09.08.2013 Views

Pemanfaatan Motor DC dari Mesin Fotokopi Bekas ... - Digilib ITS

Pemanfaatan Motor DC dari Mesin Fotokopi Bekas ... - Digilib ITS

Pemanfaatan Motor DC dari Mesin Fotokopi Bekas ... - Digilib ITS

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Pada gambar 4.16( d) juga menunjukkan hasil<br />

yang bagus, hampir sama dengan gambar sebelumya<br />

yaitu adanya warna merah pada bagian KLTP, namun<br />

lebih tampak pudar. Hal ini disebabkan ketebalan pada<br />

plat lebih tipis dibandingkan gambar sebelumnya.Untuk<br />

gambar 4.17 (e) hasil pemisahan tinta cukup bagus, Hal<br />

ini dapat dilihat <strong>dari</strong> jarak pemisahn yang cukup jauh,<br />

begitu juga dengan gambar 4.17 (f) jarak antara warna<br />

ungu dan kuning cukup jauh, namun pada gamnbar<br />

4.17(g) plat KLTP pada ketebalan ini menunjukkan hasil<br />

yang bagus, hal ini ditandai terdapatnya tipe yang tidak<br />

sama dengan dua hasil sebelumya, yaitu muncul sedikit<br />

warna merah pada bagian antara ungu dan kuning,<br />

sebagai mana gambar 4.16(c) dan 4.16(d) Pada gambar<br />

4.17 (h) menunjukkan pemisahan yang cukup bagus. Hal<br />

ini terlihat <strong>dari</strong> naiknya warna kuning yang begitu naik<br />

sehingga membuat hampir tidak tampak. Hal ini berarti<br />

fase diam <strong>dari</strong> kromatografi dalam hal ini adalah silika<br />

GF mampu mendistribusikan senyawa lebih baik<br />

dibandaing hasil sebelumnya. Sedangkan perbandingan<br />

dengan KLTP komersial ditunjukkan oleh gambar 4.18<br />

Gambar 4.4.3 Hasil Pemisahan Senyawa Tinta<br />

menggunakan KLTP Komersial dengan Ketebalan 0,8<br />

µm<br />

Pada Gambar 4.4..3 tampak bahwa KLTP<br />

komersial ini dapat memisahkan senyawa tinta menjadi<br />

dua bagian. Hal ini tidak jauh berbeda dengan KLTP<br />

yang pembuatannya melalui metode spin coating. Hal ini<br />

disebabkan ketebalan plat KLTp komersial ini tidak jauh<br />

berbeda dengan yang dibuat sendiri tersebut yaitu sekitar<br />

0,001 mm. Hal ini menunjukkan bahwa hasil pembuatan<br />

plat KLTP dengan spincoater yang dibuat dapat membuat<br />

KLTP standar sebagaimana platKLTP komersial.<br />

4. Kesimpulan<br />

Kesimpulan yang dapat diambil <strong>dari</strong><br />

penelitian ini adalah mikrokontroler Atmega 16<br />

dirangkaikan dengan motor <strong>DC</strong> bekas mesin fotokopi<br />

dihubungkan dengan motor driver dan dijalankan dengan<br />

program Assembly dapat digunakan untuk membuat alat<br />

spin coater. Spin coater tersebut dapat digunakan untuk<br />

melapiskan silika GF pada slide kaca mikroskop untuk<br />

selanjutnya dapat digunakan sebagai KLTP. Ketebalan<br />

Plat KLTP dapat ditentukan,dengan mengatur kecepatan<br />

putar spin coater. Pada kecepatan 137 rpm<br />

menghasilkan 0,02 mm, kecepatan 250 rpm<br />

menghasilkan ketebalan 0,17 mm, pada kecepatan 368<br />

menghasilkan ketebalan plat KLTP 0,015 mm, pada<br />

Prosiding Kimia FMIPA<br />

kecepatan 567 rpm menghasilkan ketebalan 0,01 mm,<br />

sedangkan pada kecepatan 854 rpm menghasilkan 0,005<br />

mm, pada kecepatan 935 rpm menghasilkan 0,003 mm,<br />

serta pada kecepatan 1130 rpm menghasilkan 0,001 mm.<br />

Ucapan Terimakasih<br />

1. Dr. rer. nat, Fredy Kurniawan, M.Si atas<br />

dukungan, bimbingan, dan motivasi yang<br />

diberikan<br />

2. Orang Tua dan keluarga ats semua dorongan, dan<br />

dukungan moral spritul yang diberikan.<br />

3. Rekan –rekan kimia <strong>ITS</strong><br />

4. Serta pihak lain yang tidak dapat disebutkan.<br />

Daftar Pustaka<br />

Hak-Jukim et.al.(2002). Preparation of tungsten metal<br />

film by spin coating method.Korea<br />

University.Korea.<br />

Pierson,H.O.(2001). Handbook of Chemical Vapor<br />

Deposition (CVD) - Principles,<br />

Technology and Applications (2nd<br />

Edition). William Andrew<br />

Publishing.NY.<br />

Donald M. (1998).Handbook of Physical Vapor<br />

Deposition (PVD) Processing: Film<br />

Formation, Adhesion, Surface<br />

Preparation and Contamination Control..<br />

Westwood, N.J.: Noyes Publications.<br />

Knovel Mattox, D.M.(2001).Electronics &<br />

Semiconductors Metals & Metallurgy<br />

Handbook of Physical Vapor Deposition<br />

(PVD) Processing Publisher: William<br />

Andrew Publishing

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!