křemenné sklo<br />
B. Skleněná vlákna<br />
C. Slinovaná skla<br />
D. Zátavová skla a skleněné průchodky<br />
E. Skelné pájky<br />
F. Skleněné průchodky<br />
G. Skla pro výrobu elektronek a obrazovek<br />
H. Skla pro výrobu polovodičových součástek<br />
I. Skleněná vlákna pro optické vlnovody<br />
Rozdělení slinovaných skel<br />
- skelné filtry<br />
- průlinčitá - pěnová skla<br />
- s kulatými dutinami<br />
- s hranatými dutinami (Cerkor)<br />
- skelné smalty<br />
Slinovaná skla - vakuově těsná - slinovaná nad horní<br />
slinovací teplotu - skelné pájky - neodskelňující<br />
- krystalizující<br />
- slinovaná skla jednoduchá<br />
- slinovaná na horní<br />
slinovací teplotu - slinovaná skla směsná<br />
- multiformová slinovaná skla<br />
- krystalická slinovaná skla
80 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
5.4.4 Skelně krystalické <strong>materiály</strong><br />
Skelně krystalické <strong>materiály</strong> (sklokeramika)<br />
Polykrystalické látky se zbytkovou skelnou fází, připravené utavením skla a jeho<br />
vytvarováním do výrobků, které byly podrobeny řízené krystalizaci. Pojmem řízené<br />
krystalizace skla se označuje vylučování krystalické fáze z matečné sklovité fáze ve formě<br />
malých krystalků, kde jejich počet, rychlost růstu a tedy i jejich konečná velikost jsou řízeny<br />
vhodně zvoleným tepelným zpracováním.<br />
Úspěšná příprava skelně krystalických materiálů spočívá zejména v zajištění tvorby<br />
dostatečně velkého množství krystalizačních jader - nukleí, rovnoměrně rozdělených v<br />
objemu skla,která pokračují v růstu (zpravidla do velikosti 0,1 až 1,0 µm ) při zvýšené<br />
teplotě,dokud krystalická fáze nezaujímá objem mezi 50 až 100 % původního objemu skla.<br />
Výchozí skla pro přípravu skelně krystalických materiálů,tj.obvykle anorganická oxidová<br />
skla, jsou připravována nejběžnějším postupem, tj.zchlazením sklotvorné taveniny po<br />
předchozím vytvarování do požadovaného tvaru. Pro postup přípravy skelně krystalických<br />
materiálů je tedy charakteristické, že výchozím materiálem je sklo, které se při řízeném<br />
tepelném zpracování mění na jemnozrnný polykrystalický materiál požadovaných vlastností.<br />
První podmínkou pro přípravu skelně krystalických materiálů je sklotvornost taveniny.<br />
Sklotvornost stejně jako vlastní krystalizace podchlazené taveniny je kontrolována dvěma<br />
základními faktory. Prvním je nukleační rychlost, tj.počet nukleí vzniklých v jednotce objemu<br />
za jednotku času,a druhým rychlost krystalového růstu, tj.rychlost posunu fázového rozhraní<br />
krystalické fáze v tavenině.<br />
Dochází-li ke krystalizaci z nukleí rozptýlených uvnitř objemu skla,hovoří se o krystalizaci<br />
v objemu nebo objemové krystalizaci.Zajištění objemové krystalizace s vysokou hustotou<br />
nukleí je základním předpokladem pro přípravu skelně krystalických materiálů. Při objemové<br />
krystalizaci se mohou uplatnit tři typy nukleace :<br />
- homogenní nukleace,<br />
- heterogenní nukleace,<br />
- fotonukleace.<br />
Typy nukleací<br />
A. Homogenní nukleace<br />
Nukleace vyskytující se zcela nahodile v celém systému, kde se neuplatňují preferenční<br />
místa pro vznik nukleí. Pro mateřskou fázi je tedy nutným předpokladem její chemická,<br />
strukturní a energetická homogenita bez jakýchkoliv defektů.<br />
B. Heterogenní nukleace<br />
Nukleace, vznikají-li nuklea nové fáze na již vytvořených površích fázového rozhraní. Při<br />
bjemové krystalizaci je nutné, aby místa nukleace byla opět rozptýlena rovnoměrně<br />
v celém objemu výchozího skla.<br />
Poznámka:<br />
Uplatní-li se pro nukleaci fázové rozhraní mezi povrchem nádoby nebo vzduchem a sklem,<br />
postupuje krystalizace od povrchu do středu vzorku.Jde o povrchovou krystalizaci.<br />
C. Fotonukleace (nukleace vyvolaná zářením)<br />
Fotosensitivní skla, která obsahují rovnoměrně dispergované ionty Au, Ag nebo Cu spolu<br />
se sensibilisátory (Ce 3+ , Sn 4+ nebo soli Au,Cu) umožňují,po ozáření při určité vlnové<br />
délce (300 až 350 nm) a následujícím tepelném zpracování, vyloučení částeček kovu
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 81<br />
rozptýlených v objemu skla,jichž lze využít k heterogenní nukleaci další hlavní krystalické<br />
fáze a k přeměně skla na skelně krystalickou látku.<br />
Doplněk:<br />
U některých složení skel je obtížné dosáhnout objemové krystalizace s vysokou nukleační<br />
rychlostí.V těchto případech jsou do výchozích skel zaváděny nukleátory,látky umožňující<br />
nebo urychlující objemovou krystalizaci.<br />
Hlavní typy technických skelně krystalických materiálů:<br />
1) Sklokeramické <strong>materiály</strong> s nízkou nebo nulovou teplotní roztažností.<br />
2) Mechanicky opracovatelné skelně krystalické <strong>materiály</strong> (fluoroslídy).<br />
3) Chemicky opracovatelné skelně krystalické <strong>materiály</strong> (Fotoform,Fotoceram).<br />
4) Slinované skelně krystalické <strong>materiály</strong>.<br />
5) Skelně krystalické <strong>materiály</strong> s orientovanou mikrostrukturou.<br />
6) Bioaktivní skelně krystalické <strong>materiály</strong>.<br />
Komerční označení významných skelně krystalických materiálů:<br />
Pyroceram, Fotoceram, Sitall, Schott-Glaskeramik, Neoceram, Kryston (ČR), Nukryst<br />
(ČR).<br />
Ske1ně krystalické <strong>materiály</strong> jsou svými vlastnostmi mechanickými, tepelnými, elektrickými,<br />
chemickými a optickými schopny nejen konkurovat tradičním materiálům, ale v mnohém je i<br />
předstihnout. Mohou nahradit deficitní <strong>materiály</strong>, jako jsou barevné kovy nebo speciální<br />
slitiny, v řadě oborů umožňují vývoj zcela nových nebo dokonalejších výrobků, případně<br />
umožňují i použití efektivnějších technologií. Rozmanitost v kombinaci vlastností umožňuje<br />
uplatnění skelně krystalických materiálů téměř ve všech průmyslových odvětvích, ve<br />
zdravotnictví i ve výrobcích pro domácnost. Příklady použití jsou ve vztahu k jejich<br />
vlastnostem jsou uvedeny v tabulce 5.1.<br />
Tabulka 5.1 Kombinace vlastností skelně krystalických materiálů a jejich aplikace<br />
Vlastnosti Příklady použití<br />
mechanická pevnost při vysoké teplotě,<br />
odolnost k teplotnímu rázu, optické vlastnosti<br />
(specifický spektrální prostup)<br />
mechanická pevnost, odolnost k teplotnímu<br />
rázu, speciální elektrické vlastnosti<br />
mechanická pevnost, oděruvzdornost,<br />
chemická odolnost<br />
mechanická opracovatelnost, dielektrické<br />
vlastnosti, vakuotěsnost, stálost při zvýšené<br />
teplotě<br />
tepelné výměníky, varné nádobí, vařidlové<br />
desky sporáků, okna pecí a konstrukční prvky<br />
vysokoteplotních zařízení, vodoznaky, pláště<br />
zdrojů vysoké světelné a tepelné intenzity,<br />
topné panely, samočistící okna tepelných<br />
zařízení, laboratorní nádobí<br />
kryty radiolokátorů, elektrické izolátory,<br />
vakuové obaly<br />
stavební materiál (obklady stěn pro zvýšený<br />
provoz podlahy, dlažba, sanitární výrobky),<br />
nádoby pro roztavené kovy nebo soli, součásti<br />
čerpadel pro agresivní kapaliny, trubky a<br />
potrubí pro chemický a petrochemický<br />
průmysl, kanalizační potrubí<br />
elektroizolační vakuové součástky<br />
komplikovaných tvarů, šablony, modely,<br />
lisovací nástroje, razidla pro plasty, pryž a<br />
kovy, formy
82 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
tvrdost, oděruvzdornost ložiska, ventily, břity, součástky textilních<br />
strojů, třecí misky, vrchní desky pracovních<br />
stolu<br />
nulová teplotní roztažnost (prostup světla) astronomická optika, zrcadla dalekohledů<br />
snášenlivost s kostí a tkání, mechanická<br />
pevnost<br />
speciá1ni elektrické vlastnosti, možnost<br />
spojení s jiným materiálem<br />
feromagnetismus nebo ferimagnetismus,<br />
nízká elektrická vodivost<br />
5.5 Keramické <strong>materiály</strong><br />
biokeramika (zubní protézy a plomby,<br />
náhrada. kostí, např. endoprotézy kyčelního<br />
kloubu)<br />
mikroelektronika, izolační vrstvy pro křížení<br />
plošných spojů, povlaky pro podložky<br />
hybridních obvodů, pájky pro elektrotechniku<br />
a světelnou techniku<br />
vysokofrekvenční technika<br />
Keramika je anorganicky polykrystalický materiál, často se sklovitými, silikáty obsahujícími<br />
tavicími a vaznými látkami, vzniklý ze surovin vypálením za vhodné teploty. Směsi surovin<br />
jsou zpravidla po zformování plastické a svoje významné vlastnosti, zejména tuhost<br />
a pevnost, získávají výpalem. Teplota výpalu je ve výši cca 80 - 90 % teploty tavení směsi.<br />
5.5.1 Klasifikace keramiky<br />
A. Křemičitá (silikátová) keramika (x)<br />
1. porcelán<br />
1.1 tvrdý porcelán<br />
1.2 tvrdý porcelán se zvýšeným obsahem Al2O3<br />
1.3 zirkoničitý porcelán<br />
1.4 nízkoztrátový porcelán (porcelit)<br />
1.5 ultraporcelán<br />
2. kamenina<br />
2.1 kamenina<br />
2.2 hořečnatá kamenina - kerit<br />
3. hořečnatá keramika<br />
3.1 steatit<br />
3.2 stealit – nízkoztrátový steatit<br />
3.3 porolit – pórovitý steatit<br />
3.4 forsterit<br />
3.5 kordieritová keramika<br />
3.6 pyrostat – hořečnatá pórovina<br />
(hořečnatá kamenina – kerit: v podstatě kordieritová keramika silně křemičitá)<br />
4. lithná keramika<br />
4.1 lithná (spodumenová) keramika<br />
5. bezalkalické alumosilikáty<br />
5.1 celsiánová keramika<br />
5.2 korundová keramika<br />
5.3 mullitová keramika<br />
(nízkoztrátový porcelán – porcelit)<br />
(ultraporcelán)<br />
Poznámka<br />
(x) Nejdůležitější druhy pro elektrotechniku
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 83<br />
B. Oxidová (kysličníková keramika)<br />
• slinutý korund (Al2O3)<br />
• periklasová keramika (MgO)<br />
• slinutý ZrO2<br />
• slinutý BeO<br />
• slinutý ThO2<br />
• keramika na podkladě TiO2<br />
stability, rutilit, negatit, permitity<br />
C. Bezkyslíkatá keramika<br />
• karbidy (SiC)<br />
• nitridy (BN)<br />
• boridy<br />
• silicidy<br />
• sulfidy<br />
• fluoridy<br />
Poznámka<br />
Keramické <strong>materiály</strong> skupiny A. a B. jsou izolanty – dielektriky. Keramika skupiny C.<br />
zahrnuje podle druhu <strong>materiály</strong> charakteru izolačního, polovodivého i vodivého.<br />
5.5.2 Křemičitá keramika<br />
Suroviny pro výrobu křemičité keramiky<br />
1. Hlavní suroviny – tvoří strukturu keramických materiálů<br />
2. Pomocné suroviny – vyžaduje technologický postup<br />
1. Hlavní suroviny<br />
Surové keramické látky i glazury se připravují vesměs z anorganických práškových materiálů<br />
- suroviny se jako práškové vyskytují<br />
- suroviny se na prášek potřebné jemnosti a čistoty teprve postupně připravují<br />
1.1 tvárlivé, plastické práškové suroviny<br />
- ve spojení s vodou poskytují tvárlivou látku<br />
- kaoliny a jíly, za určitých předpokladů (jemné mletí) i suroviny mastkové<br />
1.2 netvárlivé, neplastické práškové suroviny<br />
1.2.1 přírodní netvárlivé suroviny<br />
- živce, křemen, vápenec, magnezit, dolomit<br />
1.2.2 chemicky připravené suroviny<br />
- Al2O3, TiO2, MgO, ZnO, ZrO2, SnO2, CaCO3, BaCO3<br />
2. Pomocné suroviny<br />
- voda<br />
- organické plastifikační látky (škrob, dextrin, polyvinylalkohol)<br />
- lisovací oleje<br />
- paliva<br />
Poznámky:<br />
• kaoliny a jíly<br />
směsi různých minerálních surovin, velmi jemnozrnných, jejichž hlavní součástí jsou<br />
jílové minerály<br />
• jílové minerály<br />
hlinité hydrokřemičitany, vzniklé zvětráváním vyvřelých hornin, jejichž podstatnou<br />
součástí jsou živce (kaolinit, montmorillonit, illit)
84 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
• kaolin („porcelánová zemina“)<br />
hlavní součástí (jílovým minerálem) je kaolinit Al2O3 . 2SiO2 . 2H2O; pro výrobu<br />
elektrotechnické keramiky upravený, tzv. plavený kaolin (obsahuje asi 70 % jílových<br />
minerálů)<br />
• jíly<br />
více či méně znečistěny zrnky křemenného písku, sloučenin Fe, Mg, Ca; pro výrobu<br />
kameniny a póroviny<br />
- jíly bohaté na Fe2O3: pro obyčejné hrnčířské výrobky<br />
- jíly bohaté na Fe2O3 a na písek („cihlářská hlína“): cihly, krytiny<br />
- slíny (silné znečistění CaCO3 a MgCO3): nevhodné pro výrobu keramiky<br />
• mastek<br />
minerál steatit 3MgO . 4SiO2 . H2O; textura mastku je buď šupinkatá (talek) nebo<br />
zrnitá (mastek)<br />
• živce<br />
- ortoklas K2O . Al2O3 . 6SiO2<br />
- albit Na2O . Al2O3 . 6SiO2<br />
- živec draselný: důležitá složka při výrobě porcelánu, kde působí jako tavidlo (taví<br />
se při 1 150 – 1 200 °C) a spolupůsobí při tvorbě skelné fáze porcelánového střepu<br />
• křemen<br />
čistý křemenný písek (více než 99 % SiO2); v keramické směsi působí jako ostřivo, tj.<br />
látka zmenšující velkou smrštivost při sušení a výpalu<br />
Technologie výroby<br />
Sled <strong>výrobní</strong>ch operací:<br />
• úprava výchozích surovin<br />
• příprava surové keramické látky<br />
• tváření surové keramické látky<br />
• sušení polotovarů<br />
• vypalování vysušených (surových) výrobků<br />
• glazování polotovarů – alternativně<br />
• opracování a konečná úprava výrobků – alternativně<br />
• technická kontrola<br />
Úprava výchozích surovin<br />
• patří do oboru úpravárenské techniky<br />
• cíl operace<br />
dosažení stejnorodosti surovin<br />
zbavit je nečistot a nežádoucích příměsí<br />
• úpravárenské operace<br />
drcení a hrubé mletí<br />
mechanické čistění<br />
třídění proudem vzduchu<br />
magnetická separace, resp. kalcinace<br />
Příprava surové keramické látky<br />
• cíl operace: výroba surové keramické látky s vlastnostmi potřebnými k tváření<br />
• základní operace: jemné mletí (umletá vsázka, tzv. kal), vibrační prosévání, magnetická<br />
separace, filtrační lisování filtračními lisy, tzv. kalolisy (kalolisy nebo pásmové vakuové<br />
lisy)<br />
• mletí<br />
mletí za sucha, za mokra
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 85<br />
bubnový (kulový), vibrační, koloidní mlýn, mikromlýn<br />
• kalolis: umožňuje vytlačení přebytečné vody tlakem (pod 1 MPa) přes hustou pevnou<br />
bavlněnou (kepr) nebo silonovou tkaninu<br />
• pásmový vakuový lis: přednosti – látka se důkladně prohněte, homogenizuje a odvzdušní<br />
• obsah tzv. plastifikační vody závisí na tvárlivosti látky, druhu výráběné keramiky,<br />
velikosti částic umleté vsázky a na zvolené technologii tváření<br />
Tváření surové keramické látky<br />
Technologické postupy<br />
• běžné způsoby<br />
lití do forem obsah plastifikační vody 15 - 40 %<br />
plastické tváření – točení, tažení 18 – 25 %<br />
vlhké lisování 15 – 20 %<br />
suché lisování 4 - 8 %<br />
• způsoby pro žáruvzdornou (nikoli elektrotechnickou) keramiku<br />
polosuché lisování 8 – 15 %<br />
• speciální způsoby, vyvinuté ke zpracování málo tvárlivých nebo netvárlivých<br />
keramických látek<br />
hydrostatické lisování<br />
vstřikové, tzv. horké lití<br />
kvaziplastické tváření<br />
lisování v žáru<br />
Plastické tváření<br />
- nejrozšířenější technologie při výrobě elektrotechnické keramiky (izolátory, průchodky)<br />
Vlhké lisování<br />
- vhodné pro výrobu značně členitých tvarů výrobků<br />
Suché lisování<br />
- vhodné pro hromadnou výrobu tvarově přesných výlisků jednoduchého tvaru (izolační a<br />
konstrukční součásti)<br />
Dosažitelná přesnost: točení a lití ± 3 – 5 %<br />
výtlačné a mokré lisování ± 2 – 3 %<br />
suché lisování ± 1 – 2 %<br />
Smrštění 2 ÷ 30 %<br />
Sušení polotovarů<br />
• cíl operace: odstranění přebytečné vody<br />
• surový výrobek se suší na konečnou vlhkost 1 – 2 % před výpalem, aby se zamezilo<br />
znehodnocení při výpalu (popraskání)<br />
Keramická látka<br />
kapilárně porézní<br />
Voda je vázána třemi způsoby:<br />
a) fyzikálně-mechanicky jako voda plastifikační, která vyplňuje kapilární prostory mezi<br />
tuhými částicemi, kde je vázána silami povrchového napětí<br />
b) fyzikálně-chemicky následkem adsorpce na povrchu i v objemu tuhé látky<br />
c) chemicky jako voda krystalová; vazba je nejpevnější (při sušení se nerozrušuje)<br />
Při sušení (teploty 800 – 900 °C) se nejprve odstraňuje voda plastifikační za smrštění<br />
<strong>předmětu</strong>, v dalším průběhu se odstraňuje voda adsorbovaná za nepatrné smrštivosti; voda<br />
krystalová se odstraňuje až při výpalu.<br />
Sušárny<br />
• periodický či kontinuální proces
86 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
• sušení: konvektivní – proudem horkého vzduchu (nejrozšířenější)<br />
radiační – sáláním zdroje infračervených paprsků<br />
dielektrické<br />
odporové<br />
Výpal vysušených výrobků<br />
Procesy probíhající při výpalu<br />
• odstranění krystalicky vázané vody (ztráta plasticity, smrštění, zpevnění)<br />
• vypálení uhlíku a síry<br />
• chemické reakce<br />
dehydratace<br />
rozklad uhličitanů<br />
vznik nových chemických sloučenin<br />
• fázové přeměny<br />
polymorfní přechody<br />
tavení složek, rozpouštění krystalů, krystalizace z taveniny<br />
• slinování<br />
za přítomnosti nebo bez přítomnosti taveniny<br />
Teploty výpalu<br />
• běžná elektrotechnická keramika 1 200 – 1 400 °C<br />
• speciální druhy keramik > 2 000 °C<br />
Technika výpalu<br />
• druhy pecí<br />
kulaté (zastaralý typ)<br />
komorové<br />
tunelové<br />
• předměty se vypalují<br />
volně uložené (v tunelových nebo komorových pecích)<br />
v šamotových pouzdrech ( v kulatých pecích – ochrana před pecní atmosférou<br />
a nečistotami z topeniště<br />
• měření teploty<br />
termočlánky<br />
radiační teploměry = optické pyrometry<br />
• indikace teploty<br />
žároměrky (Segerovy jehlance)<br />
• pecní atmosféra<br />
oxidační<br />
redukční<br />
neutrální<br />
Významné pojmy<br />
• přežah: první výpal surových výrobků – výrobek nabývá určité mechanické pevnosti,<br />
potřebné k manipulaci<br />
• ostrý výpal: druhý výpal – výrobek získává význačné technické vlastnosti<br />
• střep: stěna rozpracovaného nebo hotového keramického výrobku, na kterém se určuje<br />
barva, tloušťka, nasákavost, pevnost<br />
Glazování polotovarů<br />
• cíl operace: chránit keramický střep tím, že se na něm vytvoří hutnější a stálejší povrch<br />
dokonale hladký, který zabraňuje vnikání vlhkosti do střepu a tím snižuje nasákavost,
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 87<br />
chrání povrch před usazováním nečistot a tak zabraňuje vzniku vodivých stop; vrstva<br />
zvyšuje mechanickou pevnost výrobků, zlepšuje jejich odolnost proti vlivům povětrnosti<br />
a účinkům chemických agresivních látek, zlepšuje elektrické vlastnosti a dodává<br />
výrobkům lepší vzhled<br />
Glazura<br />
• v podstatě tavenina; svojí povahou se blíží sklu<br />
• suroviny: jako pro přípravu keramiky, avšak vyšší požadavky na čistotu<br />
• obsah taviv v glazuře je větší než v látce střepové<br />
• důležitý požadavek: αg < αstřep, aby tenká vrstva glazury byla po ochlazení namáhána na<br />
tlak<br />
Příprava glazur<br />
• smíchání a rozemletí surovin nerozpustných ve vodě<br />
• vytvoření vodní suspenze<br />
Nanášení glazur<br />
▪ ponořením (máčením) do glazovací lázně<br />
▪ stříkáním pistolí (velké izolátory)<br />
Základní typy glazur pro elektrotechniku<br />
1. s dielektrickými vlastnostmi<br />
1.1 tvrdé (živcové) glazury – nanášejí se na surový nebo předžahnutý (800 – 900 °C)<br />
předmět (kapalná glazura se dobře nasazuje; po uschnutí glazury – ostrý výpal (i<br />
s výrobkem)<br />
1.2 měkké (olovnaté, boritoolovnaté) glazury – nanášejí se na ostře vypálený střep;<br />
vypalování glazury – při podstatně nižších teplotách (900 – 1 100 °C)<br />
2. s polovodivými vlastnostmi<br />
- glazura umožňuje řízení elektrického pole u izolátorů vn<br />
- ρp = 10 6 – 10 7 Ω (glazury typu 1 … 10 12 – 10 13 Ω)<br />
- základem polovodivé glazury je tvrdá živcová glazura; polovodivou složku tvoří směs<br />
oxidů, např. ZnO – Fe2O3 – Cr2O3; polovodivé oxidy vytvářejí v tavenině nevodivé<br />
skelné fáze polovodivou rekrystalizovanou spinelovou mříž<br />
Opracování a konečná úprava výrobků<br />
Opracování<br />
• broušení + řezání závitů (karborundové brusné nástroje; pro korundovou keramiku –<br />
diamantové nástroje)<br />
• vrtání děr (ultrazvuk)<br />
Pokovování<br />
• požadavky: kovová vrstva musí<br />
dobře lpět na keramickém podkladu<br />
být dobře vodivá<br />
být pájitelná (měkké a tvrdé pájky)<br />
• metody<br />
1) vypalování nánosů suspenze jemného kovového prášku v laku nebo sloučeniny kovu;<br />
vypalování při teplotách < teplota tavení kovu; používá se téměř výhradně Ag<br />
(výjimečně Au) – výpal na vzduchu, při případném použití neušlechtilých kovů (Mo,<br />
Fe) nutno vypalovat bez přístupu vzduchu<br />
2) nástřik roztaveného kovu – šopování (Cu, slitiny Al nebo Zn); nevýhoda – vzniklé<br />
povlaky jsou pórovité<br />
Spojování keramiky<br />
• mechanické spojení
88 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
• tmelení<br />
• lepení<br />
• pájení<br />
• zátavy keramiky<br />
Systematika keramických materiálů<br />
1. Křemičitá (silikonová) keramika<br />
2. Oxidová keramika<br />
3. Bezkyslíkatá keramika<br />
Tvrdý porcelán<br />
• soustava: K2O – Al2O3 – SiO2<br />
• obvyklé hmotnostní složení směsi surovin<br />
kaolin – 50 %, křemenný písek – 25 %, živec (ortoklas) – 25 %<br />
• vypalovací teploty: I. 900 – 1 000 °C<br />
II. 1 400 – 1 440 °C<br />
• hmotnostní složení vypáleného střepu<br />
skelná fáze ~ 2/3<br />
krystalická fáze ~ 1/3<br />
5.5.3 Jednokomponentní keramika<br />
A. Oxidová keramika<br />
Specifika technologického procesu<br />
• suroviny se připravují synteticky<br />
• plastifikace je obtížnější … mletí až na 5µm<br />
• teploty výpalu: 1 800 – 2 000 °C, výjimečně i 2 200 °C<br />
• možnost chemické reakce s vyzdívkou<br />
Druhy oxidové keramiky<br />
• slinutý korund (Al2O3)<br />
• periklasová keramika (MgO)<br />
• slinutý slinutý oxid zirkoničitý (ZrO2)<br />
• slinutý BeO<br />
• slinutý ThO2<br />
• keramika na podkladě TiO2<br />
stability, rutilit, negatit, permitity<br />
C. Bezkyslíkatá keramika<br />
• karbidy (SiC)<br />
• nitridy (BN)<br />
• boridy<br />
• silicidy<br />
• sulfidy<br />
• fluoridy
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 89<br />
Tabulka 5.2 Vybrané vlastnosti jednokomponentních keramik<br />
vlastnost Al2O3 AIN BN(Hex) B4C BeO SiC Si3N4 SiO2 ZrO2<br />
Stab.<br />
5 % lab.<br />
hustota (kg m -3 ) 3 900 3 260 1 900 2 520 2 900 3 200 3 200 2 100 5 400<br />
bod tání (°C)<br />
teplotní součinitel<br />
délkové roztažnosti<br />
při 20 až 200 °C (K -1 )<br />
součinitel tepelné<br />
vodivosti (W m -1 K -1 )<br />
rezistivita (Ωm)<br />
modul pružnosti<br />
(MPa)<br />
2 030<br />
(5,5 až<br />
8,5).10 -6<br />
10 až 35<br />
> 10 12<br />
(300 až<br />
380).10 3<br />
2 300<br />
(5 až 6)<br />
.10 -6<br />
140 až<br />
170<br />
10 8<br />
(300 až<br />
310).10 3<br />
tvrdost (Mohs) 9 7<br />
*<br />
Při této teplotě dochází k rozkladu.<br />
5.6.4 Teplovzdorné plasty<br />
3 000 *<br />
(1 až<br />
10).10 -6<br />
15 až 20<br />
10 7<br />
(60 až<br />
80).10 3<br />
7<br />
2 450<br />
6.10 -6<br />
60<br />
4<br />
450.10 3<br />
9<br />
2 530<br />
(6,5 až<br />
6,8).10 -6<br />
150 až<br />
250<br />
10 11 až<br />
10 13<br />
(300 až<br />
350).10 3<br />
8 až 9<br />
2 700<br />
(4,4 až<br />
5).10 -6<br />
90<br />
> 5.10 -2<br />
390.10 3<br />
9<br />
1 900 *<br />
(3,1 až<br />
3,2).10 -6<br />
10 až 40<br />
10 7<br />
(280 až<br />
320).10 3<br />
-<br />
1 750<br />
0,5.10 -6<br />
0,1<br />
10 16<br />
(70 až<br />
72,5).10 3<br />
5,5<br />
2 700<br />
11.10 -6<br />
1 až 3<br />
10 11<br />
(1500 až<br />
200).10 3<br />
Tuto skupinu tvoří plasty - polymery s trvalou tepelnou odolností vyšší než 150 °C. Často<br />
bývají vyztuženy skleněnými, uhlíkovými nebo aramidovými vlákny. Přítomnost plniv přitom<br />
dodává materiálům specifické vlastnosti. Grafit vytváří elektricky vodivé polymery, případně<br />
zlepšuje kluzné vlastnosti jako sulfid molybdeničitý, bronzový prach, nebo prášek PTFE.<br />
Mezi hlavní představitele této skupiny patří: polysulfony (PSU), polyétersulfony (PES),<br />
polyfenylenoxid (PPO), polyfenylensulfid (PPS) , polyimidy (PI), polyéterimidy (PEl),<br />
polyamidimidy, polyéteréterketon (PEEK),polyaryléterketon (PAEK), polyftalamid (PPA),<br />
polyaryláty (PAR), polyesterkarbonát, aramidy.<br />
Materiály jsou využívány především pro mechanicky, tepelně a elektricky namáhané díly<br />
(ozubená kola, vačky, ložiska, hnací hřídelky, díly čerpadel, pístní kroužky, elektronářadí,<br />
letadlové díly, přesné díly elektronických a elektrotechnických přístrojů apod.).<br />
Vyšší tepelné odolnosti polymerů lze dosáhnout opatřeními, která vedou -<br />
• ke zvýšení krystalinity (pravidelným uspořádáním postranních řetězců, se silnými<br />
mezimolekulárními přitažlivými silami mezi segmenty řetězců) a<br />
• ke zvýšení tuhosti řetězců (následkem zabudování kruhových vazeb do fetězců<br />
makromolekul)<br />
Ke zvýšení chemické odolnosti za vysokých teplot vedou taková opatření, jimiž se zabrání<br />
vzniku volných radikálů následkem destrukce vazeb C - C nebo odštěpování H2<br />
z metylénových skupin:.<br />
• náhradou poměrně slabých vazeb C - H vazbami C - F,<br />
• částečnou nebo úplnou náhradou uhlíkatých atomu v řetězci jinými atomy nebo skupinami<br />
atomu (silikony),<br />
7
90 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
• zabudováním aromatických a heterocyklických kruhů do řetězce.<br />
POLYSULFON (PSU)<br />
Amorfní termoplast. Má velkou mechanickou pevnost od -100 do +150 °C, velkou tuhost,<br />
houževnatost, stálé elektrické vlastnosti do 175 °C. Je odolný proti anorganickým kyselinám,<br />
zásadám a roztokům solí. Vykazuje mírnou navlhavost, je nehořlavý a odolný proti záření<br />
beta a gama. Hodí se na tělesa a kryty domácích elektrických spotřebičů, izolační součásti<br />
v elektronice, součásti lékařských přístrojů (možnost sterilizace při 120 °C), součásti<br />
v potravinářském, farmaceutickém a chemickém průmyslu.<br />
Čirý, průzračný, tvrdý, houževnatý materiál; hustota (měrná hmotnost) 1 250 kg m -3 .<br />
Řetězce j sou tvořeny benzénovými kruhy, spojenými třemi druhy vazeb: izopropylidénovou,<br />
éterovou a sulfonovou. Strukturou vysvětlit dobrou odolnost proti oxidaci (atomy síry jsou<br />
obsazeny atomy kyslíku, přičemž sulfonová skupina při ti elektrony ze sousedních<br />
benzénových kruhů) a odolnost] vysokým teplotám (v důsledku přítomnosti fenylénsulforu<br />
a fenylénoxidových skupin). Dobré mechanické vlastnosti podmíněny přítomností éterových<br />
a propylidénových skupin.<br />
Praktické použití v rozmezí -100 až +150 °C. Měkne při 175 °C. Vyniká tvarovou stálostí.<br />
Nasákavost je 0,2 %. Je samozhášivý. Odolává kyselinám, zásadám, alifatickým uhlovodíkům<br />
a alkoholům. Je napadán chlorem a aromatickými uhlovodíky.<br />
Je slabě polární. Permitivita je 3,1 při 20 °C a v rozmezí 50 - 10 6 Hz. Ztrátový činitel je 8.10 -4<br />
(50 Hz), 6.10 -3 (10 6 Hz), vnitřní rezistivita – 10 14 Ω m.<br />
Zpracovává se vytlačováním a lisováním při 300 - 400 °C. Fólie, trubky, vodiče, kabely.<br />
POLYÉTERSULFON (PES)<br />
Amorfní termoplast. Mechanicky pevný od -100 do +200 °C, má velkou tuhost, dobrou<br />
kluznost a otěruvzdornost, stálé elektrické vlastnosti od 20 do 150 °C. Použití: na mechanicky<br />
a současně. tepelně namáhané součásti v automobilech a letadlech, isolační součásti<br />
velektrotechnice, osvětlovací tělesa, sterilisovatelné lékařské přístroje.<br />
POLYFENYLÉNSULFID (PPS)<br />
Semikrystalický termoplast. Pevný, tuhý a tvarově stálý za tepla. Trvalá teplotní odolnost 200<br />
°C. Velká chemická odolnost, velká odolnost proti záření a vlivům povětrnosti. Nehořlavý.<br />
Použití: v elektronice a v elektrotechnice, pro součásti počítačů, lékařské přístroje, tělesa a<br />
oběžná kola čerpadel, ložiska, součásti ventilů, kuchyňské nádobí.<br />
POLYIMIDY (PI)<br />
V polymerním řetězci jsou zabudována aromatická jádra a heterocyklické struktury. Vysoká<br />
teplotní odolnost, v inertní atmosféře stálé až do 500 °C, trvale snášejí teploty kolem 300 °C.<br />
Dobře odolávají běžným rozpouštědlům, tukům a olejům, a to až do vysokých teplot. Obecně<br />
jsou velmi odolné k různým druhům záření.<br />
• Dva základní typy polyimidů:<br />
kondenzační polymery, které tvoří lineární řetězce,<br />
adiční polymery, které vytvářejí trojrozměrné sítě.<br />
• Využití:<br />
v letectví a kosmonautice: konstrukční díly,<br />
v elektrotechnice a mikroelektronice: pasivační a ochranné vrstvy integrovaných<br />
obvodů, mezivrstvová dielektrika, lepidla, izolační vrstvy v nahrávacích hlavách,
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 91<br />
desky plošných spojů, solární baterie, spojovací prvky světlovodů, <strong>materiály</strong> pro<br />
elektronovou litografii; laky, fólie, dielektrika kondenzátorů, izolace vodičů kabelů.<br />
• Nejznámější druh:<br />
Kapton<br />
Představuje vynikající kombinaci výborných tepelných, mechanických a elektrických<br />
vlastností. Trvale snášejí 260 °C, krátkodobě cca 500 °C. Jsou mrazuvzdorné do -269 °C.<br />
Taví se při 800 °C.<br />
Vynikají tvarovou stálostí za tepla, předčí i fluoroplasty. Odolávají většině chemikálií,<br />
neodolávají zásadám. Vzdorují vlivům povětrnosti, ozónu a ionizujícího záření (rychlým<br />
elektronům i gama záření): Jsou samozhášivé .<br />
Jsou slabě polární. Permitivita je 3,5 při 20 °C a kmitočtech až 10 6 Hz. Ztrátový činitel je<br />
3.10 -3 (50 Hz), vnitřní rezistivita 10 13 Ω m, elektrická pevnost (3 mm) = 20 kV mm -1 .<br />
Zpracování je obtížné. Přestože jde o termoplast (lineární struktura), nelze je zpracovat<br />
běžnými metodami s ohledem na vysokou teplotu měknutí. Proto se zpracovávají slinováním<br />
jako PTFE. Jsou proto drahé.<br />
Další teplovzdorné <strong>materiály</strong> se připravují tak, že se polyimidové vazby zabudovávají do<br />
jiných polymerních řetězců, zvl. polyesterů a polyamidů; vznikají polyesterimidy,<br />
polyamidimidy.<br />
POLYÉTERIMID (PEI)<br />
Amorfní temoplast. Má velkou pevnost a tuhost. Trvalá stálost za tepla 200°C, použitelnost<br />
trvale do 170°C. Konstantní dielektrické vlastnosti ve velkém rozsahu teplot a frekvencí.<br />
Velká odolnost proti záření a vlivům povětrnosti. Nehořlavý. Chemická odolnost proti<br />
anorganickým kyselinám a zásadám, olejům a pohonným směsím, alkoholům. Použití: v<br />
automobilovém, leteckém a raketovém průmyslu, na tělesa spínačů a isolátory, součásti<br />
mikrovlnných vařičů, součásti reflektorů, zámky bezpečnostních pásů, součásti<br />
velektrotechnice.<br />
POLYAMIDIMID (PAI)<br />
Modifikovaný reaktoplast. Pevný v rozmezí -190 až +260 °C, velmi ,houževnatý, tvarově<br />
stálý za tepla až 280 °C, má nízkou teplotní roztažnost, velkou odolnost proti gama a UV<br />
záření a proti vlivům povětrnosti. Použití: pro mechanicky a vysokoteplotně namáhané<br />
součásti, například dílce pro hydraulické a pneumatické motory, vývěvy, ložiska, kluzná<br />
uložení, vačky elektrických spínačů, ochranné kryty proti elektrickému průrazu těles cívek.<br />
POLYÉTERÉTERKETON (PEEK)<br />
Semikrystalický termoplast. Vysoká pevnost v tahu, tažnost 125%, teplotní odolnost 200 °C;<br />
nehořlavý. Dobrá kluznost a otěruvzdornost. Chemicky odolný proti pohonným hmotám,<br />
mazacím a hydraulickým olejům, alkoholům a rozpouštědlům. Použití: na mechanicky značně<br />
namáhané součásti při vysokých teplotách v tryskových motorech, izolační součásti v<br />
elektrotechnice a v telekomunikacích.<br />
POLYFENYLÉNOXID (PPO)<br />
Vyrábí se oxidací 2, 6 – dimetylfenolu. Lineární polymer - termoplast. Výborné mechanické<br />
vlastnosti, dobré elektrické vlastnosti, hustota (měrná hmotnost) je 1 060 kg m -3 .
92 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Nepolární látka. Při 20 °C je permitivita 2,6 až do 10 6 Hz, ztrátový činitel 3.10 -4 (50 Hz),<br />
9.10 -4 (10 6 Hz), vnitřní rezistivita 10 15 Ω m, elektrická pevnost cca 20 kV mm -1 . Elektrické<br />
vlastnosti se nemění mezi -180 až +180 °C.<br />
Měkne při 190 °C. Trvalá odolnost je jen do 120 °C. Při vyšších teplotách poměrně brzy<br />
křehne následkem zesíťování (stává se reaktoplastem). Ke zvýšení tepelné odolnosti se<br />
přidávají stabilizátory.<br />
Výborná je odolnost proti kyselinám, zásadám a horké vodě. Rozpustný v alifatických,<br />
aromatických a Cl - uhlovodících. Samozhášivý - po oddálení plamene přestane hořet.<br />
Nepatrná propustnost pro plyny a páry. Nasákavost max.0,l %. Houževnatý materiál s malým<br />
studeným tokem. Zpracovatelný běžnými termoplastikářskými metodami (i fólie). Využití<br />
v elektrotechnice: izolační pláště, vodiče, výlisky pro radiotechniku.<br />
Modifikovaný PPO - Noryl (General Electric). Elektrické vlastností obdobné jako u PPO.<br />
Mechanické a tepelné vlastnosti poněkud horší (- 40 až +90 °C) .<br />
AROMATICKÉ POLYAMIDY<br />
Aromatické polyamidy (aramidy) - lineární polymery vzniklé spojením aromatických jader<br />
amidovými (případně také imidovými) vazbami. Makromolekulární řetězce se chovají jako<br />
tuhé tyčinky s nízkou ohebností a tendencí tvořit kapalně krystalické mezifáze. Z toho<br />
vyplývá značná odolnost aramidů proti teplotám. Většinou se netaví, ale rozkládají v<br />
teplotním intervalu 350 – 550 °C. Vysoká pevnost, tuhost, tepelná stálost, nízká hořlavost a<br />
chemická odolnost přibližuje tyto <strong>materiály</strong> anorganickým vláknům - skleněným, uhlíkovým,<br />
ocelovým. Příznivá je i jejich houževnatost, odolnost proti únavě a oděru.<br />
Nejznámější druhy:<br />
• vlákna Kevlar (Kevlar 29, Kevlar 49: výztuže v kompozitech, výztuže pneumatik,<br />
dopravních pásů, neprůstřelné neprůřezné rukavice, brzdová obložení),<br />
• vlákna Nomex (nehořlavé textilie, filtrační a izolační <strong>materiály</strong>, ochranné oděvy).<br />
SI1IKONY (SI )<br />
Organokřemičité látky - syntetické sloučeniny Si,O a uhlovodíků. Vyznačují se velkou<br />
tepelnou stálostí, dobrými elektrickými, chemickými a mechanickými vlastnostmi.<br />
Všechny silikony mají za základ řetězec tvaru<br />
R R R<br />
׀ ׀ ׀<br />
- Si – O – Si – O – Si – O - siloxanová skupina<br />
׀ ׀ ׀<br />
R R R<br />
R - nejčastěji metylová skupina –CH3 a fenylová skupina –C6H5.<br />
Vazba Si - O je podstatou teplotní odolnosti a stálosti silikonů. Její výše je ovlivněna<br />
připojenými uhlovodíky (200 až 280 °C). Organické uhlovodíky, které obklopují základní<br />
řetězec, tvoří kolem něj parafinický obal, kterým lze vysvětlit nesmáčivost vodou i chemickou<br />
stálost.<br />
Výroba je náročná, silikony jsou tudíž drahé. Vychází se ze silanů (např. monosilanu SiH4<br />
nebo metylsilanu CH3 . SiH3, následně probíhá hydrolýza silanů na silanoly, poté se<br />
kondenzací silanolů získávají siloxany.<br />
Vlastnosti silikonů jsou podmíněny jejich polysiloxanovou strukturou, tj.volbou a smícháním<br />
výchozích silanů.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 93<br />
Silikonové oleje a pryže pozůstávají v podstatě z lineárních řetězců molekul. U olejů jsou to<br />
krátké řetězce s určitými konečnými skupinami, u pryží pak řetězce dlouhé. U silikonových<br />
pryskyřic jsou řetězce vzájemně propojeny vazbou O - můstků, takže vznikají vysoce<br />
polymerované sítě.<br />
R<br />
׀<br />
… - Si - …<br />
׀<br />
O<br />
׀<br />
… - Si - …<br />
׀<br />
R<br />
Silikonové látky mají vždy tyto vlastnosti:<br />
• velmi dobrou elektrickou pevnost v širokém rozmezí kmitočtů,<br />
• značné hydrofobizační účinky,<br />
• v rozmezí -90 až +300 °C se jejich vlastnosti téměř nemění,<br />
• chemicky jsou netečné, nejedovaté,<br />
• jsou stálé proti účinkům záření.<br />
5.6.7 Plastikářské technologie<br />
I. Procesy přípravy organických makromolekulárních látek<br />
Polyadice<br />
Reakce, při níž vzniká makromolekulární produkt adicí výchozích látek, které mají vhodné<br />
funkční skupiny, při čemž nevzniká vedlejší nízkomolekulární sloučenina. Příkladem je vznik<br />
PUR z diizokyanátů a glykolů. Složení konečného produktu se při polyadici neliší od výchozí<br />
směsi. Polyadiční reakce se podobají polymeračním v tom, že při nich rovněž nevzniká<br />
nízkomolekulární látka; jinak se tyto reakce více podobají polykondensačním.<br />
Polykondensace<br />
Reakce, při níž reagují molekuly jedné nebo několika různých nízkomolekulárních látek<br />
a vytvářejí makromolekulární produkt. Zároveň vznikají vedlejší jednoduché sloučeniny<br />
(voda, halogenvodíky). Podle počtu funkčních skupin výchozích látek mohou vznikat<br />
polykondensační produkty buď se strukturou lineární nebo prostorovou:<br />
• 2 funkční skupiny - látky s lineární strukturou (PA typu Nylon)<br />
• 3 funkční skupiny - látky s prostorovou strukturou (PF).<br />
Při polykondenzaci se chemické složení konečného produktu liší od složení výchozích látek.<br />
K nejdůležitějším polykondenzačním reakcím patří<br />
• polyesterifikace, tj. kondenzace dikarbonových kyselin a glykolů,<br />
• polyamidace, tj. kondenzace dikarbonových kyselin s diaminy,<br />
• kondenzace formaldehydu s fenoly nebo aminy,<br />
• vznik polykarbonátů - kondenzací dianů (skupiny dihydroxysloučenin) s fosgenem,<br />
• vznik epoxidových pryskyřic - kondensací epichlorhydrinu s diany.<br />
Hlavními činiteli, které mají vliv na konečný polykondenzační produkt, jsou:
94 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
• chemické složení a struktura výchozích látek,<br />
• reakční podmínky (teplota),<br />
• poměr výchozích složek, přítomnost a druh katalysátorů a způsob odstraňování vedlejších<br />
zplodin.<br />
Podle technologie výroby polykondenzačních produktů lze provádět<br />
• polykondenzaci v tavenině<br />
v tom případě, kdy výchozí látky jsou stálé při b( uskutečňuje se při 200 – 300 °C v inertní<br />
atmosféře s ním ve vakuu, aby bylo možno odstranit vznikající nízkomolekulární látku)<br />
• polykondensaci v roztoku<br />
(lze ji uskutečnit při nízkých teplotách, ale používá se zřídka)<br />
• polykondenzaci na mezifázovém rozhraní<br />
(podstata - výchozí látky se rozpustí v navzájem nemísitelných rozpouštědlech, takže se<br />
polykondenzát může tvořit jen na mezifázovém rozhraní).<br />
Průběh polykondenzace se podstatně odlišuje od polymerace. Při polykondenzaci narůstají<br />
makromolekuly postupně, tj. narůstá molekulová hmotnost. U polymerace jde o řetězovou<br />
reakci, molekulová hmotnost narůstá lavinovitě. Polykondenzace je reakce probíhající jen do<br />
určitého stavu rovnováhy mezi látkami, které do reakce vstupují a z ní vystupují. Při dosažení<br />
rovnováhy se reakce přeruší a růst řetězce se zastaví.<br />
Polymerace<br />
Reakce, při níž spojováním molekul vzniká polymerní produkt, který má stejné chemické<br />
složení jako monomer. Jde o řetězovou reakci, typickou pro sloučeniny, obsahující násobné<br />
vazby. Průběh polymerace lze rozdělit do jednotlivých dílčích reakcí:<br />
1. vznik řetězce - iniciace<br />
2. růst řetězce - propagace<br />
3. ukončení růstu řetězce - terminace<br />
Iniciace řetězce znamená otevření násobné vazby; iniciace může být vyvolána přítomností<br />
radikálů (polymerace radikálová) nebo iontů (polymerace iontová). Radikály mohou vznikat<br />
buď přímo z monomeru nebo jako radikály vystupují látky, které se k monomeru přidávají<br />
(chemická iniciace). Vznik radikálů z monomerů uskutečňuje buď působením tepla (termická<br />
polymerace) nebo působením světla (fotochemická polymerace) nebo ozářením o dostatečně<br />
vysokých energiích. Otevření násobné vazby bude tím snazší, čím bude tato vazba polárnější.<br />
Ježto je mírou polarity dipólový moment, lze podle velikosti tohoto momentu usuzovat na<br />
vhodnost pro tvorbu polymeru. Propagace probíhá tak, že se na vzniklý radikál připojují další<br />
molekuly monomeru. Tato reakce se velmi rychle opakuje. Terminace nastává nejčastěji tak,<br />
že se setkají dva radikály, které se spolu sloučí.<br />
Poznámka :<br />
Radikál - skupina atomů, z nichž jeden má jeden nespárovaný elektron. Elektricky je<br />
neutrální, neboť součet nábojů jadersouhlasí s počtem elektronů.<br />
Technologické <strong>procesy</strong> polymerace<br />
Bloková polymerace probíhá v prostředí samotného Výhodou je, že polymer neobsahuje<br />
žádné vedlejší příměsi; ovládání polymerace je však obtížnější, neboť reakční teplo, které se<br />
uvolňuje při polymeraci, se špatně odvádí. Prakticky se využívá při výrobě PS a PMMA.<br />
Suspenzní polymerace (perličková) probíhá ve vodní suspenzi s přídavkem iniciátorů<br />
rozpustných v monomeru. Polymer se získává ve formě hrubého prášku nebo perliček.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 95<br />
Výhodou je snadná ovladatelnost polymeračního pochodu a skutečnost, že neobsahuje zbytky<br />
emulgátorů.<br />
Emulzní polymerace se provádí ve vodném prostředí za přítomnosti emulgátoru. Jako<br />
emulgátory se používají látky, které s vodou vytvářejí koloidní roztoky. Polymerace je<br />
iniciátorem rozpustným ve vodě. Polymerace je dobře ovladatelná, avšak výsledné produkty<br />
obsahují zbytky emulgátoru, které způsobují mléčné zabarvení (PVC).<br />
Roztoková polymerace probíhá v prostředí rozpouštědla, v němž se rozpouští monomer a v<br />
němž zůstává rozpuštěn i polymer. Při tomto způsobu výroby se vytvářejí pouze látky o menší<br />
molekulové hmotnosti (v důsledku působení rozpouštědla jako přenašeče řetězce).<br />
Kopolymerace<br />
Pochod, při němž probíhá současně polymerace dvou nebo více monomerů. Složení<br />
kopolymeru závisí na reaktivitě jednotlivých monomerů, na jejich poměrném zastoupení a na<br />
mechanismu polymerace. Při výrobě mohou vzniknout<br />
1. kopolymery blokové<br />
- Ax – By – Az – Bq -<br />
2. kopolymery sledové<br />
a) se střídavým sledem<br />
- A – B – A – B -<br />
b) s náhodným sledem<br />
- A – B – B – A – A – A -<br />
3. kopolymery roubované - v tomto případě vytváří řetězec druhého polymeru větve,<br />
naroubované na kmen vytvořený základním polymerem<br />
- A – A – A – A - …<br />
׀ ׀<br />
B B<br />
׀ ׀<br />
B B<br />
׀ ׀<br />
U roubovaných kopolymerů ovlivňuje vyšší stupeň strukturálního uspořádání jednotlivých<br />
složek charakter polymeru, takže vlastnosti výsledného polymeru jsou spíše součtem<br />
vlastností složek než jejich průměrem.<br />
Značná část metod příprav roubovaných polymerů spočívá ve vytváření volných radikálů na<br />
řetězci základního polymeru, se kterým se přitom nechá reagovat jiný monomer. Podmínky<br />
pro vznik roubovaných polymerů možno vyvolat např.<br />
• působením ionizačního záření na polymery,<br />
• intenzivním mechanickým mícháním směsi polymerů na hnětacím stroji za zvýšené<br />
teploty a za nepřítomnosti kyslíku nebo<br />
• rozkladem polymerních peroxidů.<br />
II. Plasty - zpracovatelské způsoby<br />
A. Úpravy plastů před zpracováním<br />
• Hnětení, míchání<br />
• Plastifikace
96 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
• Želatinace<br />
• Granulování<br />
• Tabletování<br />
• Aglomeráty a suché směsi<br />
• Dispergace<br />
B. Tvářecí technologie<br />
• Vstřikování<br />
• Lisování<br />
• Vytlačování<br />
• Vyfukování<br />
• Kalandrování (válcování)<br />
• Rotační tváření<br />
• Tvarování<br />
• Máčení<br />
• Potírání<br />
• Odlévání<br />
• Nanášení<br />
• Spojování<br />
• Obrábění<br />
5.9 KOMPOZITY<br />
Kompozity jsou složené <strong>materiály</strong> představující soustavu – složenou soustavu, směsnou<br />
soustavu – tvořenou makroskopickými útvary dvou či více materiálových složek. Složeným<br />
materiálem lze nazvat soustavu, která vyhovuje těmto kritériím:<br />
A) Složená soustava musí být tvořena člověkem.<br />
B) Soustavu tvoří spojení dvou či více materiálů rozdílného chemického složení se<br />
zřetelnou hranicí mezi geometrickými útvary jednotlivých složek.<br />
C) Geometrické útvary jednotlivých složek jsou v soustavě spojeny v celém, příp. téměř<br />
celém objemu.<br />
D) Složená soustava musí mít vlastnosti odlišné od vlastností složek.<br />
Ke složeným materiálům nepatří tedy přírodní <strong>materiály</strong> jako je např. dřevo, i když mají<br />
výrazně charakter složené soustavy.<br />
Použitím složených matriálů namísto jednoduchých se zpravidla sleduje některé z těchto<br />
hledisek:<br />
a) dosažení výhodnějších mechanických vlastností<br />
1. zvýšení pevnosti v tahu<br />
2. zvýšení pevnosti v ohybu<br />
3. zvýšení modulu pružnosti v tahu<br />
4. zvýšení pevnosti v ohybu rázem<br />
5. zvýšení tuhosti<br />
6. zvýšení tvrdosti<br />
b) dosažení vyšší tvarové stability<br />
c) dosažení výhodnějších tepelných vlastností
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 97<br />
1. zvýšení tepelné vodivosti<br />
2. zvýšení trvalé tepelné odolnosti<br />
3. zvýšení odolnosti proti žáru<br />
4. zvýšení odolnosti proti tepelným rázům<br />
5. modifikace délkové a objemové roztažnosti<br />
d) omezení hořlavosti<br />
e) zvýšení chemické odolnosti<br />
f) zmenšení smrštění a zamezení vzniku dutin a prasklin<br />
g) zmenšení nasáklivosti<br />
h) zlepšení vzhledu povrchu, zejména u výlisků<br />
i) snížení <strong>výrobní</strong>ch nákladů<br />
j) modifikace elektrických (dielektrických) či magnetických vlastností.<br />
Míra požadovaných vlastností složených materiálů je v prvé řadě závislá na vlastnostech<br />
materiálů složek; výrazně je však ovlivňována množstvím jednotlivých složek v soustavě,<br />
geometrickým tvarem částic složek, jejich orientací, uspořádáním a rozložením v soustavě.<br />
Dále má podstatný vliv, zvláště na mechanické vlastnosti, otázka případných chemických či<br />
fyzikálních pochodů na hranicích složek, k nimž může docházet buď při výrobě složeného<br />
materiálu nebo při jeho využívání.<br />
5.9.1 Klasifikace kompozitů<br />
Matriční a statistické kompozity - složené soustavy<br />
V přístupu k teoretickému zkoumání složených materiálů hraje významnou úlohu způsob<br />
vzájemného uspořádání či rozdělení částic jednotlivých složek v soustavě. Z tohoto hlediska<br />
se rozlišují:<br />
a) matriční složené soustavy - kompozity matričního typu<br />
b) statistické složené soustavy - kompozity statistického typu<br />
a) b)<br />
Obr. 5.11 Matriční (a) a statistická (b) složená soustava (v řezu)<br />
Kompozity - složené <strong>materiály</strong> a geometrický tvar částic<br />
Podle převažujícího tvaru částic tvořících složenou soustavu je účelné rozlišovat:<br />
1. vrstevnaté kompozity<br />
a) s objemově uloženými vrstvami<br />
b) s povrchově uloženými vrstvami<br />
2. kompozity s vláknitými plnivy<br />
a) s nekonečnými (dlouhými) vlákny<br />
b) s přerušovanými (krátkými) vlákny<br />
3. kompozity tvořené, resp. plněné částicemi
98 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
a) s částicemi o velikosti řádu 1 µm a větší<br />
b) s částicemi o velikosti řádu 1 µm a menší<br />
Izotropní a anizotropní soustavy<br />
Směrovost vlastností složených soustav je nutno podle okolností buď zvýraznit nebo naopak<br />
potlačit. Je to možné volbou druhu soustavy, materiálů složek, geometrického tvaru částic<br />
v soustavě.<br />
Kompozity a zpevnění složené soustavy<br />
Jsou-li základním hlediskem při vytváření a využití kompozitů mechanické vlastnosti, je<br />
účelné rozlišovat tři základní typy kompozitů:<br />
a) disperzně zpevněné <strong>materiály</strong><br />
b) <strong>materiály</strong> zpevněné částicemi a<br />
c) <strong>materiály</strong> zpevněné vlákny.<br />
Posledně uváděný typ zahrnuje ještě<br />
cc) <strong>materiály</strong> zpevněné vlákny a s mezivláknovým plnivem.<br />
a) b) c)<br />
Obr. 5.12 Kompozity s anizotropními vlastnostmi<br />
a) plátované <strong>materiály</strong><br />
b) vrstvené <strong>materiály</strong> s rovnoměrně uspořádanými vlákny<br />
c) složené <strong>materiály</strong> plněné krátkými vlákny s přednostní orientací<br />
materiál (1) materiál (2)<br />
Zpevňující částice a vlákna, plniva<br />
Pojem plniv zahrnuje velmi jemné, jemnozrnné, hrubozrnné i vláknité částice materiálů<br />
o různých pravidelných či nepravidelných tvarech, které jako dispergovaná složka modifikují<br />
vlastnosti matrice v kompozitech.<br />
Plniva jsou připravována synteticky nebo úpravou přírodních surovin, jsou organického či<br />
anorganického původu. Z hlediska ovlivňování mechanických vlastností matrice soustavy se<br />
rozlišují:<br />
a) plniva vyztužující (zpevňující) a<br />
b) plniva nevyztužující.<br />
Plniva kaučuků se tradičně dělí na plniva aktivní a neaktivní.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 99<br />
5.10.1 Elektroizolační laky<br />
• Tvoří důležitý článek elektrické izolace nejrůznějších dílů a součástí elektrotechnických<br />
zařízení. Jejich úkolem je vyplnění všech volných (prázdných) míst v izolaci<br />
elektrotechnických zařízení při jejich impregnaci (tím se zvýší elektrická pevnost a zlepší<br />
tepelná vodivost izolace) a vytvoření suchého lakového povlaku, tzv. filmu na povrchu.<br />
• Izolační laky jsou v podstatě koloidní disperze tuhých i kapalných látek v rozpouštědlech<br />
a ředidlech. Z látek - přírodní a syntetické pryskyřice, termoplastické polymery, rostlinné<br />
oleje, asfalty. Po odstranění rozpouštědel a ředitel vytvářejí tzv. filmotvorné složky lakový<br />
film. Obsah filmotvorných složek v lacích charakterizuje jejich sušina.<br />
• Rozpouštědla a ředidla představují zpravidla jen neaktivní složky laků, jsou však důležité<br />
při jejich přípravě.<br />
• Z technologického hlediska je důležitá viskozita laků, jež je závislá na obsahu<br />
filmotvorných složek, molekulové hmotnosti, struktuře, povaze makromolekul a obsahu<br />
rozpouštědel a ředidel.<br />
• Přeměna tekutých laků v tuhé látky je podmíněna v prvé řadě odstraněním prchavých<br />
podílů laků - tedy rozpouštědel a ředidel. Na tuto prvou část přeměny navazuje část druhá,<br />
v níž filmotvorné složky mění svoji chemickou strukturu a pochody polymeračními,<br />
polykondenzačními, polyadičními a oxidací přecházejí v konečnou makromolekulární<br />
strukturu (schnutím, vypalováním).<br />
• V důsledku probíhajících strukturálních změn vytváří se na povrchu pevná, pružná vrstva,<br />
která má dobré elektroizolační vlastnosti při nepatrné hygroskopičnosti.<br />
• Elektroizolační laky možno z hlediska použití dělit na:<br />
1. impregnační laky (napouštěcí laky),<br />
2. laky na dráty,<br />
3. laky na tkaniny, izolační trubičky a papír,<br />
4. lepicí laky,<br />
5. povrchové laky.<br />
• Podle chemické povahy filmotvorných složek se člení laky na:<br />
A. laky na bázi přírodních pryskyřic (lihové laky),<br />
B. laky na bázi vysychavých olejů (olejové laky),<br />
C. C. laky na bázi syntetických pryskyřic a polymerů (čisté a modifikované syntetické<br />
laky).<br />
Lihové laky<br />
• Alkoholické roztoky přírodních polymerů (šelak, kopály). Používané přírodní pryskyřice<br />
mají většinou termoplastický charakter,takže laky nelze použít pro impregnaci vinutí.<br />
Olejové laky<br />
• Představují kombinaci vysychavých rostlinných olejů (lněného, ricinového nebo<br />
dřevného) s přírodními nebo syntetickými pryskyřicemi. Prosychání laku se neomezuje<br />
jen na odpaření rozpouštědel, nýbrž je závislé hlavně na vzdušné oxidaci, často i za<br />
zvýšených teplot.<br />
Laky na bázi syntetických pryskyřic a polymerů<br />
• Základní filmotvornou složkou jsou syntetické pryskyřice a vysokomolekulární polymery,<br />
často účelně modifikované (lakařské pryskyřice).<br />
• Používají se:<br />
bakelitové laky,<br />
laky na bázi modifikovaných fenolových pryskyřic,
100 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
laky na bázi termoplastických polymerů (polystyrénové l.),<br />
alkydové laky<br />
glyptály (glycerinftalátové polyestery),<br />
silikonové laky,<br />
bezrozpouštědlové laky - epoxidové,polyesterové, polyuretanové, silikonové.<br />
Poznámka:<br />
Sikativy či sušidla - látky, jež přidány v malém množství k laku zkracují doby schnutí<br />
6 - 10 násobně. Jde o katalyzátory, jejichž účinnou složkou jsou kovy (Co, Mn, Pb aj.).<br />
5.11.1 Kapalné izolanty<br />
Kapalné izolanty<br />
• Jejich použití v elektrotechnice je mnohostranné,ať pro jejich velkou elektrickou<br />
pevnost,nebo tekutost,která umožňuje chlazení v transformátorech, i proto, že chrání tuhé<br />
izolanty před vlhkostí a vzduchem.<br />
• Kapalné izolanty používané v elektrotechnice se obvykle rozdělují do tří skupin:<br />
1. minerální oleje,<br />
2. syntetické kapaliny,<br />
3. rostlinné oleje<br />
• Z prvé skupiny jsou v elektrotechnice používány pro transformátory a pro náplně<br />
spínacích přístrojů a jako kabelové a kondenzátorové oleje.<br />
• Jen hořlavost, zápalnost a i možnost výbuchů vzniklých plynů, např. v olejových<br />
vypínačích, jsou hlavní příčinou odklonu používání minerálních olejů v elektrických<br />
zařízeních a jejich nahrazování kapalnými izolanty druhé skupiny, tzv.syntetickými<br />
izolačními kapalinami. Ke skupině syntetických kapalin možno zahrnout i sloučeniny<br />
organokřemičité, tzv.silikony.<br />
• Ze třetí skupiny rostlinných olejů se někdy používá ricinový olej, lněný olej a dřevný olej.<br />
• Z hlediska použití se kapalné izolanty klasifikují na kapaliny pro:<br />
transformátory,<br />
spínače,<br />
kabely,<br />
kondenzátory,<br />
vývěvy,<br />
přípravu laků<br />
speciální použití.
104 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obsah:<br />
6. 1 Elektronové <strong>procesy</strong><br />
6. 2 Iontové <strong>procesy</strong><br />
6. 3 Rentgenové <strong>procesy</strong><br />
6. 4 Jaderné <strong>procesy</strong><br />
6. 5 Laserové <strong>procesy</strong><br />
6. 6 Ultraakustické <strong>procesy</strong><br />
6. 7 Elektroerozivní <strong>procesy</strong><br />
6. 1. ELEKTRONOVÉ PROCESY<br />
6. 1. 1. Úvod<br />
Část 6.<br />
Speciální <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong><br />
Využití elektronů, resp. koordinovaného pohybu velkého počtu elektronů v tzv.<br />
elektronovém svazku má z hlediska historie techniky již dlouhou tradici. Elektronky, televizní<br />
obrazovky, rentgenky, elektronová mikroskopie, atd. to je jen nepatrná ukázka možností<br />
využití elektronového svazku v dnes již historických nebo zcela běžných aplikacích. V<br />
následujícím textu si všimneme dalších možností využití elektronového svazku – ve<br />
<strong>výrobní</strong>ch procesech. Elektronový svazek je schopen přenášet téměř libovolný požadovaný<br />
výkon v rozsahu řádů 10 -6 až 10 6 W, který lze soustředit na téměř libovolnou plochu<br />
ohraničenou nejmenším průměrem stopy řádově 10 -7 m. Zařízení jsou realizována pro práci<br />
ve vakuu, kde tlak v prostoru elektronové trysky bývá v rozmezí 10 -4 až 10 -2 Pa, v pracovní<br />
komoře řádově 10 -2 Pa, avšak v pracovním prostoru je možné používat tlak v širokém rozsahu<br />
1 až 10 5 Pa. Rovněž urychlovací systémy jsou realizovány pro široký rozsah energií elektronů<br />
od 10 2 eV do 10 6 eV. Uvedené vlastnosti elektronového svazku a pracovního prostředí<br />
umožňují realizovat celou řadu aplikací s využitím energie a možných elementárních procesů<br />
přeměny na jiné formy energie. Při tavení, svařování, odpařování a technickém obrábění se<br />
využívá přeměny kinetické energie elektronů na energii tepelnou. Při netermickém obrábění a<br />
procesech při chemicko-svazkových technologiích se využívá vzájemné interakce elektronů s<br />
atomy a molekulami látky, jejich vybuzení a ionizace s následnou chemickou reakcí. Využívá<br />
se i vliv urychlených elektronů na biologické systémy při průmyslové sterilizaci atp.<br />
6. 1. 2. Přeměna energie v místě působení svazku.<br />
Po emisi elektronu do prostoru mezi katodu a anodu bude na elektron působit<br />
elektrostatické pole, které jej urychlí na rychlost, kterou můžeme vyčíslit ze známého vztahu<br />
pro výpočet kinetické energie elektronu<br />
1<br />
W 2<br />
k = qU AK = m e0v<br />
e<br />
(6. 1)<br />
2<br />
Při použití urychlovacích napětí UAK v rozmezí 10 kV až 100 kV dosáhne rychlost<br />
elektronu hodnot asi 0,2 až 0,6 rychlosti světla a není nutné uvažovat relativistický přírůstek<br />
hmotnosti elektronu oproti klidové hmotnosti meo .<br />
V místě, kde elektronový svazek dopadne na objekt, dochází k interakci elektronů s<br />
atomy a molekulami látky a k přeměně kinetické energie elektronů na jiné formy energie.<br />
Schematicky je situace naznačena na obr. 6.1.<br />
Největší část kinetické energie elektronového svazku se v oblasti přeměny změní na energii<br />
tepelnou. Tato energie zahřívá povrchovou vrstvu látky o tloušťce dané hloubkou vniku<br />
elektronů. Z oblasti přeměny je teplo rozváděno do okolí mechanismem tepelné
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 105<br />
Obr. 6. 1 Jevy v oblasti dopadu elektronového svazku na objekt<br />
vodivosti. Jistá část kinetické energie dopadajících elektronů je využita k vybuzení atomů a<br />
molekul látky v místě dopadu případně k vyražení tzv. sekundárních elektronů. Vybuzené<br />
částice se mohou zúčastnit buď chemických reakcí nebo po přechodu do rovnovážného stavu<br />
je energie vyzářena atomem buď ve formě tepelné energie nebo kvanta záření.<br />
Zasažená povrchová vrstva je zahřívána na vysokou teplotu (tavení, varu) a je tedy<br />
zdrojem záření světelného, tepelného a zdrojem tepelných elektronů. Oblast přeměny energie<br />
je zdrojem rentgenového záření se spektrem spojitým (brzdící záření dané zabržďováním<br />
elektronů při interakci s atomy látky) a spektrem čarovým (charakteristické záření dané<br />
přechodem vybuzeného atomu látky do rovnovážného stavu). Ne všechny elektrony<br />
dopadající na látku však do ní vniknou. Velká část elektronů se od. povrchu látky odráží, aniž<br />
by se podstatně zúčastnila procesu přeměny energie v látce. Z tohoto pohledu lze tedy hovořit<br />
o žádoucích mechanismech přeměny energií a mechanismech nežádoucích - ztrátových.<br />
Rentgenové záření nehraje z hlediska ztrát příliš významnou úlohu. Výkon<br />
rentgenového záření lze vypočítat ze vztahu<br />
P<br />
= 1,69.10−8<br />
I Z U1,75,<br />
(6. 2)<br />
r<br />
kde I je proud elektronového svazku, Z je atomové číslo kovu na který elektronový svazek<br />
dopadl a U je urychlovací napětí. Obvykle dosahuje tento výkon desetin procenta výkonu<br />
elektronového svazku a podstatněji se začíná zvyšovat až při použití urychlovacích napětí nad<br />
1 MV. Významný je však vliv na lidský organismus. Již při použití urychlovacích napětí<br />
řádově 10 3 V dosahuje energie kvanta rentgenového záření hodnot odpovídajících měkkému<br />
rentgenovému záření. Energii kvant rentgenového záření lze vyčíslit ze vztahu<br />
kde h je Planckova konstanta a νr max je maximální kmitočet záření.<br />
W r max = h í r max = q U AK<br />
(6. 3)
106 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Rentgenové záření je pohlcováno látkami v závislosti na struktuře látky atomovém<br />
čísle a vlnové délce záření. Tyto skutečnosti jsou respektovány v tzv. absorpčním koeficientu<br />
µ(λ). Pokles intenzity záření po průchodu látkou o tloušťce x lze vypočítat ze vztahu<br />
I r = I r0 exp[ −ì(ë)<br />
x] ,<br />
(6. 4)<br />
kde Iro je hodnota intenzity záření dopadající na látku a Ir je hodnota intenzity záření po<br />
průchodu látkou.<br />
Při použití urychlovacích napětí asi do 60 kV není nutné realizovat zvláštní<br />
bezpečnostní opatření vzhledem k tomu, že záření je pohlceno v plášti vakuové komory. U<br />
zařízení , která pracují s urychlovacími napětími asi do 300 kV, se ochrana před zářením<br />
doplňuje obklady z olověných desek. Při urychlovacích napětích nad 300 kV se zařízení<br />
obvykle instaluje do betonových krytů.<br />
j<br />
eT<br />
⎛ W ⎞<br />
= A T 2 exp⎜−<br />
⎟, (6. 5)<br />
⎝ k T ⎠<br />
Tepelné elektrony jsou emitovány z povrchu objektu, který je elektronovým svazkem<br />
zahříván na vysokou teplotu. Hustota toku emitovaných elektronů souvisí s výkonem<br />
elektronového svazku pouze přes teplotu povrchu objektu s je dána vztahem<br />
kde A je Richardsonova konstanta (A ≅ 6.10 5 Am -2 K -2 ),<br />
T je absolutní teplota povrchu objektu,<br />
W je výstupní práce elektronu z kovu<br />
k je Boltzmanova konstanta.<br />
Vztah (6. 5) popisuje Richardson-Dushmanův zákon pro termoemisi elektronů z kovů.<br />
Energie tepelných elektronů je velmi nízká a souvisí s teplotou povrchu katody.<br />
Sekundární elektrony jsou emitovány z povrchu objektu po interakci elektronového<br />
svazku s atomy kovu. Jejich energie je řádově 10 1 eV. Hustota toku sekundárních elektronů<br />
závisí na materiálu objektu a úhlu dopadu elektronového svazku na povrch objektu.<br />
Termoemise a emise sekundárních elektronů nehraje v technologických procesech<br />
významnou roli z hlediska ztrát, které nepřevyšují 1 % výkonu elektronového svazku.<br />
Odražené elektrony nesou energii ve velmi širokém rozsahu hodnot až do energie<br />
dopadajících elektronů. Množství odražených elektronů, spektrum energie a rozložení v<br />
prostoru závisí na atomovém čísle materiálu objektu a na úhlu dopadu elektronového svazku.<br />
Z hlediska ztrát hrají odražené elektrony nejvýznamnější úlohu. Na obr. 6. 2 je naznačena<br />
závislost poměru výkonu odražených elektronů k výkonu dopadajícího svazku na atomovém<br />
čísle materiálu objektu při kolmém dopadu svazku na povrch objektu. Z grafu plyne, že např.<br />
pro ocel činí ztráty asi 25 %. Při šikmém dopadu elektronového svazku ztráty dále narůstají<br />
až do hodnoty 100 % při rovnoběžném pohybu elektronů s povrchem objektu.<br />
Hloubka vniku elektronů. Po dopadu elektronového svazku vnikají elektrony do<br />
materiálu při mnohonásobných pružných a nepružných srážkách s atomy a molekulami látky<br />
a předávají jim svoji energii. Vzdálenost do které elektron vnikne (měřeno od povrchu<br />
objektu ve směru normály) a ztratí prakticky celou svoji kinetickou energii, nazýváme<br />
hloubkou vniku elektronů.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 107<br />
Obr. 6. 2 Závislost poměru výkonu odražených elektronů k výkonu dopadajícího svazku<br />
elektronů na atomovém čísle při kolmém dopadu svazku na povrch objektu.<br />
U kovů lze hloubku vniku elektronů stanovit dle vztahu:<br />
A U 2<br />
h 1,47.10 11<br />
e = − ⋅ ,<br />
(6. 6)<br />
Z ñ<br />
kde A je atomová hmotnost kovu, U je urychlovací napětí, Z je atomové číslo kovu a ρ je<br />
měrná hmotnost kovu.<br />
V obecném případě můžeme říci, že hloubka vniku je funkcí energie elektronů<br />
a měrné hmotnosti látky. Tato závislost není lineární v širokém rozsahu energií elektronů<br />
a z toho důvodu je příslušné analytické vyjádření rozděleno do tří oblastí. S přesností<br />
dostačující pro použití v technologickém procesu lze hloubku vniku stanovit dle vztahů<br />
Předávání energie látce vnikajícími elektrony však není rovnoměrné v celém objemu<br />
daném průměrem elektronového svazku a hloubkou vniku elektronů. Výkon pohlcený<br />
v jednotce objemu látky je funkcí vzdálenosti od povrchu.<br />
h<br />
h<br />
h<br />
e<br />
e<br />
e<br />
U 2<br />
≈ 2,1.10−<br />
11 ⋅ , [10 kV ≤ U ≤100<br />
kV]<br />
(6. 7)<br />
ñ<br />
≈ 6,67.10−<br />
≈<br />
10<br />
1<br />
(5,1.10<br />
ñ<br />
5<br />
3<br />
U<br />
⋅<br />
ñ<br />
-6<br />
,<br />
U - 2,6) ,<br />
[100 kV<br />
[U ≥1MV]<br />
≤ U ≤1<br />
MV]<br />
(6. 8)<br />
(6. 9)<br />
Tepelná vodivost látky a vyzařování. V termických procesech elektronové technologie<br />
má rozhodující úlohu energie elektronového svazku, která se mění v teplo. Ztráty tepla jsou<br />
podmíněny jednak tepelnou vodivostí látky a dále vyzařováním. Který mechanismus ztrát<br />
bude rozhodující, záleží na typu procesu. Např. při mikrosvařování a mikroobrábění není<br />
nutné uvažovat ztráty vyzařováním, ale rozhodující vliv bude mít tepelná vodivost látky.<br />
Naopak při tavení nebo odpařování, zejména těžko tavitelných materiálů, mohou ztráty tepla<br />
zářením z velké plochy převýšit ztráty způsobené tepelnou vodivostí.<br />
Výkon a hustota výkonu elektronového svazku. Důležité parametry, které ovlivňují<br />
daný technologický proces, jsou zejména výkon elektronového svazku N0, plošná hustota
108 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
výkonu NS, měrný objemový výkon NV, urychlující napětí U a průměr svazku v místě<br />
dopadu na materiál ds . Tyto veličiny lze vypočítat ze vztahů<br />
N 0 U Is<br />
, = (6. 10)<br />
Is je proud elektronového svazku<br />
N 0 U IS<br />
4 U IS<br />
S = = = = U j ,<br />
(6. 11)<br />
2<br />
S S π d<br />
N e<br />
S S<br />
S<br />
kde Ss je průřez svazku v místě dopadu na materiál<br />
je je plošná hustota proudu elektronového svazku<br />
N 0 ça<br />
U je<br />
N V = = ,<br />
(6. 12)<br />
V h e<br />
Dosadíme-li do (6. 12) za he např. vztah (6. 7), obdržíme<br />
je<br />
N V ≈ ,<br />
(6. 13)<br />
U<br />
Ze vztahu (6.13) plyne, že zvýšení výkonu pohlceného v jednotce objemu je možné<br />
zvýšením plošné hustoty proudu elektronového svazku, ale ne zvýšením urychlovacího<br />
napětí. Tato skutečnost hraje důležitou roli v netermických procesech. Na obr. 6. 3 jsou<br />
naznačeny oblasti nejdůležitějších procesů elektronové technologie a jsou zde uvedeny i<br />
typické hodnoty urychlovacích napětí a průměru elektronového svazku.<br />
Obr. 6. 3 Nejdůležitější <strong>procesy</strong> elektronové technologie a jejich základní parametry<br />
6. 1. 3. Zdroje e1ektronového svazku<br />
Zdrojem elektronů pro potřeby elektronové technologie je tzv. elektronová tryska, což<br />
je zařízení, ve kterém získáváme volné elektrony, uskutečňujeme jejich základní urychlení a
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 109<br />
tvarování do elektronového svazku. Existuje celá řada konstrukcí, které se odlišují zejména<br />
podle způsobu získání volných elektronů, výkonu a podle účelu, pro který jsou navrhovány.<br />
6. 1. 3. 1. Získávání volných elektronů<br />
Volné elektrony lze teoreticky získat z látek v libovolném skupenství. Pozornost se<br />
zaměřuje na získávání volných elektronů z tuhých látek při vysoké teplotě (termoemisní<br />
elektrony) a ze studených katod (sekundární elektrony) a dále z plynných látek při<br />
elektrickém výboji se studenou katodou a z nízkotlaké plazmy při nízkonapěťovém výboji<br />
ovlivněném magnetickým polem.<br />
Nejsnadnější získání volných elektronů je termoemisí. První vyhovující.teorie tepelné<br />
emise byla vypracována Richardsonem a později doplněna Dushmanem. Jimi formulovaný<br />
zákon umožňuje stanovit hustotu emisního toku elektronů ze vztahu<br />
⎛ B ⎞<br />
j A T 2<br />
eT = exp⎜−<br />
⎟ ,<br />
(6. 14)<br />
⎝ T ⎠<br />
kde A je Richardsonova konstanta (A ≅ 6.10 5 A m -2 K -2 )<br />
T je absolutní teplota<br />
B je materiálový parametr (B = W/k)<br />
W je výstupní práce elektronu z kovu<br />
k je Boltzmanova konstanta<br />
Vztah (6.14) platí jen pro čisté kovy za předpokladu, že veškeré emitované elektrony budou<br />
„odsáty“ od povrchu katody, aby vzniklý prostorový náboj nebránil výstupu dalších elektronů.<br />
Při praktických aplikacích je tato podmínka splněna tím, že v určité vzdálenosti od katody je<br />
umístěna anoda a elektrické pole mezi anodou a katodou, sloužící k urychlení elektronů,<br />
současně plní výše uvedenou podmínku. Vnější elektrické pole E při povrchu katody však<br />
současně ovlivňuje i hodnotu nutné výstupní práce elektronu z katody. Vztah (6.14) se změní<br />
j<br />
eTE<br />
⎛ W - ∆W<br />
⎞<br />
= AT 2exp⎜−<br />
⎟ ,<br />
(6. 15)<br />
⎝ kT ⎠<br />
W W 0,44 E<br />
AT 2<br />
eTE exp exp j exp ,<br />
kT kT<br />
T ⎟ ⎛ ⎞ ⎛ ∆ ⎞ ⎛ ⎞<br />
= ⎜−<br />
⎟ ⎜ ⎟ = ⎜<br />
⎝ ⎠ ⎝ ⎠<br />
⎜<br />
(6. 16)<br />
⎝ ⎠<br />
j eT<br />
kde ∆W je změna výstupní práce elektronu z katody v důsledku působení vnějšího<br />
elektrického pole E<br />
Proud elektronového svazku, který lze získat z termokatody, lze vypočítat ze vztahu<br />
Is jeTE<br />
S , = kde S je účinná plocha katody.<br />
(6. 17)<br />
Pro konstrukci elektronových trysek se používají tři typy katod z hlediska tvaru: drátové<br />
páskové a kompaktní. Pro menší hodnoty emisního proudu v rozsahu 10 -5 až 10 -1 A se<br />
používají přímo žhavené katody z tenkého drátku nebo pásku. Základní uspořádání jsou na<br />
obr. 6. 4. Pro vyšší hodnoty proudu se používají nepřímo žhavené katody.
110 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
a)<br />
Obr. 6. 4 Základní konstrukce katod<br />
a) přímo žhavená katoda z wolframového drátu<br />
b) přímo žhavená katoda pásková<br />
Katody z tenkého drátku lze použít u systémů v rozsahu výkonů 10 -1 W až 10 3 W. Pro větší<br />
výkony od 10 3 W do 10 5 W se používají katody s větší emisní plochou, tedy páskové nebo<br />
kompaktní. Pro dosažení větších proudů v elektronovém svazku lze využít i další způsob<br />
získávání volných elektronů - ze studených katod.<br />
Realizace takových systémů přináší několik<br />
výhod. Elektronové trysky s termokatodami<br />
potřebují pro normální činnost vakuum o tlaku<br />
menším než 10 -2 Pa. Při některých operacích se<br />
tato podmínka obtížně splňuje, což má podstatný<br />
vliv m.j. na životnost katody. Perspektivní se<br />
ukazují systémy pro generování a formování tvaru<br />
elektronového svazku, pracující při vyšších tlacích<br />
s pomocným výbojem a studenou katodou.<br />
Schematicky je systém naznačen na obr.6. 5.<br />
Obr. 6. 5 Principiální schéma<br />
zdroje elektronového svazku se<br />
studenou katodou.<br />
1 - studená katoda, 2 - anoda,<br />
3 - pomocná elektroda,<br />
4 - plazma, 5 - elektronový svazek<br />
Takový zdroj může pracovat v rozsahu tlaků 10 0<br />
až 10 2 Pa. Při tomto tlaku vzniká vysokonapěťový<br />
doutnavý výboj mezi anodou a pomocnou<br />
elektrodou. V oblasti anody vzniká plazma, která<br />
je zdrojem kladně nabitých částic - iontů. Mezi<br />
anodou a katodou existuje elektrické pole dané<br />
urychlovacím napětím v rozmezí 10 3 do 10 5 V. Jelikož<br />
katoda je vůči anodě na záporném potenciálu,<br />
jsou ionty z povrchové oblasti plazmy urychlovány<br />
směrem ke katodě. Po dopadu na katodu jsou<br />
emitovány z chladné katody sekundární elektrony a ty jsou urychlovány směrem k anodě. V<br />
oblasti mezi anodou a katodou plazma neexistuje a v důsledku rozdílů rychlosti těžkých iontů<br />
a lehčích elektronů vzniká oblast kladného prostorového náboje a výrazným ohraničením v<br />
oblasti kontaktu s plazmou. Přes tuto hranici prochází elektrony emitované z katody a<br />
urychlené na dráze mezi katodou a oblastí kladného prostorového náboje. Potenciál plazy se<br />
jen nepatrně odlišuje od potenciálu anody, v důsledku čehož hranice plazmy a oblast<br />
prostorového náboje představuje anodu „průzračnou“ pro elektrony, kde konfigurace této<br />
oblasti mj. velmi závisí i na tvaru povrchu katody. Katody se realizují v různých tvarech a
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 111<br />
jako materiál slouží většinou čisté kovy jako ocel, měď, nikl a hliník. Pracovním plynem bývá<br />
kyslík, vodík, dusík, helium, neon, argon nebo xenon s typickou hodnotou tlaku v rozsahu 0,1<br />
až 25 Pa. Proudová hustota na studené katodě dosahuje až 1 A cm -2 a emisní proud až 200 A.<br />
Životnost takových katod bývá 5 až 10 krát větší než u termokatod. Modifikací základního<br />
uspořádání lze realizovat zařízení a elektronovými svazky různých výkonů a tvarů (úzké<br />
svazky, široké svazky, obdélníkové svazky atd.), pomocí kterých lze uskutečnit různé<br />
termické operace v nízkém vakuu. Z hlediska výkonů lze realizovat zařízení v rozsahu 10 2 až<br />
10 5 W. Režim činnosti lze měnit buď změnou urychlovacího napětí, nebo změnou hustoty<br />
plazmy. Hustotu plazmy lze měnit buď změnou parametrů pomocného výboje (proudem v<br />
obvodu pomocné elektrody) nebo regulací tlaku plynu v pracovní komoře.<br />
6. 1. 3. 2. Konstrukce elektronových trysek<br />
Pod pojmem elektronová tryska budeme rozumět<br />
zařízení, které se skládá ze zdroje elektronového svazku,<br />
řídicího systému, který umožňuje měnit tok elektronového<br />
svazku, urychlovacího systému, fokuzačního systému a<br />
vychylovacího systému elektronového svazku. Jak<br />
vyplynulo již z úvodních částí, je možné realizovat zařízení<br />
využívající elektronové svazky pro nejrůznější použití s<br />
velmi širokými parametry výkonovými, parametry<br />
charakterizujícími tvar svazků atd. Většinou používáme<br />
elektronový svazek rotačně souměrný ve tvaru úzkého<br />
kužele. Pro ilustraci je na obr. 6. 6 naznačeno schematické<br />
uspořádání elektronové trysky se základními komponenty.<br />
Předmět, na který působíme elektronovým svazkem, je<br />
obvykle spojen s uzemněnou kostrou zařízení, a tedy je na<br />
stejném potenciálu jako anoda. Je tedy nutné odizolovat<br />
celý systém katody a řídicí elektrody, což bývá<br />
konstrukčně a technologicky náročné. Katoda je vůči anodě<br />
na záporném potenciálu daném urychlovacím napětím.<br />
Řídicí elektroda je na záporném potenciálu vůči katodě a<br />
elektrickým polem mezi katodou a řídicí elektrodou lze<br />
ovlivňovat velikost emisního proudu ve svazku, a tím<br />
výkon elektronového svazku. Toto elektrické pole však<br />
může sloužit i k prvotní fokusaci svazku, jak bude uvedeno<br />
dále. Nedílnou součástí elektronové trysky bývá<br />
magnetická čočka, která umožňuje převést koncentrovaný<br />
svazek na větší vzdálenosti a zaostřit svazek v místě<br />
dopadu na předmět do kruhové stopy o požadovaném<br />
průměru. Pro řízení místa dopadu elektronového svazku na<br />
povrchu obráběného <strong>předmětu</strong> slouží soustava<br />
vychylovacích cívek. Na obr. 6. 6 je naznačena katoda o<br />
Obr. 6. 6 Uspořádání<br />
elektronové trysky s termickou<br />
katodou.<br />
K - katoda, ŘE - řídicí<br />
elektroda, I - izolátor,<br />
A - Anoda,<br />
F - fokusační cívka,<br />
V - vychylovací cívka,<br />
P - předmět<br />
malé emisní ploše, tedy pro relativně malé výkony. U trysek a velkým výkonem, tedy a katodou<br />
s velkou emisní plochou, je nutné elektronový svazek před fokusací magnetickou<br />
čočkou vhodně upravit. Obvykle se volí katoda ve tvaru kulového vrchlíku, jako např. na obr.<br />
6. 5 a za spolupůsobení elektrického pole řídícího a urychlovacího systému jsou elektrony<br />
soustředěny do úzkého křížiště, které zobrazujeme fokusační cívkou na povrchu <strong>předmětu</strong>.<br />
Tato myšlenka je základem pro tzv. Pierceův systém. Z konstrukčního hlediska existuje řada<br />
možností návrhu řídicích a tvarovacích systémů.
112 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
6. 1. 4. Využití e1ektronových svazků v technologii<br />
6. 1. 4. 1. Odpařování materiálů<br />
Odpařování materiálů, resp. technologie vytvoření tenkých vrstev odpařením a<br />
následnou kondenzací par odpařeného materiálu na podložce ve vakuu, patří mezi velmi<br />
důležité technologie v celé řadě oblastí techniky. Při klasickém postupu byl základní materiál<br />
ohříván na teplotu varu přestupem tepla ze zdroje přes stěnu kelímku objemem materiálu až k<br />
povrchové vrstvě. Využití elektronového svazku k přímému ohřevu povrchové vrstvy na<br />
teplotu varu materiálu umožňuje dosáhnout řady specifických vlastností této technologie ve<br />
srovnání s tradičním uspořádáním. Přímý ohřev elektronovým svazkem umožňuje bodový<br />
ohřev definované oblasti na povrchu materiálu, kdy ostatní objem je intenzívně chlazen v<br />
kelímku s vodním chlazením. Takové uspořádání je nezbytné při odpařování chemicky<br />
vysoce aktivních látek, látek s vysokou teplotou varu atp. Chlazený kelímek umožňuje<br />
napařovat vrstvy s vysokou čistotou,<br />
nedochází k reakcím mezi odpařovaným<br />
materiálem a kelímkem, nedochází ke<br />
znečisťování prostoru emisí částic ze<br />
zahřátých komponentů zařízení atp. V<br />
dnešní době se používají zařízení pro<br />
odpařování materiálů v rozsahu výkonů<br />
od 250 W do 250 kW s rychlostí<br />
odpařování materiálu od 1 g do 100 kg<br />
za hodinu. Tyto vlastnosti zařízení<br />
odkrývají široké spektrum možností této<br />
technologie. Napařování vrstev se<br />
uskutečňuje ve vakuu, což je také<br />
podmínkou pro činnost elektronové<br />
trysky. Princip napařovací aparatury<br />
využívající elektronového svazku k Obr. 6. 7 Princip odpařovacího zařízení<br />
ohřevu materiálu je zřejmý z obr. 6. 7. elektronovým svazkem<br />
Elektronový svazek je přiveden do 1 - elektronová tryska se zaostřovacím sys-<br />
pracovní komory a v magnetickém poli témem, 2 - elektronový svazek, 3 - vodou<br />
je otočen o 90°. Tím se zabraňuje chlazený kelímek, 4 - mechanická uzávěrka<br />
přístupu par do prostoru trysky. par, 5 - tok par, 6 - podložka, 7 - zařízení pro<br />
Elektronový svazek je zaostřen na ohřev podložky, 8 - vývod pro vakuový systém<br />
povrch materiálu, který je umístěn v<br />
kelímku chlazeném vodou. Tok par lze<br />
přerušit mechanickou uzávěrkou. Páry kondenzují na podložce, která je vyhřátá na optimální<br />
kondenzační teplotu. Celý systém je napojen na vakuové zařízení.<br />
Elektronové napařovací systémy lze konstruovat různými způsoby. Nejčastěji<br />
používané uspořádání jsou na obr. 6. 8.<br />
Vhodným uspořádáním lze realizovat zařízení k napařování vrstev různého složení, k<br />
vytváření slitin kovů, k napařování velkoplošných materiálů atp. Některé možnosti jsou<br />
uvedeny na obr. 6. 9.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 113<br />
a) b) c) d)<br />
Obr. 6. 8 Odpařovací systémy.<br />
ET - elektronová tryska, ES - elektronový svazek a) přímé vedení svazku,<br />
b) vychýlení dvou svazků magnetickým polem, c) uspořádání pro velké výkony<br />
svazku, d) uspořádání pro napařování širokým svazkem par<br />
Obr. 6. 9 a) Uspořádání pro napařování slitin kovů<br />
b) Uspořádání vhodné pro napařování vrstev různého složení<br />
c) Uspořádání pro napařování velkoplošných materiálů s periodickým<br />
vychylováním elektronového svazku<br />
6. 1. 4. 2 Tavení materiálů<br />
Vlastnosti kovů jsou dány jak jejich základním složením, tak i obsahem příměsí s<br />
plynů. Pro rafinaci kovů se používá jejich přetavování. U vysoce čistých kovů je možné<br />
použít přetavování ve vakuu pomocí elektronového svazku. Mimo tento účel se tavení pomocí<br />
elektronového svazku používá pro tavení vysokoteplotních a chemicky aktivních kovů.<br />
Možnost řízení výkonu elektronového svazku V prostoru i v čase dovoluje realizovat řadu<br />
variant procesu, které se mohou jinými postupy vakuové metalurgie dosahovat jen obtížně<br />
nebo jsou nerealizovatelné. Základní uspořádání zařízení pro tavení materiálů pomocí<br />
elektronového svazku je zobrazeno na obr. 6. 10. Zařízení pracuje a rozostřeným svazkem<br />
nebo se svazkem rozmítaným. Svazek jednak odtavuje materiál, který odkapává do prostoru<br />
mezi chladiče. Zde je dále přetavován a řízeně chlazen mezi chladiči. Vznikající ingot je<br />
vytahován z prostoru chladiče. Rychlost tavení je dána výkonem svazku, který dopadá na<br />
přetavený materiál. Druhá část výkonu svazku slouží k přetavování materiálu mezi chladiči<br />
tzv. krystalizátoru. Jak bylo řečeno, lze realizovat řadu variant, z nichž některé typické jsou<br />
uvedeny na obr. 6. 11. Zařízení jsou realizována pro různé úrovně pracovních tlaků a s tím<br />
související typ elektronové trysky. Obvykle se tlak v pracovní komoře pohybuje v rozsahu<br />
10 -3 až 1 Pa. Z hlediska výkonu elektronových trysek jde o velmi široký rozsah od 10 2 W do
114 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
10 6 W. Jsou realizována metalurgická zařízení umožňující tavbu ingotů až do hmotnosti 20 t s<br />
elektronovými tryskami s výkonem od 5 do 10 MW.<br />
Obr. 6. 10 Princip zařízení pro<br />
tavení pomocí<br />
elektronového svazku.<br />
ET - elektronová tryska, PM -<br />
přetavovaný materiál<br />
CH - chladič, I – ingot<br />
6. 1. 4. 3 Svařování materiálů<br />
Při svařování pomocí elektronového svazku se<br />
využívá přeměna kinetické.energie elektronů na<br />
energii tepelnou v přesně ohraničeném prostoru s<br />
výsledným roztavením materiálu a spojením dvou k<br />
sobě přimykajících se částí: Zásadní výhodou této<br />
technologie je možnost dosáhnout extrémních hustot<br />
výkonu na povrchu materiálu při dostatečně velké<br />
celkové hodnotě výkonu svazku v definovaném<br />
prostoru. To umožňuje svařovat <strong>materiály</strong> s<br />
minimálním tepelným ovlivněním okolí svaru, je<br />
možné svařovat <strong>materiály</strong> s vysokou teplotou tavení a<br />
díky činnosti zařízení v prostředí vysokého vakua lze<br />
svařovat i <strong>materiály</strong> chemicky aktivní. Svařování<br />
pomocí elektronového svazku umožňuje dosáhnout<br />
velkého poměru mezi hloubkou svaru a jeho šířkou,<br />
což u jiných technologií je nerealizovatelné.<br />
Dopadne-li elektronový svazek na povrch kovu,<br />
začne se zvyšovat povrchová teplota. Je-li výkon<br />
svazku dostatečně velký nebo je-li svazek zaostřen<br />
na takový průměr, že plošná hustota výkonu<br />
dostačuje k dosaženi teploty tavení, začne se nad<br />
středem zasažené oblasti zvyšovat tlak par.<br />
Rovnováha tlaku par a hydrostatický tlak roztavené<br />
Obr. 6. 12 Protavování elektronového svazku do materiálu při různých hodnotách plošné<br />
hustoty výkonu<br />
oblasti způsobí vytváření prohlubně. Působení svazku elektronů se tedy posune na dno této<br />
prohlubně, tedy do nitra materiálu. Další zvyšování hustoty výkonu a teploty povrchu způsobí<br />
vznik kapiláry, jejíž stěny jsou tvořeny roztaveným kovem a prostor je vyplněn parami kovu.<br />
Pokud bude hustota výkonu svazku příliš vysoká, tlak par a rychlost odpařování dosáhne<br />
hodnoty, kdy roztavený kov bude vyvržen z kapiláry a takový režim se přiblíží režimu<br />
obrábění (vrtání).
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 115<br />
Svařování elektronovým svazkem má řadu specifických vlastností mezi kterými lze jmenovat<br />
např.:<br />
- možnost vytvoření úzkých a hlubokých svarů s minimálním tepelným ovlivněním okolí a s<br />
minimálními deformacemi<br />
- možnost svařování vysokou rychlostí (až několik metrů za minutu) - možnost vedení<br />
elektronového svazku elektromagnetickým polem<br />
- možnost svařování materiálů téměř libovolné tloušťky (od setin mm do několika set mm)<br />
- možnost svařování kombinaci materiálů jinak nesvařitelných<br />
- možnost svařování několika vrstev materiálů i oddělených mezerou - možnost svařování<br />
materiálů malých rozměrů jinak nesvařitelných.<br />
6. 1. 4. 4 Obrábění materiálů<br />
Obráběním materiálů pomocí elektronového svazku rozumíme termické nebo netermické<br />
působení svazku na povrch materiálu s cílem změnit tvar nebo strukturu <strong>předmětu</strong>.<br />
U termického způsobu využíváme odběru materiálu roztavením nebo odpařením. U<br />
netermického způsobu využíváme chemických nebo fyzikálních změn v materiálu po dopadu<br />
elektronového svazku. Z hlediska odlišných technologických podmínek a uspořádání<br />
rozlišujeme tři technologické oblasti obrábění:<br />
- termické obrábění kompaktních materiálů<br />
- termické obrábění tenkých vrstev<br />
- netermické obrábění.<br />
Tabulka 6. 1 Příklady využití termického obrábění<br />
Tepelný jev Technologický jev Materiál<br />
Fázové přechody<br />
v tuhé látce<br />
Sublimace<br />
Rozložení na těkavé<br />
komponenty<br />
Rozložení na tuhé<br />
komponenty<br />
Tavení<br />
Vypařování<br />
kalení ocel schopná kalení<br />
odběr materiálu, rytí,<br />
řezání<br />
odběr materiálu, rytí,<br />
řezání<br />
odběr materiálu, rytí,<br />
řezání<br />
mikrosvařování, leštění,<br />
legování, odběr odtavením<br />
odběr materiálu, rytí,<br />
řezání<br />
diamant, grafit, křemenné<br />
sklo<br />
celulóza, syntetické <strong>materiály</strong>,<br />
keramika<br />
GaAs, GaP<br />
kovy, křemík, germanium,<br />
keramika<br />
kovy, dielektrika, syntetické<br />
<strong>materiály</strong><br />
Rázová vlna rozrušování materiálu keramika, kámen
116 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
6. 1. 4. 5 Chemické svazkové <strong>procesy</strong><br />
Při interakci elektronového svazku o dostatečně vysoké energii s látkou může dojít k<br />
celé řadě chemických reakcí, při kterých může dojít ke vzniku nových vazeb nebo ke změně<br />
molekulových vazeb, kdy daný materiál získá nové chemické a fyzikální vlastnosti. Reakce<br />
lze rozdělit do několika etap.<br />
Primární etapa reakcí<br />
- při interakci s rychlými elektrony může dojít k ionizaci, vybuzení molekul disociaci spojené<br />
s uvolněním elektronu<br />
Sekundární etapa reakcí<br />
- Jedná se o rekombinace iontů s elektrony, reakce iontů s molekulami, vznik volných<br />
radikálů a vznik stabilních molekul<br />
Další etapy reakcí - radikálové reakce - polymerizace, depolymerizace, atd.<br />
- Všechny tyto reakce úzce souvisejí s množstvím pohlcené energie, které je charakterizované<br />
tzv. dávkou D [J kg -l ], [Gy] (Gy - Gray). Pro tyto technologie je nutné používat zařízení,<br />
které umožní dosáhnout vysokých hodnot energií elektronů. Jednotlivá zařízení se rozlišují<br />
dle hodnoty urychlovacího napětí a dělí se do tří skupin.<br />
a) zařízení nízkého napětí pro rozsah urychlujícího napětí od 20 kV do 200 kV<br />
b) zařízení středního napětí pro rozsah urychlujícího napětí od 200 kV do 600 kV<br />
c) zařízení vysokého napětí pro rozsah urychlovacího napětí od 600 kV do 5 MV.<br />
Jako zdroje napětí se používají kaskádní usměrňovače a vlastní zařízení je realizováno<br />
pomocí stupňovitých urychlovačů. Urychlování elektronů se uskutečňuje pomocí systému s<br />
několika anodami umístěnými zasetou tak, že mezi katodou a první anodou je potenciální<br />
rozdíl asi 150 kV a postupně mezi dalšími anodami je potenciální rozdíl asi 30 až 50 kV.<br />
6. 2 I0NT0VÉ PR0CESY<br />
Tato kapitola je věnována některým možnostem využití ionizovaných látek v<br />
technologických procesech. Tyto <strong>procesy</strong> lze rozdělit do několika charakteristických skupin.<br />
- Iontové svazkové technologie které se vyznačují použitím samostatného iontového zdroje,<br />
systémů na úpravu tvaru a řízení iontového svazku a předpokládají činnost zařízení v<br />
prostředí vysokého vakua.<br />
- Iontově-chemické technologie, kde se využívá chemicky aktivních iontů zejména k<br />
obrábění materiálů.<br />
- Iontově-plazmatické technologie, u kterých je plazma realizována elektrickým výbojem v<br />
daném plynu při nízkém tlaku. Ionty jsou odčerpávány z plazmy a urychlovány extrakční<br />
elektrodou a zejména svým kinetickým účinkem narušují povrch materiálů, případně dochází<br />
k depozici vrstev materiálu.<br />
- Plazmo-chemické technologie, které využívají chemické reakce materiálů s chemicky<br />
aktivními ionty, atomy, molekulami a radikály.<br />
Zejména v poslední době jsou tyto technologie intenzívně propracovávány, vzhledem<br />
k tomu, že umožňují realizovat technologická zařízení vysoce univerzální. V těchto zařízeních<br />
lze obrábět široký okruh materiálů bez ohledu na jejich mechanické, elektrofyzikální a<br />
teplofyzikální vlastnosti. V jednom technologickém prostoru lze uskutečnit několik různých
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 117<br />
operací (čistění, depozice, expozice, obrábění, leptání, pasivace atd.). Technologické operace<br />
lze uskutečnit od submikronových velikostí až po mnohatunové obrobky. Jedná se o "čisté"<br />
technologie uskutečnitelné i v nízkoteplotním režimu a konečně se jedná o technologie<br />
snadno automatizovatelné.<br />
6. 2. 1 Zdroje iontů<br />
6. 2. 1. 1 Penningův zdroj iontů<br />
Tento zdroj se řadí do skupiny zdrojů iontů se studenou katodou. Mezi anodu a katodu<br />
je přiloženo napětí 10 2 až 10 3 V. Elektrony v mezielektrodovém prostoru jsou urychlovány<br />
směrem k anodě a na své dráze po nepružných interakcích s molekulami plynu tento plyn<br />
ionizují. Aby se zvýšila pravděpodobnost srážky, prodlužuje se dráha elektronů přiloženým<br />
magnetickým polem. Penningův zdroj má velmi jednoduchou konstrukci a vyznačuje se<br />
vysokou životností. Používají se výlučně k ionizace plynů z plynných médií. Vzhledem k<br />
tomu, že používají studenou katodu, nejsou vhodné k ionizaci inertních plynů. Při vysokých<br />
napětích a proudech výboje až několik ampérů může dojít k odprášení katody a tím ke<br />
znečistění svazku.<br />
6. 2. 1. 2 Sideniův zdroj iontů<br />
Tento zdroj patří do skupiny zdrojů iontů se žhavenou katodou. Při tlaku pracovního<br />
plynu 1 až 10 -2 Pa hoří mezi anodou a katodou stabilní oblouk. Pro zvýšení pravděpodobnosti<br />
srážky elektronu s atomem (molekulou) plynu je dráha elektronů prodloužena magnetickým<br />
polem. Kladné ionty jsou z plazmy extrahovány pomocí extrakční elektrody. Pro tento zdroj<br />
je typické, že ionty jsou extrahovány axiálně k ose plazmy, jak je naznačeno na obr. 6. 13.<br />
Iontový svazek je relativně úzký (0.5 mm). Ionizovat lze plynovou směs získanou z plynných<br />
médií, ale i z tuhých látek po odpaření<br />
v pícce.<br />
6. 2. 1. 3 Freemanův zdroj iontů<br />
Obr. 6. 13 Sideniův zdroj iontů<br />
A - anoda, K - katoda,<br />
EE - extrakční elektrody,<br />
IS - iontový svazek,<br />
P – plazma<br />
Jeho konstrukce se liší od Sideniova zdroje<br />
tím, že k extrakci dochází ve směru kolmém k ose<br />
plazmy, jak je naznačeno na obr. 6. 14. Jedná se o<br />
relativně vysokoproudový zdroj se širokým<br />
svazkem, který<br />
lze upravit iontovou optikou. Může<br />
ionizovat i rozprášené<br />
látky z pomocné katody.<br />
Obr. 6. 14 Freemanův zdroj iontů<br />
A - anoda K - katoda, EE - extrakční elektrody,<br />
IS - iontový<br />
svazek, P - plazma
118 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
6. 2. 1. 4 Kaufmanův zdroj iontů<br />
Základními nevýhodami předchozích typů je, že při použití relativně vysokých napětí<br />
mezi anodou a katodou dochází k odprašování katody a tím ke kontaminaci svazku a dále<br />
změnou anodového napětí je ovlivňován nejen iontový proud, ale i energie iontů. Tyto<br />
nevýhody odstraňuje Kaufmanův zdroj. Zdrojem elektronů je termokatoda a k výboji dochází<br />
při tlaku asi 10 -1 Pa při velmi nízkém napětí (50 V). Tak nízké napětí zabezpečí minimální<br />
odprašování katody. Zvýšeni pravděpodobnosti ionizace je zajištěno prodloužením dráhy<br />
elektronu vhodným působením elektrického a magnetického pole, jak je naznačeno na obr.<br />
23. Elektron je urychlen směrem k anodě. Celkové urychlení se realizuje na krátké dráze<br />
mezi katodou a hranicí plazmy, která má potenciál anody. V plazmě se elektron pohybuje<br />
konstantní rychlostí (pokud nedojde ke srážce) směrem k anodě. V prostoru před anodou<br />
působí na elektron magnetické pole kolmé na pohyb elektronu a ten se začne pohybovat po<br />
kruhové dráze. V okamžiku, kdy opustí prostor ovlivněný magnetickým polem, se elektron<br />
pohybuje zpět ke katodě. Jakmile elektron vylétne z plazmy, dostane se do elektrického pole,<br />
které jej zabrzdí a urychlí zpět k anodě. Ionizace pracovního plynu dosahuje 50 až 75 %.<br />
Vytahování iontů z plazmy se uskutečňuje systémem stínící a extrakční elektrody. Vytahovací<br />
pole nemůže působit na ionty v plazmě, protože je vodivá. Do prostoru ovlivněného polem<br />
extrakční elektrody se ionty dostávají difúzí. Pokud bychom použili pouze extrakční<br />
elektrodu, ionty by byly z hranice plazmatu urychleny k záporně nabité elektrodě, část by jich<br />
prošla otvorem v elektrodě a vytvořila by iontový svazek ale další část by dopadla na<br />
extrakční elektrodu a mohla by způsobit její odprašování. Tomuto zabraňuje stínící elektroda,<br />
která je na potenciálu plazmy. Ionty se difúzí dostanou až do otvoru stínící elektrody a odtud<br />
jsou vytaženy a urychleny extrakční elektrodou.<br />
Pro vytváření svazků o velkém<br />
průměru se používají elektrody s<br />
hustou sítí malých otvorů nebo<br />
vytahovací mřížky. Například pro<br />
průměr svazku 10 cm se používá<br />
až 1 400 otvorů o průměru 2 mm.<br />
Vzdálenost mezi stínící a extrakční<br />
elektrodou se volí asi 1 mm. Aby<br />
se snížila rozbíhavost svazku<br />
vlivem vzájemného působení<br />
stejně nabitých iontů a dále aby se<br />
nenabíjel povrch nevodivého terče,<br />
Obr. 6. 15 Kaufmanův zdroj iontů.<br />
na který iontový svazek dopadá<br />
A – anoda, K - katoda, SE - stínící elektroda,<br />
provádí se tzv. neutralizace<br />
EE - extrakční elektroda, B - magnetické pole<br />
iontového svazku injekcí elektronů<br />
o indukci B, IS - iontový svazek<br />
do svazku zpravidla z<br />
přímožhavené pomocné katody.<br />
6. 2. 1. 5 Magnetronový zdroj iontů<br />
U tohoto typu zdroje iontů se pro prodloužení dráhy elektronů a tím zvýšení<br />
pravděpodobnosti ionizace využívá tzv. magnetronového způsobu řízení pohybu elektronů.<br />
Elektrony emitované z katody jsou urychleny elektrickým polem a jejich dráha je zakřivena<br />
magnetickým polem kolmým na pole elektrické. Vzhledem k tomu, že se elektron nepohybuje<br />
konstantní rychlostí, bude sledovat tzv. cykloidální dráhu nad povrchem katody. Tyto zdroje<br />
patří k nejvýkonnějším iontovým zdrojům.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 119<br />
6. 2. 2 Iontová imp1antace<br />
Iontovou implantací se nazývá technologie,při které dochází k zavádění urychlených<br />
atomů a molekul do struktury tuhých látek s cílem změnit jejich elektrické, případně<br />
mechanické vlastnosti. K urychlení těchto částic dochází v ionizovaném stavu. Princip<br />
iontové implantace byl patentován americkými vědci R. Ohlem (1956) W. Shockleyem<br />
(1957) a W. Moyerem (1958). Další práce zejména dánských vědců J.Lindharta, M. Scharffa<br />
a H. E. Shitta propracovaly teorie pronikání urychlených iontů do amorfních látek a umožnily<br />
i předpovědět rozložení implantovaných iontů v polykrystalických a krystalických látkách. Na<br />
jejich počest se tato teorie nazývá LSS teorií.<br />
K implantaci se používají iontové svazky s proudy od 10 µA až 100 mA s<br />
urychlovacími napětími 10 3 až 10 6 V. V polovodičové technice se pro ionizaci používají<br />
plyny BF3, AsF3 a PF5 pro implantaci bórem, arsenem a fosforem. Jako zdroj iontů se<br />
používá Penningův zdroj. Pro implantaci malých a středních dávek (10 14 až 10 19 m -2 ) z<br />
plynných medií, ale i z tuhých látek po jejich odpaření, se dále používá Sideniův zdroj. Pro<br />
implantaci velkých dávek (10 20 m -2 ) je vhodný zdroj Freemanův.<br />
6. 2. 3 Iontové naprašování<br />
Iontovým naprašováním nazýváme technologii vytváření tenkých vrstev na podložce,<br />
materiálem rozprášeným účinkem urychlených iontů. Dopadne-li urychlený iont na povrch<br />
tuhé látky (terče) může se od něj odrazit nebo vyrazí atom z povrchové vrstvy.nebo se může<br />
zabudovat - implantovat do krystalové mříže. Který z těchto mechanismů nastane záleží<br />
jednak na energii dopadajícího iontu dále na vlastnostech látky na kterou iont dopadl a rovněž<br />
na úhlu dopadu iontů.<br />
Odprašovací mechanismus se vysvětluje pomocí impulsní teorie odprašování tuhých látek.<br />
Podle této teorie dopadající iont předá impuls energie atomům terče. Jestliže tato energie<br />
je vyšší než vazební energie atomu v látce dojde k narušení rovnovážného stavu a k vybuzení<br />
sousedních atomů. Toto vybuzení je předáváno dále po uzlech mřížky různými směry. V<br />
procesu postupného předávání impulsu energie může nastat situace, že atom.na povrchu terče<br />
získá energii vyšší než je hodnota výstupní práce atomu z terče a opustí povrch terče. Povrch<br />
terče tedy opustí a je odprášen atom jiný, než na který dopadl urychlený iont. Naznačený<br />
mechanismus vysvětluje i skutečnost, že povrch terče může opustit i více atomů než je počet<br />
dopadajících iontů. Poměr mezi počtem odprášených atomů terče a počtem dopadajících iontů<br />
se nazývá odprašovací výtěžnost a je určena koeficientem iontového odprášení ko. Depozice<br />
odprášených atomů terče se obvykle uskutečňuje v prostředí, kde působí na substrát<br />
elektrony a kladné ionty plazmy. Vzhledem k tomu, že elektrony mají vyšší difúzní rychlost<br />
než ionty, v první fázi převyšuje tak elektronů na substrát tok iontů a substrát se nabíjí<br />
záporně. V tom okamžiku se zvýší tok kladných iontů na substrát a ten bude ionty intenzivně<br />
bombardován. Tento mechanismus může způsobit ohřev substrátu a částečné odprášení jeho<br />
povrchu a může se projevovat i v průběhu růstu vrstvy. Při vhodně zvolených podmínkách<br />
působí pozitivně na proces růstu vzhledem k tomu, že očistí povrch substrátu, snižuje výskyt<br />
nehomogenit, zvyšuje čistotu vrstvy, jelikož čistí neustále povrch narůstající vrstvy od atomů<br />
plynů a jiných adsorbovaných příměsí.<br />
Při dopadu odprášených atomů terče na povrch substrátu může dojít k několika<br />
procesům. Atomy se mohou od povrchu substrátu odrazit, adsorbovat nebo se začlení do<br />
struktury substrátu. Pravděpodobnost každého z těchto procesů závisí na energii a chemické<br />
aktivitě atomů a také na energetické struktuře povrchu substrátu. Energetické spektrum<br />
odprášených atomů je velmi široké od jednotek eV do stovek eV, přičemž množství rychlých<br />
atomů ve spektru roste s energií iontů.
120 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
6. 2. 4 Iontové 1eptání<br />
Leptacím procesem rozumíme řízený odběr materiálu z povrchu daného tělesa. Do<br />
takto obecně pojaté definice by bylo možné zařadit v podstatě jakýkoliv mechanismus odběru<br />
materiálu (chemický, elektrochemický, fyzikální atd.). Leptací způsoby používané v<br />
mikroelektronice, zejména při výrobě integrovaných obvodů vyšších integrací rozdělit do<br />
dvou základních. skupin - leptací způsoby mokré a leptací způsoby suché. Mokré leptací<br />
způsoby využívají chemického účinku látek v kapalném stavu a mají několik základních<br />
nevýhod. Leptací účinek je většinou selektivní a při změně leptané vrstvy je nutné zaměnit<br />
leptací látku po očištění vrstvy a neutralizaci předchozí chemikálie. Vzhledem k účinkům<br />
leptacích látek je nutné mnohdy maskovat povrch polovodičového materiálu různými krycími<br />
vrstvami atd. Zásadním nedostatkem však je izotropní leptací účinek tzn., že leptací rychlost<br />
je stejná ve všech směrech a výsledný profil leptané struktury vykazuje podleptání masky.<br />
Zejména v oblasti výroby integrovaných obvodů vyšších integrací je žádoucí dosáhnout<br />
anizotropního leptacího účinku, dobré ohraničení čáry, vysoce přesné leptání, dobrou<br />
selektivitu v neposlední řadě i možnost rychlé výměny leptacího média, tedy možnost řízen<br />
leptacího účinku na danou látku. Tyto podmínky splňují suché leptací způsoby, které se staly<br />
klíčovými technologiemi ve výrobě integrovaných obvodů. V současné době existuje celá<br />
řada zařízení, které využívají suché leptací způsoby, ale v zásadě lze všechny rozdělit podle<br />
leptacího účinku do čtyř skupin znázorněné na obr. 6. 16.<br />
Obr. 6. 16 Základní typy suchého leptání<br />
a) fyzikální, b) chemický, c) chemicko-fyzikální, d) fotochemický
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 121<br />
6. 3 RENTGENOVÉ PROCESY<br />
6. 3. 1 Vznik a vlastnosti rentgenového záření<br />
Rentgenovým zářením nazýváme elektromagnetické záření o vlnových délkách od 10 -8<br />
do 10 -11 m. Za hranici mezi tzv. vakuovou ultrafialovou oblastí a měkkým dlouhovlnným<br />
rentgenovým zářením se považuje vlnová délka asi 50 nm. Rentgenové záření vzniká při<br />
interakci rychle se pohybujícího elektronu s atomem. Dopadne-li svazek elektronů na danou<br />
látku, dojde ke vzniku rentgenového záření, které lze rozdělit na dva druhy. Tím, že elektrony<br />
v látce ztrácejí svoji kinetickou energii - jsou bržděny, vzniká záření kterému se říká brzdící.<br />
Tento druh záření je charakterizován<br />
spojitým spektrem záření, u kterého jsou<br />
hodnoty intenzit záření pro širokou oblast<br />
vlnových délek srovnatelné. Druhý druh<br />
záření souvisí s vlastnostmi látky, na<br />
kterou dopadl elektronový svazek. Tomuto<br />
druhu záření se říká charakteristické a je<br />
pro něj typické čárové spektrum. Za jistých<br />
podmínek se tedy přes spojité spektrum<br />
překládá spektrum čárové, jak je to<br />
znázorněno na obr. 6. 17.<br />
Obr. 6. 17 Typická závislost intenzity<br />
rentgenového záření na vlnové délce<br />
U spojitého spektra je nejkratší vlnová délka obsažená ve spektru dána energií<br />
dopadajícího elektronu:<br />
ë<br />
min<br />
h c 1,239.10−6<br />
= = ,<br />
(6. 18)<br />
q U U<br />
Maximální intenzita záření se ve spektru objeví asi při 60 % energie svazku<br />
−6<br />
h c 2,065.10<br />
λ Imax = = ,<br />
0,6 q U U<br />
(6. 19)<br />
kde h je Planckova konstanta, c je rychlost světla, q je náboje elektronu,<br />
U je urychlovací napětí.<br />
Pro stanovení intenzity rentgenového záření při zvolené vlnové délce neexistuje<br />
matematické vyjádření a průběh dle obr. 6. 17 se stanovuje experimentálně. Existuje však<br />
P<br />
r<br />
−8<br />
1,75<br />
= 1,69.10 I Z U ,<br />
(6. 20)<br />
Pr = 3.10 -6 I Z U 1,75 [W, mA, kV], (6. 21)<br />
kde I je proud elektronového svazku<br />
Z je atomové číslo látky na kterou dopadl elektronový svazek<br />
U je urychlovací napětí.
122 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Prochází-li rentgenové záření látkou, dochází k absorpci záření. Intenzitu prošlého<br />
záření látkou určíme ze vztahu:<br />
I r = I0<br />
exp [ − α(<br />
λ)<br />
x],<br />
(6. 22)<br />
kde Io je intenzita rentgenového záření dopadající na povrch látky<br />
α(λ) je lineární absorpční koeficient závislý na vlnové délce záření<br />
x je souřadnice orientovaná od povrchu látky ve směru záření<br />
V literatuře jsou obvykle tabelovány hodnoty tzv. hmotového absorpčního koeficientu α(λ)/ρ,<br />
kde ρ je měrná hmotnost látky.<br />
6. 3. 2 Radiační technologie<br />
Obor radiační technologie vznikl v padesátých letech v souvislosti s rozvojem jaderné<br />
fyziky, jaderné energetiky s rozvojem využití umělých radionuklidů a urychlovačů částic. V<br />
této době začínají být využívány dva druhy velkých zdrojů ionizujícího záření, a to zdroje<br />
radioizotopové a zdroje elektrofyzikálni, tzv. urychlovače částic. Z hlediska zdrojů lze<br />
radiační technologie rozdělit do tří kategorií.<br />
a) Radiační technologie využívající elektronový svazek generovaný lineárními<br />
urychlovači s energií svazku do 10 MeV.<br />
b) Radiační technologie využívající rentgenové záření s energií fotonů do 5 MeV.<br />
c) Radiační technologie využívající gama záření z radionuklidů. Zejména se jedná o kobalt 60<br />
a cesium 137. Kobalt 60 má poločas rozpadu 5,3 roku a vysílá gama záření s energií fotonu<br />
1,17 MeV a 1,33 MeV. Cesium 137 má poločas rozpadu 30 let a vysílá gama záření s<br />
energií fotonu 0,66 MeV.<br />
Proti alternativním technologiím vykazují radiační technologie hlavně tyto přednosti:<br />
- radiační iniciace je univerzálnější než jiné používané metody<br />
- radiační <strong>procesy</strong> probíhají při normální nebo i snížené teplotě, lze tedy pracovat i se<br />
substráty teplotně labilními<br />
- není třeba používat chemických iniciátorů a katalyzátorů, které ovlivňují výsledné vlastnosti<br />
produktu<br />
- průběh reakce lze snadno a přesně řídit volbou ozařovacích podmínek<br />
- je možné homogenně ozařovat i <strong>materiály</strong> neprůhledné, vícevrstvé a uzavřené v<br />
obalech.<br />
Vzhledem k poměrně vysokým nákladům na ozařovací zařízení, uplatňují se radiační<br />
technologie zejména tam, kde se ozařují velké objemy materiálů, kde je podíl ceny za<br />
ozařování malý vzhledem k vysoké ceně ozařovaného materiálu, anebo kdy materiál získá<br />
vlastnosti jinými technologiemi nedosažitelné.<br />
Bezesporu nejúspěšnější technologií s využitím zdrojů záření je dnes radiační sterilizace<br />
lékařských potřeb a materiálů. Tato technologie dosáhla jako první průmyslového nasazení a<br />
dnes se využívá běžně. Další oblastí jsou <strong>procesy</strong> radiačního síťování plastů a výrobků z nich.<br />
Radiační síťování se na rozdíl od chemického síťování provádí bez přidávání iniciátorů při<br />
pokojové teplotě. Takto lze získat plasty se zlepšenými fyzikálními a mechanickými<br />
vlastnostmi. Lze jmenovat např. zlepšení tepelné odolnosti radiačně zesítěného polyetylénu,<br />
který má rovnocenné tepelné vlastnosti jako teflon. Navíc má takový materiál tvarovou<br />
paměť. Vyrábí se kabely s izolací ze silikonového kaučuku vulkanizovaného pomocí záření.<br />
Rychlý rozvoj zaznamenávají radiační technologie při vytvrzování tenkých vrstev.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 123<br />
6. 3. 3 Rentgenová litografie<br />
Stálé zvyšování hustoty integrace si vynutilo jednak zdokonalování optické litografie a<br />
dále vývoj nových litografických technologií, jak je litografie elektronová, iontová a<br />
rentgenová. Omezení optické litografie je dáno v podstatě dvěma důvody. Především je to<br />
difrakce použitého světelného záření na hranách struktury masky, které způsobuje vznik<br />
neostrosti kopírovaných obrazců. Cesta ke zlepšení rozlišovací schopnosti vedla k použití<br />
zdrojů světla s co nejkratší vlnovou délkou. Přecházelo se na výbojky pracující v ultrafialové<br />
oblasti na vlnových délkách 436 a 405 nm. Hovoří o možnostech použití výkonných<br />
excimerových laserů, kde např. systém ArF pracuje na vlnové délce 193 nm. Druhé omezení<br />
je dáno možností vytvořit co nejtenčí vrstvu rezistů, což je limitováno rovinností povrchu<br />
polovodičové desky. U nerovnoměrně tlusté vrstvy<br />
rezistů vznikají zkreslení, která limitují dosažitelné<br />
rozměry struktury.<br />
Snaha využít relativní jednoduchost optické<br />
litografie vedla ke zkoumání možného zdroje záření o<br />
velmi krátké vlnové délce. Takovým zářením se<br />
ukázalo záření rentgenové, které umožnilo vznik<br />
rentgenové litografie.<br />
Princip rentgenového litografu je uveden na<br />
obr. 42. Svazek elektronů je urychlen v elektronové<br />
trysce napětím od 4 do 10 kV. Toto urychlovací<br />
napětí určuje rozsah vlnových délek ve spektru<br />
rentgenového záření. Svazek dopadá na anodu a je<br />
zaostřen do stopy o průměru dr . Pro expozici rezistů<br />
je nutné dosáhnout jisté úrovně výkonu rentgenového<br />
záření. Vzhledem k tomu, že tento výkon nedosahuje<br />
ani l % výkonu elektronového svazku, je nutné téměř<br />
celý výkon svazku uchladit na anodě. Pevná anoda je<br />
schopna uchladit výkon svazku asi 500 W. Při použití<br />
rotující anody chlazené vodou je možné zvýšit výkon<br />
svazku až do 10 kW. Při použití pevné anody lze<br />
dosáhnout výkonu rentgenového záření řádově 10 -1<br />
W a při použití rotující anody 10 0 W. Pro optimální<br />
činnost elektronové trysky dosahuje tlak hodnoty až<br />
10 -4 Pa. Vlastní pracovní komora je naplněna heliem<br />
při běžném atmosférickém tlaku vzhledem k tomu, že<br />
helium minimálně pohlcuje měkké rentgenové záření.<br />
Prostor trysky a pracovní komora jsou odděleny<br />
okénkem z berylia.<br />
Vlnová délka rentgenového záření hraje nejen<br />
roli v otázce Kontrastu masky, ale i rozlišovací<br />
schopnosti rezistů. Nejčastěji se používají vlnové<br />
délky asi od 0,5 nm do 5 nm. O tom jak náročná je<br />
Obr. 6. 18<br />
Principiální schéma rentgenového<br />
litografu.<br />
ET - elektronová tryska, Be - beryliové<br />
okénko<br />
výroba masky pro jemné struktury, si lze učinit představu z obr. 6. 18. Malé tloušťky<br />
membrán o extrémních hodnotách 0,1 až 0,4 µm lze realizovat odleptáním základního nosiče<br />
na malých ploškách asi 2x2 mm.
124 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Rezisty pro rentgenovou litografii<br />
jsou svoji podstatou organické<br />
polymery, u nichž se ozářením<br />
výrazně změní jejich rozpustnost.<br />
Podobně jako u optické litografie lze<br />
hovořit o rezistu pozitivním, u něhož<br />
se ozáře ním rozpustnost zvětší, resp.<br />
rezistu negativním, u něhož se rozpustnos<br />
t ozářením zmenší. Po<br />
dopadu rentgenového záření na rezist<br />
a absorpci fotonů dojde k emisi<br />
sekundárních elektronů, které jsou<br />
zdrojem chemických změn v rezistů<br />
6. 4 JADERNÉ PROCESY<br />
Obr. 6. 19<br />
Při výrobě polovodičových součástek je<br />
nutné měnit vlastnosti materiálu metodou<br />
dotování základního materiálu příměsemi v definovaných<br />
koncentracích. Nejpoužívanější metody<br />
dotování jsou slinování, difúze a iontová<br />
implantace. V oblasti výroby prvků výkonové elektroniky je kladen důraz zejména na hodnotu<br />
průrazného napětí a úbytek napětí v propustném<br />
směru, což je podmíněno homogenitou měrného<br />
odporu materiálu. Stávající technologie mnohdy<br />
neumožňují dosahovat požadované výsledky a z<br />
toho důvodu byl zaveden principiálně nový<br />
způsob dotování pomocí jaderných transmutací.<br />
Dotování pomocí jaderných transmutací je<br />
typické tím, že dotující příměs se nevnáší do<br />
materiálu z vnějšku, ale vzniká v procesu ozáření<br />
materiálu z atomů základního polovodiče.<br />
Jadernými reakcemi se<br />
Typická konstrukce masky pro rentgenovou litografii<br />
nazývají děje, při<br />
kterých urychlená částice (střela) zasáhne jádro<br />
(terčík) a po splnění určitých podmínek může<br />
způsobit jeho změnu. Vzniká nové jádro<br />
(produkt) a obecně jiná částice. Při vniknutí ne-<br />
utronu do jádra přináší každý neutron do jádra<br />
energii rovnou své kinetické energii a vazbové<br />
energii. Jádro, které zachytilo neutron, bude<br />
Obr. 6. 20 Rezisty pro rentgenovou a<br />
elektronovou litografii.<br />
PMMA - polymetylmetakrylát, P(MMA-<br />
MA) - kopolymer metylmetakrylátu a<br />
kyseliny metakrylátové, FBM -1 – poly<br />
(2,3,3,3-tetrafluorpropyImetakrylát),<br />
PGMA - polyglycidylmetakrylát,<br />
P(GMA-EA) - kopolymer glycidylu<br />
metakrylátu a etylakrylátu, EPB -<br />
epoxidizovaný polybutadien<br />
vybuzeno, přičemž se nějak změní. Reakce, které mohou<br />
nastat, lze schematicky zapsat (n,n),<br />
(n,p), (n,α ), (n,γ), kde např. (n,γ) znamená, že po zachycení neutronu dojde k jeho<br />
zabudování do jádra za současného vyzáření fotonu záření γ. Zachycený neutron vytvoří<br />
izotop výchozího jádra.<br />
U polovodičových materiálů lze využít tří typů jaderných reakcí. Jsou to reakce<br />
způsobené vlivem nabitých částic, dále reakce způsobené γ zářením (tzv. fotojaderné reakce)<br />
a reakce podmíněné tepelnými neutrony.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 125<br />
Vlivem nabitých částic s dostatečně velkou energií (10° až 10 1 MeV) mohou probíhat<br />
jaderné reakce následujících typů:<br />
(α, p) , (α, n) , (α, γ) , (α, 2p) , (α, np) , (d, p) , (d, n)<br />
Tyto reakce jsou podmíněny tím, že energie dopadající částice<br />
je vyšší než tzv. coulombovská<br />
bariéra, daná odpuzováním částice a jádra.<br />
Fotojaderné reakce zahrnují skupinu reakcí přeměny jader γ-zářením, a to:<br />
( γ , p ), ( γ, n), ( γ,α<br />
)<br />
Pomocí fotojaderných reakcí lze získat příměsi v celé řadě materiálů, Z toho důvodu<br />
jsou tyto reakce předmětem zájmu v oblasti dotování polovodičů. Oproti reakcím s nabitými<br />
částicemi lze fotojaderné reakce uplatnit ve větších objemech materiálu vzhledem k tomu,že<br />
záření γ proniká do podstatně větší hloubky než nabité a urychlené částice. Perspektiva tohoto<br />
směru je dána i tím, že lze relativně snadno získat γ-záření s libovolnou energií pomocí<br />
urychlených elektronů.<br />
Reakce s pomalými neutrony, lze schematicky zapsat (n,n), (n,p), (n,α), (n,γ), kde<br />
např. (n,γ) znamená, že po zachycení neutronu dojde k jeho zabudování do jádra za<br />
současného vyzáření fotonu záření γ. Zachycený neutron vytvoří izotop výchozího jádra.<br />
Výše uvedené poznatky si můžeme blíže objasnit na příkladu konkrétního využití<br />
jaderných transmutací. Pro výrobu výkonových polovodičových prvků se využívá křemík Ntypu<br />
vodivosti. V přírodním křemíku jsou obsaženy celkem 3 izotopy<br />
14<br />
Si<br />
28<br />
-<br />
92,21 % ,<br />
14<br />
Si<br />
29<br />
-<br />
4,70 %<br />
,<br />
14<br />
Si<br />
30<br />
-<br />
3,09 %<br />
Pro transmutaci lze využít izotop 14Si í<br />
30 , a to jadernou reakc s tepelnými neutrony<br />
získanými<br />
v jaderném reaktoru. Reakce probíhá dle vztahu<br />
30 1<br />
31 0<br />
14Si<br />
+ 0n<br />
→ 14Si<br />
+ 0γ<br />
(6. 23)<br />
31<br />
Radioaktivní izotop křemíku 14Si se dále rozpadá za vzniku stabilního fosforu při emisi<br />
elektronu<br />
14<br />
Si<br />
31<br />
τ 104<br />
s<br />
⎯ ⎯<br />
≈<br />
⎯ →<br />
15<br />
P<br />
31<br />
+<br />
-1<br />
Vzniklý fosfor je však elektricky neutrální a podobně jako při iontové implantaci je nutné<br />
dotační prvek nejprve elektricky aktivovat (ionizovat). Aktivace se provádí tepelným<br />
zpracováním monokrystalu při teplotě T ≥. 890 K. Vzhledem k charakteru tepelných neutronů<br />
probíhá reakce dle (6. 23) prakticky beze ztrát a uvážíme-li, že rozložení izotopu 14Si 30<br />
monokrystalu je vysoce homogenní, lze očekávat i vysoce homogenní rozložení fosforu a tedy<br />
i měrného vnitřního odporu.<br />
6. 5 LASEROVÉ PROCESY<br />
6. 5. 1 Úvod<br />
e<br />
0<br />
(6. 24)<br />
Laserem označujeme druh kvantového generátoru koherentních elektromagnetických<br />
vln v širokém rozsahu vlnových délek od oblasti ultrafialové přes viditelné světlo, dále oblast<br />
infračervenou až k hranici milimetrových vln. Vlastní název LASER vznikl spojením prvních<br />
písmen anglických slov Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation (zesilování<br />
světla stimulovanou emisí záření). Teoretické základy v této oblasti byly položeny v letech<br />
1953-1958 pracemi Basová, Prochorova a Townese. Prakticky využitelný laser byl realizován<br />
začátkem šedesátých let, kdy Maiman realizoval rubínový laser a Javan laser helium-neonový.<br />
V dnešní době existuje celá řada laserů, které se odlišují fází aktivního media, způsobem
126 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
buzení, resp. druhem děje, při kterém je umožněno tzv. čerpání laseru. Druh aktivního media<br />
a jemu odpovídající způsob čerpání určuje i oblast vlnové délky, na které dojde k vyzáření<br />
elektromagnetického vlnění.<br />
Podle druhu aktivního media rozlišujeme lasery na:<br />
- Pevnolátkové - krystalické - dielektrické (např. rubín, YAG)<br />
- polovodičové (např. GaAs)<br />
- amorfní (např. sklo dotované neodymem)<br />
- Kapalinové - barvivové roztoky (např. rhodanin)<br />
- Plynové - atomární (např. He-Ne)<br />
- iontové (např. Ar + , Kr + )<br />
- molekulové (např. CO2)<br />
Dle typu buzení rozeznáváme lasery buzené:<br />
- optickým zářením (např. výbojkou, jiným laserem, sluncem)<br />
- elektrony (výbojem mezi anodou a katodou, elektronovým svazkem)<br />
- chemickou reakcí<br />
- teplem<br />
Podle režimu činnosti hovoříme o laserech, které pracují<br />
- kontinuálně<br />
- pulsně<br />
Z hlediska výkonu hovoříme o malovýkonových laserech, kde dopadající záření na<br />
látku nezpůsobí v látce žádné chemické a fyzikální změny. Využití takových laserů lze hledat<br />
v oblasti měřicí a diagnostické techniky. V případě, že dopadající záření způsobí v látce<br />
fyzikální, resp. chemické změny, hovoříme o výkonových nebo technologických laserech.<br />
Výkonový rozsah laserů je velmi široký od oblasti µW do desítek kW v kontinuálním režimu<br />
a v pulsním režimu dosahuje výkon řádu 10 13 W.<br />
Lasery nalezly využití v celé řadě aplikací - od sdělovací techniky, měřicí techniky,<br />
diagnostiky, přes lékařství, strojírenskou technologii,<br />
elektroniku, mikroelektroniku až po<br />
využití v oblasti termojaderné syntézy, ale také v oblasti vojenské<br />
6. 5. 2 Teoretické základy činnosti laserů<br />
6. 5. 2. 1 Kvantové jevy v látce<br />
Lasery řadíme mezi tzv. kvantové generátory elektromagnetického záření. Jejich<br />
specifickou vlastností je, že změny energie částic látky mají diskrétní charakter a tyto částice<br />
absorbují nebo vyzařují energii v kvantech.<br />
Energie kvanta je dána vztahem<br />
E = h ν<br />
(6. 25)<br />
kde h je Planckova konstanta<br />
ν je kmitočet fotonu pohlceného nebo vyzářeného látkou.<br />
Při pohlcení energie látkou přechází částice ze základního stavu<br />
na stav s vyšší energií,<br />
ve kterém setrvají pouze určitý čas. Střední doba, po kterou zůstane<br />
částice ve vybuzeném<br />
stavu, se nazývá dobou života energetické hladiny. Pro většinu vybuzených stavů je tato doba<br />
10 -9 až 10 -6 s. Existují ale hladiny s dobou života 10 -3 s i delší. Takové hladiny se nazývají<br />
metastabilní. Na takových hladinách je možné, aby populace byla mnohem vyšší než
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 127<br />
odpovídá rovnovážnému stavu. Existence metastabilních hladin umožňuje uvést kvantovou<br />
soustavu do nerovnovážného stavu a může dokonce nastat stav, kdy určitá hladina bude mít<br />
vyšší populaci než hladina s nižší energií. V takovém případě hovoříme o inverzní populaci<br />
hladin, což je základní předpoklad pro realizaci laseru. Činnost laseru je založena na principu<br />
zesilování elektromagnetického záření při stimulované emisi záření při přechodu z horní<br />
metastabilní hladiny na některou hladinu s nižší energií, přičemž mezi těmito hladinami<br />
existuje inverzní populace.<br />
Nejjednodušší kvantový systém, u kterého můžeme dosáhnout inverzní populaci<br />
pomocí vnějšího pole, je systém tříhladinový. Schematicky je zobrazen na obr. 6. 21.<br />
Představitelem tříhladinového laseru je laser rubínový, kde jako aktivní prostředí je použit<br />
monokrystal rubínu Al2O3 : Cr 3+ , u kterého je část iontů Al 3+ nahrazena ionty chrómu Cr 3+ .<br />
Ionty chrómu absorbují záření v zelené a modré části spektra po ozáření světelným výbojem.<br />
Dojde k tzv. čerpání laseru a vybuzení částic na<br />
hladinu E3. Tato hladina má velice krátkou dobu<br />
života, dojde k rychlému nezářivému přechodu na<br />
metastabilní hladinu E2 . Mezi touto hladinou a<br />
základní hladinou E1 dojde k inverzní populaci a<br />
Obr. 6. 21 Tříhladinový laserový systém .<br />
6. 5. 2. 2 Vznik a vlastnosti laserového záření<br />
6. 5. 2. 2. 1 Čerpání laseru<br />
tedy po přechodu na základní hladinu<br />
dojde k<br />
vyzáření kvanta záření. U rubínového laseru<br />
využíváme spektrální čáru A = 694,3 nm, což<br />
odpovídá červené barvě světelného záření<br />
Čerpáním laseru rozumíme vybuzení systému vnějším polem na vyšší energetický stav<br />
s cílem dosažení inverzní populace hladin. Vybuzení se dosahuje absorpcí energie z vnějšího<br />
pole. Důležitou roli zde hraje schopnost látky absorbovat dostatečné množství energie o<br />
vhodné vlnové délce. Lasery s aktivním prostředím v tuhé fázi mají dostatečně široké<br />
Obr. 6. 22 Čerpání laseru s aktivním prostředím v tuhé fázi
128 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
absorpční spektrum a z tohoto důvodu se k čerpání používají výbojky rovněž se širokým<br />
spektrem záření. Hovoříme o tzv. optickém čerpání. Aby se maximální množství energie<br />
výboje mohlo absorbovat v aktivním prostředí laseru, realizují se různé typy odražečů záření.<br />
V nejjednodušším případě se výbojová trubice umísťuje do jednoho ohniska elipsoidu a<br />
aktivní prostředí laseru ve formě tyčky do ohniska druhého. Je možné volit i systémy se<br />
dvěma, případně čtyřmi výbojovými trubicemi v systému dvou, resp. čtyř elipsoidů, jak je<br />
naznačeno na obr. 6. 22.<br />
Lasery s aktivním prostředím v plynné fázi mají absorpční spektrum mnohem užší a<br />
optické čerpání u nich není možné. K vybuzení systému se využívá srážek molekul plynu s<br />
elektrony nebo s vybuzenými<br />
molekulami jiného plynu. Elektrony<br />
se do systému mohou zavádět z<br />
vnějšku - např. elektronovým svazkem<br />
nebo se využívá toku elektronů mezi<br />
anodou a katodou, jak je<br />
naznačeno na<br />
obr. 6. 23.<br />
Obr. 6. 23 Čerpání laseru s aktivním prostředím<br />
v plynné fázi<br />
Další možnost čerpání<br />
využívá<br />
energetického přínosu z chemické<br />
reakce a tzv. chemických laserů.<br />
Např. u chemického laseru HF<br />
dochází k čerpání<br />
při reakci molekul<br />
vodíku a fluoru.<br />
U tzv. excimerových laserů dochází po dopad u elektronového svazku na látku k<br />
ionizaci, vzniku excimerové molekuly a při rozpadu této molekuly ke vzniku záření. Název<br />
EXCIMER vznikl spojením slov EXCItovaný diMER.<br />
6. 5. 2. 2. 2 Zesilování záření v aktivní látce<br />
V předchozí části jsme hovořili o vzniku kvanta indukovaného záření - fotonu. Letící<br />
foton aktivní látkou může dále stimulovat následné emise. Dochází k procesu zesilování<br />
záření v aktivní látce.<br />
Budeme-li sledovat intenzitu toku fotonů I po průchodu aktivním prostředím o délce L ,<br />
můžeme psát<br />
I = I0 exp (α-β) L , (6. 26)<br />
kde I0 je intenzita záření vstupující do systému<br />
α je koeficient charakterizující zesílení na jednotkové<br />
délce<br />
β je koeficient charakterizující ztráty na jednotkové délce<br />
L je délka sledovaného úseku aktivního prostředí.<br />
Zesílení intenzity záření rovno<br />
I<br />
Z = = exp(α − β) L > 1,<br />
(6. 27)<br />
I 0<br />
Jak plyne z (6. 27), je intenzita záření, resp. zesílení intenzity záření, úměrné délce<br />
aktivního prostředí. V praxi se většinou délka průchodu fotonů, aktivním prostředím<br />
prodlužuje použitím rezonančních systémů. Nejjednodušším rezonančním systémem, u<br />
kterého vlastně změníme kvantový zesilovač v oscilátor-laser, je systém, u kterého zavádíme<br />
kladnou zpětnou vazbu uzavřením aktivního prostředí mezi dvě zrcadla. Nejjednodušší
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 129<br />
systém je tzv. Fabry-Perotův interferometr s rovinnými zrcadly, jak je naznačeno na obr. 6.<br />
24. Jedno zrcadlo má mít 100 % odrazivost a druhé má jistou propustnost zajišťující<br />
maximální výstupní výkon záření opouštějící rezonátor. Odrazné plochy se obvykle realizují<br />
z napařených mnohonásobných<br />
dielektrických, vrstev o tloušťce - λ/4.<br />
Obvykle to bývá 13 až 23 vrstev z ZnS.<br />
nebo MgF nanesených na křemennou<br />
nebo skleněnou podložku. Odrazivost<br />
dosahuje až 99,9 %.<br />
6. 5. 2. 2. 3 Charakteristika laserového<br />
svazku<br />
Důležitým parametrem laserového<br />
zářeni je monochromatičnost, která je<br />
určena šířkou spektrální čáry laseru. U<br />
Obr. 6. 24 Rezonanční systém laseru<br />
jednofrekvenčního laseru za běžných<br />
podmínek lže naměřit šířku čáry asi 10<br />
kHz. Ve speciálním případě byla naměřena<br />
šířka čáry He-Ne laseru na vlnové délce<br />
633 nm<br />
l Hz. U klasického světelného zdroje lze v nejlepším<br />
případě u speciální výbojové trubice<br />
naměřit šířku čáry kolem l 000 MHz.<br />
Dalším parametrem, který charakterizuje laserové záření, je koherence. Koherencí<br />
rozumíme vzájemnou souvislost vlnění<br />
vycházejících buď ze dvou různých míst na povrchu<br />
zářícího tělesa (koherence prostorová) nebo vlnění vycházejícího z jednoho místa, avšak s<br />
určitým časovým odstupem (koherence časová).<br />
Pro laserové záření je charakteristická velká směrovost, resp. malá rozbíhavost<br />
světelných paprsků. Úhel rozbíhavosti laserového svazku je asi dvakrát menší než nejmenší<br />
možná teoretická rozbíhavost záření z klasických zdrojů světla.<br />
6. 5. 3 Některé aplikace laserů<br />
6. 5. 3. 1 Úvod<br />
Laserová technika zasahuje prakticky do většiny oborů lidské činnosti a řadí se svým<br />
významem a perspektivou ke světově sledovaným progresivním směrům. Laserová technika<br />
se rozvíjí zejména ve strojírenství, elektrotechnice a elektronice, telekomunikační technice,<br />
informatice, výzkumu kosmu, jaderném výzkumu, zemědělství, biologii, chemii,<br />
meteorologii, metrologii, lékařství, lehkém průmyslu, v základním i aplikovaném výzkumu.<br />
Další rozvoj a nasazení laserů úzce souvisí se zlepšováním technicko-ekonomických parametrů,<br />
provozními vlastnostmi laserů, jejich životností, spolehlivostí, účinností a<br />
efektivností. Objevují se stále nové druhy laserových zdrojů a příslušných doplňujících<br />
komponentů a zařízení, které umožňují další rozšířeni aplikací. Z uvedeného je zřejmé, že v<br />
následujícím textu se nelze zmínit o všech možnostech laserové techniky, ale budou uvedeny<br />
jen omezené informace o možnostech laserové technologie zejména v elektrotechnice.<br />
6. 5. 3. 2 Laserová metrologie<br />
Specifické vlastnosti laserového záření umožňují realizovat speciální měřicí systémy<br />
založené především na interferometrických měřicích metodách. Laserové interferometry se<br />
používají k měření délky, úhlů, přímosti a rovinnosti i ve více osách současně. Nasazení<br />
těchto systémů je možné jak ve strojírenství, tak i např. v mikroelektronice v optických a
130 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
elektronových litografech pro výrobu a nastavování polohy masek. Zvláštní význam pro praxi<br />
mají i měřicí metody pro analýzu kmitů. Lasery umožňují konstruovat bezdotykové snímače<br />
vibrací k přesnému měření dynamiky vibrací se zvláště malými amplitudami. K analýze<br />
kmitů se dnes využívá laserová interferometrie, holometrie (holografická interferometrie),<br />
laserová difraktografie.<br />
6. 5. 3. 3 Laserové metody analýzy materiálů<br />
Laserové metody pro analýzu prvků nebo chemickou analýzu materiálů pro elektroniku<br />
lze rozdělit do dvou skupin. V prvé skupině se k identifikaci látek používá hmotová<br />
spektrometrie a laser slouží pouze k ohřevu a odpaření analyzovaného vzorku. U metod druhé<br />
skupiny je látka analyzována pomocí optické spektroskopie a laser slouží jednak k ohřevu a<br />
odpaření analyzované látky a déle se používá jako zdroj monochromatického záření. Většinou<br />
se dané zařízení skládá z několika laserů. Jeden slouží k odpaření vzorku a další jako<br />
monochromatické zdroje světla. Nejčastěji jsou používány čtyři metody - laserová hmotová<br />
spektroskopie, laserová emisní spektroskopie, laserová atomová fluorescenční spektroskopie a<br />
selektivní laserová ionizační spektroskopie. Lasery zde umožňují jednak definovaný ohřev na<br />
velmi malé ploše, termické vybuzení atomů látky, dále laser umožňuje ionizaci par<br />
odpařeného materiálu, a to selektivně podle nastaveného kmitočtu laseru.<br />
6. 5. 3. 4 Laserové leptací a depoziční <strong>procesy</strong><br />
Specifické vlastnosti laserového záření umožňují realizovat nové tzv. suché leptací<br />
<strong>procesy</strong> využitelné v mikroelektronice při výrobě integrovaných obvodu. Možnost využití<br />
definované vlnové délky laserového záření, relativně velké energie fotonů při použití laserů v<br />
UV oblasti a možnost dosažení vysoké hustoty energie v definovaném prostoru umožňuje<br />
realizovat i specifické chemické reakce. Záření laseru může iniciovat chemické reakce na<br />
povrchu substrátu s následným odběrem materiálů (leptání) nebo je možná iniciace nad<br />
povrchem substrátu s následnou depozicí produktů chemické reakce na povrch substrátu.<br />
Tabulka 6. 2 Laserové leptací technologie<br />
Mechanismus Materiál Leptací plyn Laser<br />
Fotochemický Si SF6XeF2 CO2, Ar +<br />
Ge Br2 Ar<br />
poly-Si Cl2, F2 CO XeCl, ArF<br />
GaAs CF3Br, CH3Br, HBr ArF<br />
SiO2 CF3Br<br />
C2H3F, NF3+H2<br />
Ar<br />
ArF<br />
CC12F2 KrF<br />
Tepelný Si C12/HC1 Ar + , XeF<br />
GaAs Cl2 Ar<br />
Si02 HF CO2<br />
keramika Cl2 Ar<br />
ferit CF4, SF6 Ar +<br />
Uvedené proces ožné realizova okojové teplotě trátu, tak i při ohřevu<br />
y je m t jak při p subs<br />
substrátu laserem. Pro realizaci se využívají lasery pracující od IR oblasti (CO2, λ = 10,6 µm),<br />
přes viditelnou oblast, UV oblast až do VUV oblast zastoupenou excimerovým laserem ArF<br />
(λ = 193 nm).
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 131<br />
6. 5. 3. 5 Další možnosti využití laserů v elektronice<br />
V polovodičové technice a mikroelektronice lze využít laserů v řadě technologických operací<br />
- Žíhání polovodičových materiálů, rekrystalizace a poimplantační žíhání - poimplantační<br />
aktivace.<br />
- Expozice rezistů, odstraňování rezistů a leptání v litografii.<br />
- Maskované dotování, nanášení a leptání tenkých vrstev. Zde se používají dříve popsané<br />
technologie. Princip dotování plyne z následující rovnice SiH4 + PH3 → Si + P + H2 , kde<br />
dotujícím prvkem je fosfor. Při dotování borem se používá BCl3.<br />
- Kontaktování. Kontakty lze vytvářet laserovým svařováním nebo laserovým rozkladem<br />
WF6 dle rovnice WF6 + H2 → W + HF. Kontaktním materiálem je v tomto případě<br />
wolfram.<br />
- Pájení a přepájení hradlových polí, odstranění vadných paměťových<br />
buněk.<br />
- Obrábění tenkých vrstev, dostavování tenkovrstvových rezistorů, spiralizace rezistorů.<br />
- Značení spojů, popisování součástí a dekorační technologie<br />
- Řezání polovodičových destiček,<br />
substrátů pro HIO, vrtání mikrootvorů a další.<br />
6. 5. 3. 6 Výkonové technologické lasery<br />
Doposud uváděné aplikace využívaly lasery s výstupním výkonem relativně malým v<br />
rozsahu mW až jednotek W. Pro průmyslové aplikace se však používají lasery výkonem až<br />
desítek kW v kontinuálním provozu. Prozatím jsou vhodné dva typy laserů. V pevné fázi je to<br />
laser YAG: Nd 3+ a z plynových laser CO2.<br />
Lasery YAG: Nd 3+ pracují na vlnové délce 1,06 µm s relativně malou účinnost 0,1 až<br />
3,5 %. Ve srovnání s CO2 laserem je možné zaostření svazku na menší průměr a je možné<br />
lépe obrábět kovové <strong>materiály</strong> vzhledem k menší reflexi na povrchu materiálů. Z hlediska<br />
konstrukčního uspořádání je aktivní materiál laseru vybroušen do tvaru válce a umístěn ve<br />
společném ohnisku dvojeliptické dutiny. V ohnisku jednotlivých polovin dutin jsou umístěny<br />
budicí kryptonová výbojky. Celý systém je chlazen deionizovanou vodou. Největší<br />
dosahované výkony jsou několik set W v kontinuálním režimu a až 100 kW v pulsním<br />
režimu.<br />
CO2 lasery dosahují absolutně největších kontinuálních výkonů při účinnosti až 10 %.<br />
Pracovní směs tvoří CO2, N2, He, je buzena vysokonapěťovým doutnavým výbojem. Vysoká<br />
účinnost je způsobena příznivou<br />
účinností<br />
buzení horní laserové<br />
hladiny molekuly CO2 s rychlou<br />
výměnou energie s excitovanou<br />
molekulou N2. Přenos tepelné<br />
energie zvyšuje He.<br />
Podélně čerpané (axial flow)<br />
systémy, u kterých výboj i tok<br />
plynné směsi je rovnoběžný s osou<br />
trubice, dosahují kontinuálních<br />
výkonů do l kW při 60 W/m délky<br />
výboje. Požadovaný výkon se<br />
dosahuje zvětšováním délky<br />
výbojových trubic, který je<br />
limitován rozměry systému.<br />
Obr. 6. 25 Systém GTL laseru s předionizací -<br />
metoda SAGE
132 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Rychle podélně čerpané (fast axial flow) systémy se používají pro rozsah výkonů v<br />
kontinuálním režimu od 500 W do 6 kW při 600 W/m délky výboje. Po vyzáření fotonu se<br />
molekula CO2 odčerpá z prostoru optického rezonátoru do prostoru chladiče a do rezonátoru<br />
se přivede nový plyn.<br />
Příčně čerpané lasery - GTL (Gas-Transport-Laser) dosahují kontinuálních výkonů od<br />
l kW do 20 kW. Rychlé proudění plynu napříč přes optický systém umožňuje dosáhnout<br />
výkonu více než l kW/m délky výboje.<br />
Zvýšení výkonu u GTL systémů lze tzv. předionizací označovanou jako metoda SAGE<br />
(Silent Discharge Assisted Glow Excitation). Předionizace se uskutečňuje pomocí vložené<br />
elektrody do prostoru mezi anodu a katodu, na kterou je přivedeno napětí o kmitočtu asi<br />
25 kHz. Takové uspořádání umožňuje zvýšit výkon dva až třikrát. Uspořádání je naznačeno<br />
na obr. 6. 25.<br />
Zvyšování výkonů laserů lze posuzovat i z ekonomických hledisek. Cena laserového<br />
zařízení roste s výkonem exponenciálně a mnohdy je levnější pro dosažení potřebného<br />
výkonu použít metodu skládání svazků zobrazené na obr. 6. 26.<br />
Obr. 6. 26 Metoda skládání svazků tří laserů k dosažení velkého výkonu.<br />
L1 , L2 , L3 - 3 ks laserů s prstencovým tvarem svazku, OBJ. -<br />
objektiv, Z1 - zrcadlo, Z2 , Z3 - zrcadla ve tvaru mezikruží, Z4 -<br />
zrcadlový systém k rozšíření průměru svazku<br />
Vzhledem k vysokým výkonům technologických laserů je nutné řešit systém zrcadel<br />
rezonátoru odlišně než u malovýkonových laserů. Nelze zde použít polopropustné zrcadlo<br />
vzhledem k tomu, že absorbovaný výkon by toto zrcadlo zničil. Z toho důvodu se používají<br />
systémy zrcadel se 100% odrazivostí, jak je naznačeno na obr. 6. 27. Typické pro takové<br />
uspořádání je svazek, jehož řez má tvar prstence.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 133<br />
Obr. 6. 27 Používané systémy zrcadel v rezonátoru výkonových laserů<br />
Současné zkušenosti ukazují, že při nasazení<br />
technologických laserů ve strojírenství nutno uvažovat<br />
výkony laserů pro řezání v rozsahu 500 až l 500 W, pro<br />
svařování v rozsahu 2 kW až 5 kW a pro tepelné<br />
zpracování materiálů v rozsahu 5 kW až 10 kW.<br />
Při řezání se souose s paprskem přivádí do prostoru<br />
řezu aktivní nebo inertní plyn pomoci laserové hlavice<br />
dle obr. 6. 28. Rozlišujeme tři způsoby řezání.<br />
- Laserové sublimační řezání - proudící inertní plyn<br />
odfukuje vzniklé páry z prostoru řezu.<br />
- Laserové tavné řezání - silný proud inertního plynu<br />
vyfukuje roztavený materiál z řezu. Není nutné zahřát<br />
materiál na teplotu varu.<br />
- Laserové řezání s aktivním plynem - používá se kyslík,<br />
který vyvolává exotermickou reakci při spalování<br />
materiálu.<br />
Obr. 6. 28 Laserová hlavice<br />
Při svařování hovoříme o bodovém svařování nebo vrtání, kdy používáme půlení režim<br />
laseru, a dále svařování podélných a rotačních svarů, kdy používáme kontinuální režim laseru.<br />
Laserová hlavice umožňuje svařování v inertní atmosféře.<br />
Tepelné povrchové zpracování materiálů je ve stadiu zkoušek vzhledem k extremním<br />
požadavkům na výkon laseru. Používá se rozmítá-ní svazku po povrchu materiálu nebo<br />
úprava svazku do čtvercového tvaru s rovnoměrným rozložením výkonu.<br />
Důležitou součástí všech typů laserů jsou optické systémy. Jak vyplynulo z předchozího<br />
textu, pracují lasery ve velmi široké oblasti vlnových délek od ultrafialové až po<br />
dlouhovlnnou infračervenou oblast. Je zřejmé, že v tomto rozsahu vlnových délek<br />
nevystačíme s klasickými optickými <strong>materiály</strong>.<br />
- Pro oblast ultrafialovou se používá nejčastěji křemenné sklo, případně KBr nebo NaCl v<br />
monokrystalické fázi. U posledně jmenovaného materiálu je použití omezeno vzhledem k<br />
jeho navlhavosti a dále rozpadu při vyšších teplotách.<br />
- Pro viditelnou oblast lze použít klasické skleněné optické <strong>materiály</strong>.<br />
- Pro infračervenou oblast nutno rozlišit tzv. blízkou IR oblast a vzdálenou IR oblast<br />
(dlouhovlnnou). Do vlnové délky asi 2 µm lze použít optiku z křemenného skla. Pro delší<br />
vlnové délky se využívá monokrystalů germania nebo křemíku, které jsou transparentní do<br />
vlnové délky 20 µm, resp. 15 µm. V současné době jsou vyvíjeny nové <strong>materiály</strong> zejména<br />
pro výkonové CO2 lasery. Používají se monokrystaly KCl, Ge, GaAs a ZnSe. Ge lze<br />
použít do hustoty výkonu asi 100 Wcm -2 , GaAs až do 200 Wcm -2 .
134 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Pro snížení ztrát odrazem se vyráběné čočky opatřují antireflexní vrstvou nejčastěji<br />
z PbF2. Používá se i kombinace Ge a ZnS.<br />
Uvedené informace jen velmi stručně ukázaly na možnosti nasazení laserů v různých<br />
oblastech techniky. Zdaleka nebylo možné popsat všechny možnosti. Nebylo ani možné<br />
popsat podrobněji další důležité komponenty laserových zařízení jako optické systémy,<br />
systémy vedení a manipulace se svazkem nebo materiálem, řízení laserového komplexu<br />
počítačem atd.<br />
6. 6. ULTRAAKUSTICKÉ PROCESY<br />
6. 6. 1 Úvod<br />
V současné době se velmi rychle rozvíjí obor ultraakustika - nauka o fyzice<br />
ultrazvukového vlnění. Ultrazvuk se uplatňuje v mnoha přírodních vědách, odvětvích<br />
techniky i v lékařství. Jeho uplatnění lze nalézt jak v oblasti výzkumu, tak i v průmyslové<br />
aplikaci v moderních <strong>výrobní</strong>ch procesech. Podle účinků lze aplikační oblast ultraakustiky<br />
rozdělit na využívání tzv. aktivního ultrazvuku, který pracuje s vysokými intenzitami<br />
akustického pole a dále ultrazvuku pasivního, který pracuje s malými intenzitami akustického<br />
pole, vhodnými pro měřicí a diagnostické účely.<br />
V dnešní době se běžně provádí zkoušení kvality materiálu ultrazvukem (defektoskopie)<br />
, ve stavebnictví a geofyzice podává ultrazvuk informace o stavu materiálu a<br />
prostředí, využívá se k měření tlouštěk, výšky hladiny kapalin v nepřístupných prostředích,<br />
rychlosti proudění kapalin a plynů v potrubí přes stěnu nádoby nebo potrubí bezkontaktně atd.<br />
Propracovávají se nové metody ultrazvukové defektoskopie založené na vyhodnocování<br />
akustické emise, které umožňují sledovat růst trhlin a předvídat životnost vysoce namáhaných<br />
součástí, v chemickém průmyslu slouží ultrazvuk k laboratorní i provozní analýze vlastností<br />
kapalin, jako je koncentrace látek, hustota a viskozita. Ultrazvukem lze zjišťovat elastické<br />
vlastnosti látek, mechanická napětí i statické tlaky. Veškerá měření lze uskutečnit<br />
nedestruktivně i ve složitých prostředích. Aktivní ultrazvuk nachází uplatnění v celé řadě<br />
technologických procesů jako je cínování, pájení hliníku, obrábění, svařování kovů i plášťů,<br />
ale i při kontaktování v mikroelektronice. Uplatnění nachází i v chemickém průmyslu, kde se<br />
využívá jeho vlivu při urychlování chemických reakcí. Známé je využití ultrazvuku při<br />
vytváření stabilních emulzí a při čištění součástí. Ve výzkumu látek nalézá uplatnění studium<br />
hyperzvukového vlnění (nad 10 9 Hz), zaměřené na kvantovou akustiku v oblasti fononelektronové<br />
interakce.<br />
6. 6. 2 Fyzikální základy ultraakustiky<br />
6. 6. 2. 1 Základní pojmy<br />
6. 6. 2. 1. 1 Kmitání prostředí<br />
Ultrazvukem nazýváme mechanické kmity částic prostředí kolem rovnovážné klidové<br />
polohy s kmitočtem vyšším než 20 kHz. Z hlediska kmitočtového rozdělení mechanických<br />
kmitů prostředí zpravidla uvažujeme následující rozdělení:<br />
kmitočet nižší než 20 Hz - infrazvuk<br />
kmitočet od 20 Hz do 20 kHz - akustické pásmo (slyšitelné)<br />
kmitočet nad 20 kHz do l GHz - ultrazvuk<br />
kmitočet vyšší než l GHz - hyperzvuk
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 135<br />
Mechanické kmity se šíří prostředím charakteristickou rychlostí v a přenáší energii<br />
šířící se stejnou rychlostí jako uvažované vlnění. Podle velikosti přenášené energie můžeme<br />
ultrazvuk rozdělit na aktivní a pasivní. Aktivním lze nazvat takové vlnění, které se projevuje<br />
fyzikálními nebo chemickými účinky. Pasivní ultrazvuk má naopak velmi malý výkon a jeho<br />
využití lze hledat v oblasti měřicí techniky a diagnostiky.<br />
Budeme-li uvažovat, že částice prostředí kmitají s malými amplitudami a jejich pohyb<br />
nemá větší odchylky od sinusového průběhu, lze takový druh kmitání popsat vlnovou rovnicí<br />
2<br />
2<br />
∂ u(t, x) ∂ u(t, x)<br />
= v ,<br />
2<br />
2<br />
∂t<br />
∂x<br />
jejíž partikulární řešení pro rovinnou vlnu je rovnice pro harmonický pohyb<br />
resp.<br />
kde u je okamžitá výchylka (posunutí),<br />
Y je amplituda výchylky,<br />
ω = 2 π f je kruhový kmitočet,<br />
v je rychlost šíření vlny,<br />
x je souřadnice polohy,<br />
φ = ω (x/v) je fázový úhel.<br />
(6. 28)<br />
⎛ x ⎞<br />
u(t, x) = Y sin ω ⎜ t − ⎟<br />
(6. 29)<br />
⎝ v ⎠<br />
u(t, x) = Y sin ( ω t -ϕ<br />
),<br />
(6. 30)<br />
Rychlost kmitání částice kolem rovnovážné polohy nazýváme akustickou rychlostí a můžeme<br />
ji stanovit derivováním průběhu posunutí u(t,x) podle času<br />
v a<br />
du(t, x)<br />
= = ω Y cos ( ω t -ϕ<br />
),<br />
(6. 31)<br />
dt<br />
Dopadá-li ultrazvukové vlnění na určité prostředí, potom každý bod se vychyluje ze své<br />
rovnovážné polohy. Velikost výchylky označujeme jako akustickou výchylku, která je dána<br />
polohovým vektorem bodu, ve kterém je v daném okamžiku vychýlená částice vzhledem ke<br />
své rovnovážné poloze. Amplituda rychlosti kmitavého pohybu je<br />
V = ωY = 2 π fY ,<br />
(6. 32)<br />
Doba, po které se okamžité hodnoty výchylek částic opakují, se nazývá periodou T. Platí<br />
1<br />
T = ,<br />
(6. 33)<br />
f<br />
Jestliže se akustická vlna šíří prostředím rychlostí v , platí mezi délkou vlny λ, periodou T a<br />
kmitočtem f vztah<br />
v<br />
λ = v T = ,<br />
(6. 34)<br />
f<br />
Délku vlny můžeme definovat vždy jak při spojitém vlnění, tak i pro impulsy, kdy se v<br />
určitém časovém intervalu opakuje alespoň několik period kmitů.
136 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
6. 6. 2. 1. 2 Akustický tlak a intenzita<br />
Při průchodu ultrazvukové vlny daným prostředím, dochází k jeho zahušťování a<br />
zřeďování. S tím souvisí i změny tlaku, které mají harmonický charakter. Celkový tlak v<br />
daném prostředí bude<br />
∂u(t,<br />
x)<br />
K ⎛ x ⎞<br />
p c = ps<br />
± p a = ps<br />
+ K = ps<br />
± ω Y cos ω ⎜ t − ⎟ , (6. 35)<br />
∂x<br />
v ⎝ v ⎠<br />
kde ps je statický tlak v prostředí,<br />
pa je akustický tlak,<br />
K = v 2 ρ je modul objemové pružnosti prostředí,<br />
ρ je hustota prostředí.<br />
Pro akustický tlak můžeme tedy psát<br />
p a<br />
a jeho amplitudu<br />
⎛ x ⎞<br />
= ω Y ρ v cos ω ⎜ t − ⎟ ,<br />
(6. 36)<br />
⎝ v ⎠<br />
Pa = ω Y ρ v ,<br />
(6. 37)<br />
Vztah (6. 37) můžeme přepsat do tvaru<br />
kde<br />
Pa a<br />
= ω Y Z = V Z ,<br />
(6. 38)<br />
Za = ρ v ,<br />
(6. 39)<br />
je měrný akustický vlnový odpor.<br />
Šířící se vlnění v obecném prostředí přenáší energii, kde měřítkem přenosu za určitý čas<br />
je přenesený výkon. Při popisu prostorového vlnění je nutné hovořit o plošné hustotě<br />
přenášeného výkonu NS, jako podílu výkonu a plochy kolmé na směr šíření. Intenzita vlnění I,<br />
tj. střední hodnota měrného výkonu, je číselně dána střední hodnotou energie, která projde za<br />
jednotku času jednotkovou plochou S, orientovanou kolmo na směr šíření vlnění<br />
T<br />
1<br />
I = N s dt ,<br />
T ∫<br />
(6. 40)<br />
Za předpokladu platnosti vztahu<br />
obdržíme<br />
resp.<br />
N<br />
s<br />
0<br />
F v a S v a<br />
2 2 ⎛ x ⎞<br />
= = p a = p a vs<br />
= Za<br />
ω Y cos ω ⎜ t - ⎟ ,<br />
(6. 41)<br />
S S<br />
⎝ v ⎠<br />
1 2 2<br />
I = ρ v ω Y ,<br />
(6. 42)<br />
2<br />
2<br />
1 2 2 1 2 1 Pa<br />
1<br />
= Z a Y ω = Za<br />
V = = P V ,<br />
(6. 43)<br />
T<br />
2 2 Z 2<br />
I a<br />
a
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 137<br />
Z elektromechanických analogií odpovídá amplitudě akustického tlaku Pa amplituda<br />
elektrického napětí a amplitudě akustické rychlosti V amplituda intenzity střídavého proudu.<br />
Obdobně jako v elektrotechnice lze zavést efektivní hodnoty těchto veličin.<br />
P<br />
V<br />
= , V =<br />
(6. 44)<br />
2<br />
2<br />
Pef ef<br />
a jejich použitím lze upravit vztahy (6. 43) nebo zavést pojem výkon ultrazvukové vlny<br />
vztahem<br />
N ef ef<br />
= P V S ,<br />
(6. 45)<br />
6. 6. 2. 1. 3 Odraz a lom ultrazvukových vln<br />
V homogenním prostředí se ultrazvukové vlnění šíří přímočaře. Dopadne-li na rozhraní<br />
dvou prostředí, a toto rozhraní má mnohem větší rozměry než je vlnová délka vlnění, dojde<br />
jednak k odrazu vlnění a jednak k lomu. Předpokládáme, že daná prostředí jsou<br />
charakterizována měrnými akustickými vlnovými odpory Zal a Za2 , které jsou různé. V<br />
případě rovnosti měrných akustických vlnových odporů k odrazu nedojde. Pro případ, že<br />
vlnová délka dopadajícího vlnění je řádově stejná s rozměry rozhraní, dojde k ohybu vlnění.<br />
V obecném případě může nastat celá řada kombinací různých faktorů (úhel dopadu - Šikmý<br />
dopad, kolmý dopad, velikost akustických vlnových odporů, z jakého prostředí do jakého se<br />
vlnění šíří atp.), které ovlivní směr a charakter výsledné akustické vlny. Na obr. 6. 29 jsou<br />
znázorněny dva případy šíření akustické vlny.<br />
Obr. 6. 29 Odraz a lom akustické vlny na rozhraní různých látek<br />
Na obr. 6. 29 a) je znázorněn případ, kdy akustická vlna přichází z kapalného (plynného)<br />
prostředí, které je charakterizováno měrným akustickým vlnovým odporem Za1. Budeme<br />
předpokládat, že se daným prostředím šíří čistě podélná (longitudinální) vlna L rychlostí v1 .<br />
Po dopadu na rozhraní kapalina (plyn) - tuhá látka pod úhlem α L dojde k odrazu vlny a tato<br />
odražená vlna bude mít charakter čistě podélné vlny L (příčné vlny nemohou v kapalném<br />
nebo plynném prostředí vzniknout). V daném případě se úhel dopadu bude rovnat úhlu<br />
odrazu. Po splnění jistých podmínek, které si uvedeme déle, přejde část energie akustické<br />
vlny do tuhé látky, kde se budou šířit dvě vlny. Jednak vlna podélná L pod úhlem β L a dále
138 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
vlna příčná (transverzální) T pod úhlem βT. Na obr. 6. 29 b) je naznačena situace, kdy podélná<br />
vlna L přichází z prostředí tuhé látky. Zpět do tohoto prostředí se odráží dvě vlny, a to<br />
podélní L a příčná T, zatímco lomem přešla do kapaliny(plynu) pouze vlna podélná L .<br />
Pro výpočet příslušných úhlů lomu lze použít vztah<br />
resp.<br />
sin α L v1L<br />
LL<br />
= = n12<br />
sin β L v 2L<br />
,<br />
(6. 46)<br />
sin α L v1L<br />
LT<br />
= = n12<br />
,<br />
(6. 47)<br />
sin β T v 2T<br />
kde v1L je rychlost šíření podélné vlny v prostředí l ,<br />
v2T je rychlost šíření příčné viny v prostředí 2 ,<br />
n12 je index lomu (indexy LL , resp. LT naznačují o jaký typ vlnění se jedná).<br />
Je-li v1 > v2 , potom je n12 > l a úhel dopadu může nabýt všech hodnot mezi 0° a 90°, ale úhel<br />
lomu je omezen mezním úhlem β m , který určíme ze vztahu<br />
1<br />
in m ,<br />
n<br />
= β s (6. 48)<br />
12<br />
Je-li v1 < v2 , potom je n12 < l a úhel lomu může nabýt všech hodnot mezi 0° a 90°, ale úhel<br />
dopadu je omezen mezním úhlem αm , který určíme ze vztahu<br />
n , α s (6. 49)<br />
in m 12 =<br />
Dopadne-li vlnění pod větším úhlem než je mezní úhel α m , nedojde k lomu, ale k úplnému<br />
odrazu. Ze vztahu (6. 47) lze určit podmínku pro velikost úhlu dopadu α L , aby v pevné látce<br />
vzniklo nebo nevzniklo vlnění příčné T . V případě, že se šíří ultrazvukové vlnění pevnou<br />
látkou a dopadne na rozhraní s jinou pevnou látkou, mohou v obou prostředích vzniknout i<br />
příčné vlny a vzájemný vztah úhlů všech složek je dán Snellovým zákonem<br />
sin α<br />
v<br />
1L<br />
L<br />
sin β T sin α T sin β L<br />
= = = ,<br />
(6. 50)<br />
v v v<br />
kde symbolika je obdobná jako na obr. 6. 29.<br />
2T<br />
Svým způsobem zvláštní je kolmý dopad na<br />
rozhraní, pomocí kterého si můžeme definovat<br />
tzv. součinitel odrazu, součinitel průchodu a vznik<br />
tzv. stojatých vln jako specifický výsledek<br />
interference vlnění. Kolmý dopad ultrazvukové<br />
vlny na rozhraní dvou prostředí je znázorněn na<br />
obr. 6. 30. Předpokládáme, že vlnění se šíří ve<br />
směru dráhy ℓ a je charakterizováno akustickým<br />
tlakem pa . Na rozhraní dojde jednak k odrazu,<br />
kdy část vlnění se vrací s akustickým tlakem pal a<br />
k průchodu, kdy část projde do druhého prostředí<br />
s akustickým tlakem pa2. Budeme-li uvažovat<br />
rovinnou vlnu v prostředí bez útlumu, bude platit:<br />
1T<br />
2L<br />
Obr. 6. 30 Kolmý dopad<br />
ultrazvukové vlny na rozhraní dvou<br />
prostředí
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 139<br />
⎛ ⎞<br />
p a = Pa<br />
sin ω<br />
⎜ t - = ρ1<br />
v1<br />
v a ,<br />
v ⎟<br />
⎝ 1 ⎠<br />
⎛ ⎞<br />
p a1 = Pa1<br />
sin ω<br />
⎜ t - = - ρ1<br />
v1<br />
v a1 ,<br />
v ⎟<br />
⎝ 1 ⎠<br />
⎛ ⎞<br />
p a2 = Pa2<br />
sin ω<br />
⎜ t - = - ρ 2 v 2 v a2 ,<br />
v ⎟<br />
⎝ 2 ⎠<br />
(6. 51)<br />
(6. 52)<br />
(6. 53)<br />
S přihlédnutím k obr. 6.30 a ke skutečnosti kontinuity akustických tlaků a akustických<br />
rychlostí na rozhraní obou prostředí můžeme definovat součinitel odrazu R jako poměr<br />
odraženého akustického tlaku ke tlaku dopadajícímu<br />
kde<br />
P<br />
R =<br />
P<br />
a1<br />
a<br />
ρ 2 v 2 - ρ1<br />
v1<br />
=<br />
ρ v + ρ v<br />
1<br />
1<br />
2<br />
2<br />
1-<br />
m<br />
=<br />
1+<br />
m<br />
,<br />
(6. 54)<br />
ρ1<br />
v1<br />
m = ,<br />
(6. 55)<br />
ρ v<br />
2<br />
2<br />
Část vlnění současně projde do druhého prostředí a tato skutečnost je charakterizována<br />
součinitelem průchodu D<br />
Pa2<br />
2 ρ1<br />
v1<br />
D = =<br />
Pa<br />
ρ1<br />
v1<br />
+ ρ 2 v 2<br />
2<br />
=<br />
1+<br />
m<br />
,<br />
Mezi součinitelem odrazu a průchodu akustických tlaků platí vztah<br />
(6. 56)<br />
D = 1 - R ,<br />
(6. 57)<br />
6. 6. 2. 2 Šíření ultrazvuku v různých skupenských stavech<br />
6. 6. 2. 2. 1 Šíření ultrazvuku v plynech<br />
V plynech i kapalinách se mohou šířit pouze podélné akustické vlny. Rovnice pro<br />
rychlost šíření ultrazvuku lze odvodit z rovnic hydrodynamiky, Tyto rovnice přesněji popisují<br />
fyzikální děje v daném prostředí zvláště u intenzivních ultrazvukových polí. Pro první názor<br />
lze rychlost šíření ultrazvuku v ideálním plynu popsat vztahem<br />
v p =<br />
K<br />
=<br />
ρ<br />
χ p<br />
ρ<br />
,<br />
(6. 58)<br />
kde K je modul objemové pružnosti,<br />
ρ je hustota,<br />
p je tlak,<br />
χ je poměr měrných tepel (Poissonova konstanta)<br />
Při nevelkých změnách teplot a tlaků lze vyjádřit závislost šíření ultrazvukové vlny v plynu<br />
jako funkci teploty vztahem<br />
χ p 0<br />
= + bϑ<br />
= v p0 + bϑ<br />
= v (1+<br />
b′<br />
ϑ)<br />
,<br />
(6. 59)<br />
ρ<br />
v p<br />
p0<br />
0<br />
kde po je počáteční tlak při 0 °C,
140 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
b,b´ je absolutní, resp. relativní teplotní součinitel,<br />
ρo je počáteční hustota při 0 °C,<br />
ϑ je teplota ve °C.<br />
Uvedený vztah platí pro suchý plyn bez vodních par. V případě přítomnosti vodních<br />
par lze vztah (6. 59) upravit do tvaru<br />
= v (1+<br />
b′<br />
ϑ )(1+<br />
a′<br />
ϕ)<br />
,<br />
(6. 60)<br />
v p p0<br />
kde a` je konstanta,<br />
ϕ je poměrná vlhkost vzduchu v %.<br />
Například pro vzduch můžeme vztah (6. 60) psát ve tvaru<br />
v<br />
p<br />
-3<br />
-4<br />
= 331,82(1+<br />
1,83.10 ϑ )(1+<br />
2.10 ϕ)<br />
,<br />
(6. 61)<br />
Pro suchý vzduch při teplotě 20 °C obdržíme v = 343,96 ms -1 . Pro stejné podmínky, ale<br />
relativní vlhkost vzduchu 50 % , obdržíme vp = 347,4 m s -1 .<br />
6. 6. 2. 2. 2 Šíření ultrazvuku v kapalinách<br />
Rychlost šíření ultrazvukové vlny v kapalině je daná vztahem<br />
v<br />
k<br />
χ 1<br />
= = ,<br />
(6. 62)<br />
γ ρ γ ρ<br />
kde γi je izotermická stlačitelnost,<br />
γa je adiabatická stlačitelnost,<br />
χ je Poissonova konstanta,<br />
i<br />
a<br />
Při zjednodušení a při nevelkých nárocích na přesnost lze vyjádřit důležitou závislost<br />
rychlosti šíření ultrazvukové vlny na teplotě empirickým vztahem, který vyhovuje pro většinu<br />
aplikací:<br />
[ 1+<br />
b′<br />
( ϑ ϑ ) ] ,<br />
v k ≅ v k0 + b( ϑ-ϑ0) = v k0 − 0<br />
(6. 63)<br />
kde ϑo je referenční teplota,<br />
b, b ´ je absolutní, resp. relativní teplotní součinitel<br />
6. 6. 2. 2. 3 Šíření ultrazvuku v tuhých látkách<br />
Na rozdíl od plynů a kapalin existují v tuhých látkách mnohem větší meziatomární<br />
vazební síly, a proto mohou přenášet všechny druhy ultrazvukových vln. Při vyšetřování<br />
rychlosti šíření ultrazvukových vln v tuhých látkách je nutné rozlišovat zda se jedné o látky<br />
izotropní či anizotropní, tedy zda bude sledovaná rychlost závislá na orientaci a dále je nutné<br />
uvažovat tvar a rozměry tělesa vzhledem k vlnové délce ultrazvukového vlnění. V<br />
neohraničeném prostředí se šíří podélné vlny rychlostí<br />
E ⎡ ( 1−<br />
µ) ⎤<br />
v L = ,<br />
ρ<br />
⎢<br />
( 1 µ) ( 1-<br />
2µ ) ⎥⎦<br />
(6. 64)<br />
⎣ +<br />
kde E je Youngův modul pružnosti v tahu,<br />
µ je Poissonovo číslo.<br />
V prostředí, kde jsou jeden nebo dva rozměry ohraničeny (např. deska), platí:
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 141<br />
v L =<br />
Pro tyč platí:<br />
E ⎡ 1 ⎤<br />
2 ⎥<br />
ρ<br />
⎢<br />
⎣1-<br />
µ ⎦<br />
,<br />
(6. 65)<br />
E<br />
v L = .<br />
(6. 66)<br />
ρ<br />
6. 6. 2. 3 Útlum ultrazvukového vlnění<br />
Útlumem ultrazvukového vlnění rozumíme pokles jeho energie, resp. akustického<br />
tlaku při průchodu daným prostředím. Útlum je dán jednak odrazem, lomem, ohybem a<br />
rozptylem zejména na nehomogenitách a rozhraních a jednak je dán absorpcí ultrazvukových<br />
vln, kdy se mechanická energie vlny mění v tepelnou. Budeme-li uvažovat, že v jistém místě<br />
x bude mít intenzita ultrazvuku,hodnotu I , potom úbytek intenzity ve směru vlnění dx bude<br />
dI = - βI . dx (6.67)<br />
a po integraci po celé dráze dostaneme<br />
I = I0 exp(-β x) = I0 exp(-2 α x) (6.68)<br />
kde β je koeficient absorpce vlnění,<br />
α je činitel útlumu prostředí.<br />
Pokles energie ultrazvukového vlnění při průchodu danou látkou lze studovat z několika<br />
hledisek. Jednak jako negativní jev, který je spojen se ztrátami intenzity akustického pole,<br />
jednak jako jev pozitivní, kdy danému prostředí předáváme část energie v podobě tepla atp.,<br />
nebo můžeme poznatky využít, chceme-li zabránit šíření ultrazvuku do jistého prostoru<br />
realizací akustických clon nebo absorbérů ultrazvukového vlnění.<br />
6. 6. 3 Zdroje ultrazvuku<br />
Rozvoj ultraakustiky a zejména její aplikace v průmyslu vyžaduje široký výběr<br />
vhodných ultrazvukových zdrojů, jak z hlediska výkonového, kmitočtového rozsahu, tak i z<br />
hlediska provedení pro dané prostředí. Vlastní zdroj ultrazvukových kmitů se nazývá<br />
ultrazvukový měnič, který může pracovat na různých principech. Základní přehled<br />
ultrazvukových měničů je uveden v tabulce 6.3. V oblasti výkonových měničů používaných<br />
ve <strong>výrobní</strong>ch procesech jsou nejrozšířenější měniče magnetostrikční a piezoelektrické.<br />
Tabulka. 6. 3 Přehled ultrazvukových měničů<br />
Druh měniče<br />
Kmitočtový rozsah<br />
Aerodynamické generátory píšťaly<br />
10 až 20 kHz<br />
sirény<br />
16 až 100 kHz<br />
Hydrodynamické generátory 12 až 100 kHz<br />
Elektromagnetické<br />
Elektrodynamické<br />
Elektrostatické<br />
Magnetostrikční<br />
Elektrostrikční<br />
Piezoelektrické<br />
6. 6. 3. 1 Magnetostrikční ultrazvukové měniče<br />
do 24 kHz<br />
do 40 kHz<br />
do 70 kHz<br />
16 až 100 kHz<br />
20 až 100 kHz<br />
100 kHz až 10 10 Hz
142 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Magnetostrikce je jev při kterém<br />
dochází k deformaci feromagnetických<br />
materiálů vložených do magnetického pole.<br />
Nejčastěji používané <strong>materiály</strong> využívající<br />
magnetostrikce jsou nikl, kobalt, permalloy<br />
(Fe + Ni) a ferity. Změna deformace daného<br />
materiálu při působení proměnné intenzity<br />
magnetického pole je naznačena na obr. 90a.<br />
Jak plyne z obr. 90b, je deformace mnohem<br />
větší u předmagnetovaného měniče a<br />
kmitočet je shodný s kmitočtem budicím. U<br />
nepředmagnetováného měniče je kmitočet<br />
mechanických kmitů dvojnásobný.<br />
Předmagnetizace se vytváří buď zvláštním<br />
vinutím na měniči nebo častěji pomocí<br />
permanentního magnetu. Uspořádání tzv.<br />
okénkového měniče je na obr. 6. 31.<br />
Obr. 6. 32 Průběh deformace v magnetostrikčním měniči<br />
a) bez předmagnetizace<br />
b) s předmagnetizací<br />
6. 6. 3. 2 Piezoelektrické ultrazvukové měniče<br />
Obr. 6. 31 Okénkový magnetostrikční<br />
měnič<br />
Piezoelektrické ultrazvukové měniče patří mezi nejčastěji používané zdroje, ale i<br />
snímače ultrazvukové energie. Pracují na principu přímého, resp. převráceného<br />
piezoelektrického jevu. Piezoelektrický jev můžeme definovat jako elektrickou polarizaci<br />
krystalů náležejících do určitých tříd,vyvolanou mechanickou deformací, která je úměrná<br />
deformaci a mění s ní shodně znaménko. Převrácený piezoelektrický jev je charakterizován<br />
deformací krystalů působením přiloženého elektrického pole. Je třeba říci, že polarizace<br />
jakéhokoliv dielektrika je spojena s určitou deformací. Tento jev se nazývá elektrostrikce.<br />
Elektrostrikce je obecnou vlastností látek a není podmíněna žádnou zvláštní strukturou<br />
dielektrika. Převrácený jev k elektrostrikci neexistuje. Deformace při elektrostrikci souvisí s<br />
energií elektrického pole a je tedy s určitým přiblížením úměrná čtverci intenzity elektrického
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 143<br />
pole. Závislost deformace na intenzitě elektrického pole při elektrostrikci a při<br />
piezoelektrickém jevu je naznačena na obr. 6. 33 a) , resp. 6. 33 b).<br />
Obr. 6. 33 Závislost deformace látky na intenzitě elektrického pole<br />
a) při elektrostrikci<br />
b) při piezoelektrickém jevu<br />
Látky, které vykazují piezoelektrický jev musí splňovat jisté strukturální podmínky a lze<br />
je rozdělit do tří skupin.<br />
1. Látky s přirozenými piezoelektrickými vlastnostmi vyskytující se ve formě<br />
monokrystalů (křemen, turmalín, vínany a další).<br />
2. Monokrystalické látky uměle vytvořené (lithium niobát, lithium tantalát, germanium<br />
bizmut).<br />
3. Polykrystalické<br />
keramické <strong>materiály</strong> (bariumtitanáty, niobáty, tuhé roztoky<br />
zirkoničitanu-titaničitanu olovnatého).<br />
Z hlediska materiálového se v současné<br />
době dává v technické praxi přednost<br />
piezokeramice zejména na bázi tuhých roztoků PbZrO3-PbTiO3. Pouze pro vyšší kmitočty než<br />
15 MHz se stále používá křemenných měničů. Piezokeramika mé velmi výhodné vlastnosti<br />
zpracovatelské, kde se běžnými technologiemi dá vyrobit měnič libovolného tvaru a rozměru,<br />
ale i vlastnosti elektrické, kdy díky vysoké hodnotě relativní permitivity se dosahuje<br />
podstatně menší impedance a potřebné budicí napětí tak bylo sníženo až o dva řády (na<br />
hodnotu desítek až stovek voltů) oproti měničům křemenným. Nevýhodou keramických<br />
měničů oproti křemenným jsou vyšší dielektrické i mechanické ztráty, což spolu s nižšími<br />
hodnotami Curieovy teploty (při této teplotě zanikají piezoelektrické vlastnosti) omezuje<br />
pracovní teplotu vyzářený výkon měniče. Měniče, které pracují s trvalým výkonem nad 3 W<br />
cm -2 , musí být intenzívně chlazeny. Maximální výkon je omezen hodnotou 10 W cm -2 .<br />
Vlastní měnič je sestaven z keramické destičky vhodného tvaru,na jejímž povrchu jsou<br />
naneseny elektrody vytvořené nejčastěji vpalováním vhodného kovu. Různé typy jsou<br />
zobrazeny na obr. 6. 34.
144 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obr. 6. 34 Piezoelektrické ultrazvukové měniče<br />
a) půlvlnný měnič<br />
b) čtvrtvlnný měnič<br />
c) složený měnič<br />
Pro kmitočtový rozsah 200 kHz až 5 MHz se nejčastěji používá módu tlouštkově-podélných<br />
kmitů. Tvarově se volí měniče kruhové, čtvercové nebo obdélníkové desky, prstence, trubice<br />
a pro fokuzaci měniče vybroušené do kovexních<br />
tvarů. Podle způsobu vyzařování hovoříme o měniči<br />
oboustranně vyzařujícím nebo jednostranně vyzařujícím.<br />
Principiální uspořádání oboustranně<br />
vyzařujícího měniče je na obr. 6.35.<br />
Obr. 6. 35 Oboustranně vyzařující měnič<br />
Je třeba říci, že takové uspořádání se používá jen<br />
výjimečně a častěji se používá jednostranně vyzařujícího měniče, jehož principiální<br />
uspořádání je na obr. 6. 36. Jedna plocha keramické destičky<br />
(výbrusu) je v přímém kontaktu<br />
s prostředím, do kterého má<br />
vyzařovat a druhá plocha je od tohoto<br />
prostředí oddělena vzduchovým<br />
polštáře m. Vzhledem k tomu,<br />
že<br />
Obr. 6. 36 Jednostranně vyzařující měnič<br />
vyzářený akustický<br />
výkon je přímo<br />
úměrný impedanci prostředí, bude<br />
výkon vyzářený do vzduchového<br />
polštáře řádově menš í než výkon<br />
vyzářený např. do kapaliny. Na<br />
rozhraní vzduch-výbrus dojde téměř k<br />
úplnému odrazu akustické vlny<br />
a z<br />
toho důvodu bude akustická rychlost<br />
na vyzařující straně dvojnásobná než<br />
u oboustranně vyzařujícího měniče.<br />
Negativně se uplatňuje popsaný mechanismus při přiložení měniče na pevné prostředí,<br />
vznikne-li mezi měničem a tímto prostředím vzduchová mezera. Snížení vyzářeného výkonu<br />
se omezuje vyplněním této mezery olejem nebo vazelínou.<br />
Pro kmitočtové pásmo 10 kHz až 100 kHz je typické uspořádání měniče typu<br />
"sandwiche" naznačené na obr. 6. 37. Vlastní měnič je složen ze dvou částí zapojených<br />
paralelně a je sevřen svorníkem mezi dva kovové bloky. Takové uspořádání jednak snižuje<br />
rezonanční kmitočet celé soustavy a jednak umožňuje vytvořit v keramickém měniči tlakové
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 145<br />
předpětí, což dovoluje zvýšení výkonu vyzářeného měničem. Při činnosti měniče je keramický<br />
materiál namáhán střídavě tahovým a tlakovým pnutím. Amplituda kmitů je omezena<br />
pevností daného materiálu v tahu vzhledem k tomu, že pevnost v tahu je několikrát nižší než<br />
pevnost v tlaku. Zavedením tlakové předpětí lze podstatně zvýšit amplitudu kmitů, jak je<br />
zřejmé z obr. 6. 38.<br />
Obr. 6. 37 Měnič typu "sandwiche"<br />
6. 6. 4 Akustické transformátory<br />
Ultrazvukové měniče popsané v<br />
předchozí části se jen výjimečně hodí k<br />
přímé aplikaci v konkrétním prostředí.<br />
Většinou je třeba realizovat další<br />
doplňkové části, které slouží<br />
k přímému<br />
navázání měniče na dané prostředí, k<br />
zavedení ultrazvukové energie do daného<br />
místa, ke koncentrování energie, zvýšení<br />
amplitudy kmitů, k přizpůsobení měniče<br />
atp. Důležitým prvkem, který plní dané<br />
požadavky, je tzv. akustický<br />
transformátor ( vlnovod). Nejjednodušší provedení je naznačeno na obr. 6. 39.<br />
Obr. 6. 38 Průběh deformace v keramice namáhané střídavým elastickým napětím<br />
a) bez předpětí b) s tlakovým předpětím
146 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
odkud<br />
Obr. 6. 39 Nejjednodušší provedení<br />
akustického<br />
transformátoru<br />
Toto provedení slouží pouze k<br />
navázání měniče s daným<br />
prostředím, když není možný<br />
přímý styk měniče Vlastní<br />
vlnovod je ve tvaru válce, jehož<br />
délka ℓ se vypočítá ze vztahu<br />
1 E v<br />
f = = ,<br />
(6. 69)<br />
2<br />
ρ 2<br />
v<br />
= .<br />
(6. 70)<br />
2f<br />
kde E je modul pružnosti materiálu válce,<br />
ρ je hustota materiálu válce,<br />
v je rychlost objemového vlnění,<br />
f je vlastní kmitočet měniče.<br />
Je-li nutné transformovat výchylku vlnění k vyšším hodnotám, používají se<br />
transformátory (vlnovody) různých tvarů. Vlnovod je navržen tak, aby rezonoval na shodném<br />
kmitočtu jako měnič. Volba vhodného vlnovodu souvisí přímo se způsobem aplikace.<br />
6. 6. 5 Využití účinků ultrazvuku<br />
Ultrazvuk se využívá v měřicí technice k měření fyzikálních vlastností plynů a<br />
kapalin, ultrazvukem lze vyhodnocovat koncentraci směsí kapalin, kde se využívá závislosti<br />
rychlosti šíření ultrazvuku na koncentraci, ultrazvukem lze měřit i viskozitu kapaliny,<br />
ultrazvukem lze měřit např. elastické vlastnosti tuhých látek, měřit výšku hladiny a průtok<br />
kapalin. Použití ultrazvuku v defektoskopii je jednou z velmi progresivních aplikací<br />
ultraakustiky v technické praxi. Oblast využití ultrazvuku v praxi je v současné době již<br />
natolik rozsáhlá, že nelze s ohledem na vymezený rozsah předloženého textu postihnout<br />
celou problematiku.<br />
6. 6. 5. 1 Využití intenzivních ultrazvukových polí<br />
6. 6. 5. 1. 1 Chemické a fyzikální účinky ultrazvuku<br />
U intenzivního ultrazvukového pole byly pozorovány zejména jeho oxidační účinky a<br />
účinky urychlující chemické reakce. Oxidační účinky jsou způsobovány kavitací, kdy se<br />
uplatňuje elektrické pole, resp. elektrické mikrovýboje při vzniku kavitační kaverny. Byl<br />
pozorován vliv ultrazvuku na změnu elektromotorické síly galvanického článku, na snížení<br />
napětí při elektrolytickém vylučování kovů, urychluje se vylučování kovů při galvanickém<br />
pokovování atp. Intenzívní ultrazvuk mé v plynném prostředí obsahujícím pevné částice<br />
koagulační účinky, využívané v odprašovacích zařízeních. Naopak v kapalinách má význačné<br />
účinky disperzní. Těchto účinků se využívá k vytváření emulzí a suspenzí. Intenzivního
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 147<br />
kavitačního pole se využívá např. v papírenském průmyslu při rozvláčňování buničiny. V<br />
potravinářském průmyslu se ultrazvuku používá k extrakci aromatických látek atp. Využití<br />
lze nalézt i v metalurgii, kde lze dosáhnout zjemnění zrna, vytvářet slitiny nemísitelných<br />
kovů, odplyňovat taveniny, urychlovat rozpouštění jednoho kovu ve druhém atp.<br />
6. 6. 5. 1. 2 Některé další příklady využití ultrazvuku ve <strong>výrobní</strong>ch procesech<br />
Intenzívní ultrazvukové pole lze využít k pájení hliníku a jeho slitin. V roztavené pájce<br />
vytvoří kavitační oblasti, které naruší oxid hliníku, zabraňující přilnutí pájky k vlastnímu<br />
kovu. Obnažený kov je před oxidací chráněn roztavenou pájkou, která přilne ke kovu.<br />
Uvedená metoda je použitelná jak pro vlastní pájení, kdy vyhřívaný hrot pájedla je<br />
rozkmitáván přes převodní člen magnetostrikčním měničem, tak i při pocínovávání<br />
hliníkového plechu, kdy se do lázně pájky umísťuje větší počet měničů vytvářející<br />
rovnoměrné ultrazvukové pole po celé šíři plechu. Při odstraňování okují ultrazvukem se po<br />
moření daná součást ponoří do vody, kde se okuje odstraní kavitačním účinkem. Dosahuje se<br />
až 50 % úspory času a 30 % úspory kyseliny oproti normálnímu postupu. Kavitačních účinků<br />
intenzivního ultrazvuku se využívá při čištění a<br />
odmašťování strojních součástí. Podle rozměrů<br />
součástí se volí pracovní kmitočet měniče od<br />
20 kHz až do l MHz při čištění malých otvorů.<br />
Současně se využívá chemických účinků<br />
vhodných kapalin.<br />
Obr. 6. 40 Princip ultrazvukového vrtání<br />
Při opracovávání tvrdých materiálů se<br />
používá obrábění ultrazvukovými vibracemi.<br />
Podstata vrtání je zobrazena na obr. 6. 40.<br />
Podélně kmitající trn je v kontaktu s obráběným<br />
materiálem v prostředí suspenze brusného prachu<br />
a vody. Vlastní vrtací proces uskutečňují částice<br />
brusiva. Vrtací nástroj je konstruován z pevného<br />
kovu a jeho tvar je vypočítán z hlediska jeho<br />
funkce jako akustický transformátor.<br />
Intenzívní ultrazvukové pole lze využít i v<br />
ík a jeho slitiny. Značné rozšíření této metody je<br />
zejména u svařování plastů, ale i textilu,<br />
obsahujícího větší procento plastů. Tímto<br />
způsobem lze svařovat všechny termoplasty i<br />
takové, u kterých nelze použít metodu<br />
vysokofrekvenčního ohřevu. Do<br />
místa styku<br />
dvou plastů se zavede intenzívní ultrazvukové<br />
pole za současného působení malého tlaku.<br />
Vzniklé teplo <strong>materiály</strong> nataví a tyto se spojí.<br />
Pevnost sváru dosahuje až 95 % pevnosti<br />
vlastního svařovaného materiálu. Intenzita<br />
ultrazvukového pole dosahuje hodnot až<br />
200 W/cm 2<br />
oblasti svařování. Z kovů jde zejména o hlin<br />
při kmitočtu kolem 20 kHz.<br />
Obr. 6. 41 Princip svařování plastů
148 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Spojování dvou kovů pomocí ultrazvuku našlo uplatnění i v mikroelektronice při tzv.<br />
kontaktování. Používají se dvě metody, a to "Thermosonic" (TS) a "Ultrasonic" (US).<br />
Obr. 6. 42 Ultrazvukové kontaktování a) uspořádání pro metodu "Thermosonic"<br />
b) zvětšený detail sonotrody<br />
Obr. 6. 43 Ultrazvukové kontaktování a) uspořádání pro metodu "Ultrasonic"<br />
b) zvětšený detail sonotrody<br />
V této kapitole jsme jmenovali jen základní možnosti využití ultrazvuku v technice. V<br />
souvislosti s laserovou technikou jsou využívány účinky ultrazvuku v součinnosti s<br />
elektrickým polem k buzení tzv. chemických laserů. Akustické vlny v tuhých látkách mohou<br />
být využity k rozkladu světelného záření na tzv. akustických mřížkách atp. V oblasti filtrové<br />
techniky je rozpracována široká oblast filtrů s tzv. povrchovou akustickou vlnou (PAV), kde<br />
se využívá kmitání tenké povrchové vrstvy materiálů. Jistě by bylo možné jmenovat celou<br />
řadu dalších aplikací ultrazvuku v různých oblastech lidské činnosti.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 149<br />
6. 7. ELEKTROEROZÍVNÍ PROCESY<br />
6. 7. 1 Úvod<br />
Při elektroerozivních procesech využíváme tepelných účinků elektrického výboje<br />
vznikajícího mezi povrchem obráběné součásti a elektrodou použitou ve funkci pracovního<br />
nástroje. Počátky elektroerozivního opracování materiálů se datují rokem 1943, kdy byla<br />
rozpracována elektrojiskrová metoda obrábění vodivých materiálů. V současné době se<br />
používají tři základní technologie: elektrojiskrové, elektroimpulsní a elektrokontaktní. V<br />
prvém případě dochází k roztavení a odpaření mikroskopického objemu kovu v důsledku<br />
vysoké teploty elektrické jiskry, resp. teploty výbojového kanálu. Ve druhém případě je<br />
zdrojem tepla obloukový výboj. U elektrokontaktního způsobu je ohřev kovu způsoben<br />
teplem vzniklým průchodem proudu o vysoké proudové hustotě malou plochou dotýkajících<br />
se nerovností povrchu nástroje a obráběného materiálu.<br />
Elektroerozívní obrábění nachází široké uplatnění v průmyslu při obrábění těžko<br />
obrobitelných kovů, dále u komplikovaných tvarů obrobků, lisovacích forem, forem na<br />
odlévání, tvarově komplikovaných otvorů atp. Elektroerozívní proces lze mnohdy použít při<br />
náhradě klasického soustružení, frézování, broušení a vrtání. Mnohé tyto aplikace umožní<br />
nejen časové zkrácení <strong>výrobní</strong>ho procesu, ale umožní i výrobu takových součástí, které<br />
klasickými metodami vyrobit nelze.<br />
6. 7. 2 Proces elektroeroze<br />
Proces elektroeroze spočívá v roztavení, případně v odpaření, mikroskopického objemu<br />
kovu v důsledku vysoké teploty povrchu kovu v místě kde došlo k elektrickému výboji mezi<br />
dvěma elektrodami (opracovávanou součástí a pracovním nástrojem). Přivedeme-li na tyto<br />
elektrody impuls dostatečně vysokého elektrického napětí, dojde k elektrickému průrazu<br />
prostředí mezi elektrodami, což je buď to vzduch nebo častěji vhodná elektricky nevodivá<br />
kapalina. Na počátku výboje se elektrony pohybují mezielektrodovým prostředím od katody<br />
k anodě. Jejich existence je daná jednak vlastním mezielektrodovým prostředím a dále<br />
mohou vystupovat z povrchu katody (studená emise), kde na mikroskopických nerovnostech<br />
povrchu se vytvoří dostatečně vysoká intenzita elektrického pole pro vznik studené emise. Na<br />
své cestě k anodě způsobují elektrony nárazovou ionizaci. Dochází tak k lavinovitému vzniku<br />
nosičů proudu až se vytvoří vodivý kanál mezi anodou a katodou - elektrický výboj. Při<br />
nárazové ionizaci a vzniku elektrického výboje dochází k uvolňování energie ve formě tepla,<br />
světla a mechanické rázové vlny. Teplota kanálu výboje dosahuje až 40 000 °C. Laviny<br />
elektronů a iontů nesoucí jistě množství energie dopadají na elektrody a předávají jejich<br />
povrchu kinetickou energii, které se přemění v teplo. Přeměnou kinetické energie nosičů<br />
proudu v teplo na elektrodě a ohřevem povrchu elektrody teplem výbojového kanálu<br />
dosahuje teplota povrchu elektrody v místě výboje až 10 000 °C. Při tak vysoké teplotě se<br />
roztaví a odpaří mikroskopické množství kovu, a tak dochází k erozi povrchu obráběného<br />
materiálu. Proces eroze se podstatně zvyšuje, je-li mezi elektrodami kapalné prostředí.<br />
Použitá kapalina v procesu elektroeroze plní čtyři základní funkce.<br />
1) Zachycuje částice roztaveného kovu i kovové páry, které byly vyvrženy z povrchu<br />
elektrody při výboji. Dochází k jejich prudkému ochlazení, a tak se vytvoří disperze<br />
granulí. Nedojde tedy ke zpětnému usazení kovu na elektrodách, což by snižovalo<br />
kvantitativně proces eroze.<br />
2) Kapalina umožní odstranění produktů eroze z obráběné zóny, čistí tedy mezielektrodový<br />
prostor a tak stabilizuje celý proces.<br />
3) Zvyšuje elektrickou pevnost prostředí mezi elektrodami.
150 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
4) Ochlazuje elektrody.<br />
Proces eroze si můžeme znázornit pomocí obr. 6. 44, kde je nakreslen mikrorelief<br />
povrchu elektrod a schéma výboje. Při elektrickém průrazu kapalného prostředí mezi<br />
elektrodami se vytvoří ionizovaný kanál, kterým projde celá energie impulsu. Část energie se<br />
ztrácí v kapalině ve formě tepelných ztrát, rázové mechanické vlny, akustických ztrát,<br />
optickým zářením a 30 - 40 % energie elektrického impulsu způsobí vlastní ohřev elektrod.<br />
Po skončení výboje dochází k deionizaci prostředí mezi elektrodami. Následující výboj se<br />
obvykle realizuje na jiném místě povrchu elektrody mezi dalšími dvěma nejbližšími body<br />
elektrod. Takto dochází k erozi po celém<br />
povrchu elektrod až do okamžiku, kdy<br />
vzdálenost elektrod bude natolik velká, že k<br />
výboji již nedojde. Pokračování procesu je<br />
možné po dalším přiblížení elektrod, což se u<br />
skutečných zařízeni děje automaticky pomocí<br />
speciálního regulačního systému.<br />
Obr. 6. 44 Charakteristika elektrických<br />
impulsů<br />
l - výbojový kanál, 2 - plynová zóna,<br />
3 - roztavená oblast na elektrodách,<br />
4 - roztavené částice kovu,<br />
5 6. - 7. částice 2. 1 Charakteristika<br />
ochlazeného kovu v kapalině<br />
V procesu elektroeroze hraje velmi důležitou roli<br />
charakter elektrických impulsů. Z<br />
toho důvodu je nutné definovat si některé základní pojmy. Na obr. 68 jsou naznačeny tvary<br />
několika impulsů. Daný impuls je charakterizován polaritou, amplitudou Um, délkou τ a<br />
délkou periody T. Je zřejmé, že tvar impulsů může být mnohdy velmi komplikovaný. Délka<br />
impulsu τ je definována od počátku do konce impulsu, což mnohdy u komplikovaných tvarů<br />
nelze jednoznačně určit.<br />
V takových případech se<br />
za počátek a konec<br />
impulsu volí okamžik,<br />
kdy napětí impulsu<br />
dosáhlo 5 % nebo 10 %<br />
maximální amplitudy<br />
Um. U některých tvarů<br />
impulsů hovoříme o<br />
délce přímého impulsu<br />
τp a o délce obráceného<br />
impulsu τo.<br />
Obr. 6. 45 Tvary elektrických impulsů<br />
U elektroerozivních procesů se používá délka impulsů v rozsahu od 10 -7 do 10 -1 s. Důležitou<br />
-4 -4<br />
hodnotou je délka impulsu 10 s. Impulsy s délkou τ < 10 s se používají při elektrojiskrovém<br />
obrábění - hovoříme tedy o jiskrovém výboji a impulsy s délkou τ > 10 -4 s se používají<br />
při elektroimpulsním obrábění - hovoříme o obloukovém výboji. Velmi důležitou veličinou je<br />
dále poměr
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 151<br />
T<br />
q = ,<br />
(6. 71)<br />
ô<br />
Při elektroerozívním obrábění leží v rozmezí hodnot l až 30. Při elektrojiskrovém obrábění se<br />
používá hodnota q > 5 až 10. Při elektroimpulsním obrábění je hodnota q < 5. Amplituda<br />
proudu při výboji v elektroerozívních procesech leží ve velmi širokém rozsahu od jednotek<br />
ampérů do desítek tisíc ampérů.<br />
Kmitočet elektrických impulsů f můžeme vypočítat jednak z délky periody T nebo z<br />
poměru q a délky impulsu τ.<br />
1 1<br />
f = =<br />
(6. 72)<br />
T q ô<br />
Při elektroerozívním obrábění se používá kmitočet impulsů v rozsahu 100 Hz až 2 MHz.<br />
Důležitou charakteristikou elektrických impulsů používaných při elektroerozi je jejich<br />
forma. Obvykle se používají čtyři základní formy: unipolární se stejnosměrnou složkou,<br />
unipolární bez stejnosměrné složky, střídavé symetrické, střídavé nesymetrické. Při<br />
elektrojiskrové technologii se používají impulsy střídavé nesymetrické, při elektroimpulsní<br />
unipolární s i bez stejnosměrné složky, při elektrokontaktní střídavé symetrické i unipolární<br />
bez stejnosměrné složky.<br />
6. 7. 2. 2 Elektrodový systém<br />
Jak již bylo řečeno, elektrické výboje umožňující vlastní elektroerozívní proces<br />
vznikají mezi dvojicí elektrod, z nichž jedna je tvořena obráběnou součástí a druhá je použita<br />
ve funkci pracovního nástroje. Jak bylo naznačeno v předchozích částech, dochází k erozi na<br />
obou elektrodách. Je snahou, aby maximální kvantitativní efekt eroze probíhal na povrchu<br />
obráběné součásti. Tento požadavek je ale podmíněn celou řadou podmínek.<br />
Při použití unipolárních impulsů a stejného materiálu elektrod bylo zjištěno, že efekt<br />
eroze neprobíhá na obou elektrodách stejně, ale je ovlivněn délkou impulsů. U impulsů s<br />
malou délkou τ je větší eroze anody než katody. U impulsů s velkou délkou τ je tomu naopak.<br />
Tomuto jevu se říká polární efekt. Mechanismus polárního efektu není přesně vysvětlen.<br />
Uplatňují se zde složité <strong>procesy</strong> nerovnoměrného rozložení teploty na elektrodách, interakce<br />
částic s elektrodami, mechanické vlivy rázové vlny, kavitační vliv při vzniku a zániku<br />
kavitačních kaveren, složité mechanismy v plazmě atp. Z uvedených skutečností vyplývá<br />
první důležitý závěr, že při elektrojiskrovém obrábění je obráběné součást anodou a pracovní<br />
nástroj katodou. Při elektroimpulsním obrábění je tomu naopak.<br />
Použijeme-li na elektrody různé <strong>materiály</strong>, bude efekt eroze, při stejném charakteru<br />
impulsů, dán tepelněfyzikálními vlastnostmi použitých kovů, jako jsou teplota tavení TL,<br />
měrná hmotnost ρ, tepelné kapacita C a součinitel tepelné vodivosti λ. Tyto veličiny určují<br />
tzv. kriterium Palatnika<br />
Pk L<br />
= T ρ C λ .<br />
(6. 73)<br />
Podle velikosti hodnoty P k dle (6. 73) můžeme usoudit, který z kovů dříve dosáhne teploty<br />
tavení. Čím vyšší bude hodnota Pk, tím nižší bude tzv. elektroerozívní obrobitelnost.<br />
Názornější srovnání elektroerozívní obrobitelnosti lze ukázat pomocí tabulky 6. 3.<br />
Jestliže vezmeme za základ elektroerozívní obrobitelnost oceli, bude poměrná obrobitelnost<br />
ostatních kovů dle zmíněné tabulky.
152 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Tabulka 6.3<br />
Kov<br />
Poměrná<br />
obrobitelnost<br />
Kov<br />
hořčík 6,0 nikl 0,8<br />
hliník 4,0 titan 0,6<br />
měď 1,1 molybden 0,5<br />
ocel 1,0 wolfram 0,3<br />
Poměrná<br />
obrobitelnost<br />
Elektroda pro funkci pracovního nástroje se vyrábí různými technologiemi jako je<br />
soustružení, frézování, broušení, odlévání do fore m atp.<br />
Pro výrobu nepravidelných tvarů lze<br />
použít i galvanoplastickou metodu. V poslední době se<br />
vyrábí některé elektrody pro funkci<br />
pracovního nástroje technologiemi užívanými v práškové metalurgii. Vzhledem k relativně<br />
vysoké pórovitosti těchto materiálů vniká do pórů použitá pracovní kapalina, které se vlivem<br />
vysoké teploty výbojů rozkládá a vytváří na povrchu nástroje grafitovou vrstvu. Při volbě<br />
vhodných parametrů impulsů je elektroeroze takových nástrojů prakticky nulová.<br />
6. 7. 3 Metody generování elektrických impulsů<br />
Různé tvary elektrických impulsů o daných parametrech, používané v elektroerozívních<br />
procesech, se generují v podstatě třemi metodami - elektricky, mechanicky nebo<br />
kombinovaným způsobem.<br />
Elektrický nebo kombinovaný způsob se používá při elektrojiskrové nebo<br />
elektroimpulsní technologii. Jedná se o speciální generátory proudových elektrických impulsů<br />
regulovaných v širokém rozsahu amplitudy proudu, frekvence, délky impulsů a jejich<br />
polarity.<br />
Při mechanické metodě generování periodických impulsů proudu do obráběné zóny se<br />
využívá mechanického přibližování a vzdalování elektrod napájených stejnosměrným nebo<br />
střídavým proudem ze speciálního usměrňovače nebo přímo z transformátoru. Tato metoda se<br />
využívá při elektrokontaktní technologii.<br />
Generátory pro elektrojiskrovou nebo elektroimpulsní technologii se dělí na tzv.<br />
nezávislé a závislé. U závislých generátorů jsou parametry impulsů ovlivněny vzdáleností<br />
elektrod a vlastnostmi prostředí mezi nimi. U nezávislých generátorů jsou parametry impulsů<br />
dány vlastnostmi generátoru. Blokové schéma nezávislého generátoru je na obr. 6. 46.<br />
Obr. 6. 46 Blokové schéma<br />
nezávislého generátoru impulsů<br />
l - zdroj, 2 - proudový regulátor,<br />
3 - akumulátor energie,<br />
4 - spínací obvod,<br />
5 - elektrodový systém<br />
Závislé generátory se mohou realizovat buď jako relaxační<br />
s prvky RC nebo RLC,<br />
dále<br />
tyristorové s prvky RLC, generátory s usměrňovači atp. Některé typy jsou pro ilustraci<br />
uvedeny na obr. 6. 47 a, b, c, d. Generátory zobrazené na obr. 6. 47 a, b mohou mít ještě<br />
celou<br />
řadu modifikací podle kombinace prvků RLC jako např. RLCL, RCR, RCL, LRC, LC atp.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 153<br />
Obr. 6. 47 Některé typy impulsních generátorů<br />
a) typ RC, b) typ RLC, c) typ CC, d) typ s usměrňovačem<br />
l - zdroj stejnosměrného proudu, 2 - zdroj střídavého proudu<br />
6. 7. 4 Použití elektroerozivních procesů<br />
6. 7. 4. 1 Elektrojiskrové technologie<br />
Elektrojiskrové technologie se používá při obrábění materiálů z tvrdých slitin a z<br />
těžkoobrob itelných materiálů. Používá se pro zhotovení nejrůznějších výrobků složitých<br />
tvarů, povrchů různých profilů, drážek, precizních otvorů, sítek, membrán atp., v různých<br />
odvětvích strojírenství, přístrojové technice, mikroelektronice atd.<br />
Elektrojiskrová technologie je charakterizována výbojem o krátké délce τ = 10 -4 až<br />
10 -7 s, koeficientem q > 5 až 10 a relativně nevelkou energii impulsů do 5 J. Uskutečňuje se<br />
při tzv. přímé polaritě elektrod - nástroj je katodou, obrobek anodou. Zvolený režim ovlivňuje<br />
i přesnost s jakou můžeme daný výrobek opracovat. U elektrojiskrového obrábění dosahujeme<br />
přesnosti 0,2 až 0,005 mm.<br />
U elektrojiskrové technologie se často používá postup řezání materiálů pomocí drátové<br />
elektrody. Princip metody je zřejmý z obr. 6. 48. Jako elektroda se používá napínaný drát a<br />
příslušný tvar řezné dráhy se dosahuje vzájemným posuvem drátu a obrobku. Pracovní<br />
prostor, tj. prostor mezi drátovou elektrodou a obrobkem bývá obdobně jako v předchozích<br />
případech zaplněn vhodným dielektrickým materiálem, nejčastěji deionizovanou vodou. V<br />
zásadě jsou možné tři způsoby pohybu:<br />
a) Osa drátu se nepohybuje a pohyb vykonává pouze obrobek ve dvou směrech X a Y.<br />
b) Osa drátu se pohybuje v jednom směru a obrobek se pohybuje ve směru kolmém na<br />
směr pohybu drátu.<br />
c) Obrobek je pevně upevněn a pohyb vykonává osa drátu ve směrech X a Y.<br />
Drát elektrody mívá průměr 0,02 až 0,3 mm a zhotovuje se z mědi, mosazi, molybdenu nebo z<br />
oceli. Drát se odvíjí ze zásobní cívky, aby v místě řezu byla zabezpečena konstantní tloušťka<br />
nového<br />
drátu, jelikož eroze drátové elektrody je značná.
154 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Obr. 6. 48 Princip metody elektrojiskrového řezáni materiálu pomocí drátové elektrody<br />
ZC - zásobní cívka s drátem, D – drát, NZ - napínací zařízení, NC – navíjecí<br />
cívka,<br />
PS - pracovní stůl a obrobkem<br />
Moderní vyřezávačky jsou plně řízeny číslicovou technikou (NC), (CNC). Řídicí<br />
systém ovládá směr a rychlost pohybu drátu, resp. obrobku, řídí generátor impulsů, jeho<br />
výkon, kmitočet impulsů atp. Vlastní proces je obvykle časově rozčleněn do tří režimů, a to<br />
tzv. hrubé opracováni, jemné opracování a dokončovací opracování. Každý z těchto režimů se<br />
liší zejména parametry výboje a tím i množstvím rozrušeného materiálu. Typické hodnoty<br />
jsou pro hrubé opracování více než 3 mm 3 s -1 , pro jemné opracováni od 0,5 do 3 mm 3 s -1 a<br />
pro dokončovací opracování méně než 0,5 mm 3 s -1 .<br />
Výho dy elektrojiskrové technologie jsou vysoká přesnost obrábění, relativně velká<br />
obráběná plocha, malá hloubka poškození<br />
povrchu výboji, snadná automatizovatelnost<br />
procesu a snadná změna režimu obrábění v širokém rozsahu.<br />
Mezi nevýhodnými vlastnostmi lze jmenovat relativně nízkou produktivitu a vysoké<br />
opotřebování elektrody - nástroje.<br />
6. 7. 4. 2 Elektroimpulsní technologie<br />
Elektroimpulsní technologie se používá obdobně jako technologie elektrojiskrová<br />
všude tam, kde potřebujeme vysokou produktivitu při menších nárocích na přesnost<br />
obrábění. Používá se při výrobě lisovacích forem, forem pro odlévání složitých tvarů,<br />
výrobků z tvrdých slitin atd.<br />
Elektroimpulsní technologie je charakterizovaná obloukovým výbojem o dlouhé délce<br />
τ = 10 -4 až 10 -1 s, koeficientem q < 5 a energií impulsů několik desítek J. Polarita elektrod je<br />
nepřímá, tj. nástroj je anodou a obrobek katodou.<br />
Produktivita obrábění závisí zejména na středním výkonu impulsů, resp. na energii<br />
3<br />
impulsu<br />
a použitém kmitočtu f. Lze dosáhnout hodnot až 500 mm s -1 odběru materiálu.<br />
Výhody elektroimpulsní metody jsou vysoká produktivita, široký rozsah změny režimů,<br />
možnost automatizace procesu a malé opotřebování elektrody - nástroje.<br />
Mezi nevýhodnými vlastnostmi lze jmenovat nevelkou přesnost obrábění, relativně<br />
malou obráběnou plochu a velkou hloubku poškození povrchu výboji.
<strong>Elektrotechnické</strong> <strong>materiály</strong> a <strong>výrobní</strong> <strong>procesy</strong> 155<br />
Pro ilustraci jsou na obr. 6. 49 schematicky znázorněny některé operace při použití výše<br />
uvedených technologiích.<br />
Obr. 6. 49 Příklady elektroerozívního opracování materiálů<br />
6. 7. 4. 3 Elektrokontaktní technologie<br />
Elektrokontaktní technologie se používá pro obrábění těžkoobrobitelných vodivých<br />
materiálů, kde může nahradit "klasické" operace soustružení, frézování, broušení, řezání atp.<br />
Vlastní elektroerozívni proces je dán dvěma jevy. V prvém případě dochází k taven<br />
odběru materiálu teplem vzniklým průchodem proudu o vysoké proudové hustotě dané ma<br />
plochou dotýkajících se mikronerovností povrchu nástroje a obráběného materiálu. Plošné<br />
hustota proudu může dosahovat hodnot až řádově 10 6 A mm -2 í a<br />
lou<br />
. Druhý jev, který urychluje<br />
erozi, je vznik obloukového výboje, který vzniká již při napětí mezi elektrodami 10 až 20 V.<br />
Elektrokontaktní technologie se používá ve dvou modifikacích. V prvním případě jsou<br />
elektrody umístěny ve vzduchu a do styčného místa lze přivést výkon až 500 kW při<br />
proudech do 20 000 A. Ve druhém případě jsou elektrody ponořeny v kapalině (obvykle ve<br />
vodě) a pracuje se s výkonem do 70 kW při proudech do 3 000 A. Při práci ve vzduchu tato<br />
technologie vykazuje vysokou produktivitu, ale poškození povrchu obrobku dosahuje značné<br />
hloubky. Při použití kapaliny je toto poškození podstatně menší, lépe se chladí elektrody,<br />
snadněji se odstraňuje (vyplavuje) kov z místa dotyku, ovšem za cenu snížení produktivity.<br />
Aby se snížilo opotřebení elektrody - nástroje, používají se elektrody rotačních tvarů.<br />
Při činnosti se elektroda - nástroj otáčí a rychlost pohybu v místě styku dosahuje až 60 m s -1 .<br />
Podle režimu činnosti, typu elektrod atp., se pohybuje opotřebení elektrody nástroje do 5 %,<br />
vztaženo na odběr materiálu z obrobku.
156 Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií VUT v Brně<br />
Výhody elektrokontaktní metody je vysoké produktivita a možnost jejího dalšího<br />
zvyšování při zvyšování výkonu zdrojů proudu, možnost činnosti jak při stejnosměrném, tak i<br />
při střídavém proudu, činnost ve vzduchu i v kapalině atp.<br />
Jako nevýhodné se ukazuje relativně malá obráběná plocha, velká zóna teplotního vlivu<br />
(velký ohřev celého obrobku) a rozstřik roztaveného kovu.