N E W S L E T T E R - Centro Italiano per le Nanotecnologie
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Periodico<br />
di informazione<br />
sul<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
Numero 1<br />
Apri<strong>le</strong> 2004<br />
Supp<strong>le</strong>mento a Notizie Airi<br />
n. 137 marzo apri<strong>le</strong> 2004<br />
Anno XIX - 2004<br />
Bimestra<strong>le</strong><br />
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• Non soci Euro 70,00<br />
NEWSLETTER<br />
N U M E R O 1 - A P R I L E 2 0 0 4<br />
Editoria<strong>le</strong> .............................................................................................................................................1<br />
PRIMO PIANO<br />
Dove fioriscono in Italia <strong>le</strong> nanotecnologie: la presenza nel<strong>le</strong> Regioni ....................................................2<br />
Le nanotecnologie in Asia ....................................................................................................................4<br />
RICERCA & SVILUPPO<br />
Nanometrologia all’IMGC ....................................................................................................................7<br />
<strong>Nanotecnologie</strong> <strong>per</strong> <strong>le</strong> ICT al Politecnico di Torino ...............................................................................11<br />
Sintesi di nanotubi di carbonio CNT su catalizzatori a base di Fe supportato ........................................13<br />
Sistemi microeterogenei <strong>per</strong> la sintesi di nanoparticel<strong>le</strong> .......................................................................15<br />
Studio dei processi di sintesi e caratterizzazione<br />
dei nanotubi in carbonio <strong>per</strong> applicazioni nei compositi polimerici avanzati .........................................17<br />
Artificial mo<strong>le</strong>cular machines and motors ...........................................................................................21<br />
Sensori ottici con risoluzione sub-micrometrica ...................................................................................28<br />
Trasduttori ad ultrasuoni microfabbricati .............................................................................................29<br />
Materiali nanostrutturati a base carbonio ...........................................................................................31<br />
Attività di nanotecnologia presso la Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant’Anna .........................................................32<br />
Sviluppo di un sensore microfabbricato <strong>per</strong> l’analisi del mercurio gassoso ............................................33<br />
NOTIZIE<br />
Notizie in breve<br />
Uno strumento <strong>per</strong> la ricerca sull’idrogeno .........................................................................................35<br />
Nuova previsione sul mercato globa<strong>le</strong> della nanoe<strong>le</strong>ttronica ................................................................35<br />
I nanocatalizzatori ..............................................................................................................................35<br />
Cresce l’interesse del mondo finanziario <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie ...........................................................35<br />
Progetti europei e nazionali<br />
Road Map <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie ........................................................................................................36<br />
Intesa MIUR-Veneto, stanziati 42 MEURO ...........................................................................................36<br />
Progetto MOMO <strong>per</strong> portare <strong>le</strong> nanotecnologie al<strong>le</strong> Picco<strong>le</strong> e Medie Imprese (PMI) ..............................36<br />
Progetto NAIMO <strong>per</strong> i materiali intelligenti .........................................................................................36<br />
Un nuovo approccio allo sviluppo di materiali nanostrutturati: il progetto NANAMET ..........................36<br />
Collaborazione <strong>per</strong> materiali ibridi polimerici: il progetto MAPIONANO ...............................................36<br />
Finanziamenti FIRB <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie ...........................................................................................36<br />
Seminari & Convegni<br />
A Bologna la Seconda Conferenza Naziona<strong>le</strong> sulla nanoscienza e <strong>le</strong> nanotecnologie ...........................38<br />
Es<strong>per</strong>ti internazionali di nanotecnologia a confronto ...........................................................................38<br />
Notizie Nanotec IT<br />
L’impatto del<strong>le</strong> nanotecnologie nei trasporti .......................................................................................39<br />
Metrologia <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie .......................................................................................................39<br />
Convegno Internaziona<strong>le</strong> “NanoRoadMap” .......................................................................................39<br />
Convegno sul<strong>le</strong> applicazioni del<strong>le</strong> nanotecnologie in campo biomedica<strong>le</strong> ............................................39<br />
Siti Web & Eventi<br />
Organizzazioni internazionali ed Eventi ..............................................................................................40<br />
Spedizione in abb. posta<strong>le</strong><br />
comma 20 <strong>le</strong>tt. B art. 2<br />
L. 23.12.96 n. 662<br />
Roma/Romanina<br />
Pubblicità 45%<br />
Autorizzazione Tribuna<strong>le</strong><br />
di Roma n. 216<br />
del 29 apri<strong>le</strong> 1986<br />
Redazione AIRI:<br />
00198 Roma<br />
Via<strong>le</strong> Gorizia, 25/c<br />
tel. 06.8848831, 06.8546662<br />
fax 06.8552949<br />
e-mail: airi.roma@airi.it<br />
www.airi.it
12 MAGGIO 2004<br />
METROLOGIA DELLE SUPERFICI<br />
SURFACE METROLOGY<br />
10.20 A<strong>per</strong>tura lavori<br />
Elvio Mantovani Direttore Nanotec IT<br />
10.30 Introduzione<br />
Attilio Sacconi Direttore IMGC-CNR<br />
10.40 Invited talk: Surface Metrology: from precision machining down<br />
to nanosca<strong>le</strong> and mo<strong>le</strong>cular self-assemb<strong>le</strong>d surfaces<br />
Kim Carneiro Director of the Danish Institute of Fundamental Metrology (DFM),<br />
former President of EUSPEN<br />
Sessione 1<br />
Esigenze di misura di dimensioni critiche<br />
a scala micro/nanometrica<br />
Coordinatore: A. Sacconi IMGC-CNR<br />
11.40 Controllo di dimensioni critiche nella fabbricazione (nanoscala)<br />
di ottiche integrate<br />
Massimo Gentili Pirelli Labs<br />
12.00 Nuovi sviluppi nei dispositivi e<strong>le</strong>ttronici: l’importanza e la necessità<br />
di caratterizzazioni dimensionali a livello micro e nanometrico<br />
Sabrina Conoci STMicroe<strong>le</strong>ctronics<br />
12.20 Materiali mesoscopici e nanostrutture: morfologia, proprietà<br />
ed analisi<br />
Nello Li Pira <strong>Centro</strong> Ricerche Fiat<br />
12.40 Metrologia <strong>per</strong> i dispositivi ad e<strong>le</strong>ttronica singolare,<br />
e<strong>le</strong>ttronica singolare <strong>per</strong> la metrologia<br />
Maria Gabriella Castellano CNR-IFN<br />
13.00 Pausa pranzo<br />
Sessione 2<br />
Metodi di misura e campioni<br />
Coordinatore: M. Gentili Pirelli Labs<br />
14.20 Microscopia a sonda e nanometrologia<br />
Stefano Prato APE Research<br />
Alberto Pasquini IMGC-CNR<br />
4.40 Microscopia ottica interferometrica<br />
<strong>per</strong> la caratterizzazione del<strong>le</strong> su<strong>per</strong>fici<br />
Giuseppe Mo<strong>le</strong>sini CNR-INOA<br />
15.00 Spettromicroscopia confoca<strong>le</strong> multifotone:<br />
un nuovo nanosensore ottico<br />
Miche<strong>le</strong> Muccini CNR-ISMN<br />
15.20 Ellissometria spettroscopica: uno strumento <strong>per</strong> monitorare<br />
in tempo rea<strong>le</strong> e su scala nanometrica i trattamenti di su<strong>per</strong>fici<br />
Gianni Bruno CNR-CSCP<br />
15.40 Misura interferometrica della macroforma su<strong>per</strong>ficia<strong>le</strong> e struttura<strong>le</strong><br />
Maurizio Vannoni CNR-INOA<br />
16.00 Coffee break<br />
METROLOGIA PER LE NANOTECNOLOGIE<br />
METROLOGY FOR NANOTECHNOLOGY<br />
Sessione 3<br />
Metodi di misura e campioni<br />
Coordinatore: M.G. Castellano CNR-IFN<br />
16.30 Diffrattometria e scatterometria ottica <strong>per</strong> misure<br />
di dimensioni critiche di strutture <strong>per</strong>iodiche<br />
Marco Pisani IMGC-CNR<br />
16.50 Morfologia ed immagini ad alta risoluzione di su<strong>per</strong>fici di ossidi<br />
nanostrutturati mediante microscopie HRTEM, SEM e AFM<br />
Domenica Scarano Università di Torino<br />
17.10 Attivazione di dimetilcarbonato in zeoliti scambiate<br />
con ioni alcalini: uno studio spettroscopico<br />
Silvia Bordiga Università di Torino<br />
17.30 Micro e nanodispositivi <strong>per</strong> la metrologia e<strong>le</strong>ttrica:<br />
metodi di caratterizzazione e prospettive di impiego<br />
Vincenzo Lacquaniti IEN<br />
17.50 Discussione<br />
18.30 Chiusura lavori prima giornata<br />
E. Mantovani Nanotec IT<br />
TORINO, 12 E 13 MAGGIO 2004 - VILLA GUALINO – SALA A<br />
13 MAGGIO 2004<br />
METROLOGIA A SCALA ATOMICA<br />
ATOMIC SCALE METROLOGY<br />
9.30 A<strong>per</strong>tura lavori<br />
Elvio Mantovani Nanotec IT<br />
9.40 Invited talk:<br />
Guenter Wilkening Head of Nano and Micrometrology Division, PTB, Germany<br />
Sessione 4<br />
Metodi top-down e bottom-up<br />
Coordinatore: G. Mo<strong>le</strong>sini CNR-INOA<br />
10.40 La nanolitografia come strumento <strong>per</strong> il controllo metrologico<br />
di materiali/strutture artificiali<br />
Enzo Di Fabrizio Laboratorio LILIT, TASC/INFM<br />
11.00 Autoallineamento e posizionamento nei processi <strong>per</strong> i nanotubi<br />
al carbonio: metodi top-down e bottom-up<br />
Vincenzo Vinciguerra STMicroe<strong>le</strong>ctronics<br />
11.20 Coffee break<br />
11.50 Reticoli mo<strong>le</strong>colari e nanostrutture: controllo del<strong>le</strong> strutture<br />
nel<strong>le</strong> sca<strong>le</strong> tra il nanometro e il centimetro<br />
Fabio Biscarini CNR-ISMN<br />
12.10 Sensori <strong>per</strong> nanoposizionamento:<br />
applicazioni nella microscopia a sonda<br />
Massimo Bressanutti APE Research<br />
12.30 Modificazioni alla nanoscala di su<strong>per</strong>fici di diamante<br />
con la microscopia a forza atomica<br />
Chiara Paolini Università di Torino<br />
12.50 Il drogaggio di semiconduttori nanostrutturati:<br />
misure e<strong>le</strong>ttriche e prospettive <strong>per</strong> la Nanoe<strong>le</strong>ttronica<br />
Giampiero Amato IEN<br />
13.10 Pausa pranzo<br />
Sessione 5<br />
Interferometria e nanometrologia<br />
Coordinatore: E. Di Fabrizio TASC/INFM<br />
14.40 Metrologia degli spostamenti alla scala atomica<br />
<strong>per</strong> mezzo di interferometria X-ottica<br />
Giovanni Mana IMGC-CNR<br />
15.00 Analisi e metodi di compensazione della non-linearità ottica<br />
nell’interferometria laser<br />
Gian Bartolo Picotto IMGC-CNR<br />
15.20 Applicazioni dell’interferometria laser ad alta risoluzione<br />
Gianmarco Liotto Optodyne Laser Metrology<br />
15.40 Determinazione del<strong>le</strong> deformazioni del fronte d’onda<br />
nell’interferometria laser<br />
Enrico Massa IMGC-CNR<br />
16.00 Nanometrologia <strong>per</strong> l’astronomia nello spazio<br />
Stefano Cesare A<strong>le</strong>nia Spazio<br />
16.20 Discussione<br />
17.00 Chiusura lavori<br />
E. Mantovani Nanotec IT
Editoria<strong>le</strong><br />
Nanotec IT ha poco più di un anno di vita ed in questa fase inizia<strong>le</strong><br />
di rodaggio si sono poste <strong>le</strong> premesse e definiti i programmi<br />
<strong>per</strong> <strong>le</strong> attività future, si é incrementato progressivamente<br />
il numero degli iscritti fino a coinvolgere la maggior parte di quanti,<br />
in ambito pubblico o privato, sono impegnati in questo settore,<br />
é stato dato avvio al primo Censimento naziona<strong>le</strong> sul<strong>le</strong> nanotecnologie.<br />
Con il 2004 l’attività sta andando progressivamente a regime <strong>per</strong><br />
realizzare quelli che sono gli obiettivi che hanno spinto AIRI a promuovere<br />
la creazione di Nanotec IT.<br />
Lo scopo di Nanotec IT, infatti, è quello di contribuire a promuovere<br />
e rendere più efficace l’impegno nel Paese nel<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
attraverso la diffusione del<strong>le</strong> informazioni (anche attraverso la preparazione<br />
di documenti specifici) sulla situazione e <strong>le</strong> prospettive di<br />
sviluppo di questo settore, favorendo i contatti e <strong>le</strong> collaborazioni<br />
tra <strong>le</strong> istituzioni di ricerca pubbliche e <strong>le</strong> imprese, sia grandi che<br />
PMI, contribuendo a portare alla luce <strong>le</strong> esigenze in termini di progetti,<br />
infrastrutture, apparecchiature e formazione necessari <strong>per</strong><br />
sostenere l’impegno nel Paese, stimolando la promozione di iniziative<br />
volte favorire <strong>le</strong> focalizzazione e l’interconnessione del<strong>le</strong> risorse<br />
disponibili al fine di raggiungere la massa critica necessaria e<br />
farne l’uso migliore.<br />
Diverse sono <strong>le</strong> iniziative promosse da Nanotec IT <strong>per</strong> il 2004 <strong>per</strong><br />
raggiungere gli obiettivi suddetti.<br />
La prima fase del censimento è stata appena comp<strong>le</strong>tata ed i risultati<br />
saranno resi disponibili nel prossimo mese di Maggio. Pur<br />
avendo risposto al censimento la maggior parte di quanti sono impegnati<br />
in questo momento in Italia nel campo del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
i dati raccolti non sono ancora considerati esaustivi, ma il quadro<br />
che ne è derivato è ritenuto piuttosto comp<strong>le</strong>to e rappresentativo<br />
della situazione. Dall’indagine risulta che l’attività è piuttosto<br />
intensa, soprattutto nell’ambito della ricerca pubblica, ed il livello<br />
generalmente buono, talvolta d’eccel<strong>le</strong>nza. La sua distribuzione,<br />
come conferma l’articolo ad essa dedicato in questo numero, è<br />
estesa praticamente su tutto il territorio naziona<strong>le</strong> e probabilmente<br />
è opportuno migliorare i contatti e favorire <strong>le</strong> aggregazioni. Una<br />
prosecuzione del censimento è comunque prevista nel corso del<br />
2004, <strong>per</strong> un approfondimento dei dati raccolti e <strong>per</strong> identificare<br />
quanti fossero sfuggiti alla prima indagine. L’aggiornamento sarà<br />
pubblicato nel 2005.<br />
Numerosi sono anche gli eventi realizzati o programmati. Il 21<br />
Apri<strong>le</strong> 2004 Nanotec IT ed il <strong>Centro</strong> Ricerche Fiat, hanno organizzato<br />
insieme, presso il centro di ricerche ad Orbassano, un workshop<br />
sull’applicazione del<strong>le</strong> nanotecnologie nel mondo dei trasporti,<br />
al qua<strong>le</strong> hanno partecipato gran parte di quanti nell’ambito<br />
della ricerca pubblica e nel<strong>le</strong> imprese sono impegnati in questo<br />
campo o possono dare un contributo.<br />
Per 12-13 Maggio 2004 è previsto a Torino un workshop sulla nanometrologia<br />
organizzato con contributo determinante dell’Istituto<br />
G. Colonnetti del CNR, mentre in autunno sono in programma,<br />
entrambi a Roma, due Convegni Internazionali. Uno, il 4-5 Novembre,<br />
<strong>le</strong>gato al progetto finanziato dalla UE nell’ambito del VI<br />
Programma Quadro <strong>per</strong> la realizzazione di una road map sul<strong>le</strong> nanotecnologie,<br />
del qua<strong>le</strong> AIRI/Nanotec IT è il coordinatore, e l’altro,<br />
il 29-30 dello stesso mese, sull’applicazione del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
in campo biomedica<strong>le</strong>.<br />
Con questo numero anche la News<strong>le</strong>tter inizia la pubblicazione regolare<br />
e da ora in avanti uscirà con una cadenza quadrimestra<strong>le</strong><br />
<strong>per</strong> diventare, ci auspichiamo, uno degli strumenti principali di Nanotec<br />
IT <strong>per</strong> la diffusione di informazioni sullo stato (e sul<strong>le</strong> tendenze)<br />
del<strong>le</strong> nanotecnologie e del<strong>le</strong> loro applicazioni, sugli eventi<br />
programmati in questo campo (convegni, workshops, corsi, ecc) e<br />
sul<strong>le</strong> iniziative, nazionali o sovranazionali di sostegno.<br />
Ma la News<strong>le</strong>tter vuo<strong>le</strong> essere in primo luogo una tribuna <strong>per</strong> <strong>le</strong><br />
iniziative <strong>le</strong>gate a Nanotec IT, <strong>per</strong> fornire una panoramica aggiornata<br />
<strong>per</strong>iodicamente della situazione a livello naziona<strong>le</strong> in questo<br />
settore, essere un veicolo di comunicazione dedicato, attraverso il<br />
qua<strong>le</strong> coloro che in Italia sono impegnati nel<strong>le</strong> nanotecnologie, e in<br />
primo luogo gli iscritti a Nanotec IT, possano far conoscere la loro<br />
attività in modo da rafforzare o stabilire i contatti, stimolare confronti<br />
e collaborazioni.<br />
Alcuni esempi di questa attività sono riportati in questo numero e<br />
confermano come <strong>le</strong> nanotecnologie rappresentino ormai un<br />
obiettivo importante <strong>per</strong> molte strutture di ricerca nel Paese. Il quadro<br />
é ancora parzia<strong>le</strong> ed il modello di comunicazione va <strong>per</strong>fezionato.<br />
Tuttavia ci auguriamo che questa consuetudine si consolidi e<br />
la News<strong>le</strong>tter Nanotec IT divenga sempre più un veicolo privi<strong>le</strong>giato<br />
di comunicazione tra gli addetti ai lavori ed uno strumento <strong>per</strong> dibattere<br />
<strong>le</strong> prob<strong>le</strong>matiche proprie di questo settore strategico <strong>per</strong> la<br />
crescita del Paese. Un contributo costruttivo decisivo da parte di<br />
tutti gli iscritti sarà indispensabi<strong>le</strong> <strong>per</strong> raggiungere ta<strong>le</strong> obiettivo.<br />
La tiratura della news<strong>le</strong>tter è fissata in questo primo anno, che può<br />
essere considerato di lancio, in 900-1000 copie, certamente non<br />
e<strong>le</strong>vatissimo, ma sufficiente <strong>per</strong> una distribuzione mirata e capillare<br />
che consenta di raggiungere la maggior parte di quanti tra ricercatori,<br />
sia nell’ambito del<strong>le</strong> strutture di ricerca pubbliche che nell’industria,<br />
pianificatori, istituzioni pubbliche ed enti governativi,<br />
associazioni di categoria, produttori di apparecchiature e strumentazioni<br />
scientifiche, esponenti del mondo finanziario, sono a vario<br />
titolo interessati al<strong>le</strong> nanotecnologie e possono contribuire al loro<br />
sviluppo e diffusione o trarne eventualmente vantaggio.<br />
Il raggiungimento degli obiettivi nel mirino della News<strong>le</strong>tter Nanotec<br />
IT sarà un fattore importante <strong>per</strong> il successo stesso di Nanotec<br />
IT.<br />
Elvio Mantovani<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
1
TP R I M O P I A N O<br />
2<br />
Dove fioriscono in Italia<br />
<strong>le</strong> nanotecnologie:<br />
la presenza nel<strong>le</strong> Regioni<br />
E. Mantovani, A. D’Andrea Nanotec IT<br />
Il Censimento realizzato da Nanotec IT sul<strong>le</strong> nanotecnologie in Italia<br />
(disponibi<strong>le</strong> a maggio), ha mostrato che l’impegno <strong>per</strong> queste<br />
tecnologie è, nel Paese, ormai consolidato ed in costante aumento.<br />
L’entità dell’attività è comp<strong>le</strong>ssivamente inferiore rispetto a<br />
quella di USA e Giappone, che sono i <strong>le</strong>aders in questo campo ed<br />
anche rispetto a quella di altri grandi Paesi Europei come Germania,<br />
Francia o UK. Nondimeno il livello dell’attività è generalmente<br />
e<strong>le</strong>vato e paragonabi<strong>le</strong> a quello dei Paesi suddetti e spesso di eccel<strong>le</strong>nza.<br />
Tutti i maggiori enti di ricerca pubblici, <strong>le</strong> grandi imprese più importanti<br />
e diverse PMI risultano attualmente impegnati nel<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
e questa attività è distribuita su gran parte del territorio<br />
naziona<strong>le</strong>.<br />
L’entità dell’impegno varia naturalmente da regione a regione e si<br />
è ritenuto interessante mettere in evidenza questa distribuzione ed<br />
e<strong>le</strong>ncare <strong>le</strong> organizzazioni presenti e <strong>le</strong> attività in atto <strong>per</strong> ogni regione<br />
soprattutto <strong>per</strong>ché questi dati possono essere utili <strong>per</strong> aiutare<br />
a promuovere una eventua<strong>le</strong> iniziativa naziona<strong>le</strong> a sostegno dello<br />
sviluppo del<strong>le</strong> nanotecnologie che conduca ad un migliore integrazione<br />
degli sforzi e ad una ottimizzazione nell’utilizzo del<strong>le</strong> risorse<br />
disponibili.<br />
Il Primo Censimento naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> nanotecnologie, come detto<br />
appena comp<strong>le</strong>tato e in via di pubblicazione, offre questa opportunità.<br />
Esso, infatti, ha <strong>per</strong>messo la realizzazione di un ampio database<br />
che fornisce informazioni dettagliate sul<strong>le</strong> istituzioni di ricerca<br />
o<strong>per</strong>anti in questo campo, sul<strong>le</strong> loro attività e come sono distribuite<br />
a livello regiona<strong>le</strong>. Al Censimento hanno risposto la stragrande<br />
maggioranza di quanti in Italia sono impegnati nel<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
e quindi il quadro è piuttosto comp<strong>le</strong>to e rappresentativo della<br />
situazione. Nel 2005 sarà pubblicata una seconda edizione del<br />
censimento la qua<strong>le</strong> conterrà un aggiornamento dei dati e indicazioni<br />
sul<strong>le</strong> istituzioni eventualmente sfuggite nella prima tornata,<br />
ma la il panorama comp<strong>le</strong>ssivo non dovrebbe cambiare di molto.<br />
Stilare una prima “classifica” del<strong>le</strong> regioni sulla base dell’entità<br />
dell’attività (presenza) nel<strong>le</strong> nanotecnologie è stato quindi possibi<strong>le</strong><br />
e <strong>per</strong> la sua realizzazione ci si è basati su due parametri:<br />
a. numero di Istituzioni pubbliche (Centri di Ricerca, Dipartimenti<br />
e/o Istituti Universitari, Gruppi di Ricerca, ecc…) e private (Imprese<br />
e Centri di Ricerca) presenti sull’area della Regione in<br />
rapporto al numero tota<strong>le</strong> del<strong>le</strong> istituzioni censite;<br />
b. numero di addetti alla R&S nel<strong>le</strong> nanotecnologie dichiarati dal<strong>le</strong><br />
suddette istituzioni in rapporto al numero tota<strong>le</strong> di addetti<br />
censiti.<br />
I due dati non ovviamente sommabili direttamente, ma indubbiamente<br />
una correlazione tra i due esiste e quindi dalla loro combinazione<br />
è possibi<strong>le</strong> stilare una graduatoria che indica in quali<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Figura 1. Classifica regiona<strong>le</strong> in base alla <strong>per</strong>centua<strong>le</strong> di strutture o<strong>per</strong>ative a<br />
livello regiona<strong>le</strong> e di addetti impegnati nella R&S del<strong>le</strong> nanotecnologie, rispetto<br />
ai valori totali dei medesimi parametri ottenuti dal Censimento Nanotec IT<br />
I risultati sono riportati in Figura 1 e da essa risulta che la Lombardia,<br />
ed in particolare l’area di Milano, é la Regione con il maggior<br />
numero di strutture e di addetti impegnati in attività <strong>le</strong>gate al<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
<strong>le</strong> quali riguardano un ampio spettro di aree tematiche<br />
e di settori applicativi. Nella Regione o<strong>per</strong>ano infatti grandi imprese<br />
di rilievo internaziona<strong>le</strong> come Pirelli Labs, STMicroe<strong>le</strong>ctronics<br />
(anche se <strong>le</strong> attività di questa Società <strong>le</strong>gate al<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
si svolgono soprattutto nel centro che la Società ha a Catania),<br />
EniTecnologie, Saes Getters e PMI come MomaCoating. In<br />
Lombardia sono <strong>per</strong>ò presenti anche molte importanti strutture<br />
pubbliche quali il Laboratorio Materiali Micro e NanoStrutturati<br />
(Politecnico di Milano e INSTM) e il Laboratorio Getti Mo<strong>le</strong>colari<br />
e Materiali Nanocristallini (Università di Milano e INFM<br />
del CNR), entrambi fortemente impegnati nel campo dei materiali<br />
nanostrutturati, due Unità di Ricerca dell’Istituto di Scienze e<br />
Tecnologie Mo<strong>le</strong>colari (ISTM) ed una Unità O<strong>per</strong>ativa dell’Istituto<br />
di Fotonica e <strong>Nanotecnologie</strong> (IFN) del CNR di Milano, attivi<br />
nei sistemi mo<strong>le</strong>colari e nanostrutturati e nella nanofotonica, rispettivamente,<br />
o anche il <strong>Centro</strong> <strong>per</strong> l’Ingegneria dei Materiali<br />
e del<strong>le</strong> Su<strong>per</strong>fici Nanostrutturate del Consorzio Interuniversitario<br />
Naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> la Scienza e Tecnologia dei Materiali<br />
(INSTM), al Politecnico di Milano.<br />
Nella Regione o<strong>per</strong>a anche una società <strong>per</strong> il trasferimento tecnologico,<br />
Servitec di Bergamo, che è responsabi<strong>le</strong> del Parco <strong>per</strong><br />
l’Innovazione Tecnologica (POINT) di Dalmine.<br />
L’Emilia Romagna compare al secondo posto nella classifica vantando<br />
sia un alto numero di strutture, soprattutto pubbliche, che<br />
di addetti. Spiccano nella Regione il <strong>Centro</strong> <strong>per</strong> Nanostrutture e<br />
Biosistemi al<strong>le</strong> Su<strong>per</strong>fici (S 3 ) di Modena dell’Istituto Naziona<strong>le</strong><br />
<strong>per</strong> la Fisica della Materia (INFM del CNR), centro interdisciplinare<br />
<strong>per</strong> <strong>le</strong> nanoscienze e <strong>le</strong> nanotecnologie <strong>per</strong> i sistemi biomo<strong>le</strong>colari<br />
e cellulari, l’Istituto <strong>per</strong> la Microe<strong>le</strong>ttronica e Microsistemi<br />
(IMM) e l’Istituto <strong>per</strong> lo Studio dei Materiali Nanostrutturati<br />
(ISMN) del CNR di Bologna, quest’ultimo particolarmente impegnato<br />
in ricerche che riguardano un ampio spettro di aree applicative<br />
e che ha dato luogo anche a spin-off con attività nel<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
come Organic Spintronics. A questi si affiancano diverse<br />
Unità di Ricerca INFM del CNR e del Consorzio Interuniversitario<br />
<strong>per</strong> la Scienza e <strong>le</strong> Tecnologie dei Materiali (INSTM), la
sezione di Bologna dell’Istituto Naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> la Fisica Nuc<strong>le</strong>are<br />
(INFN).<br />
A dicembre 2003 è stato firmato l’accordo tra MIUR e Regione<br />
Emilia Romagna <strong>per</strong> la costituzione del distretto <strong>per</strong> l’alta tecnologia<br />
meccanica denominato HI-MECH, in collaborazione con Università,<br />
CNR, INFM, ENEA e Aster.<br />
Il distretto, distribuito su tutto il territorio regiona<strong>le</strong>, prevede 8 aree<br />
di ricerca tra <strong>le</strong> quali l’area 6 “Su<strong>per</strong>fici e “coatings” <strong>per</strong> la meccanica<br />
applicata e la nanomeccanica” e l’area 7 “Nanofabbricazione”,<br />
raggruppate in 3 ambiti tecnologici o cluster, il terzo dei quali<br />
riguarda “Materiali, su<strong>per</strong>fici e nanofabbricazione”. Come strumento<br />
o<strong>per</strong>ativo sono previsti i laboratori a rete o Net-Lab, che nel<br />
cluster suddetto <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie sono 2: SUP&RMAN (SU-<br />
Perfici e Ricoprimenti <strong>per</strong> la Meccanica Avanzata & la Nanomeccanica),<br />
coordinato dallo S 3 di Modena, e NANOFABER (nanofabbricazione<br />
e processi di materiali), c/o CNR-ISMN di Bologna.<br />
Al terzo posto di questa particolare classifica è collocato il Piemonte<br />
(al qua<strong>le</strong> possiamo associare anche la Val<strong>le</strong> d’Aosta) dove<br />
l’attività nel<strong>le</strong> nanotecnologie è sostanzialmente accentrata attorno<br />
alla città di Torino, considerata dallo studio “The competitive alternatives”<br />
condotto da Kpmg nel 2003 tra <strong>le</strong> migliori città europee<br />
<strong>per</strong> avviare attività di R&S.<br />
Questa posizione gli deriva in primo luogo dalla presenza del <strong>Centro</strong><br />
Ricerche FIAT (CRF), da tempo impegnato con risorse consistenti<br />
in R&S nel<strong>le</strong> nanotecnologie, ovviamente con un’attenzione<br />
particolare al<strong>le</strong> applicazioni nel settore dei trasporti, ma anche dalla<br />
presenza di importanti strutture di ricerca pubbliche quali l’Istituto<br />
di Metrologia “G. Colonnetti” e l’Istituto Gali<strong>le</strong>o Ferraris,<br />
da poco confluiti nell'Ente Naziona<strong>le</strong> di Metrologia<br />
(ENRM), punto di riferimento <strong>per</strong> la nanometrologia e il nuovo<br />
centro di eccel<strong>le</strong>nza <strong>per</strong> <strong>le</strong> Su<strong>per</strong>fici e Interfasi Nanostrutturate<br />
dell’INSTM, presso il Politecnico di Torino, ai quali si affiancano una<br />
serie di Dipartimenti Universitari e altre Unità di Ricerca INSTM anch’essi<br />
attivi nel settore.<br />
Attività nel campo del<strong>le</strong> nanotecnologie sono denunciate anche<br />
dal Laboratorio Materiali e Microsistemi del Consorzio <strong>per</strong> il<br />
Distretto tecnologico del Canavese e da Sorin Biomedica Cardio,<br />
che ha sede a Vercelli ed è all’avanguardia nel<strong>le</strong> microtecnologie in<br />
campo cardiovascolare.<br />
In Piemonte o<strong>per</strong>a anche Environment Park, nell’ambito del qua<strong>le</strong><br />
il C<strong>le</strong>an NT-Lab sta investigando l’uso del<strong>le</strong> nanotecnologie <strong>per</strong><br />
lo sviluppo di trattamenti su<strong>per</strong>ficiali a basso inquinamento ambienta<strong>le</strong><br />
<strong>per</strong> utensili e materiali.<br />
Nella vicina Val<strong>le</strong> d’Aosta, infine, si trova poi lo stabilimento di<br />
Olivetti i-JET di Arnad che è attivo principalmente nel campo del<strong>le</strong><br />
tecnologie MEMS (è il solo produttore Europeo di testine a getto<br />
d’inchiostro <strong>per</strong> stampanti) e che recentemente ha indirizzato <strong>le</strong><br />
sua attenzione anche verso <strong>le</strong> nanotecnologie in particolare <strong>per</strong> lo<br />
sviluppo di coatings, dispositivi biomedicali e sensori basati sulla<br />
biologia mo<strong>le</strong>colare.<br />
Anche il Veneto vanta un impegno significativo nel settore del<strong>le</strong><br />
nanotecnologie ed è stato da poco firmato un accordo di programma<br />
tra MIUR e Regione Veneto <strong>per</strong> la costituzione del distretto<br />
tecnologico del<strong>le</strong> nanotecnologie, focalizzato sul<strong>le</strong> nanotecno-<br />
P R I M O P I A N O<br />
logie applicate ai materiali, settore nel qua<strong>le</strong> la ricerca e il mondo<br />
imprenditoria<strong>le</strong> loca<strong>le</strong> fanno convergere i loro interessi.<br />
In questo contesto il CIVEN coordina la ricerca universitaria, i laboratori<br />
e la formazione, mentre Veneto Nanotech col<strong>le</strong>ga laboratori<br />
e aziende. In particolare sono stati avviati due progetti: il Master<br />
Internaziona<strong>le</strong> nel<strong>le</strong> nanotecnologie e la realizzazione della Nanofabrication<br />
Facility (NFF), un laboratorio specializzato dedicato al<strong>le</strong><br />
nanotecnologie a diposizione di ricercatori pubblici e privati con<br />
sede presso il Parco Scientifico VEGA.<br />
Nella regione sono presenti anche diverse strutture di ricerca impegnate<br />
nel settore del<strong>le</strong> nanotecnologie che fanno riferimento a<br />
CNR, INFM, INSTM quali ad esempio l’Istituto di Chimica Inorganica<br />
e del<strong>le</strong> Su<strong>per</strong>fici (ICIS), il laboratorio regiona<strong>le</strong> INFM del CNR<br />
LUXOR, l’Unità di Ricerca di Padova dell’INSTM e quella dell’INFM<br />
del CNR. Inoltre ci sono alcune PMI e centri di ricerca privati come<br />
MBN, di S. Vendemmiano, impegnata nella produzione di polveri<br />
nanostrutturate e ThinFilm.<br />
La Toscana presenta tre punti nevralgici <strong>per</strong> <strong>le</strong> attività di R&S <strong>le</strong>gate<br />
al<strong>le</strong> nanotecnologie, Pisa e Firenze, in primo luogo, e Siena.<br />
A Pisa hanno sede il <strong>Centro</strong> di R&S INFM del CNR National Enterprise<br />
for nanoScience e nanoTechnology (NEST), focalizzato<br />
sulla nanoe<strong>le</strong>ttronica, nanobiotecnologia, spin e<strong>le</strong>ctronics e nanostrutture,<br />
e l’Istituto di E<strong>le</strong>ttronica e di Ingegneria dell'Informazione<br />
e del<strong>le</strong> Te<strong>le</strong>comunicazioni (IEIIT) del CNR specializzato<br />
in nanoe<strong>le</strong>ttronica.<br />
Presenze importanti a Pisa <strong>per</strong> <strong>le</strong> attività di R&S nel<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
sono anche il Laboratorio CRIM (<strong>Centro</strong> <strong>per</strong> <strong>le</strong> Ricerche Applicate<br />
nella micro e nano ingegneria) della Scuola Su<strong>per</strong>iore<br />
Sant’Anna e l’Unità di Ricerca di Pisa dell’INSTM, impegnata nei<br />
biomateriali e materiali biocompatibili.<br />
A Firenze o<strong>per</strong>ano invece tre strutture di notevo<strong>le</strong> rilievo nel contesto<br />
naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> ciò che riguarda l’attività nel campo del<strong>le</strong> nanotecnologie,<br />
va<strong>le</strong> a dire la Sezione di Struttura della Materia e Spettroscopia<br />
dell’Istituto di Fisica Applicata “Nello Carrara”(IFAC)<br />
del CNR e, all’Interno dell’Area di Ricerca di Firenze, la sede centra<strong>le</strong><br />
del Consorzio Interuniversitario <strong>per</strong> lo Sviluppo dei Sistemi<br />
a Grande Interfase (CSGI), che svolge ricerche e formazione nel<br />
settore della scienza dei colloidi e del<strong>le</strong> nanofasi e l’Unità di Ricerca<br />
e la Direzione dell’INSTM (materiali nanomagnetici, magneti nanostrutturati,<br />
immagazzinamento e trasmissione del<strong>le</strong> informazioni).<br />
A Siena, infine, l’attività nel<strong>le</strong> nanotecnologie si concentra presso<br />
l’Università dove tra gli altri é attivo il <strong>Centro</strong> di Ricerca Interuniversitario<br />
<strong>per</strong> Sistemi Medici Avanzati (CRISMA) che è impegnato<br />
in ricerche sul<strong>le</strong> nanotecnologie in campo.<br />
In Toscana hanno anche sede la Kedrion (Lucca), azienda farmaceutica<br />
italiana attiva nella produzione di farmaci biologici, che è<br />
impegnata nello sviluppo di “nanosistemi” <strong>per</strong> la somministrazione<br />
controllata di farmaci e Geal (Pistoia), interessata al<strong>le</strong> produzione<br />
di nanoparticel<strong>le</strong> con proprietà protettive <strong>per</strong> il trattamento di<br />
materiali che vanno dal <strong>le</strong>gno ai materiali lapidei.<br />
Il Lazio in termini di intensità dell’impegno nel campo del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
si colloca più o meno sullo stesso livello della Toscana e,<br />
se vogliamo del Veneto, contrapponendo ad un minor numero di<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
3<br />
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4<br />
strutture presenti un maggior numero di addetti <strong>per</strong> i quali è su<strong>per</strong>ata<br />
solo da Lombardia e Emilia Romagna. L’attività è localizzata a<br />
Roma e <strong>le</strong> aree immediatamente limitrofe dove, secondo il Censimento,<br />
risultano impegnati nel<strong>le</strong> nanotecnologie tre Unità O<strong>per</strong>ative<br />
dell’Istituto di Fotonica e <strong>Nanotecnologie</strong> (IFN), due Unità<br />
O<strong>per</strong>ative dell’Istituto dei Materiali Nanostrutturati (ISMN) ed<br />
una Unità O<strong>per</strong>ativa dell’Istituto <strong>per</strong> la Microe<strong>le</strong>ttronica e Microsistemi<br />
(IMM) e dell’Istituto di Metodologie dei Plasmi<br />
(IMIP) del CNR di Roma, il Laboratorio Naziona<strong>le</strong> di Frascati dell’INFN,<br />
il <strong>Centro</strong> Sviluppo Materiali (C.S.M).<br />
In Friuli Venezia Giulia la maggior parte del<strong>le</strong> attività sono all’interno<br />
dell’AREA Science Park di Trieste, gestito dal<strong>le</strong> Università di<br />
Trieste e Udine, il Consiglio Naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Ricerche e <strong>le</strong> principali<br />
istituzioni scientifiche nazionali e locali, nonché la Regione Friuli –<br />
Venezia Giulia ed i più importanti enti locali della regione.<br />
All’interno dell’area si trovano il Laboratorio Naziona<strong>le</strong> di Ricerca<br />
ELETTRA, gestito dalla Società SINCROTRONE Trieste, il Laboratorio<br />
Naziona<strong>le</strong> Tecnologie Avanzate e nanoSCienze (TASC)<br />
dell’INFM del CNR impegnati nello sviluppo di strumentazione<br />
avanzata, films ultrasottili, nanostrutture, nonché una piccola società,<br />
A.P.E. Research, attivo nella produzione di sistemi e strumenti<br />
<strong>per</strong> analisi di su<strong>per</strong>ficie e microscopi ad altissima risoluzione.<br />
In Puglia, in particolare a Lecce, o<strong>per</strong>ano il National Nanotechnology<br />
Lab (NNL), con ricerche che vanno dallo studio di nanostrutture<br />
e nanodispositivi, all’e<strong>le</strong>ttronica biomo<strong>le</strong>colare, alla nanolitografia,<br />
ai fenomeni di autoassemblaggio ed una del<strong>le</strong> Unità<br />
O<strong>per</strong>ative dell’Istituto <strong>per</strong> la Microe<strong>le</strong>ttronica e Microsistemi<br />
(IMM) del CNR.<br />
In Campania, a Napoli, hanno sede l’Istituto <strong>per</strong> i Materiali<br />
Compositi e Biomedici (IMCB) ed una del<strong>le</strong> Unità O<strong>per</strong>ative dell’Istituto<br />
<strong>per</strong> la Microe<strong>le</strong>ttronica e Microsistemi (IMM), entrambi<br />
del CNR.<br />
In Sicilia il grosso dell’attività è localizzato a Catania dove STMicroe<strong>le</strong>ctronics<br />
ha creato un mini-distretto tecnologico <strong>per</strong> l’e<strong>le</strong>ttronica<br />
che si avva<strong>le</strong> del supporto del<strong>le</strong> Università locali. Intensa è<br />
la ricerca di STM anche nel<strong>le</strong> nanotecnologie e riguarda la fotonica,<br />
l’opto-e<strong>le</strong>ttronica, biochips ed i biosistemi (DNA).<br />
Contatti<br />
Elvio Mantovani – mantovani@nanotec.it<br />
A<strong>le</strong>ssio D’Andrea – dandrea@nanotec.it<br />
Nanotec IT – AIRI<br />
Via<strong>le</strong> Gorizia, 25/c<br />
I-00198 Roma<br />
Tel. +39 06 8848831/06 8546662<br />
Fax. +39 06 8552949<br />
info@nanotec.it<br />
www.nanotec.it<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Le nanotecnologie in Asia<br />
A. D’Andrea Nanotec IT<br />
Negli ultimi anni, nella vasta regione dell’Asia che si affaccia sul<br />
Pacifico, si è assistito ad un’intensa acce<strong>le</strong>razione nel<strong>le</strong> politiche<br />
nazionali di ricerca e sviluppo nel campo del<strong>le</strong> nanotecnologie,<br />
quasi una risposta della “National Nanotechnology Initiative” degli<br />
USA lanciata nel 2000. Questa maggiore consapevo<strong>le</strong>zza circa <strong>le</strong><br />
possibilità future offerte da tutto ciò che ruota attorno alla scala<br />
nanometrica, ha portato <strong>le</strong> nanotecnologie ad essere, oggi, una<br />
del<strong>le</strong> maggiori aree prioritarie di R&S <strong>per</strong> i governi dell’Asia del Pacifico.<br />
I fondi a sostegno del<strong>le</strong> attività di R&S nel<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
sono infatti aumentati continuamente e strategicamente distribuiti,<br />
portando l’impegno tota<strong>le</strong> nel 2002 oltre il confine del miliardo<br />
di US$.<br />
Circa l’80% di questi fondi fanno riferimento al Giappone, ma comunque<br />
quasi tutti i Paesi di questa regione, indipendentemente<br />
dal loro livello economico e di sviluppo, puntano a creare competenze<br />
e iniziative <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie. Quindi accanto al Giappone<br />
troviamo in primo luogo Cina, Taiwan, Australia e Corea, ma<br />
anche Paesi come India, Singapore e <strong>per</strong>fino Tailandia, Ma<strong>le</strong>sia e<br />
Nuova Zelanda vedono in queste tecnologie una opportunità su<br />
cui puntare <strong>per</strong> il loro sviluppo: con la conseguenza che la competizione<br />
proveniente da questi Paesi in futuro si potrà manifestare<br />
non solo nei settori ad alta densità di lavoro ma anche in quelli a<br />
contenuto tecnologico e<strong>le</strong>vato.<br />
Avere un’idea un poco più puntua<strong>le</strong> dell’impegno di tali Paesi nel<strong>le</strong><br />
nanotecnologie può essere quindi uti<strong>le</strong> <strong>per</strong> immaginare il panorama<br />
con il qua<strong>le</strong> il nostro Paese, ma anche l’Europa, dovrà confrontarsi;<br />
di seguito <strong>per</strong>ciò è riportata una breve e sintetica rassegna<br />
della situazione nella regione, indicando l’impegno e <strong>le</strong> strategie<br />
nei vari Paesi.<br />
Giappone<br />
Il Giappone già nel 2000 ha inserito tra <strong>le</strong> quattro aree prioritarie<br />
della ricerca la voce <strong>Nanotecnologie</strong>/Materiali, insieme con Biotecnologia,<br />
Tecnologia dell’Informazione e Energia/Ambiente, allo<br />
scopo di rivitalizzare l’economia giapponese e mantenersi ad un livello<br />
competitivo (specialmente con gli USA). Da allora i fondi governativi<br />
investiti <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie hanno mostrato un continuo<br />
incremento: 688 milioni di US$ nel 2001, 815 nel 2002, 848<br />
nel 2003, fino agli 875 milioni di US$ stanziati <strong>per</strong> il 2004 a partire<br />
dal 1 Apri<strong>le</strong>, con incremento rispetto al 2003 del 3,1%. Il Giappone<br />
è quindi il <strong>le</strong>ader indiscusso <strong>per</strong> lo sviluppo del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
in Asia, con un budget molto prossimo a quello della NNI statunitense.
Le tre maggiori organizzazioni di ricerca pubblica nel Paese sono:<br />
- MEXT (Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology),<br />
il qua<strong>le</strong> sostiene logisticamente ed economicamente<br />
università e laboratori nazionali, compresi NIMS (National<br />
Institute of Materials Science, RIKEN (Institute of Physical and<br />
Chemical Research) e JAERI (Japan Atomic Energy Research<br />
Institute);<br />
- METI (Ministry of Economy, Trade and Industries) che sovvenziona<br />
e coordina NEDO (New Energy and Industrial Technology<br />
Development Organization) l’AIST (Advanced Industrial<br />
Science and Technology);<br />
- altri ministeri come MPHPT (Ministry of Public Management,<br />
Home Affairs, Post and Te<strong>le</strong>communication) che supporta il<br />
Communications Research Laboratory; e MAFF (Ministry<br />
of Agriculture, Forestry and Fishery).<br />
MEXT insieme con JSPJ (Japan Society for the Promotion of Science)<br />
e JST (Japan Science and Technology Corporation) fornisce la<br />
maggior parte dei fondi destinati al<strong>le</strong> nanotecnologie, seguito da<br />
METI, MPHPT e MAFF.<br />
Nel 2002 JST ha stabilito dieci nano-laboratori virtuali, mirando alla<br />
commercializzazione ed industrializzazione in dieci o venti anni.<br />
Dal 2000, METI ha fissato ben nove progetti tematici sul<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
con un budget tota<strong>le</strong> annuo di 75 milioni di US$ nel<br />
2003.<br />
Gli incrementi di budget <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie tra il 2003 e il<br />
2004, insieme all’intensa attività di coo<strong>per</strong>azione industria<strong>le</strong> naziona<strong>le</strong><br />
ed internaziona<strong>le</strong>, indicano l’intenzione del Giappone di diventare<br />
<strong>le</strong>ader mondia<strong>le</strong> <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie.<br />
La strategia naziona<strong>le</strong> giapponese <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie viene<br />
coordinata dal MEXT, gestendo il lavoro dei tre istituti impegnati<br />
nella ricerca di base (NIMS, RIKEN, JAERI), dei laboratori virtuali, dei<br />
progetti del METI su<strong>per</strong>visionati dal<strong>le</strong> industrie e del JSPS.<br />
In Giappone ci sono oltre 40 compagnie attive nel<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
tra <strong>le</strong> quali Canon Inc, Fuji Photo Film., Fujitsu, Hitachi, Mitsui &<br />
Co., NanoCarrier Co., Nanoten, NEC Corp, Nissan Chemical Industries,<br />
Sony Corp., Toshiba Corp., Tsukuba Nanotechnology.<br />
Cina<br />
Dal 2000, la Cina ha dichiarato di vo<strong>le</strong>r spendere l’1% del proprio<br />
PIL <strong>per</strong> la scienza e la tecnologie, ed in seguito nel 2002 questa<br />
<strong>per</strong>centua<strong>le</strong> è stata portata all’1,5%. In ta<strong>le</strong> contesto rientrano anche<br />
<strong>le</strong> nanotecnologie ed in particolare nel 2001è stata lanciata la<br />
Chinese National Nanotechnology Initiative, un’iniziativa di 5 anni<br />
finanziata con 240 milioni di US$, provenienti <strong>per</strong> metà da MOST<br />
(Ministry of Science and Technology) e <strong>per</strong> il resto da State Development<br />
and Planning Commission, da Ministry of Education<br />
(MOE), da Chinese Academy of Sciences (CAS), da Chinese Academy<br />
of Engineering e da National Science Foundation of China.<br />
Alla fine del maggio 2002 sono state censite in Cina ben 323 imprese<br />
impegnate nel<strong>le</strong> nanotecnologie, interessando investimenti<br />
privati nel Paese di circa 360 milioni di US$. In particolare il 90% di<br />
esse hanno meno di 50 impiegati, mentre l’80-90% è impegnata<br />
in attività di produzione di nanomateriali, ed in particolare di nanopolveri.<br />
Di queste compagnie, 57 sono registrate con il termine<br />
P R I M O P I A N O<br />
“nano” nel loro nome (ad esempio Sun Nanotech, Beijing Nano<br />
Sunshine Technology, GP - Nanotechnology Group). In Cina ci sono<br />
31 linee di produzione di nanomateriali in vasta scala con una<br />
capacità annua<strong>le</strong> di almeno 20 tonnellate. La produzione include<br />
nano-ossidi, composti nanometrici di carbonio e ful<strong>le</strong>reni e <strong>le</strong>ghe<br />
metalliche nanometriche.<br />
Il rateo con il qua<strong>le</strong> vengono create nuove società impegnate nel<strong>le</strong><br />
nanotecnologie in Cina, è stato rapido e non sembra attenuarsi.<br />
Sebbene la grande maggioranza di esse siano picco<strong>le</strong> e servono<br />
mercati domestici, il numero di prodotti in vendita correlati al<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
è in continuo aumento.<br />
La più grande struttura creata dalla NNI cinese è il National Center<br />
for Nanoscience and Nanotechnology of China (NCNNC) nel Parco<br />
Scientifico dello Zhongguancun (Beijing), che ha richiesto un investimento<br />
governativo di oltre 30 milioni di US$. Il <strong>Centro</strong> è focalizzato<br />
sui processi e i dispositivi nanometrici, su nanostrutture e nanomateriali<br />
e su applicazioni biomedicali del<strong>le</strong> nanotecnologie.<br />
Analizzando <strong>le</strong> tematiche del<strong>le</strong> ricerche emerge come la Cina abbia<br />
concentrato i propri sforzi nello sviluppo dei nanomateriali, decisione<br />
dettata dalla prospettiva di produzioni a basso costo e dallo<br />
scarso sviluppo del<strong>le</strong> industrie high-tech e biotecnologiche.<br />
Taiwan<br />
Nel Gennaio 2003 è stata avviata la National Nanotechnology Initiative<br />
di Taiwan, amministrata dalla Taiwan’s National Science<br />
Council (NSC), con un investimento governativo previsto, dal 2003<br />
al 2008, di circa 680 milioni di US$ <strong>per</strong> la R&S del<strong>le</strong> nanotecnologie.<br />
Considerando la misura della popolazione e dell’economia,<br />
l’investimento relativo di Taiwan nel<strong>le</strong> nanotecnologie è probabilmente<br />
il più alto nel mondo. La principa<strong>le</strong> sorgente dei finanziamenti<br />
è il Ministry of Economic Affairs (MOEA) con lo NSC, il qua<strong>le</strong><br />
mira a creare un mercato industria<strong>le</strong> del<strong>le</strong> nanotecnologie prossimo<br />
agli 8.8 miliardi di dollari entro il 2008. Inoltre, attraverso la<br />
NNI, il Governo s<strong>per</strong>a di dar vita ad oltre 800 compagnie impegnate<br />
in questo settore entro il 2007 e più di 1.500 <strong>per</strong> il 2012.<br />
Il principa<strong>le</strong> istituto naziona<strong>le</strong> che si occupa di nanotecnologie è<br />
l’Industrial Technology Research Institute (ITRI), il qua<strong>le</strong> si è progressivamente<br />
imposto alla guida della NNI ed ha ottenuto un<br />
budget su<strong>per</strong>iore al 50% dell’investimento tota<strong>le</strong>. Nel 2002 l’ITRI,<br />
anticipando la NNI,ha inaugurato il NanoTechnology Research<br />
Center (NTRC) nel qua<strong>le</strong> hanno sede i laboratori di diverse grandi<br />
industrie nazionali ed internazionali. Tra esse ci sono Taiwan Semiconductor<br />
Manufacturing Company, United Microe<strong>le</strong>ctronics, Nissan<br />
Chemical Industries-Taiwan, Eternal Chemicals, Macronix,<br />
Nanya,Advanced Power E<strong>le</strong>ctronics Corp., e Everlight Chemicals,<br />
mentre a livello internaziona<strong>le</strong> vi hanno sede Northwestern University,<br />
MIT, Kodak, National Research Council of Canada, CSIRO di<br />
Australia, Loffe Physico-Technical Institute di Russia, Fraunhofer<br />
Institute of Germany e Delft University olandese.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
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6<br />
Il principa<strong>le</strong> obiettivo di Taiwan è quello di diventare una “Green<br />
Silicon Island” e <strong>per</strong> raggiungerlo sono stati rafforzati gli sforzi nella<br />
nanobiotecnologia.<br />
L’impegno del Governo di Taiwan sia a livello organizzativo che<br />
economico nel<strong>le</strong> nanotecnologie, pone questo Paese nella lista dei<br />
possibili futuri <strong>le</strong>aders mondiali in questo settore.<br />
Corea del Sud<br />
Questo Paese asiatico è fortemente impegnato <strong>per</strong> entrare nel<strong>le</strong><br />
top 10 mondiali <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie. Questo impegno ambizioso<br />
è supportato da uno specifico programma naziona<strong>le</strong> che va dal<br />
2001 al 2010 ed è gestito dal Ministry of Science and Technology<br />
(MOST). Il budget di questo progetto ammonta a 1.14 miliardi di<br />
US$ <strong>per</strong> 10 anni, che provengono dal MOST stesso e da diverse altre<br />
fonti governative.<br />
I programmi a breve <strong>per</strong>iodo della Corea includono ben 36 progetti<br />
inerenti al<strong>le</strong> nanoscienze e al<strong>le</strong> nanotecnologie, supportati da<br />
una base infrastruttura<strong>le</strong> fortemente sviluppata ed aggiornata.<br />
Infine in Corea ci sono diverse industrie di livello internaziona<strong>le</strong><br />
nella R&S del<strong>le</strong> nanotecnologie, prime tra tutte Samsung e LG<br />
E<strong>le</strong>ctronics, <strong>le</strong> quali hanno annunciato significativi programmi specifici.<br />
Australia<br />
L’Australia ha investito nel<strong>le</strong> nanotecnologie approssimativamente<br />
93 milioni di US$ nel 2003, portandosi alla pari, in termini di finanziamenti<br />
nazionali, con la Corea del Sud e subito dietro a Taiwan.<br />
L’Australia ha aumentato questi investimenti in modo molto marcato<br />
a partire dal 2000, concentrando gli sforzi soprattutto su nanomateriali<br />
e biomateriali, identificati dallo Australian Research<br />
Council come una del<strong>le</strong> quattro aree prioritarie di ricerca nel 2003.<br />
Singapore<br />
La Singapore Nanoscience Initiative (SNI) è stata lanciata dalla<br />
Agency for Science, Technology and Research (A*STAR) e ha avuto<br />
un finanziamento nel 2003 di 15 milioni di US$, che nel 2005 verranno<br />
accresciuti fino a 20 milioni. Gran parte degli sforzi di Singapore<br />
sono dedicati alla e<strong>le</strong>ttronica e magnetica.<br />
India<br />
L’India non ha un vero e proprio programma naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
e i fondi (almeno 30 milioni di dollari, più altri investimenti<br />
provenienti fa diverse fonti governative e non, <strong>per</strong> il 2005)<br />
vengono distribuiti dal Department of Science and Technology<br />
(DST), come parte dei finanziamenti <strong>per</strong> il National Program for<br />
Smart Materials (15 milioni di US$ l’anno) e <strong>per</strong> <strong>le</strong> scienze dei materiali.<br />
Il modesto importo di questi investimenti rispetto alla concorrenza<br />
asiatica (specialmente di Giappone e Corea), è stato<br />
rafforzato mediante una fitta rete di collaborazioni internazionali,<br />
che ha <strong>per</strong>messo all’India di rimanere competitiva nel settore.<br />
Le maggiori attività di ricerca e sviluppo in India <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
sono concentrate sui materiali nanostrutturati e sui dispositivi<br />
e<strong>le</strong>ttronici, coinvolgendo maggiormente istituzioni pubbliche come<br />
la Indian Institute of Science (IISc), l’Indian Institute of Technology<br />
(IIT) e la JNCAR, ovvero i tre maggiori centri di ricerca del Paese.<br />
Inoltre diverse grandi imprese farmaceutiche (tra <strong>le</strong> quali la Pa-<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
nacea Biotec) ed enti di ricerca come la National Chemical Laboratory<br />
di Pune e la University di Delhi sono stati coinvolti in progetti<br />
<strong>per</strong> lo sviluppo di nuovi sistemi di drug-delivery usando nanoparticel<strong>le</strong>.<br />
Tailandia, Ma<strong>le</strong>sia e Nuova Zelanda<br />
Hanno annunciato significativi sforzi nel<strong>le</strong> nanotecnologie e realizzato<br />
centri <strong>per</strong> aiutare <strong>le</strong> attività di coordinamento. In particolare in<br />
Tailandia verrà avviato quest’anno il National Nanotechnology<br />
Center ed un nuovo piano di finanziamenti di 25 milioni di US$ <strong>per</strong><br />
il <strong>per</strong>iodo 2004-2008; in Ma<strong>le</strong>sia, dove esistono già molte grandi e<br />
moderne infrastrutture, sono stati investiti 263 milioni di US$ <strong>per</strong> il<br />
<strong>per</strong>iodi 2001-2005; infine la Nuova Zelanda ha avviato diverse iniziative,<br />
tra <strong>le</strong> quali il recente MacDiarmid Institute for Advanced<br />
Materials and Nanotechnology finanziato con oltre 20 milioni di<br />
US$ <strong>per</strong> tre anni.<br />
Contatti<br />
A<strong>le</strong>ssio D’Andrea – dandrea@nanotec.it<br />
Nanotec IT – AIRI<br />
Via<strong>le</strong> Gorizia, 25/c<br />
I-00198 Roma<br />
Tel. +39 06 8848831/06 8546662<br />
Fax. +39 06 8552949<br />
e-mail info@nanotec.it<br />
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Nanometrologia all’IMGC/CNR<br />
M. Bisi, A. Germak, E. Massa, G. B. Picotto, M. Pisani<br />
Istituto di Metrologia “G. Colonnetti”/CNR<br />
Istituto di Metrologia “Gustavo Colonnetti” (IMGC) del Consi-<br />
L’ glio Naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Ricerche esegue ricerche finalizzate alla<br />
realizzazione, al mantenimento ed al miglioramento dei campioni<br />
di misura nei settori termico e meccanico. Nella nanometrologia<br />
l’IMGC sviluppa metodi di misura e campioni <strong>per</strong> estendere e<br />
rafforzare la riferibilità del<strong>le</strong> misure alla nanoscala; alcune applicazioni<br />
nella metrologia a scala atomica e del<strong>le</strong> su<strong>per</strong>fici sono qui<br />
riassunte. L’Istituto affronta anche prob<strong>le</strong>mi di metrologia <strong>per</strong> applicazioni<br />
spaziali che coinvolgono grandezze alla nanoscala.<br />
Metrologia del<strong>le</strong> su<strong>per</strong>fici<br />
Microscopia a sonda<br />
I microscopi con sonda a scansione (Scanning Probe Microscope,<br />
SPM) sono a tutt’oggi gli strumenti con la più e<strong>le</strong>vata risoluzione<br />
(risoluzione atomica) <strong>per</strong> l’analisi della topografia su<strong>per</strong>ficia<strong>le</strong> e<br />
del<strong>le</strong> dimensioni critiche di su<strong>per</strong>fici litografate e nanostrutturate,<br />
<strong>per</strong> <strong>le</strong> quali sono ormai richieste incertezze entro il nanometro<br />
(ITRS, Metrology, http:/public.itrs.net)<br />
Un microscopio a sonda particolarmente curato dal punto di vista<br />
della riferibilità del<strong>le</strong> misure del<strong>le</strong> geometrie su<strong>per</strong>ficiali è stato realizzato<br />
<strong>per</strong> la misura di dimensioni critiche in strutture regolari (reticoli,<br />
griglie, gradini, etc.) così come <strong>per</strong> osservare parametri critici<br />
di strutture irregolari (granularità di film evaporati, rugosità di su<strong>per</strong>fici,<br />
etc.). La struttura principa<strong>le</strong> del microscopio è la base che<br />
ospita il sistema di movimentazione del campione. Su di essa può<br />
essere montata una “testa” a forza atomica o una “testa” a effetto<br />
tunnel a seconda del<strong>le</strong> esigenze di misura. Il dispositivo di scansione<br />
xyz o<strong>per</strong>a su un volume di 30x30x15 mm, con controllo degli<br />
spostamenti basato su sistemi interferometrici e capacitivi [1].<br />
Fig. 1. Schema a blocchi, sistema di scansione e stadio-z del microscopio a sonda<br />
Lo stadio xy utilizza due interferometri lineari a specchi piani e fasometri<br />
veloci <strong>per</strong> controllare in anello chiuso il movimento di due<br />
slitte di precisione pilotate da trasduttori piezoe<strong>le</strong>ttrici.<br />
Lo stadio z utilizza uno schema origina<strong>le</strong> basato su due piastre assemblate<br />
con montaggio cinematico i cui tre punti d’appoggio sono<br />
movimentati da altrettante lamine piezoe<strong>le</strong>ttriche bimorfe. Tra<br />
<strong>le</strong> due piastre sono alloggiati tre sensori capacitivi. Lo schema <strong>per</strong>mette<br />
un movimento a tre gradi di libertà con tre controlli indipen-<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
denti basati sulla coppia sensore-attuatore. Il sistema realizza un<br />
movimento vertica<strong>le</strong> virtualmente privo di rotazioni di rollio e beccheggio.<br />
La parte su<strong>per</strong>iore può facilmente essere rimossa e riposizionata<br />
<strong>per</strong> il fissaggio del campione.<br />
Il microscopio è stato impiegato in confronti internazionali (misure<br />
indipendenti di un campione, eseguite in diversi laboratori metrologici)<br />
su campioni a gradino, reticoli e griglie litografate [2]. Il bilancio<br />
dell’incertezza dello strumento porta a U95/nm ~ Q[2, 1x10 -3 ⋅L] <strong>per</strong><br />
dimensioni (L) maggiori di 200 nm e di U95/nm ~ Q[2, 2x10 -3 ⋅h] <strong>per</strong><br />
gradini (h) maggiori di 100 nm.<br />
Un e<strong>le</strong>mento essenzia<strong>le</strong> della microscopia a sonda è la realizzazione<br />
di punte/sonde con dimensioni nanometriche al vertice <strong>per</strong> ridurre<br />
gli errori della ricostruzione topografica dovuti alla forma finita<br />
della stessa punta. È in corso di s<strong>per</strong>imentazione la fabbricazione<br />
di punte metalliche con al vertice nanotubi al carbonio, <strong>le</strong> cui<br />
ridotte dimensioni e <strong>le</strong> buone proprietà meccaniche ed e<strong>le</strong>ttriche li<br />
rendono particolarmente adatti come sonde SPM.<br />
Fig. 2. Immagini STM di una su<strong>per</strong>gficie litografata e di un film sotti<strong>le</strong> di TiO2<br />
(IMGC e UniTo)<br />
Diffrattometria ottica<br />
I reticoli di diffrazione e <strong>le</strong> griglie bidimensionali con passo e dimensioni<br />
critiche comprese tra <strong>le</strong> decine di micrometri e poche centinaia<br />
di nanometri sono largamente usati come campioni di trasferimento<br />
<strong>per</strong> tarare i microscopi e<strong>le</strong>ttronici, ottici e a scansione.<br />
Il diffrattometro IMGC (Fig. 3) utilizza due sorgenti laser He-Ne stabilizzate<br />
(a 633 e 543 nm), <strong>le</strong> cui lunghezze d’onda in vuoto sono<br />
state tarate rispetto al campione naziona<strong>le</strong> di lunghezza; il fascio<br />
laser polarizzato linearmente attraversa un beam-splitter polarizzatore<br />
(PBS), una lamina a quarto d’onda, e un espansore di fascio<br />
dal qua<strong>le</strong> emerge un fascio collimato, polarizzato circolarmente e<br />
con un diametro (al 90% della potenza) di circa 10 mm.<br />
Fig. 3. Schema a blocchi del diffrattometro e tipica figura di diffrazione da un<br />
reticolo 2D.<br />
Il reticolo da misurare è montato su una tavola rotante ed è illuminato<br />
dal fascio laser. La radiazione rif<strong>le</strong>ssa dal reticolo passa nuova-<br />
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7<br />
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8<br />
mente attraverso l’espansore di fascio (che adesso o<strong>per</strong>a come<br />
compressore) e attraversa la lamina a quarto d’onda che trasforma<br />
la sua polarizzazione circolare in una polarizzazione rettilinea<br />
orientata a 90° rispetto a quella del fascio incidente. Il fascio emergente<br />
viene <strong>per</strong>ciò comp<strong>le</strong>tamente rif<strong>le</strong>sso dal PBS verso un fotorivelatore<br />
a due quadranti. Il rivelatore ha una sensibilità migliore di<br />
2 µrad e fornisce un segna<strong>le</strong> di zero quando la radiazione rif<strong>le</strong>ssa/diffratta<br />
dal reticolo è paral<strong>le</strong>la alla radiazione incidente (condizione<br />
di autocollimazione). Con un reticolo di passo p ta<strong>le</strong> condizione<br />
è soddisfatta quando l’angolo α tra la radiazione incidente e<br />
la norma<strong>le</strong> alla su<strong>per</strong>ficie del reticolo è l’arcocoseno di Nλ/2p, dove<br />
λ è la lunghezza d’onda del laser ed N è l’ordine di diffrazione (il<br />
numero di ordini di diffrazione generati è: INT (2p/λ)). Perciò, misurando<br />
a <strong>per</strong> un qualunque ordine di diffrazione N e ad una determinata<br />
λ, si ricava il passo p da:<br />
p = N λ/(2sen α)<br />
Il passo non è ovviamente misurabi<strong>le</strong> quando p ≤λ/2 poiché in ta<strong>le</strong><br />
caso non vi sono ordini diffratti, mentre il massimo passo misurabi<strong>le</strong><br />
è limitato solo dalla visibilità e dalla separazione relativa tra gli<br />
ordini diffratti. Quindi, dato che il laser a lunghezza d’onda più<br />
corta è il verde a 543 nm, il minimo passo misurabi<strong>le</strong> è circa 280<br />
nm. Da es<strong>per</strong>ienze pratiche si è verificato che possono essere misurati<br />
passi oltre i 50 µm. L’incertezza della misura dipende essenzialmente<br />
dalla ripetibilità della tavola goniometrica, la qua<strong>le</strong> è di circa<br />
50 µrad. Al confronto, gli errori dovuti alla stabilità della lunghezza<br />
d’onda del laser, al<strong>le</strong> variazioni dell’indice di rifrazione dell’aria e al<br />
rumore dell’e<strong>le</strong>ttronica del rivelatore sono trascurabili.<br />
Con alcune approssimazioni ed esprimendo il passo p in micrometri,<br />
l’incertezza della misura è:<br />
∆p = 1,58 × 10 -4 ⋅ p 2 / N<br />
Poiché il massimo ordine diffratto NMAX è proporziona<strong>le</strong> a p, l’errore<br />
relativo ∆p/p, nel caso in cui il più alto ordine diffratto sia visibi<strong>le</strong>, è<br />
sostanzialmente indipendente dal valore di p e nel nostro caso risulta<br />
entro una parte in 10 4 .<br />
L’Istituto ha partecipato ad un confronto internaziona<strong>le</strong> CCL-S1,<br />
effettuato su due campioni aventi passo nomina<strong>le</strong> 290 e 700 nm i<br />
cui risultati sono mostrati in fig. 4.<br />
Fig. 4. Risultati del confronto CCL-S1<br />
Profilometria a stilo<br />
Il profilometro a stilo è impiegato <strong>per</strong> la taratura dei campioni a<br />
solco e a gradino di altezza/profondità compresa tra 5 nm e 15<br />
µm. Per questo strumento è stata messa a punto una nuova metodologia<br />
di taratura basata su trasduttori piezocapacitivi <strong>per</strong> micro-<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
spostamenti, tarati a loro volta <strong>per</strong> via interferometrica. La profondità<br />
del solco o l’altezza del gradino (h) è ottenuta con un’incertezza<br />
pari a U95/nm ~ Q[1, 4×10 -3 ⋅ h]. Campioni a gradino da 7 a 800<br />
nm sono stati oggetto di un confronto internaziona<strong>le</strong> sulla nanometrologia<br />
NANO2 [4].<br />
Microdurezza<br />
Nell’attività di mantenimento e disseminazione del<strong>le</strong> sca<strong>le</strong> di durezza,<br />
si realizzano anche <strong>le</strong> sca<strong>le</strong> di micro-durezza Vickers sui materiali<br />
metallici (ISO 6507); <strong>per</strong> micro-durezza Vickers si intendono<br />
<strong>le</strong> sca<strong>le</strong> generate con forze comprese nel seguente intervallo:<br />
0,09807 N < F < 1,961 N. Le sca<strong>le</strong> corrispondenti sono <strong>le</strong> seguenti:<br />
HV 0,01, HV 0,015, HV 0,02.<br />
Le più picco<strong>le</strong> impronte romboidali generate da tali sca<strong>le</strong> hanno<br />
una diagona<strong>le</strong> di 20 µm. Per misurare <strong>le</strong> diagonali del<strong>le</strong> impronte e<br />
quindi <strong>per</strong> calcolare il valore di durezza, si utilizza un apposito<br />
software (brevetto CNR) che <strong>per</strong>mette la misura automatica con<br />
un’incertezza di qualche decimo di micrometro. Il software di elaborazione<br />
e misura di immagini è col<strong>le</strong>gato ad un sistema di misura<br />
composto di microscopio ottico, te<strong>le</strong>camera e interferometro laser.<br />
Un altro settore attualmente in sviluppo sono <strong>le</strong> sca<strong>le</strong> di durezza<br />
Martens. La misura di durezza Martens è ottenuta come parametro<br />
della prova strumentata di penetrazione (instrumented indentation<br />
test – ISO 14577). Attualmente in IMGC è possibi<strong>le</strong> misurare<br />
la durezza Martens nel micro-range, definito come limite su<strong>per</strong>iore<br />
dalla forza massima applicabi<strong>le</strong> (2 N > F) e come limite inferiore<br />
dalla profondità minima (h > 0,0002 mm), con il durometro campione<br />
primario IMGC dotato di masse tarate <strong>per</strong> la generazione<br />
della forza (con cella di carico <strong>per</strong> la misura in fase di applicazione)<br />
e di un interferometro laser <strong>per</strong> la misura della profondità.<br />
Metrologia a scala atomica<br />
Determinazione del parametro reticolare del silicio<br />
La misurazione richiede che un cristallo di silicio sia diviso in due<br />
parti e ricomposto posizionando gli atomi del<strong>le</strong> due parti nella medesima<br />
posizione relativa da essi occupata nel cristallo prima della<br />
separazione. Gli atomi in una porzione di cristallo sono quindi “osservati”<br />
e contati mediante l'interferometro a raggi X e l'estensione<br />
della porzione di cristallo osservata è misurata mediante un interferometro<br />
laser. Muovere e posizionare nello spazio i due cristalli<br />
è un compito formidabi<strong>le</strong>: l’errore di posizione deve essere inferiore<br />
a pochi picometri e gli angoli di beccheggio ed imbardata inferiori<br />
ad un mil<strong>le</strong>simo di secondo d'arco. Per ottenere queste<br />
informazioni è stato sviluppato un sofisticato interferometro laser<br />
capace di misurare simultaneamente posizioni ed angoli con risoluzioni<br />
di un picometro ed un nanoradiante [5,6]. La meccanica del<br />
sistema di posizionamento non è meno critica. I due cristalli devono<br />
poter scorrere l’uno relativamente all’altro di alcuni millimetri<br />
(stiamo lavorando <strong>per</strong> ottenere movimenti su<strong>per</strong>iori al centimetro)<br />
e, nel contempo, il loro ancoraggio deve essere estremamente rigido<br />
<strong>per</strong> limitare a pochi picometri l’ampiezza del<strong>le</strong> vibrazioni relative<br />
dovute ai disturbi ambientali.
Fig. 5. Interferometro a raggi-X accoppiato con l’interferometro laser, apparato<br />
s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong> <strong>per</strong> la misura del parametro reticolare del silicio realizzato presso<br />
l’IMGC<br />
A tal scopo è stata realizzata una guida azionata da e<strong>le</strong>menti piezoe<strong>le</strong>ttrici<br />
avente cinque gradi di libertà, una traslazione longitudina<strong>le</strong><br />
pari a 2 mm realizzata da una cerniera elastica, due movimenti<br />
trasversali (latera<strong>le</strong> e vertica<strong>le</strong> in un campo di ± 5 µm) e due rotazioni<br />
(beccheggio ed imbardata in un campo di ± 1 µrad) [7]. Infine<br />
l’intero sistema è stato asservito ai segnali generati sia dall’interferometro<br />
laser, sia dall’interferometro X.<br />
Combined Optical and X-ray Interferometry (COXI)<br />
L’obiettivo di COXI è calibrare in termini trasduttori di spostamento<br />
o<strong>per</strong>anti nel campo dei nanometri. Lo strumento è in grado di misurare<br />
spostamenti lineari con grande precisione; ad esempio ± 10<br />
pm <strong>per</strong> spostamenti di alcuni manometri. Il rapporto tra i <strong>per</strong>iodi<br />
del segna<strong>le</strong> d’interferenza ottico ed X, circa 1648, consente una risoluzione<br />
spazia<strong>le</strong> di circa 200 pm (la distanza tra i piani atomici<br />
del Si nella direzione 220). Una risoluzione ancora maggiore si ottiene<br />
mediante tecniche di interpolazione del segna<strong>le</strong> di interferenza<br />
X [8, 9].<br />
Fig. 6. Frange d’interferenza dell’interferometro ottico, nel riquadro è visibi<strong>le</strong> la<br />
discretizzazione introdotta dall’interferometro a raggi X. A lato è evidenziata la<br />
non linearità dell’interferometro ottico che emerge nel confronto con quello X<br />
(best fit sinusoida<strong>le</strong> applicato al segna<strong>le</strong> ottico).<br />
Topografia a contrasto di fase<br />
Misura del grado di distorsione nel cristallo<br />
L’utilizzo di questa tecnica <strong>per</strong>mette di investigare la qualità del cristallo<br />
di silicio. L’immagine di moirè si ottiene modulando direttamente<br />
la fase della radiazione X con il modulatore di fase (PM). Il<br />
set-up s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong> <strong>per</strong> la topografia a modulazione di fase è indicata<br />
in figura 7.<br />
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Fig. 7. Set-up s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong> e segna<strong>le</strong> d'interferenza ottenuto in un<br />
fotomoltiplicatore multianodo accoppiato con cristallo NaI(Tl)<br />
Il segna<strong>le</strong> di interferenza presente sul detector (D) contiene, codificata<br />
nella fase, l’informazione derivante dai piani atomici del divisore<br />
(S), degli specchi (M1, M2) e dell'analizzatore (A). Se il cristallo<br />
contiene dei difetti essi sono visibili nell’immagine di moiré<br />
(Fig.8). Le informazioni ottenute possono essere utilizzate nella determinazione<br />
della costante di Avogadro e <strong>per</strong> quantificare l’entità<br />
del danno introdotto dalla lavorazione chimico-meccanica sul materia<strong>le</strong>.<br />
Fig. 8. Distorsione dei piani reticolari e immagine di moirè del cristallo<br />
Immagini a contrasto di fase<br />
Le tecniche radiografiche non sono in grado di distinguere strutture<br />
trasparenti ai raggi X, ad esempio tessuti molli. L’interferometria<br />
a raggi X su<strong>per</strong>a tali difficoltà: <strong>le</strong> variazioni di fase sono fino a cento<br />
volte più grandi dell'assorbimento e l’interferometria consente<br />
di osservare l'impronta nella fase dei raggi X anche quando l'ombra<br />
corrispondente non è osservabi<strong>le</strong>. Il ritardo di fase lungo i due<br />
<strong>per</strong>corsi nell'interferometro dipende dalla lunghezza del <strong>per</strong>corso<br />
ottico. Ponendo un campione in uno dei due cammini, si induce un<br />
profilo di interferenza che codifica informazioni dettagliate sull’interno<br />
del campione in curve di livello (nella figura 9 i cerchi concentrici)<br />
che costituiscono una mappa topografica dell’interno del<br />
campione [10,11]. Questa tecnica apre nuove prospettive diagnostiche,<br />
ad esempio <strong>per</strong> la mammografia, ma richiede l’estensione<br />
del campo di vista ad almeno (10 × 10) cm 2 . Questo può essere ottenuto<br />
solo realizzando un sistema ottico composito in cui i cristalli<br />
che realizzano gli e<strong>le</strong>menti ottici dell’interferometro sono posizionati<br />
nello spazio a distanze dell’ordine del metro con accuratezza<br />
di pochi picometri.<br />
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9<br />
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10<br />
Fig. 9. Immagine a contrasto di fase della <strong>le</strong>nte di focalizzazione di un compact<br />
disc ottenuta <strong>per</strong> mezzo dell’interferometria a raggi X presso la sorgente di luce<br />
di sincrotrone ELETTRA.<br />
Nanobilancia<br />
IMGC, A<strong>le</strong>nia Spazio e Politecnico di Torino hanno progettato e<br />
realizzato la Nanobalance, uno strumento <strong>per</strong> la misura diretta della<br />
intensità e della densità spettra<strong>le</strong> di spinta di micropropulsori a<br />
ioni (FEEP - Field Emission E<strong>le</strong>ctric Propulsion) e a gas (azoto) nella<br />
banda di frequenze da 10 -4 Hz a 5 Hz, con una risoluzione (dipendente<br />
dalla frequenza) compresa tra 10 nN e 1 µN. Questo tipo di<br />
micropropulsore, caratterizzato da una spinta massima di 1 mN,<br />
verrà utilizzato <strong>per</strong> il controllo d'assetto e <strong>per</strong> la compensazione<br />
del drag atmosferico in alcune missioni scientifiche, come GOCE<br />
(che map<strong>per</strong>à il geopotenzia<strong>le</strong> terrestre) e LISA (un interferometro<br />
di Michelson <strong>per</strong> la rivelazione di onde gravitazionali). Nanobalance<br />
è un concetto innovativo, sviluppato a causa della mancanza di<br />
uno strumento dotato di risoluzione sufficiente <strong>per</strong> la misura della<br />
piccola spinta dei micropropulsori in fase di sviluppo.<br />
Nanobalance è una bilancia interferometrica o<strong>per</strong>ante in vuoto e<br />
consiste di un risonatore Fabry-Perot, la cui lunghezza è modificata<br />
dall'azione del micropropulsore in prova. Lo strumento (Fig. 10) è<br />
posizionato su una piastra circolare isolata meccanicamente dalla<br />
camera da vuoto, che è a sua volta montata su un sistema di smorzamento<br />
pneumatico (Fig. 11).<br />
Fig. 10. Schema della Nanobalance<br />
Il micropropulsore è montato su un pendolo rigido col<strong>le</strong>gato ad<br />
uno spaziatore in Zerodur <strong>per</strong> mezzo di una cerniera elastica. Un<br />
altro micropropulsore (che non viene azionato durante la prova) è<br />
montato su un secondo pendolo <strong>per</strong> bilanciare lo strumento. Nella<br />
realizzazione, è stata posta particolare cura affinchè i pendoli risultassero<br />
quanto più possibi<strong>le</strong> identici.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Fig. 11. Apparato s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong><br />
A micropropulsore spento i due pendoli oscillano in fase (ad una<br />
frequenza di 13 Hz circa): ogni disturbo meccanico (di origine acustica<br />
o sismica) che si propaghi fino allo strumento genera una <strong>per</strong>turbazione<br />
di modo comune, e non rende asimmetrico il moto dei<br />
due pendoli. A causa del<strong>le</strong> ineliminabili picco<strong>le</strong> differenze nella<br />
geometria dei due pendoli, la reiezione dei disturbi di modo comune<br />
non può essere comp<strong>le</strong>ta. È comunque possibi<strong>le</strong> rendere uguali<br />
a meglio di 0,1 Hz <strong>le</strong> frequenze proprie dei pendoli.<br />
Due specchi, montati all'estremità inferiore dei pendoli, realizzano<br />
un risonatore Fabry-Perot. Un laser Nd:YAG duplicato (λ = 532 nm)<br />
è agganciato con la tecnica di Pound-Drever [12] e un controllo digita<strong>le</strong><br />
[13,14] al risonatore; un secondo laser Nd:YAG viene invece<br />
riferito ad una transizione della mo<strong>le</strong>cola di iodio, con una stabilità<br />
di frequenza migliore di 10 -12 <strong>per</strong> tempi di integrazione di 1 s.<br />
La frequenza del battimento tra i due laser fornisce l'informazione<br />
sul valore della spinta prodotta dal micropropulsore. All'accensione<br />
del micropropulsore, la lunghezza del risonatore Fabry-Perot<br />
viene modificata e di conseguenza cambia la frequenza della nota<br />
di battimento. La frequenza della radiazione laser (≈ 490 THz) viene<br />
mantenuta in risonanza con il Fabry-Perot <strong>per</strong> mezzo di una<br />
Unità di Controllo Digita<strong>le</strong>, avente una banda di controllo di 200<br />
Hz circa. Di conseguenza, <strong>le</strong> deviazioni di frequenza del laser rappresentano<br />
la risposta in bassa frequenza (< 2 Hz) dello strumento<br />
sotto l'azione del micropropulsore in prova.<br />
La calibrazione del fattore di conversione frequenza/forza dello<br />
strumento è effettuato, a micropropulsore non attivo, applicando<br />
una forza nota ad uno dei pendoli con un attuatore lineare.<br />
Riferimenti<br />
[1] G.B. Picotto, M. Pisani, A samp<strong>le</strong> scanning system with nanometric<br />
accuracy for quantitative SPM measurements, Ultramicroscopy,<br />
vol 86/1-2, pp. 247-254 (2001)<br />
[2] R. Breil et al., Intercomparison of scanning probe microscopes,<br />
Precision Engineering 26(3), pp. 296-305 (2002)<br />
[3] http://kcdb.bipm.org/AppendixB/appbresults/ccl-s1/ccl-s1.pdf<br />
[4] L. Koenders et al., Comparison on nanometrology: Nano2-Step<br />
height, Metrologia 40 (Technical Supp<strong>le</strong>ment 2003) 04001<br />
[5] Bergamin,A., Cavagnero,G., Mana,G., A displacement-ang<strong>le</strong><br />
interferometer with sub-atomic resolution, Rev. Sci. Instrum. vol. 64,<br />
1993: pp. 3076-3081<br />
[6] Bergamin,A., Cavagnero,G., Mana,G., Servo-Positioning with<br />
picometer resolution, Rev. Sci. Instrum. vol. 64, 1993; pp. 168-173
[7] Bergamin, A., Cavagnero, G., Durando, G., Mana, G., Massa, E.,<br />
A two-axis tip-tilt platform for x-ray interferometry, Meas. Sci.<br />
Technol., vol. 14, pp. 717-723<br />
[8] Bergamin,A., Cavagnero,G., Mana,G., Quantized positioning of an<br />
X-ray interferometer, Rev. Sci. Instrum., vol. 68, Jan. 1997: pp. 17-22<br />
[9] Basi<strong>le</strong>, G., Becker, P., Bergamin, A., Cavagnero, G., Franks, A.,<br />
Jackson, K., Kuetgengs, U., Mana, G., Palmer, E. W., Robbie, C. J.,<br />
Stedmana, M., Stuempel, J., Yacoot, A., Zosi, G., Combined optical<br />
and x-ray interferometry for high-precision dimensional metrology,<br />
Proc. R. Soc. Lond. A (2000) vol 456 pp 701-729<br />
[10] Massa,E., Mana,G., Montanari,F., Future visioni a raggi X,-Sa<strong>per</strong>e,<br />
anno 67°, nr. 6, Dicembre 2001, pp 48-58<br />
[11] G. Durando, G. Mana, E. Massa, Una frontiera della metrologia<br />
ed una metrologia di frontiera, Tutto Misure, anno IV, n° 02, 2002,<br />
pp 119-128<br />
[12] R.W.P. Drever et al., “Laser Phase and Frequency Stabilization Using<br />
an Optical Resonator”, Appl. Phys., B 31, pp. 97-105 (1983)<br />
[13] E. Canuto, Active distance stabilization of large bodies using Fabry-<br />
Pérot interferometry, in Proc. of the 39th IEEE Conference on<br />
Decision and Control, pp. 3957-3962 (2000)<br />
[15] E. Canuto et al., Digital control of the frequency of laser sources for<br />
fine metrology, in Proc. of the 2nd European Society of Precision Eng.<br />
Int. Conf., pp. 314-317 (2001)<br />
Contatti<br />
M. Bisi, A. Germak, E. Massa, G.B. Picotto, M. Pisani<br />
CNR- Istituto di Metrologia “G. Colonnetti”<br />
Strada del<strong>le</strong> Cacce, 73<br />
10135 Torino<br />
Tel. 011 39771<br />
www.imgc.cnr.it<br />
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<strong>Nanotecnologie</strong> <strong>per</strong> <strong>le</strong> ICT<br />
al Politecnico di Torino<br />
C.F. Pirri, C. Naldi, P. Civera<br />
Politecnico di Torino, Facoltà di Ingegneria dell’Informazione<br />
Le nanoscienze e <strong>le</strong> nanotecnologie, ovvero lo studio e <strong>le</strong> applicazioni<br />
del<strong>le</strong> proprietà nanoscopiche della materia, rappresentano<br />
un settore assolutamente di punta dell’attua<strong>le</strong> ricerca scientifica e<br />
tecnologica.<br />
Le nanotecnologie si stanno sviluppando grazie alla convergenza<br />
di alcuni fattori:<br />
(1) i progressi nella microscopia, che ora <strong>per</strong>mette di vedere oggetti<br />
di dimensioni nanometriche ed atomiche;<br />
(2) lo sviluppo e il consolidamento dei processi di micro e nanostrutturazione<br />
dei materiali;<br />
(3) l’interesse della fisica, della ingegneria, della chimica e della<br />
biologia <strong>per</strong> <strong>le</strong> proprietà mesoscopiche e nanoscopiche della<br />
materia;<br />
(4) l’enorme campo di applicazioni che tali proprietà offrono in<br />
campi quali la biologia e la medicina, la sensoristica, l’immagazzinamento<br />
chimico/energetico, <strong>le</strong> te<strong>le</strong>comunicazioni ottiche,<br />
la computazione ottica e/o quantistica, il design di dispositivi<br />
e<strong>le</strong>ttronici/ magnetici/ottici con nuove funzionalità.<br />
Una <strong>per</strong>centua<strong>le</strong> consistente del mondo dei micro e nanosistemi,<br />
soprattutto quelli che cadono nel settore dell’ICT, è rappresentata<br />
da dispositivi in cui si impiegano <strong>le</strong> tecnologie derivanti dalla microe<strong>le</strong>ttronica,<br />
spinte sino alla scala nanometrica, <strong>per</strong> ottenere funzionalità<br />
e<strong>le</strong>ttroniche, ottiche, fluidiche, meccaniche integrate.<br />
Laboratorio “Materiali e Microsistemi”<br />
del Politecnico di Torino<br />
Presso il Politecnico di Torino è o<strong>per</strong>ativa una struttura di ricerca<br />
con tecnologie (<strong>per</strong> la sintesi di materiali, <strong>per</strong> il processi e <strong>per</strong> la caratterizzazione)<br />
e competenze che si rivolgono al settore del<strong>le</strong> nanoscienze.<br />
Si tratta del “Laboratorio Materiali e Microsistemi”. Il<br />
Laboratorio nasce nel 1999 nell'ambito del Documento Unico di<br />
Programmazione 1997 - 1999 della Regione Piemonte (Misura<br />
6.1: Progetti Integrati di Bacini Economici Locali, Aree Sistema, Distretti-<br />
Progetto: Diffusione Dell'innovazione Tecnologica Dell'industria<br />
Manifatturiera Del Canavese).<br />
È cogestito dal Politecnico di Torino, dall’Istituto Naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> la<br />
Fisica della Materia (CNR) e dal Consorzio <strong>per</strong> il Distretto Tecnologico<br />
del Canavese (regione Piemonte) in sinergia con numerose industrie<br />
o<strong>per</strong>anti nel settore della tecnologia (ad esempio: International<br />
Rectifier, STMicroe<strong>le</strong>ctronics, Olivetti i-jet del gruppo Te<strong>le</strong>com-Pirelli,<br />
Varian, <strong>Centro</strong> Ricerche Fiat, LPE, Agi<strong>le</strong>nt, TiLab) o con<br />
realtà imprenditoriali picco<strong>le</strong>/medie e spin off.<br />
La missione del Laboratorio consiste nella realizzazione e progettazione<br />
di microsistemi e nanosistemi a base di silicio, nella ricerca di<br />
base nel campo dei materiali e dei processi <strong>per</strong> <strong>le</strong> micro e <strong>le</strong> nanotecnologie,<br />
nel trasferimento tecnologico e nella formazione. Il Laboratorio<br />
raccoglie <strong>le</strong> competenze sia tecnologiche che fondamen-<br />
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tali <strong>per</strong> lo studio/caratterizzazione dei materiali e dei processi tipici<br />
del<strong>le</strong> micro e nanotecnologie (con particolare enfasi sui composti a<br />
base di silicio, carbonio, vetri e plastiche) e <strong>per</strong> la progettazione e<br />
realizzazione di dispositivi e sistemi NEMS, MEMS e MOEMS ad<br />
ampio spettro di applicazione. Nel laboratorio o<strong>per</strong>ano circa 30 ricercatori<br />
del Politecnico di Torino e dell’INFM oltre che numerosi ricercatori/tecnici<br />
distaccati da Aziende.<br />
Le attuali linee programmatiche del laboratorio possono così riassumere:<br />
- MEMS e NEMS a base Si, SiC e Carbonio e microe<strong>le</strong>ttronica di<br />
supporto<br />
- Micro e nanosistemi automoni (battery <strong>le</strong>ss e/o wire<strong>le</strong>ss)<br />
- Micro e nano tecnologie al servizio dei sistemi biologici (es.<br />
dispositivi multifunzionali <strong>per</strong> scopi terapeutici, diagnostici,<br />
<strong>per</strong> il riconoscimento proteico e mo<strong>le</strong>colare, <strong>per</strong> il drug<br />
delivery intelligente)<br />
- Nanostrutture <strong>per</strong> la fotonica e la computazione quantistica<br />
- Micro e nanostrutture <strong>per</strong> l’e<strong>le</strong>ttronica e <strong>per</strong> dispositivi magnetici<br />
- Tecnologie di packaging di microsistemi e nanosistemi<br />
- Lavorazione e prototipazione rapida di MEMS e NEMS<br />
polimerici<br />
- E<strong>le</strong>ttronica e sensoristica a base di carburo di silicio –<br />
applicazioni in dispositivi o<strong>per</strong>anti in harsh environment<br />
(tem<strong>per</strong>atura, radiazione, pressione, agenti chimici)<br />
- Formazione (secondo e terzo livello e continuing education su<br />
micro e nanotecnologie)<br />
Nel breve/medio termine <strong>le</strong> linee programmatiche relative al<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
si stanno concretizzando attraverso la realizzazione<br />
di alcuni progetti qualificanti:<br />
• Sviluppo di sistemi <strong>per</strong> il patterning sub micrometrico<br />
L’attività consiste nella messa a punto di alcune tecnologie <strong>per</strong> la litografia<br />
sub-micrometrica. Si stanno investigando quattro strade:<br />
(i) tecnica a fascio e<strong>le</strong>ttronico; (ii) tecnica mediante AFM/STM; (iii)<br />
litografia mediante SNOM; (iv) litografia mediante maschere olografiche.<br />
• Realizzazione di nanostrutture <strong>per</strong> la fotonica<br />
a base silicio<br />
Mediante deposizione di film sottili, litografia a fascio e<strong>le</strong>ttronico,<br />
deposizione di microsferu<strong>le</strong> e/o litografia X si stanno sviluppando i<br />
cosiddetti cristalli fotonici mono, bi e tri-dimensionali. Tali strutture,<br />
attraverso il principio del confinamento della luce, costituiranno la<br />
chiave <strong>per</strong> il successo del<strong>le</strong> te<strong>le</strong>comunicazioni ottiche e dei computer<br />
comp<strong>le</strong>tamente ottici e/o quantistici. Infatti, i cristalli fotonici<br />
consentono il confinamento ottico tridimensiona<strong>le</strong> dei fotoni, una<br />
del<strong>le</strong> possibili basi <strong>per</strong> realizzare la computazione quantistica ottica.<br />
• Realizzazione di nanodispositivi e<strong>le</strong>ttronici<br />
e di nanostrutture magnetiche <strong>per</strong> la spintronica<br />
Nel primo caso, si tratta dello sviluppo di dispositivi di dimensioni<br />
confrontabili con la lunghezza d’onda dell’e<strong>le</strong>ttrone e in cui si<br />
sfruttano <strong>le</strong> proprietà ondulatorie degli e<strong>le</strong>ttroni oppure di dispositivi<br />
in cui l’e<strong>le</strong>ttrone è visto come una singola particella quantistica<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
(quantum devices, sing<strong>le</strong> e<strong>le</strong>ctron transistors).<br />
Nel secondo caso, si stanno realizzando su multilayer magnetici dei<br />
pattern nanometrici <strong>per</strong> applicazioni spintroniche, in cui l’integrazione<br />
di semiconduttori e materiali magnetici consente di sfruttare<br />
<strong>le</strong> proprietà degli spin degli e<strong>le</strong>ttroni <strong>per</strong> trasportare l'informazione.<br />
• Progettazione e realizzazione di micro e nanosistemi<br />
<strong>per</strong> il monitoraggio ambienta<strong>le</strong><br />
Attraverso l’utilizzo di materiali a base di silicio e di carbonio nanostrutturati<br />
si stanno realizzando sensori <strong>per</strong> il monitoraggio di gas,<br />
tem<strong>per</strong>atura, pressione, presenza di polveri o di inquinanti in ambiente,<br />
in processi industriali o in sistemi a combustione.<br />
• Realizzazione di sensori <strong>per</strong> diagnostica medica<br />
e biologica<br />
È probabilmente una del<strong>le</strong> attività più comp<strong>le</strong>sse e ambizione del<br />
Laboratorio. Consiste nella realizzazione di dispositivi (i) <strong>per</strong> il riconoscimento<br />
di DNA/geni/proteine, (ii) <strong>per</strong> il monitoraggio di sistemi<br />
cellulari in evoluzione (colture batteriche, colture di cellu<strong>le</strong> tumorali,<br />
virus,…), (iii) <strong>per</strong> il drug delivery.<br />
Si stanno realizzando schiere di micro e nanoe<strong>le</strong>ttrodi e di FET<br />
(transistori a effetto di campo), oppure schiere di canti<strong>le</strong>ver in grado<br />
di ri<strong>le</strong>vare microscopiche variazioni di massa, oppure sistemi ottici<br />
in grado di rivelare chemiluminescenza. I dispositivi di analisi<br />
sono integrati con strutture microfluidiche (Lab-on-chip), oltre che<br />
in dispositivi in grado di attuare un drug delivery controllato in dose<br />
e mirato in obiettivo.<br />
• <strong>Nanotecnologie</strong> <strong>per</strong> l’energetica<br />
Si tratta di attività in cui <strong>le</strong> nanotecnologie sono impiegate <strong>per</strong> la<br />
produzione, l’immagazzinamento, il trasferimento e l’utilizzo raziona<strong>le</strong><br />
dell’energia. È infatti possibi<strong>le</strong> costruire cel<strong>le</strong> solari, cel<strong>le</strong> a<br />
combustibi<strong>le</strong>, batterie, combustori estremamente efficienti. Anche<br />
la promettente tecnologia dell’idrogeno può trarre benefici effetti<br />
dal<strong>le</strong> nanotecnologie sia nella fase di stoccaggio che nella fase di<br />
utilizzo del combustibi<strong>le</strong> idrogeno.<br />
Iniziative didattiche<br />
In un panorama mondia<strong>le</strong> e naziona<strong>le</strong> in forte espansione necessitano<br />
iniziative di formazione della nuova schiera di tecnici e ricercatori<br />
che o<strong>per</strong>eranno nel settore del<strong>le</strong> micro e nanotecnologie. Il<br />
Politecnico di Torino ha deciso nel Febbraio 2004 l’istituzione della<br />
laurea specialistica in <strong>Nanotecnologie</strong> <strong>per</strong> <strong>le</strong> ICT, progettata dalla<br />
Facoltà di Ingegneria dell’Informazione.<br />
La laurea specialistica è realizzata in partenariato con l’Institut National<br />
Polytechnique de Grenob<strong>le</strong> (INPG) e l’Eco<strong>le</strong> Polytechnique<br />
Fédéra<strong>le</strong> de Lausanne (EPFL). Ta<strong>le</strong> tipo di laurea specialistica è il primo<br />
esempio in Italia e in Europa.<br />
Gli obiettivi prevedono la formazione di un ingegnere specialistico<br />
in grado di sviluppare metodologie e prodotti che possono accrescere<br />
il know-how e la competitività del<strong>le</strong> industrie a tecnologia<br />
avanzata europee, in particolare nel campo del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
applicate al settore dell'informazione. Il laureato specialistico avrà<br />
profonde e aggiornate competenze nel campo del<strong>le</strong> micro- e nanotecnologie,<br />
dei materiali e dei processi necessari allo sviluppo di<br />
micro- e nanodispositivi, destinati a occupare una frazione sempre
più consistente del mercato globa<strong>le</strong> nei prossimi decenni. Il laureato<br />
specialistico sarà inoltre in grado di progettare e sviluppare nuovi<br />
dispositivi <strong>per</strong> <strong>le</strong> micro e nanotecnologie avanzate.<br />
Lo studente seguirà un semestre di corsi in ciascuna del<strong>le</strong> Università<br />
partner e svilup<strong>per</strong>à un lavoro di tesi con uno stage presso un<br />
Laboratorio di ricerca pubblico o privato o<strong>per</strong>ante nel campo del<strong>le</strong><br />
nanotecnologie e riceverà il titolo dal<strong>le</strong> tre istituzioni.<br />
Il programma didattico della laurea specialistica è riassunta nella<br />
tabella seguente:<br />
1 ST SEMESTER - POLITO 2 ND SEMESTER - INPG 3 RD SEMESTER - EPFL<br />
Trattandosi di una formazione non solo basata sull’acquisizione di<br />
competenze e<strong>le</strong>ttroniche, fisiche e di trattamento del segna<strong>le</strong>, ma<br />
anche fortemente <strong>le</strong>gata agli aspetti realizzativi, hanno un ruolo<br />
fondamenta<strong>le</strong> i laboratori che si affiancano al<strong>le</strong> tre Scuo<strong>le</strong>.<br />
Per il Politecnico il Laboratorio Interdipartimenta<strong>le</strong> Materiali e Dispositivi<br />
<strong>per</strong> l’E<strong>le</strong>ttronica (LIMADEL, in comune tra i dipartimenti di<br />
Fisica e di E<strong>le</strong>ttronica) e il “Materials and Microsystem Laboratori”,<br />
costituito da il Politecnico e l’Istituto Naziona<strong>le</strong> Fisica della Materia<br />
(clab). Si possono affiancare i laboratori dell’Istituto Su<strong>per</strong>iore Mario<br />
Boella e l’Istituto E<strong>le</strong>ttrotecnico Naziona<strong>le</strong> Gali<strong>le</strong>o Ferraris.<br />
Per l’INPG il <strong>per</strong>corso formativo si situa nell’ambito del progetto<br />
Minatec (Microsystèmes et nanotechnologies) in cui sono raggruppati<br />
in iniziative di ricerca comuni, oltre ai laboratori dell’INPG,<br />
quelli del Leti e della ST-Microe<strong>le</strong>ctronics di Crol<strong>le</strong>s.<br />
Per EPFL parteci<strong>per</strong>anno i laboratori di assoluta eccel<strong>le</strong>nza di quella<br />
Scuola.<br />
Le tematiche oggetto del <strong>per</strong>corso di laurea specialistica sono degli<br />
assi trainanti del nuovo programma quadro della UE.<br />
La formazione, a cavallo tra tre aree ad alta tecnologia, consentirà<br />
al laureato un vasto panorama multinaziona<strong>le</strong> in cui poter offrire <strong>le</strong><br />
professionalità acquisite e costituirà un esempio pratico nella realizzazione<br />
del<strong>le</strong> macro-aree transnazionali auspicate dalla UE..<br />
Contatti<br />
C.F. Pirri<br />
Politecnico di Torino<br />
C.so Duca degli Abruzzi 24<br />
I-10129 Torino<br />
Tel. 011-5647355,<br />
e-mail fabrizio.pirri@polito.it<br />
web: www.polito.it/thin-film<br />
TOPICS TOPICS TOPICS<br />
Computer sciences Micro systems basics 2 Optoe<strong>le</strong>ctronics<br />
Physics of technological<br />
process<br />
Digital circuits design Test and test design<br />
Labs for technological<br />
Process<br />
Analog circuits design I Analog circuits design II<br />
Solid state Physics Nanostructures physics VLSI System Design<br />
Semi-conductor devices Nano-structures for Optic<br />
and magnetic applications<br />
Te<strong>le</strong>communications<br />
introduction<br />
Physics and applications<br />
of advanced microscopes<br />
VLSI architectures<br />
and design methodologies<br />
Introduction to RF circuits<br />
Micro systems basics 1 From micro to nanoe<strong>le</strong>ctronics<br />
Projects & Labs<br />
CAD for micro systems mE and Nano sciences Labs Physical models for micro<br />
and nano systems<br />
Micro systems design CAD for micro systems Nano-e<strong>le</strong>ctronics<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
Sintesi di nanotubi<br />
di carbonio CNT<br />
su catalizzatori<br />
a base di Fe supportato<br />
G.Gulinoa , C.Milonea , S.Galvagnoa , C. Pham-Huub , M.J. Ledouxb,c a Dip. Chimica industria<strong>le</strong> ed Ingegneria dei Materiali - Università di Messina<br />
b LMSPC, Università Luis Pasteur di Strasburgo (Francia);<br />
c Direttore naziona<strong>le</strong> del settore chimico del CNRS.<br />
Introduzione<br />
Inanotubi di carbonio (CNT), sistemi costituiti da cilindri cavi <strong>le</strong> cui<br />
pareti sono formate da atomi di carbonio disposti in anelli esagonali<br />
con uno schema simi<strong>le</strong> alla grafite, rappresentano una nuovissima<br />
classe di materiali dal<strong>le</strong> innumerevoli potenzialità grazie al<strong>le</strong><br />
loro eccezionali proprietà fisiche (bassa densità, e<strong>le</strong>vata stabilità<br />
termica, e<strong>le</strong>vata conducibilità termica ed e<strong>le</strong>ttrica) e meccaniche<br />
(elasticità, resistenza a trazione).<br />
Sono già stati realizzati materiali compositi a base di nanotubi additivati<br />
a materiali polimerici che hanno trovato applicazione nell’industria<br />
automobilistica.<br />
Sono invece oggetto di numerosi studi altre possibili applicazioni di<br />
nanotubi come sensori <strong>per</strong> ossigeno, “serbatoi” <strong>per</strong> l’immagazzinamento<br />
di H2, nella realizzazione di nanocircuiti, etc. [1-2].<br />
La metodologia di produzione dei nanotubi è uno dei punti chiave<br />
<strong>per</strong> l’applicazione di questi nanomateriali. Essa deve associare alla<br />
qualità del materia<strong>le</strong> prodotto (assenza di difetti, omogeneità del<br />
materia<strong>le</strong> in termini di lunghezza e dimensione dei nanotubi,) una<br />
alta produttività ed un costo sostenibi<strong>le</strong>.<br />
I metodi <strong>per</strong> la sintesi dei nanotubi sono principalmente il metodo<br />
ad arco e<strong>le</strong>ttrico, il metodo a raggio laser e la decomposizione termica<br />
catalitica (CVD). La produzione dei nanotubi attraverso mezzi<br />
fisici quali arco e<strong>le</strong>ttrico o raggio laser fornisce dei nanotubi di<br />
buona qualità ma ha dei costi e<strong>le</strong>vati.<br />
La decomposizione termica catalitica (CVD) presenta costi notevolmente<br />
inferiori rispetto al<strong>le</strong> precedenti ma i nanotubi ottenuti presentano<br />
un’alta densità di difetti che ne compromette <strong>le</strong> proprietà<br />
fisiche e meccaniche.<br />
La decomposizione termica catalitica è ottenuta decomponendo<br />
ad alta tem<strong>per</strong>atura un reagente carbonioso, in genere CH4, in presenza<br />
di catalizzatore.<br />
Le condizioni o<strong>per</strong>ative, quali tem<strong>per</strong>atura di reazione, tempo di<br />
contatto, oltre che la natura del catalizzatore modulano sia la resa<br />
che la qualità dei nanotubi prodotti.<br />
In questo lavoro si riportano i risultati di uno studio sistematico sulla<br />
sintesi dei nanotubi di carbonio su catalizzatori a base di Fe. La<br />
reazione è stata condotta utilizzando etano (C2H6) come reagente<br />
carbonioso, in presenza di H2. È stata investigata l’influenza dei parametri<br />
quali: tem<strong>per</strong>atura di riduzione del catalizzatore, tem<strong>per</strong>atura<br />
di reazione, rapporto C2H6/H2, e natura chimica del supporto<br />
sulla resa in CNT.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
13<br />
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14<br />
Parte s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong><br />
Preparazione dei catalizzatori: I catalizzatori a base di ferro sono<br />
stati preparati mediante la tecnica di impregnazione a umido<br />
del supporto, con una soluzione di Fe(NO3)3 I solidi presentano un<br />
carico nomina<strong>le</strong> di metallo intorno al 20 wt%.<br />
Campioni commerciali di SiO2, _-Al2O3, fibre di carbonio e carbone<br />
attivo sono stati impiegati come supporti della specie attiva. Dopo<br />
impregnazione i solidi sono stati essiccati in stufa a 110°C <strong>per</strong> 1 h e<br />
successivamente sono stati calcinati in aria <strong>per</strong> 2 h.<br />
I catalizzatori a base di fibre di carbonio sono stati calcinati a<br />
300°C, mentre i catalizzatori a base di ossidi inorganici sono stati<br />
calcinati a 450°C. La scelta di una minore tem<strong>per</strong>atura di calcinazione<br />
<strong>per</strong> i catalizzatori a matrice carboniosa deriva dal fatto che<br />
essi cominciano a bruciare a T> di 300°C<br />
Condizioni di reazione: La decomposizione termica catalitica dei<br />
nanotubi è stata condotta in un reattore tubolare in quarzo allocato<br />
in una fornace orizzonta<strong>le</strong>. Il catalizzatore (circa 1g), depositato<br />
in una navicella in materia<strong>le</strong> ceramico è stato ridotto in situ in corrente<br />
di H2 (FH2 = 100cc/min) ad una tem<strong>per</strong>atura prefissata, prima<br />
di fare avvenire la reazione.<br />
Successivamente è stata inviata la miscela di reazione costituita da<br />
H2 e C2H6 (Ftota<strong>le</strong> = 120 cc/min)<br />
La resa in deposito carbonioso è stata determinata secondo la formula:<br />
dove:<br />
Pcat carb è il peso del catalizzatore dopo reazione;<br />
Pcat oss è il peso del catalizzatore posto nel reattore prima della reazione;<br />
R è il rapporto fra il peso del catalizzatore dopo trattamento di riduzione<br />
alla tem<strong>per</strong>atura T ed il peso del catalizzatore dopo preparazione.<br />
La morfologia del deposito carbonioso è stata analizzata tramite<br />
microscopia e<strong>le</strong>ttronica a scansione (SEM) e in trasmissione (TEM)<br />
e mediante diffrattometria ai raggi X (XRD).<br />
Risultati<br />
L’influenza della tem<strong>per</strong>atura di pre-riduzione del catalizzatore,<br />
tem<strong>per</strong>atura di reazione, rapporto etano/H2 sulla resa di nanotubi<br />
di carbonio è stata studiata utilizzando un catalizzatore contenente<br />
il 20% di Fe dis<strong>per</strong>so su SiO2.<br />
È stato osservato che all’aumentare della tem<strong>per</strong>atura di riduzione<br />
del catalizzatore nell’intervallo 400 °C - 750°C, la resa in deposito<br />
carbonioso passa da 46% a 28% La reazione è stata condotta alla<br />
tem<strong>per</strong>atura di 750°C ed un rapporto C2H6/ H2 =1.<br />
Fissato <strong>per</strong>tanto il valore della tem<strong>per</strong>atura di riduzione a 400°C è<br />
stato investigato l’effetto della tem<strong>per</strong>atura di reazione e del rapporto<br />
C2H6/ H2 sulla resa in deposito carbonioso. I risultati ottenuti<br />
hanno evidenziato che al variare della tem<strong>per</strong>atura di reazione fra<br />
650°C e 950°C (C2H6/H2 =1) la resa in deposito carbonioso aumenta<br />
con la tem<strong>per</strong>atura di reazione fino a 750°C, <strong>per</strong> poi diminuire a<br />
valori di T su<strong>per</strong>iori.<br />
L’analisi morfologica dei depositi carboniosi effettuata mediante<br />
microscopia e<strong>le</strong>ttronica a scansione (SEM) ed in trasmissione (TEM)<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
ha mostrato che <strong>per</strong> tem<strong>per</strong>ature di reazione fino a T di 750 °C il<br />
deposito carbonioso è preva<strong>le</strong>ntemente formato da CNT. Oltre alla<br />
resa comp<strong>le</strong>ssiva, anche la resa in CNT diminuisce quando la reazione<br />
viene condotta a T su<strong>per</strong>iori a 750°C a favore della formazione<br />
di grafite e nanoparticel<strong>le</strong> di carbonio.<br />
È stata inoltre studiata l’influenza del rapporto C2H6/H2 =1 sulla resa<br />
in CNT, alla T di reazione pari a 750°C.<br />
I rapporti di C2H6/H2 utilizzati sono stati: 1/5, 1/2 1/1 2/1 5/1.<br />
Al crescere del rapporto C2H6/H2 è stato osservato un aumento della<br />
resa in deposito carbonioso.<br />
Le analisi TEM condotte sui solidi scaricati dopo la reazione ha mostrato<br />
che all’aumentare del rapporto C2H6/H2 fino a 1 il deposito<br />
carbonioso è preva<strong>le</strong>ntemente formato da CNT. Utilizzando misce<strong>le</strong><br />
più ricche in idrocarburo il deposito carbonioso è preva<strong>le</strong>ntemente<br />
formato da grafite e nanoparticel<strong>le</strong> di C.<br />
È stata infine valutata l’influenza della natura chimica e morfologica<br />
del supporto sulla resa in CNT. A ta<strong>le</strong> scopo sono stati testati<br />
nel<strong>le</strong> catalizzatori a base di Fe supportati su ossidi e su materiali a<br />
matrici carboniosa (fibre e polvere).<br />
È stato osservato che la resa in deposito carbonioso aumenta nell’ordine:<br />
carbone attivo.
Conclusioni<br />
Lo studio sistematico dei parametri di reazione nella sintesi di CNT<br />
su catalizzatori a base di Fe/SiO2 ha <strong>per</strong>messo di ottimizzare i parametri<br />
di processo <strong>per</strong> la sintesi di nanotubi di carbonio.<br />
È stato inoltre dimostrato che la natura del supporto influenza la<br />
resa in CNT. I catalizzatori a base di Fe/gAl2O3 sono risultati i migliori<br />
in termini di produttività <strong>per</strong> la formazione di CNT.<br />
Bibliografia<br />
[1] K.P. De Jong, J.W. Geus, Catal. Rev.-Sci. Eng. 42, (2000), 481<br />
and references therein.<br />
[2] Le Scienze, n 11, (2002).<br />
[3] C. Emmenegger, J. M. Bonard, P. Mauron, P. Sudan, A. Lepora,<br />
B. Grobety, A. Züttel, L. Schlapbach, Carbon 41, (2003), 539.<br />
[4] I. Vesse<strong>le</strong>nyi, K. Niesz, A. Siska, Z. Konya, K. Hernadi, J.B. Nagy,<br />
I. Kiricsi, React. Kinetic. Catal. Lett. 74, (2001), 329.<br />
[5] M. Su, B. Zheng, J. Liu, Chem. Phys. Lett. 322, (2000), 321.<br />
[6] A.K.M. Kibria, Y.H. Mo, K.S. Nahm, Catal. Lett.,71, (2001), 229.<br />
[7] A.M. Cassell, J.A. Raymakers, J. Kong, H. Dai, J. Phys. Chem. B 103,<br />
(1999), 6484.<br />
[8] E. Flahaut, A. Govindaraj, A. Peigney, Ch. Laurent, A. Rousset,<br />
C.N.R. Rao, Chem. Phys. Lett. 300, (1999), 236.<br />
Contatti<br />
Prof. Candida Milone<br />
Università di Messina<br />
Dipartimento di Chimica Industria<strong>le</strong> e Ingegneria dei Materiali<br />
Salita S<strong>per</strong>one 31<br />
I-98166- Messina<br />
Tel +39-090-393134<br />
Fax +39-090-391518<br />
e-mail cmilone@ingegneria.unime.it<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
Sistemi microeterogenei<br />
<strong>per</strong> la sintesi di nanoparticel<strong>le</strong><br />
C. Giordano, A. Ruggirello, V. Turco Liveri<br />
Università di Pa<strong>le</strong>rmo, Dip. di Chimica Fisica<br />
Èormai ampiamente riconosciuto che la sintesi di nanoparticel<strong>le</strong><br />
consenta di ottenere nanomateriali caratterizzati da nuove proprietà<br />
e<strong>le</strong>ttriche, chimiche, ottiche, meccaniche e magnetiche, che<br />
possono trovare impiego nel<strong>le</strong> più svariate applicazioni. È possibi<strong>le</strong><br />
così, solo <strong>per</strong> citare alcuni esempi, disporre di catalizzatori con<br />
un’e<strong>le</strong>vata attività specifica [1], biomateriali <strong>per</strong> applicazioni mediche<br />
[2] o, ancora, materiali e<strong>le</strong>ttrocromici ed e<strong>le</strong>ttroreologici.<br />
Per produrre nanomateriali è necessaria innanzitutto la messa a<br />
punto di metodi di sintesi che <strong>per</strong>mettano di regolare opportunamente<br />
<strong>le</strong> dimensioni e la forma del<strong>le</strong> nanoparticel<strong>le</strong> poiché tali parametri<br />
sono fondamentali nel controllo del<strong>le</strong> loro proprietà chimico<br />
fisiche o del<strong>le</strong> funzioni che esse devono svolgere all’interno di<br />
un nanodispositivo.<br />
Tra <strong>le</strong> numerose strategie oggi messe a punto <strong>per</strong> la sintesi e la stabilizzazione<br />
di nanoparticel<strong>le</strong> di vari materiali [3, 4, 5], il nostro<br />
gruppo sfrutta la compartimentazione in sistemi microeterogenei,<br />
quali soluzioni e gel micellari, cristalli liquidi e vescico<strong>le</strong> [6, 7]. Ta<strong>le</strong><br />
metodologia presenta, infatti, diversi vantaggi quali: i) il controllo<br />
del<strong>le</strong> dimensioni, ii) impedisce l’accrescimento del<strong>le</strong> nanoparticel<strong>le</strong><br />
e iii) può essere ampiamente impiegata anche <strong>per</strong> ottenere nanoparticel<strong>le</strong><br />
di numerose sostanze organiche.<br />
I sistemi microeterogenei sono caratterizzati dalla presenza di tensioattivi,<br />
mo<strong>le</strong>co<strong>le</strong> anfifiliche costituite da uno o più gruppi idrofili<br />
e da una o più catene idrofobe, la cui coesistenza <strong>le</strong> rende capaci<br />
di associarsi a formare una enorme varietà di aggregati mo<strong>le</strong>colari<br />
aventi specifiche forme e dimensioni, diversi tempi di vita media e<br />
tutti caratterizzati dalla presenza di domini polari e apolari separati<br />
spazialmente. Alcuni esempi di strutture formate dai tensioattivi in<br />
varie condizioni s<strong>per</strong>imentali sono mostrati in figura 1.<br />
Fig. 1. Rappresentazione schematica di alcune strutture formate dai<br />
tensioattivi.<br />
Tali sistemi possono solubilizzare quantità finite di svariate classi di<br />
sostanze: mentre <strong>le</strong> mo<strong>le</strong>co<strong>le</strong> apolari sono solubilizzate nel<strong>le</strong> regio-<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
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16<br />
ni idrofobe, quel<strong>le</strong> anfifiliche possono ripartirsi tra <strong>le</strong> regioni polari<br />
e lo strato di palizzata (ovvero <strong>le</strong> regioni formate dal<strong>le</strong> code idrocarburiche<br />
dei tensioattivi), opportunamente orientate; infine<br />
quel<strong>le</strong> polari sono confinate nel<strong>le</strong> regioni idrofi<strong>le</strong>. Qualora la quantità<br />
di solubilizzato confinato in uno di tali domini sia sufficiente, si<br />
osserva la formazione di clusters mo<strong>le</strong>colari o nanoparticel<strong>le</strong> [8, 9,<br />
10, 11, 12, 13].<br />
In genera<strong>le</strong>, <strong>le</strong> proprietà del<strong>le</strong> sostanze confinate sono diverse da<br />
quel<strong>le</strong> dei materiali allo stato massivo e del<strong>le</strong> mo<strong>le</strong>co<strong>le</strong> isolate e tali<br />
proprietà possono essere opportunamente modulate semplicemente<br />
cambiando parametri come il rapporto molare soluto-tensioattivo,<br />
la tem<strong>per</strong>atura e la natura dei componenti del sistema<br />
[14].<br />
In particolare, gli studi effettuati dal nostro gruppo hanno mostrato<br />
che è possibi<strong>le</strong> confinare clusters di mo<strong>le</strong>co<strong>le</strong> di urea [8, 10],<br />
acetammide [12], acrilammide, cianammide all’interno del cuore<br />
di micel<strong>le</strong> inverse e cristalli liquidi costituiti da tensioattivi quali il bis<br />
(2-eti<strong>le</strong>sil) solfosuccinato di sodio (AOT), il bis (2-eti<strong>le</strong>sil) fosfato di<br />
sodio (NaDEHP) e la <strong>le</strong>citina. Come anche confinare negli stessi sistemi<br />
nanoparticel<strong>le</strong> di sali idrosolubili, quali Co(NO3)2 [15], CoCl2,<br />
K4Fe(CN)6, K3Fe(CN)6, HAuCl4, aventi dimensioni inferiori a 5 nm.<br />
Mediante numerose tecniche di indagine è stato osservato che <strong>le</strong><br />
proprietà dei clusters mo<strong>le</strong>colari sono fortemente influenzate da<br />
specifiche interazioni soluto-tensioattivo [9, 10].<br />
Oltre a consentire la preparazione di nanocompositi, i sistemi microeterogenei<br />
possono essere sfruttati come veri e propri nanoreattori<br />
<strong>per</strong> reazioni solido-solido (nanoparticel<strong>le</strong>/nanoparticel<strong>le</strong>) in<br />
fase fluida e la polimerizzazione in ambienti confinati. In tali condizioni,<br />
il cammino di reazione e i prodotti che si ottengono possono<br />
essere diversi da quelli della stessa reazione in fase bulk o in soluzione<br />
[16]. Inoltre, l’uso di nanoparticel<strong>le</strong> <strong>per</strong> reazioni solido-solido<br />
può ovviare al prob<strong>le</strong>ma della <strong>le</strong>ntezza che generalmente caratterizza<br />
questo tipo di processi quando <strong>le</strong> sostanze impiegate sono allo<br />
stato massivo e può <strong>per</strong>mettere di evitare drastiche condizioni di<br />
lavoro quali possono essere alte tem<strong>per</strong>ature e/o pressioni.<br />
A ta<strong>le</strong> proposito, <strong>per</strong> semplice mescolamento di due soluzioni costituite<br />
da micel<strong>le</strong> anidre di AOT dis<strong>per</strong>se in n-eptano e contenenti<br />
nanoparticel<strong>le</strong> di Na2S e ZnSO4. sono state sintetizzate nanoparticel<strong>le</strong><br />
di ZnS [17] in ambiente confinato. Allo stesso modo, partendo<br />
da opportuni precursori, sono state sintetizzate nanoparticel<strong>le</strong><br />
magnetiche di comp<strong>le</strong>ssi cobalto-ferro cianuro. Gli es<strong>per</strong>imenti<br />
condotti hanno mostrato che <strong>le</strong> reazioni sono estremamente più<br />
rapide rispetto a quel<strong>le</strong> condotte in fase omogenea e che <strong>le</strong> proprietà<br />
dei prodotti ottenuti risultano chiaramente influenzate da<br />
effetti di confinamento.<br />
Bibliografia<br />
[1] W. M. Rudoy, B. G. Ershov, N. L. Sukhov, O. V. Dement’eva, A. V.<br />
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NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
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239, 2002.<br />
[12] A. Ruggirello, V. Turco Liveri, Coll. Polym. Sci., 281, 1062, 2003.<br />
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[17] P. Calandra, A. Longo, V. Turco Liveri, J. Phys Chem. B, 107, 25, 2003.<br />
Contatti<br />
Angela Ruggirello<br />
Università di Pa<strong>le</strong>rmo<br />
Dipartimento di Chimica Fisica<br />
Via<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Scienze Parco D'Or<strong>le</strong>ans II<br />
I-90128 Pa<strong>le</strong>rmo<br />
Tel 0916459844<br />
Fax 091590015<br />
e-mail moniaruggirello@libero.it
Studio dei processi di sintesi<br />
e caratterizzazione dei nanotubi<br />
in carbonio <strong>per</strong> applicazioni<br />
nei compositi polimerici<br />
avanzati<br />
F. Mancia*, M. Regi**, M. Marchetti**<br />
* <strong>Centro</strong> Sviluppo Materiali S. p. A, ** Università degli Studi di Roma<br />
“La Sapienza”, Dipartimento di Ingegneria Aerospazia<strong>le</strong> e Astronautica<br />
Abstract<br />
Inanotubi in carbonio, grazie al<strong>le</strong> loro notevoli proprietà (meccaniche,<br />
termiche, e<strong>le</strong>ttriche, magnetiche) rappresentano un materia<strong>le</strong><br />
di profondo interesse in molti settori dell’ingegneria applicata e<br />
in particolar modo in quello del<strong>le</strong> nanotecnologie. O<strong>per</strong>ando non<br />
più su sca<strong>le</strong> macroscopiche, ma su dimensioni nanometriche è<br />
possibi<strong>le</strong> caratterizzare un materia<strong>le</strong> in base al<strong>le</strong> specifiche richieste.<br />
Tutti i processi riguardanti lo sviluppo e l’imp<strong>le</strong>mentazione di<br />
un nanomateria<strong>le</strong> richiedono lo studio di tecniche di produzione e<br />
analisi avanzate. La determinazione dei parametri che caratterizzano<br />
una struttura nanometrica viene realizzata non più con <strong>le</strong> classiche<br />
procedure adottate quando si lavora su scala macroscopica<br />
(es. test meccanici), ma utilizzando ampiamente strumenti quali<br />
miscoscopia e<strong>le</strong>ttronica (SEM, TEM, analisi chimiche EDS), AFM<br />
(Atomic Force Microscopy), spettrografia Raman.<br />
Tutti i processi riguardanti <strong>le</strong> nanotecnologie, attualmente, possiedono<br />
un e<strong>le</strong>vato grado di comp<strong>le</strong>ssità nella comprensione dei fenomeni<br />
fisico – chimici di base, con un e<strong>le</strong>vato costo di sviluppo<br />
che non ne <strong>per</strong>mettono ancora un impiego su scala industria<strong>le</strong>.<br />
Inoltre, un nanomateria<strong>le</strong> deve possedere del<strong>le</strong> caratteristiche che<br />
si differenziano in base al tipo di applicazione. Se nell’ambito dell’e<strong>le</strong>ttronica<br />
i quantitativi richiesti sono dello stesso ordine di grandezza<br />
del<strong>le</strong> attuali capacità produttive, <strong>per</strong> contro, nel settore del<strong>le</strong><br />
strutture (compositi polimerici avanzati) la realizzazione di un dimostratore<br />
necessita di quantità ancora non proporzionate ai processi<br />
di produzione.<br />
Il presente lavoro fornisce una descrizione dettagliata dei processi di<br />
sintesi, purificazione e caratterizzazione dei nanotubi in carbonio.<br />
Vengono descritti gli studi riguardanti la dis<strong>per</strong>sione di polveri nanometriche<br />
(contenenti nanotubi) all’interno di matrici polimeriche.<br />
Inoltre, vengono riportate del<strong>le</strong> analisi numeriche che dimostrano<br />
come l’uso dei carbon nanotubes in una struttura aerospazia<strong>le</strong><br />
avanzata (anisogrid lattice structure) consenta un notevo<strong>le</strong> guadagno<br />
in termini di riduzione di massa soddisfacendo al<strong>le</strong> condizioni<br />
di resistenza statica e stabilità loca<strong>le</strong> e globa<strong>le</strong> di tutto l’e<strong>le</strong>mento.<br />
1. Introduzione<br />
I carbon nanotubes (CN) vengono casualmente sco<strong>per</strong>ti nel 1991<br />
da Sumio Iijima. Esistono due famiglie di CN: i SWNT (sing<strong>le</strong> wall<br />
nanotubes) che sono costituiti da una solo unità tubolare rettilinea,<br />
e i MWNT (multi wall nanotubes) formati da una serie di<br />
SWNT fra loro coassiali e distanti circa 0.34 nm (stessa distanza tra<br />
i vari piani della grafite di partenza).<br />
I SWNT hanno un diametro dell’ordine dei nm e una lunghezza di<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
micron. Inoltre, possono avere la loro estremità a<strong>per</strong>ta, oppure<br />
chiusa da due semi strutture ful<strong>le</strong>rene C60.<br />
All’interno dei MWNT, i SWNT che lo costituiscono possono avere<br />
una lunghezza non uniforme e presentare una morfologia differenziata.<br />
Inoltre, i SWNT e i MWNT hanno un rapporto lunghezza - diametro<br />
molto grande.<br />
Il parametro che caratterizza il SWNT è il Chiral Vector (CV) ottenuto<br />
mediante la somma di due vettori, di modulo n ed m, linearmente<br />
indipendenti secondo una base non canonica (non ortonorma<strong>le</strong>)<br />
avente origine e versori definiti dalla cella esagona<strong>le</strong> del piano<br />
di grafite.<br />
Pertanto, un carbon nanotube viene individuato dalla seguente<br />
notazione:<br />
(n, m)<br />
Dal CV (n,m) e dal Chiral Ang<strong>le</strong> CA dipendono tutte <strong>le</strong> caratteristiche<br />
del SWNT: (diametro, tipo di CN, comportamento e<strong>le</strong>ttrico<br />
(metallico o semiconduttore), caratteristiche termico – meccaniche,<br />
comportamento e<strong>le</strong>ttronico).<br />
Al variare del Chiral Ang<strong>le</strong> (θ) si distinguono tre famiglie di CN:<br />
1. θ = 0° ⇒ ZIG ZAG CN: (n,0) oppure (0,m)<br />
2. θ = 30° ⇒> ARMCHAIR CN: n ugua<strong>le</strong> a m<br />
3. θ compreso tra 0° e 30° ⇒ CHIRAL CN: n diverso da m<br />
se:<br />
• n ≠ m ≠ 0 fi simmetria chira<strong>le</strong><br />
• n = 0 o n = m fi achiralità<br />
inoltre:<br />
{<br />
n – m = 3q = conduttore<br />
n – m ≠ 3q = semiconduttore<br />
I processi di sintesi dei CN sono:<br />
1. arc discharge<br />
2. chemical vapor deposition (CVD)<br />
3. laser ablation.<br />
con q = intero<br />
Dopo la sintesi è necessaria una fase di purificazione <strong>per</strong> eliminare<br />
<strong>le</strong> impurità presenti. Le tecniche di purificazione tipicamente utilizzate<br />
sono:<br />
1. attacco chimico<br />
2. ossidazione<br />
3. ultrasuoni.<br />
Per una rea<strong>le</strong> applicazione dei CN in sistemi tecnologicamente<br />
avanzati è necessario:<br />
- aumentare la quantità prodotta abbattendo i costi<br />
- migliorare i processi di sintesi, estrazione e purificazione<br />
- eliminare <strong>le</strong> impurità<br />
- controllarne: il diametro, la lunghezza, la chiralità, e la formazione<br />
di SWNT o MWNT<br />
- definire modelli teorici/numerici.<br />
2. Sintesi dei Carbon Nanotubes<br />
Per la sintesi dei CN, sono stati sviluppati i seguenti dimostratori:<br />
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- arco voltaico in ambiente inerte (Argon, Elio)<br />
- arco voltaico immerso<br />
- ablazione laser CO2.<br />
La grafite utilizzata nei processi può essere pura (2 ppm) oppure<br />
drogata con opportuni catalizzatori (ittrio, coblato) che favoriscono<br />
il processo di sintesi. In fig. 2.1 è mostrata l’apparecchiatura utilizzata<br />
<strong>per</strong> la sintesi ad arco voltaico in ambiente inerte (voltaggio:<br />
20-23 V, am<strong>per</strong>aggio: 50-60 A, pressione del gas inerte: 0.2 bar).<br />
Fig. 2.1. impianto <strong>per</strong> la sintesi ad arco in ambiente inerte<br />
In fig. 2.2 mostra l’arco voltaico nel corso di un test s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong> di<br />
sintesi di CN mediante arco voltaico immerso (voltaggio: 20-25 V,<br />
am<strong>per</strong>aggio: 60-90 A, in acqua deionizzata). Grazie alla notevo<strong>le</strong><br />
luminosità dell’arco voltaico è possibi<strong>le</strong> stimare che la tem<strong>per</strong>ature<br />
raggiunte sono su<strong>per</strong>iori ai 4000 K.<br />
Fig. 2.2. arco voltaico immerso<br />
In fig. 2.3 è mostrato l’impianto <strong>per</strong> la sintesi ad ablazione laser<br />
CO2 (potenza: 900 W, lunghezza d’onda: 10.6 µm, flusso Argon:<br />
60 l/min).<br />
Fig. 2.3. impianto <strong>per</strong> la sintesi ad ablazione laser<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Nella sintesi dei nanotubi uno dei prob<strong>le</strong>mi di maggior rilievo è<br />
quello del controllo e della ripetibilità del processo. Va<strong>le</strong> a dire determinare,<br />
<strong>per</strong> ogni set di parametri impiegati, quali sono <strong>le</strong> caratteristiche<br />
del prodotto sintetizzato.<br />
I target di riferimento sono:<br />
- incrementare <strong>le</strong> quantità prodotte<br />
- maggior controllo e ripetibilità dei processi<br />
- abbattimento dei costi<br />
- gli impianti di sintesi debbono passare da essere dei dimostratori<br />
ad apparecchiature a carattere più industria<strong>le</strong>.<br />
3. Purificazione dei Carbon Nanotubes<br />
I CN, dopo il processo di sintesi, sono contenuti in un deposito ricco<br />
di impurità (catalizzatori metallici residui, grafite non sintetizzata,<br />
nanostrutture, ful<strong>le</strong>rene, altro, fig. 3.1). Tali e<strong>le</strong>menti non consentono<br />
di ottimizzare <strong>le</strong> proprietà dei nanotubi.<br />
Fig. 3.1. fasci di nanotubi contenenti impurità<br />
Sono stati eseguiti una serie di prove s<strong>per</strong>imentali di purificazione<br />
mediante ossidazione. In fig. 3.2 è mostrato l’andamento del<strong>le</strong><br />
curve del test DTA & TG. Sono stati analizzati 50 mg di materia<strong>le</strong><br />
sintetizzato con l’arco voltaico in ambiente inerte, sottoposto a un<br />
flusso ossidante (N2 90%, O2 10%) <strong>per</strong> 5 ore (Tmax = 780 °C).<br />
Fig. 3.2. purificazione <strong>per</strong> ossidazione (analisi DTA – TG)<br />
In fig. 3.2 s’osserva come <strong>le</strong> polveri nanometriche abbiano chimicamente<br />
reagito con il flusso ossidante (azoto + ossigeno) in corrispondenza<br />
di una tem<strong>per</strong>atura compresa tra i 500 °C e i 600 °C.<br />
Quindi, è stata eseguita una successiva ossidazione (TG) con i seguenti<br />
parametri:
- flusso ossidante: N2 90%, O2 10%<br />
- Tmax = 530 °C<br />
- tempo di ossidazione: 2.5 h<br />
In fig. 3.3 è mostrata la morfologia prima e dopo la purificazione in<br />
ambiente ossidante.<br />
Fig. 3.3. morfologia del materia<strong>le</strong> prima e dopo la purificazione<br />
Dal<strong>le</strong> prove è stato ri<strong>le</strong>vato che la purificazione mediante ossidazione<br />
<strong>per</strong>mette di eliminare la maggior parte del<strong>le</strong> strutture amorfe.<br />
Sono stati eseguiti dei test di purificazione agli ultrasuoni (25 minuti<br />
di trattamento). Il principio è quello di sfruttare <strong>le</strong> vibrazioni<br />
generate <strong>per</strong> separare i CN dal<strong>le</strong> impurità e conferire a essi un<br />
maggior grado di allineamento.<br />
In fig. 3.4 è mostrata la morfologia prima e dopo la purificazione<br />
con gli ultrasuoni.<br />
Fig. 3.4. morfologia dei CN prima e dopo il trattamento agli ultrasuoni<br />
Si ri<strong>le</strong>va come la morfologia dei CN sia peggiorata in quanto maggiormente<br />
“sporcata” dal<strong>le</strong> impurità che, sotto l’azione degli ultrasuoni,<br />
si sono addensate su di essi. Pertanto, ta<strong>le</strong> metodo sembra<br />
fornire risultati peggiori di quelli ottenuti con una ossidazione.<br />
4. Analisi morfologiche dei Carbon Nanotubes<br />
Le analisi morfologiche rappresentano lo strumento più importante<br />
nella caratterizzazione dei CN sia in fase di sintesi che nel corso<br />
dei processi di purificazione e di integrazione in un sistema. Esse<br />
possono essere condotte tramite la microscopia ottico/e<strong>le</strong>ttronica<br />
(esame ottico, SEM, TEM, EDS). Le procedure di preparazione e osservazione<br />
dei campioni a dimensioni nanometriche sono del tutto<br />
diverse da quel<strong>le</strong> impiegate <strong>per</strong> altri materiali (es. acciai).<br />
In fig. 4.1 è mostrata un’immagine al microscopio ottico del deposito<br />
contenuto sulla su<strong>per</strong>ficie interna di un e<strong>le</strong>ttrodo catodico di<br />
grafite sottoposto all’arco voltaico in ambiente inerte.<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
Fig. 4.1. analisi al microscopio ottico<br />
La fig. 4.2 evidenzia, tramite un’analisi SEM, la presenza di nanotubi<br />
in carbonio sulla su<strong>per</strong>ficie dell’e<strong>le</strong>ttrodo in fig. 4.1<br />
Fig. 4.2. deposito all’interno di un e<strong>le</strong>ttrodo catodico di grafite<br />
Tramite l’analisi EDS è possibi<strong>le</strong> determinare (con un’analisi quantitativa<br />
e semi quantitativa) la composizione chimica del deposito di<br />
nanotubi (fig. 4.3)<br />
Fig. 4.3. analisi chimica EDS di un e<strong>le</strong>ttrodo catodico di grafite<br />
Lo studio più comp<strong>le</strong>sso è quello al TEM in quanto richiede una<br />
preparazione del campione alquanto articolata. Per contro <strong>per</strong>mette<br />
di acquisire un numero notevoli di informazioni morfologiche<br />
(fig. 4.4).<br />
Fig. 4.4. immagine STEM (100000x, 200 KV)<br />
5. Dis<strong>per</strong>sione di polveri nanometriche in una matrice<br />
polimerica<br />
Per realizzare e valutare <strong>le</strong> proprietà di un composito particellato<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
19<br />
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20<br />
con CN è necessario studiare gli aspetti <strong>le</strong>gati alla loro dis<strong>per</strong>sione<br />
all’interno della matrice e all’interfaccia chimico – fisica.<br />
Sono stati prodotti dei provini (resina epossidica + indurente + polveri<br />
nanometriche contenenti CN analizzate al SEM, fig. 5.1).<br />
Il quantitativo di polvere dis<strong>per</strong>sa nel polimero va da 10% wt al<br />
20% wt.<br />
Fig. 5.1. provini in composito<br />
I campioni (dopo il processo di polimerizzazione) sono stati sottoposti<br />
a dei test di resilienza e a trazione <strong>per</strong> determinare l’effetto<br />
del<strong>le</strong> polveri nanometriche dis<strong>per</strong>se all’interno della matrice.<br />
È possibi<strong>le</strong> fare <strong>le</strong> seguenti considerazioni generali:<br />
1. riducendo la granulometria della polvere la variazione di resilienza<br />
del composito è funzione dell’interfaccia fisico – chimica<br />
con la matrice<br />
2. se introducendo la polvere nanometrica all’interno della miscela<br />
resina + indurente, l’energia di frattura del test di resilienza<br />
non aumenta in maniera significativa, allora si verifica un incremento<br />
nel modulo di Young<br />
3. aumentare la finitura della su<strong>per</strong>ficie del campione <strong>per</strong>mette di<br />
migliorare <strong>le</strong> caratteristiche meccaniche.<br />
L’eventua<strong>le</strong> presenza di bol<strong>le</strong> all’interno del composito consente di<br />
fare alcune valutazioni riguardo la meccanica della frattura (fig.<br />
5.2÷5.3).<br />
In fig. 5.2 è mostrata la sezione di frattura di un provino contenente<br />
un 20% wt di polveri nanometriche.<br />
Fig. 5.2. analisi al microscopio ottico di un campione in composito rinforzato<br />
con polveri nanometriche<br />
In fig. 5.3 s’osserva come una cavità, sulla su<strong>per</strong>ficie di rottura del<br />
provino, sia in grado di deviare (C & D) due linee di frattura (A & B)<br />
e bloccar<strong>le</strong> (E).<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Fig. 5.3. analisi SEM della sezione di frattura del composito<br />
6. Applicazione dei Carbon Nanotubes in una struttura<br />
avanzata (anisogrid lattice structure)<br />
Le anisogrid lattice structure (fig. 6.1) sono costituite da rib elicoidali<br />
(resistenti al carico) e rib circonferenziali (conferiscono stabilità<br />
al buckling).<br />
Fig. 6.1. anisogrid lattice structures<br />
Fissati i valori del raggio R e dell’altezza L della struttura, il carico di<br />
compressione P applicato e il materia<strong>le</strong> (modulo di Young E,<br />
densità ρ, carico ultimo σu) è possibi<strong>le</strong> determinare la dimensioni<br />
del<strong>le</strong> sezioni resistenti con il modello di Vasiliev, rispettando <strong>le</strong> condizioni<br />
di:<br />
1. massa minima dell’e<strong>le</strong>mento<br />
2. resistenza statica<br />
3. stabilità loca<strong>le</strong> e globa<strong>le</strong>.<br />
Sono stati sviluppati dei programmi di calcolo in MATLAB che determinano<br />
<strong>le</strong> dimensioni dell’anisogrid al variare: del raggio R, dell’altezza<br />
L, del carico applicato P e della <strong>per</strong>centua<strong>le</strong> di nanotubi in<br />
carbonio (%CN) aggiunti a un composito <strong>per</strong> applicazioni aerospaziali<br />
(resina epossidica, fibre di carbonio unidirezionali). Sono state<br />
eseguite anche del<strong>le</strong> indagini FEM <strong>per</strong> verificare <strong>le</strong> tre condizioni<br />
sopra riportate.<br />
Per valutare il guadagno in termini di riduzione di massa nel passaggio<br />
da una <strong>le</strong>ga aeronautica (alluminio 2024) a un composito<br />
(Hs/Ep, resina epossidica e fibre di carbonio unidirezionali), e<br />
al composito Hs/Ep rinforzato con un 5% di carbon nanotubes<br />
(modulo di Young teorico di 1 TPa), è stato utilizzato il modello di<br />
Vasiliev su una anisogrid lattice structure cilindrica (raggio R = 1.5<br />
m, altezza L = 4 mm, carico applicato P = 3 MN). In tabella 6.1 sono<br />
riportati i valori della massa M dell’e<strong>le</strong>mento la variare del materia<strong>le</strong><br />
impiegato.
MATERIALE AL 2024 HS/EP<br />
HS/EP +<br />
5% CN<br />
MODULO DI YOUNG [Pa] 70E9 12E10 16E10<br />
MASSA [Kg] 206.3 84.1 69.7<br />
Tab.6.1. massa della struttura al variare del materia<strong>le</strong><br />
Il passaggio dalla <strong>le</strong>ga di alluminio al composito Hs/Ep fornisce una<br />
notevo<strong>le</strong> riduzione della massa M. L’uso dei carbon nanotubes <strong>per</strong>mette,<br />
almeno dal punto di vista numerico, di ridurre ulteriormente il<br />
peso. Successivamente è stato realizzato un prototipo piano (fig. 6.2)<br />
in composito uti<strong>le</strong> <strong>per</strong> studiare i processi di fabricazione di e<strong>le</strong>menti<br />
anisogrid con dimensioni maggiori e geometrie più comp<strong>le</strong>sse.<br />
Il composito è costituito da:<br />
- resina epossidica<br />
- indurente<br />
- fibre di vetro<br />
- polvere nanometrica contenente carbon nanotubes<br />
Il dimostratore ha evidenziato un ottimo comportamento al<strong>le</strong> sol<strong>le</strong>citazione<br />
meccaniche.<br />
Per rendere il processo più industria<strong>le</strong> e migliorare <strong>le</strong> caratteristiche<br />
dell’e<strong>le</strong>mento stesso, è necessario realizzare uno stampo che sia<br />
f<strong>le</strong>ssibi<strong>le</strong>, facilmente estraibi<strong>le</strong> e riutilizzabi<strong>le</strong>. La tecnica impiegata<br />
è quella della prototipazione rapida con la qua<strong>le</strong> costruire il contro<br />
stampo da cui si ricava lo stampo in silicone (fig. 6.3).<br />
Sono stati realizzati anche degli stampi a geometria lattice anisogrid<br />
cilindrica che opportunamente dimensionata può trovare uti<strong>le</strong><br />
applicazione in molti settori dell’aerospazio.<br />
7. Conclusioni<br />
Con il presente lavoro sono state descritte <strong>le</strong> attività di ricerca riguardanti<br />
la sintesi, la purificazione e la caratterizzazione morfologica dei<br />
nanotubi in carbonio e come dis<strong>per</strong>derli in una matrice polimerica.<br />
Inoltre, è stato dimostrato come l’uso di CN <strong>per</strong>metta, almeno dal<br />
punto di vista teorico, di ridurre la massa di una struttura aerospazia<strong>le</strong>.<br />
Le nanotecnologie e i materiali compositi possono avere un<br />
profondo sviluppo e applicazione in molti settori dell’Ingegneria. È<br />
necessario imp<strong>le</strong>mentare tutti i processi in modo da rendere questo<br />
tipo di tecnologia competitiva in termini tecnico/economici.<br />
Contatti<br />
F. Mancia<br />
<strong>Centro</strong> Sviluppo Materiali S. p. A.<br />
Via di Castel Romano 100<br />
I-00128 Roma<br />
Tel. 06/5055435<br />
Fax. 06/5055202<br />
e-mail: f.mancia@c-s-m.it<br />
M. Regi, M. Marchetti<br />
Università degli Studi di Roma “La Sapienza”<br />
Dipartimento di Ingegneria Aerospazia<strong>le</strong> e Astronautica<br />
Via Eudossiana 18<br />
I-00184 Roma<br />
Tel. 06/44585800<br />
Fax. 06/44585670<br />
e-mail: regi@aerorisc.diaa.uniroma1.it, mario.marchetti@uniroma1.it<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
Artificial mo<strong>le</strong>cular machines<br />
and motors<br />
Vincenzo Balzani, Alberto Credi, Filippo Marchioni,<br />
Serena Silvi, Margherita Venturi<br />
Dipartimento di Chimica "G.Ciamician"- Università di Bologna<br />
Foreword<br />
The concept of (macroscopic) machine can be extended to the<br />
mo<strong>le</strong>cular <strong>le</strong>vel. A mo<strong>le</strong>cular machine can be defined as an assembly<br />
of a discrete number of mo<strong>le</strong>cular components (i.e., a<br />
supramo<strong>le</strong>cular system) in which the component parts can display<br />
changes in their relative positions as a result of some external stimulus.<br />
Rotaxanes and catenanes are promising systems for the construction<br />
of artificial mo<strong>le</strong>cular machines. The design, synthesis<br />
and investigation of chemical systems ab<strong>le</strong> to function as mo<strong>le</strong>cular<br />
machines and motors is of interest not only for basic research,<br />
but also for the growth of nanoscience and the development of<br />
nanotechnology. A few examp<strong>le</strong>s of mo<strong>le</strong>cular machines taken<br />
from our own research will be illustrated.<br />
1 Introduction<br />
1.1 Extreme miniaturization: the bottom-up approach<br />
A device is something invented and constructed for a special purpose,<br />
and a machine is a particular type of device in which the<br />
component parts display changes in their relative positions as a result<br />
of some external stimulus. Progress of mankind has always<br />
been related to the construction of novel devices. Depending on<br />
the purpose of its use, a device can be very big or very small. In the<br />
last fifty years, progressive miniaturization of the components employed<br />
for the construction of devices and machines has resulted<br />
in outstanding technological achievements, particularly in the field<br />
of information processing. A common prediction is that further<br />
progress in miniaturization will not only decrease the size and increase<br />
the power of computers, but could also open the way to<br />
new technologies in the fields of medicine, environment, energy,<br />
and materials.<br />
Until now miniaturization has been pursued by a large-downward<br />
(top-down) approach, which is reaching practical and fundamental<br />
limits (presumably ca. 50 nanometers) [1]. Miniaturization,<br />
however, can be pushed further on since “there is p<strong>le</strong>nty of room<br />
at the bottom”, as Richard P. Feynman stated in a famous talk to<br />
the American Physical Society in 1959 [2].<br />
The key sentence of Feynman's talk was the following: “The princip<strong>le</strong><br />
of physics do not speak against the possibility of manoeuvring<br />
things atom by atom”. The idea of the “atom-by-atom” bottomup<br />
approach to the construction of nanosca<strong>le</strong> devices and machines,<br />
however, which was so much appealing to some physicists<br />
[3] did not convince chemists who are well aware of the high reactivity<br />
of most atomic species and of the subt<strong>le</strong> aspects of chemical<br />
bond. Chemists know [4] that atoms are not simp<strong>le</strong> spheres that<br />
can be moved from a place to another place at will. Atoms do not<br />
stay isolated; they bond strongly to their neighbours and it is difficult<br />
to imagine that the atoms can be taken from a starting material<br />
and transferred to another material.<br />
In the late 1970s a new branch of chemistry, cal<strong>le</strong>d supramo<strong>le</strong>cular<br />
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22<br />
chemistry, emerged and expanded very rapidly, consecrated by the<br />
award of the Nobel Prize in Chemistry to C.J. Pedersen [5], D.J.<br />
Cram [6], and J.-M. Lehn [7] in 1987. In the frame of research on<br />
supramo<strong>le</strong>cular chemistry, the idea began to arise in a few laboratories<br />
[8,9,10] that mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s are much more convenient building<br />
blocks than atoms to construct nanosca<strong>le</strong> devices and machines.<br />
The main reasons at the basis of this idea are: (i) mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s are stab<strong>le</strong><br />
species, whereas atoms are difficult to hand<strong>le</strong>; (ii) Nature starts<br />
from mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s, not from atoms, to construct the great number<br />
and variety of nanodevices and nanomachines that sustain life; (iii)<br />
most of the laboratory chemical processes deal with mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s,<br />
not with atoms; (iv) mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s are objects that exhibit distinct<br />
shapes and carry device-related pro<strong>per</strong>ties (e.g., pro<strong>per</strong>ties that<br />
can be manipulated by photochemical and e<strong>le</strong>ctrochemical inputs);<br />
(v) mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s can self-assemb<strong>le</strong> or can be connected to<br />
make larger structures. In the same <strong>per</strong>iod, research on mo<strong>le</strong>cular<br />
e<strong>le</strong>ctronic devices began to flourish [11].<br />
In the following years supramo<strong>le</strong>cular chemistry grew very rapidly<br />
[12] and it became c<strong>le</strong>ar that the “bottom-up” approach based on<br />
mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s opens virtually unlimited possibilities concerning design<br />
and construction of artificial mo<strong>le</strong>cular-<strong>le</strong>vel devices and machines.<br />
Recently the concept of mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s as nanosca<strong>le</strong> objects exhibiting<br />
their own shape, size and pro<strong>per</strong>ties has been confirmed by new,<br />
very powerful techniques, such as sing<strong>le</strong>-mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong> fluorescence<br />
spectroscopy and the various types of probe microscopies, capab<strong>le</strong><br />
of “seeing” [13] or “manipulating” [14] sing<strong>le</strong> mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong>s, and<br />
even to investigate bimo<strong>le</strong>cular chemical reactions at the sing<strong>le</strong><br />
mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong> <strong>le</strong>vel [15].<br />
Much of the inspiration to construct mo<strong>le</strong>cular-<strong>le</strong>vel devices and<br />
machines comes from the outstanding progress of mo<strong>le</strong>cular biology<br />
that has begun to reveal the secrets of the natural mo<strong>le</strong>cular<strong>le</strong>vel<br />
devices and machines which constitute the material base of<br />
life. Bottom-up construction of devices and machines as comp<strong>le</strong>x<br />
as those present in Nature is, of course, an impossib<strong>le</strong> task [16].<br />
Therefore chemists have tried to construct much simp<strong>le</strong>r systems,<br />
without mimicking the comp<strong>le</strong>xity of the biological structures. In<br />
the last few years, synthetic ta<strong>le</strong>nt, that has always been the most<br />
distinctive feature of chemists, combined with a device-driven ingenuity<br />
evolved from chemists’ attention to functions and reactivity,<br />
have <strong>le</strong>d to outstanding achievements in this field<br />
[17,18,19,20].<br />
1.2 Characteristics of mo<strong>le</strong>cular machines and motors<br />
The words motor and machine are often used interchangeably<br />
when referred to mo<strong>le</strong>cular systems. It should be recal<strong>le</strong>d, however,<br />
that a motor converts energy into mechanical work, whi<strong>le</strong> a<br />
machine is a device, usually containing a motor component, designed<br />
to accomplish a function. Mo<strong>le</strong>cular machines and motors<br />
o<strong>per</strong>ate via e<strong>le</strong>ctronic and/or nuc<strong>le</strong>ar rearrangements and, like the<br />
macroscopic ones, are characterized by (i) the kind of energy input<br />
supplied to make them work, (ii) the type of motion (linear, rotatory,<br />
oscillatory, ...) <strong>per</strong>formed by their components, (iii) the way in<br />
which their o<strong>per</strong>ation can be monitored, (iv) the possibility to repeat<br />
the o<strong>per</strong>ation at will (cyclic process), and (v) the time sca<strong>le</strong><br />
needed to comp<strong>le</strong>te a cyc<strong>le</strong>. According to the view described<br />
above, an additional and very important distinctive feature of a<br />
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mo<strong>le</strong>cular machine with respect to a mo<strong>le</strong>cular motor is (vi) the<br />
function <strong>per</strong>formed [xviii].<br />
As far as point (i) is concerned, a chemical reaction can be used, at<br />
<strong>le</strong>ast in princip<strong>le</strong>, as an energy input. In such a case, however, if the<br />
machine has to work cyclically [point (iv)], it will need addition of<br />
reactants at any step of the working cyc<strong>le</strong>, and the accumulation<br />
of by–products resulting from the repeated addition of matter can<br />
compromise the o<strong>per</strong>ation of the device. On the basis of this consideration,<br />
the best energy inputs to make a mo<strong>le</strong>cular device<br />
work are photons [21] and e<strong>le</strong>ctrons [22]. It is indeed possib<strong>le</strong> to<br />
design very interesting mo<strong>le</strong>cular devices based on appropriately<br />
chosen photochemically and e<strong>le</strong>ctrochemically driven reactions<br />
[xx].<br />
In order to control and monitor the device o<strong>per</strong>ation [point (iii)],<br />
the e<strong>le</strong>ctronic and/or nuc<strong>le</strong>ar rearrangements of the component<br />
parts should cause readab<strong>le</strong> changes in some chemical or physical<br />
pro<strong>per</strong>ty of the system. In this regard, photochemical and e<strong>le</strong>ctrochemical<br />
techniques are very useful since both photons and e<strong>le</strong>ctrons<br />
can play the dual ro<strong>le</strong> of "writing" (i. e., causing a change in<br />
the system) and "reading" (i. e., reporting the state of the system).<br />
The o<strong>per</strong>ation time sca<strong>le</strong> of mo<strong>le</strong>cular machines [point (v)] can<br />
range from microseconds to seconds, depending on the type of rearrangement<br />
and the nature of the components involved.<br />
Finally, as far as point (vi) is concerned, the functions that can be<br />
<strong>per</strong>formed by exploiting the movements of the component parts<br />
in mo<strong>le</strong>cular machines are various and, to a large extent, still unpredictab<strong>le</strong>.<br />
It is worth to note that the mechanical movements<br />
taking place in mo<strong>le</strong>cular-<strong>le</strong>vel machines, and the related changes<br />
in the spectroscopic and e<strong>le</strong>ctrochemical pro<strong>per</strong>ties, usually obey<br />
binary logic and can thus be taken as a basis for information processing<br />
at the mo<strong>le</strong>cular <strong>le</strong>vel. Artificial mo<strong>le</strong>cular machines capab<strong>le</strong><br />
of <strong>per</strong>forming logic o<strong>per</strong>ations have been reported [23].<br />
1.3 Rotaxanes and catenanes as artificial mo<strong>le</strong>cular<br />
machines<br />
Most of the recently designed artificial mo<strong>le</strong>cular machines and<br />
motors are based on rotaxanes and catenanes [xx]. The names of<br />
these compounds derive from the Latin words rota and axis for<br />
wheel and ax<strong>le</strong>, and catena for chain. Rotaxanes [24] are minimally<br />
composed (Figure 1a) of an ax<strong>le</strong>-like mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong> surrounded by a<br />
macrocyclic compound and terminated by bulky groups (stop<strong>per</strong>)<br />
that prevent disassembly; catenanes [xxiv] are made of (at <strong>le</strong>ast)<br />
two interlocked macrocyc<strong>le</strong>s or “rings” (Figure 1b). Rotaxanes and<br />
catenanes are appealing systems for the construction of mo<strong>le</strong>cular<br />
machines because motions of their mo<strong>le</strong>cular components can be<br />
easily imagined (Figure 2).<br />
Figure. 1. Schematic representation of a rotaxane (a) and a catenane (b)
Figure 2. Schematic representation of some of the intercomponent motions<br />
that can be obtained with rotaxanes and catenanes: shuttling (a) and ring<br />
rotation (b, c)<br />
Important features of these systems derive from noncova<strong>le</strong>nt interactions<br />
between components that contain comp<strong>le</strong>mentary recognition<br />
sites. Such interactions, that are also responsib<strong>le</strong> for the efficient<br />
template-directed syntheses of rotaxanes and catenanes, involve<br />
e<strong>le</strong>ctron-donor/acceptor ability, hydrogen bonding, hydrophobic/hydrophylic<br />
character, p-p stacking, coulombic forces and, on<br />
the side of the strong interaction limit, metal-ligand bonding.<br />
In the next sections, a few examp<strong>le</strong>s of artificial mo<strong>le</strong>cular machines<br />
based on rotaxanes and catenanes taken from our research<br />
will be illustrated.<br />
2 An acid-base control<strong>le</strong>d mo<strong>le</strong>cular shutt<strong>le</strong><br />
In rotaxanes containing two different recognition sites in the<br />
dumbbell-shaped component, it is possib<strong>le</strong> to switch the position<br />
of the ring between the two “stations” by an external stimulus. A<br />
system which behaves as a chemically controllab<strong>le</strong> mo<strong>le</strong>cular shutt<strong>le</strong><br />
is compound 1 3+ shown in Figure 3 [25]. It is made of a dibenzo[24]crown-8<br />
(DB24C8) macrocyc<strong>le</strong> and a dumbbell-shaped<br />
component containing a dialkylammonium center and a 4,4'bipyridinium<br />
unit. An anthracene moiety is used as a stop<strong>per</strong> because<br />
its absorption, luminescence, and redox pro<strong>per</strong>ties are useful<br />
to monitor the state of the system. Since the N + –H···O hydrogen<br />
bonding interactions between the DB24C8 macrocyc<strong>le</strong> and<br />
the ammonium center are much stronger than the e<strong>le</strong>ctron donoracceptor<br />
interactions of the macrocyc<strong>le</strong> with the bipyridinium unit,<br />
the rotaxane exists as only one of the two possib<strong>le</strong> translational<br />
isomers. Deprotonation of the ammonium center with a base (a<br />
tertiary amine) causes 100% displacement of the macrocyc<strong>le</strong> to<br />
the bipyridinium unit; reprotonation directs the macrocyc<strong>le</strong> back<br />
onto the ammonium center (Figure 3). Such a switching process<br />
has been investigated in solution by 1 H nuc<strong>le</strong>ar magnetic resonance<br />
(NMR) spectroscopy and by e<strong>le</strong>ctrochemical and photophysical<br />
measurements [xxv]. The full chemical reversibility of the energy<br />
supplying acid/base reactions guarantees the reversibility of the<br />
mechanical movement, in spite of the formation of waste products.<br />
Notice that this system could be useful for information processing<br />
since it exhibits a binary logic behavior. It should also be<br />
noted that, in the deprotonated rotaxane, it is possib<strong>le</strong> to displace<br />
the crown ring from the bipyridinium station by destroying the<br />
donor-acceptor interaction through reduction of the bipyridinium<br />
station or oxidation of the dioxybenzene units of the macrocyclic<br />
ring. Therefore, in this system, mechanical movements can be in-<br />
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duced by two different types of stimuli (acid-base and e<strong>le</strong>ctronho<strong>le</strong>).<br />
Figure 3. A chemically controllab<strong>le</strong> mo<strong>le</strong>cular shutt<strong>le</strong>. The macrocyclic ring can<br />
be switched between the two stations of the dumbbell-shaped component by<br />
acid-base inputs<br />
3 A mo<strong>le</strong>cular e<strong>le</strong>vator<br />
By incorporating the architectural features of the acid-base switchab<strong>le</strong><br />
rotaxane 1 3+ (Figure 3) [xxv] into those of a recently investigated<br />
triply threaded two-component supramo<strong>le</strong>cular bund<strong>le</strong> [26],<br />
we came up with the design of the mo<strong>le</strong>cular e<strong>le</strong>vator 2 9+ shown<br />
in Figure 4 [27]. This nanoactuator, which is ca. 2.5 nm in height<br />
and has a diameter of ca. 3.5 nm, consists of a trifurcated rig-like<br />
component containing two different notches – one ammonium<br />
center and one bipyridinium unit – at different <strong>le</strong>vels in each of its<br />
three <strong>le</strong>gs. The latter are interlocked by a tritopic host made up of<br />
three DB24C8-type macrocyc<strong>le</strong>s fused trigonally to a central aromatic<br />
floor; such a platform can be made to stop at the two different<br />
<strong>le</strong>vels. The three <strong>le</strong>gs of the rig carry bulky feet that prevent the<br />
loss of the platform. Compound 2 9+ was synthesized using a template-directed<br />
protocol from a trifurcated guest and the tritopic<br />
host which form a 1:1 adduct (su<strong>per</strong>bund<strong>le</strong>) that can be converted<br />
into a mechanically interlocked e<strong>le</strong>vator by functionalization of the<br />
ends of each <strong>le</strong>g with bulky 3,5-di-tert-butylbenzyl groups.<br />
Figure 4. Chemical formula and o<strong>per</strong>ation scheme of the mo<strong>le</strong>cular<br />
e<strong>le</strong>vator 29+<br />
Initially, the platform resides exclusively on the “up<strong>per</strong>” <strong>le</strong>vel, i.e.,<br />
with the three macrocyc<strong>le</strong>s surrounding the ammonium centers.<br />
This preference results from strong N + –H···O hydrogen bonding<br />
and weak stabilizing p-p stacking forces between the aromatic<br />
cores of the platform and rig components. Upon addition of a<br />
strong, non-nuc<strong>le</strong>ophilic phosphazene base to an acetonitri<strong>le</strong> solution<br />
of 2 9+ , deprotonation of the ammonium center occurs and, as<br />
a result, the platform moves to the “lower” <strong>le</strong>vel, that is, with the<br />
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23<br />
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24<br />
three macrocyc<strong>le</strong>s surrounding the bipyridinium units (Figure 4).<br />
This structure is stabilized by e<strong>le</strong>ctron donor-acceptor interactions<br />
between the e<strong>le</strong>ctron-rich aromatic units of the platform and the<br />
e<strong>le</strong>ctron-deficient bipyridinium units of the rig component. Subsequent<br />
addition of acid restores the ammonium centers, and the<br />
platform moves back to the “up<strong>per</strong>” <strong>le</strong>vel (Figure 4). The e<strong>le</strong>vator<br />
motion, which can be followed by 1 H NMR spectroscopy, e<strong>le</strong>ctrochemistry,<br />
and absorption and fluorescence spectroscopy, is quantitative<br />
and can be repeated many times on the same solution<br />
[xxvii]. The distance travel<strong>le</strong>d by the platform is about 0.7 nm, and<br />
from thermodynamic considerations we estimate that the e<strong>le</strong>vator<br />
movement from the up<strong>per</strong> to lower <strong>le</strong>vel can potentially generate<br />
a force of up to 200 pN – one order of magnitude higher than that<br />
developed by natural linear motors such as myosin and kinesin<br />
[28].<br />
It should be noted that the acid-base control<strong>le</strong>d mechanical motion<br />
in 2 9+ can <strong>le</strong>ad to other interesting functions, e.g., the opening<br />
and closing of a large cavity, and the control of the positions and<br />
pro<strong>per</strong>ties of the bipyridinium <strong>le</strong>gs. These findings confirm that, by<br />
employing an incremental design strategy and a bottom-up template-directed<br />
synthetic protocol, it is possib<strong>le</strong> to produce multiva<strong>le</strong>nt<br />
compounds capab<strong>le</strong> of <strong>per</strong>forming non-trivial mechanical<br />
movements and exercising a variety of different functions upon external<br />
stimulation.<br />
4 Control<strong>le</strong>d ring rotation in catenanes<br />
In a catenane, structural changes caused by rotation of one ring<br />
with respect to the other can be c<strong>le</strong>arly evidenced when one of the<br />
two rings contains two non-equiva<strong>le</strong>nt units. In the catenane 3 4+<br />
shown in Figure 5, the e<strong>le</strong>ctron-acceptor tetracationic cyclophane<br />
is “symmetric”, whereas the other ring contains two different<br />
e<strong>le</strong>ctron–donor units, namely, a tetrathiafulva<strong>le</strong>ne (TTF) and a 1,5dioxynaphtha<strong>le</strong>ne<br />
(DON) unit [29].<br />
Figure 5. Redox control<strong>le</strong>d ring rotation in a catenane containing a nonsymmetric<br />
ring<br />
In a catenane structure, the e<strong>le</strong>ctron donor located inside the cavity<br />
of the e<strong>le</strong>ctron-acceptor ring ex<strong>per</strong>iences the effect of two e<strong>le</strong>ctron-acceptor<br />
units, whereas the alongside e<strong>le</strong>ctron donor ex<strong>per</strong>iences<br />
the effect of only one e<strong>le</strong>ctron acceptor. Therefore, the bet-<br />
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ter e<strong>le</strong>ctron donor (i. e., TTF) enters the acceptor ring and the <strong>le</strong>ss<br />
good one (i.e., DON) remains alongside. On e<strong>le</strong>ctrochemical oxidation,<br />
the first observed process concerns TTF, which thus loses its<br />
e<strong>le</strong>ctron donating pro<strong>per</strong>ties. Furthermore, an e<strong>le</strong>ctrostatic repulsion<br />
arises between TTF + and the tetracationic macrocyc<strong>le</strong>. These<br />
effects cause rotation of one ring to yield the translational isomer<br />
with the DON moiety positioned inside the acceptor ring. Upon reduction<br />
of TTF + , the initial configuration is restored. However, this<br />
may happen without the occurrence of a full rotation, because it is<br />
equally probab<strong>le</strong> that the reset caused by reduction of TTF + occurs<br />
by a reverse rotation compared to that occurred in the forward<br />
switching caused by TTF oxidation. In order to obtain a full rotation,<br />
i.e., a mo<strong>le</strong>cular-<strong>le</strong>vel rotary motor, the direction of each<br />
switching movement should be controllab<strong>le</strong>. This goal can likely be<br />
reached by introducing appropriate functions in one of the two<br />
macrocyc<strong>le</strong>s [xx,xxi]. When this goal is reached, it will be possib<strong>le</strong><br />
to convert alternate e<strong>le</strong>ctrical potential energy into a mo<strong>le</strong>cular<strong>le</strong>vel<br />
mechanical rotation.<br />
Control<strong>le</strong>d rotation of the mo<strong>le</strong>cular rings has been achieved also<br />
in a catenane composed of three interlocked macrocyc<strong>le</strong>s (4 6+ , Figure<br />
6) [30]. Upon addition of one e<strong>le</strong>ctron in each of the bipyridinium<br />
units, the two macrocyc<strong>le</strong>s move on the ammonium stations,<br />
and move back to the original position when the bipyridinium<br />
units are reoxidized. Unidirectional ring rotation has recently been<br />
obtained [31] in a peptide-based catenane having the same topology<br />
as 4 6+ .<br />
Figure 6. Redox control<strong>le</strong>d movements of the ring components upon<br />
reduction-oxidation of the bipyridinium units in a catenane composed of three<br />
interlocked macrocyc<strong>le</strong>s<br />
5 Conclusion and <strong>per</strong>spectives<br />
In the last few years, several examp<strong>le</strong>s of mo<strong>le</strong>cular machines and<br />
motors have been designed and constructed [xvii–xx]. It should be<br />
noted, however, that the mo<strong>le</strong>cular-<strong>le</strong>vel machines described in<br />
this chapter o<strong>per</strong>ate in solution, that is, in an incoherent fashion.<br />
Although the solution studies of chemical systems as comp<strong>le</strong>x as<br />
mo<strong>le</strong>cular machines are of fundamental importance, it seems reasonab<strong>le</strong><br />
that, before functional supramo<strong>le</strong>cular assemblies can<br />
find applications as machines at the mo<strong>le</strong>cular <strong>le</strong>vel, they have to<br />
be interfaced with the macroscopic world by ordering them in<br />
some way. The next generation of mo<strong>le</strong>cular machines and motors<br />
will need to be organized at interfaces [32], deposited on surfaces<br />
[33], or immobilized into membranes [xvia,34] or porous materials<br />
[35] so that they can behave coherently. Indeed, the preparation of
modified e<strong>le</strong>ctrodes [xxii,36] represent one of the most promising<br />
ways to achieve this goal. Solid-state e<strong>le</strong>ctronic devices based on<br />
functional rotaxanes and catenanes have already been developed<br />
[37]. Furthermore, addressing a sing<strong>le</strong> mo<strong>le</strong>cular-sca<strong>le</strong> device by<br />
instruments working at the nanometer <strong>le</strong>vel is no longer a dream<br />
[xiii–xv,38].<br />
Apart from more or <strong>le</strong>ss futuristic applications, the extension of<br />
the concept of a machine to the mo<strong>le</strong>cular <strong>le</strong>vel is of interest not<br />
only for the development of nanotechnology, but also for the<br />
growth of basic research. Looking at supramo<strong>le</strong>cular chemistry<br />
from the viewpoint of functions with references to devices of the<br />
macroscopic world is indeed a very interesting exercise which introduces<br />
novel concepts into Chemistry as a scientific discipline.<br />
Acknow<strong>le</strong>dgments<br />
We would like to thank Prof. J. F. Stoddart and his group for a long<br />
lasting and most profitab<strong>le</strong> collaboration. Financial support from<br />
the European Union, Ministero dell’Istruzione, dell’Università e<br />
della Ricerca, and Università di Bologna is gratefully acknow<strong>le</strong>dged.<br />
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[18] Acc. Chem. Res. 2001, 34, n. 6 (Special Issue on Mo<strong>le</strong>cular Machines;<br />
Guest Editor: Stoddart, J.F.).<br />
[19] Struct. Bond. 2001, 99 (Special Volume on Mo<strong>le</strong>cular Machines and<br />
Motors; Guest Editor: Sauvage, J.-P.).<br />
[20] Balzani, V.; Credi, A.; Venturi, M. Mo<strong>le</strong>cular Devices and Machines –<br />
A Journey into the Nano World, Wi<strong>le</strong>y-VCH, Weinheim, 2003.<br />
[21] (a) Ballardini, R.; Balzani, V.; Credi, A.; Gandolfi, M.T.; Venturi, M.<br />
Acc. Chem. Res. 2001, 34, 445. (b) Ballardini, R.; Balzani, V.; Credi,<br />
A.; Gandolfi, M.T.; Venturi, M. Int. J. Photoenergy 2001, 3, 63.<br />
[22] Kaifer, A.E.; Gómez-Kaifer, M. Supramo<strong>le</strong>cular E<strong>le</strong>ctrochemistry,<br />
Wi<strong>le</strong>y-VCH, Weinheim, 1999.<br />
[23] Balzani, V.; Credi, A.; Venturi, M. ChemPhysChem 2003, 4, 49.<br />
[24 ] Mo<strong>le</strong>cular Catenanes, Rotaxanes and Knots (Eds.: Sauvage, J.-P.;<br />
Dietrich-Buchecker, C.), Wi<strong>le</strong>y-VCH, Weinheim, Germany, 1999.<br />
[25] Ashton, P.R.; Ballardini, R.; Balzani, V.; Baxter, I.; Credi, A.; Fyfe,<br />
M.C.T.; Gandolfi, M.T.; Gomez-Lopez, M.; Martinez-Diaz, M.V.;<br />
Piersanti, A.; Spencer, N.; Stoddart, J.F.; Venturi, M.; White, A.J.P.;<br />
Williams, D.J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 11932.<br />
[26] Balzani, V.; C<strong>le</strong>mente-Leon, M.; Credi, A.; Lowe, J.N.; Badjic, J.D.;<br />
Stoddart, J.F.; Williams, D.J. Chem. Eur. J. 2003, 9, 5348.<br />
[27] Badjic, J.D.; Balzani, V.; Credi, A.; Silvi, S.; Stoddart, J.F. Science 2004,<br />
303, 1845.<br />
[28] (a) Oster, G.; Wang, H. Trends Cell Biol. 2003, 13, 114. (b) Schliwa,<br />
M.; Woehlke, G. Nature 2003, 422, 759.<br />
[29] (a) Asakawa, M.; Ashton, P.R.; Balzani, V.; Credi, A.; Hamers, C.;<br />
Mattersteig, G.; Montalti, M.; Shipway, A.N.; Spencer, N.; Stoddart,<br />
J.F.; Tol<strong>le</strong>y, M.S.; Venturi, M.; White, A.J.P.; Williams, D.J. Angew.<br />
Chem. Int. Ed. 1998, 37, 333. (b) Balzani, V.; Credi, A.; Mattersteig,<br />
G.; Matthews, O.A.; Raymo, F.M.; Stoddart, J.F.; Venturi, M.; White,<br />
A.J.P.; Williams, D.J J. Org. Chem. 2000, 65, 1924.<br />
[30] Ashton, P.R.; Baldoni, V.; Balzani, V.; Credi, A.; Hoffmann, H.D.A.;<br />
Martinez-Diaz, M.V.; Raymo, F.M.; Stoddart, J.F.; Venturi, M. Chem.<br />
Eur. J. 2001, 7, 3482.<br />
[31] Leigh, D.A.; Wong, J.K.Y.; Dehez, F.; Zerbetto, F. Nature 2003, 424,<br />
174.<br />
[32] Recent examp<strong>le</strong>s: (a) Lynch, D.E.; Hamilton, D.G.; Calos, N.J.; Wood,<br />
B.; Sanders, J.K.M. Langmuir 1999, 15, 5600. (b) Brown, C.L.; Jonas,<br />
U.; Preece, J.A.; Ringsdorf, H.; Seitz, M.; Stoddart, J.F. Langmuir<br />
2000, 16, 1924. (c) Asakawa, M.; Higuchi, M.; Mattersteig, G.;<br />
Nakamura, T.; Pease, A.R.; Raymo, F.M.; Shimizu, T.; Stoddart, J.F.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
25<br />
t
tR I C E R C A & S V I L U P P O<br />
26<br />
Adv. Mater. 2000, 12, 1099. (d) Gonza<strong>le</strong>z-Gaitano, G.; Guerrero-<br />
Martinez, A.; Ortega, F.; Tardajos, G. Langmuir 2001, 17, 1392.<br />
[33] Recent examp<strong>le</strong>s: (a) Buey, J.; Swager, T.M. Angew. Chem. Int. Ed.<br />
2000, 39, 608. (b) K<strong>le</strong>verlaan, C.J.; Indelli, M.T.; Bignozzi, C.A.;<br />
Pavanin, L.; Scandola, F.; Hasselman, G.M.; Meyer, G.J. J. Am. Chem.<br />
Soc. 2000, 122, 2840. (c) Shipway, A. N.; Willner, I. Acc. Chem. Res.<br />
2001, 34, 421. (d) Cavallini, M.; Lazzaroni, R.; Zamboni, R.; Biscarini,<br />
F.; Timpel, D.; Zerbetto, F.; Clarkson, G.J.; Leigh, D.A. J. Phys. Chem. B<br />
2001, 105, 10826. (e) Samorì, P.; Jackel, F.; Unsal, O.; Godt, A.; Rabe,<br />
J.P. ChemPhysChem 2001, 2, 461. (f) Au<strong>le</strong>tta, T.; van Veggel, F.C.J.M.;<br />
Reinhoudt, D.N. Langmuir 2002, 18, 1288. (f) Cavallini, M.; Biscarini,<br />
F.; Leon, S.; Zerbetto, F.; Bottari, G.; Leigh, D.A. Science 2003, 299,<br />
531. (g) Long, B.; Nikitin, K.; Fitzmaurice, D. J. Am. Chem. Soc. 2003,<br />
125, 5152.<br />
[34] (a) Steinberg-Yfrach, G.; Liddell, P.A.; Hung, S.-C.; Moore, A.L.; Gust,<br />
D.; Moore, T.A. Nature 1997, 385, 239. (b) Gust, D.; Moore, T.A.;<br />
Moore, A.L. Acc. Chem. Res. 2001, 34, 40. (c) Bennett, I.M.; Farfano,<br />
H.M.V.; Bogani, F.; Primak, A.; Liddell, P.A.; Otero, L.; Sereno, L.;<br />
Silber, J.J.; Moore, A.L.; Moore T.A.; Gust, D. Nature 2002, 420, 398.<br />
[35] (a) Chia, S.; Cao, J.; Stoddart, J.F.; Zink, J.I. Angew. Chem. Int. Ed.<br />
2001, 40, 2447. (b) Álvaro, M.; Ferrer, B.; García, H.; Palomares, E.J.;<br />
Balzani, V.; Credi, A.; Venturi, M.; Stoddart, J. F.; Wenger, S. J. Phys.<br />
Chem. B 2003, 107, 14319.<br />
[36] Recent examp<strong>le</strong>s of threaded and interlocked mo<strong>le</strong>cular systems<br />
supported on solid e<strong>le</strong>ctrodes: (a) Willner, I.; Pardo-Yissar, V.; Katz, E.;<br />
Ranjit, K.T. J. E<strong>le</strong>ctroanal. Chem. 2001, 497, 172. (b) Herranz, M.A.;<br />
Colonna, B.; Echegoyen, L. Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2002, 99,<br />
5040. (c) Raehm, L.; Kern, J.-M.; Sauvage, J.-P.; Hamann, C.; Palacin,<br />
S.; Bourgoin, J.-P. Chem. Eur. J. 2002, 8, 2153. (d) Bryce, M.R.;<br />
Cooke, G.; Duclairoir, F.M.A.; John, P.; Perepichka, D.F.; Polwart, N.;<br />
Rotello, V.M.; Stoddart, J.F.; Tseng, H.-R. J. Mater. Chem. 2003, 13,<br />
2111.<br />
[37] (a) Collier, C.P.; Wong, E.W.; Belohradsky, M.; Raymo, F.M.; Stoddart,<br />
J.F.; Kuekes, P.J.; Williams, R.S.; Heath, J.R. Science 1999, 285, 391.<br />
(b) Collier, C.P.; Mattersteig, G.; Wong, E.W.; Luo, Y.; Beverly, K.;<br />
Sampaio, J.; Raymo, F.M.; Stoddart, J.F.; Heath, J.R. Science 2000,<br />
289, 1172. (c) Luo, Y.; Collier, C.P.; Jeppesen, J.O.; Nielsen, K.A.;<br />
DeIonno, E.; Ho, G.; Perkins, J.; Tseng, H.-R.; Yamamoto, T.; Stoddart,<br />
J.F.; Heath, J.R. ChemPhysChem 2002, 3, 519. (h) Diehl, M.R.;<br />
Steuerman, D.W.; Tseng, H.-R.; Vignon, S.A.; Star, A.; Ce<strong>le</strong>stre, P.C.;<br />
Stoddart, J.F.; Heath, J.R. ChemPhysChem 2003, 4, 1335.<br />
[38] Metzger, R.M. Chem. Rev. 2003, 103, 3803.<br />
[39] (a) Keyes, R.W. Proc. IEEE 2001, 89, 227. (b) International Technology<br />
Roadmap for Semiconductors (ITRS), 2003 Edition, availab<strong>le</strong> at<br />
http://public.itrs.net<br />
[40] (a) Feynman, R.P. Eng. Sci. 1960, 23, 22. (b) Feynman, R.P. Saturday<br />
Rev. 1960, 43, 45. See also: http://www.its.caltech.edu/˜feynman<br />
[41] (a) Drex<strong>le</strong>r, K.E. Engines of Creation, The Coming Era of<br />
Nanotechnology, Anchor Press, New York, 1986. (b) Drex<strong>le</strong>r, K.E.<br />
Nanosystems. Mo<strong>le</strong>cular Machinery, Manufacturing, and<br />
Computation, Wi<strong>le</strong>y, New York, 1992.<br />
[42] Smal<strong>le</strong>y, R.E. Sci. Am. 2001, 285, 76.<br />
[43] Pedersen, C.J. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1988, 27, 1021.<br />
[44] Cram, D.J. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1988, 27, 1009.<br />
[45] Lehn, J.-M. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1988, 27, 89.<br />
[46] Joachim, C.; Launay, J.-P. Nouv. J. Chem. 1984, 8, 723.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
[47] Balzani, V.; Moggi, L.; Scandola, F. in Supramo<strong>le</strong>cular Photochemistry,<br />
(Ed.: Balzani, V.), Reidel, Dordrecth, 1987, p. 1.<br />
[48] Lehn, J.-M. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1990, 29, 1304.<br />
[49] (a) Aviram, A.; Ratner, M.A. Chem. Phys. Lett. 1974, 29, 277. (b)<br />
Mo<strong>le</strong>cular E<strong>le</strong>ctronic Devices (Ed.: Carter, F.L.), Dekker, New York,<br />
1982. (c) Mo<strong>le</strong>cular E<strong>le</strong>ctronic Devices II (Ed.: Carter, F.L.), Dekker,<br />
New York, 1987. (d) Mo<strong>le</strong>cular E<strong>le</strong>ctronic Devices (Eds: Carter, F.L.;<br />
Siatkowski, R.E.; Wohltjen, H.), Elsevier, Amsterdam, 1988. (e)<br />
Mo<strong>le</strong>cular E<strong>le</strong>ctronics - Science and Technology (Ed.: Aviram, A.),<br />
Engeneering Foundation, New York, 1989. (f) Mil<strong>le</strong>r, J.S. Adv. Mater.<br />
1990, 2, 378. (g) Mil<strong>le</strong>r, J.S. Adv. Mater. 1990, 2, 495. (h) Mil<strong>le</strong>r, J.S.<br />
Adv. Mater. 1990, 2, 603. (i) Metzger, R.M.; Panetta, C.A. New J.<br />
Chem. 1991, 15, 209. (j) Mirkin, C.A.; Ratner, M.A. Annu. Rev. Phys.<br />
Chem. 1992, 43, 719.<br />
[50] (a) Vögt<strong>le</strong>, F. Supramo<strong>le</strong>cular Chemistry. An Introduction, Wi<strong>le</strong>y,<br />
Chichester, 1991. (b) Balzani, V.; Scandola, F. Supramo<strong>le</strong>cular<br />
Photochemistry, Horwood, Chichester, 1991. (c) Lehn, J.-M.<br />
Supramo<strong>le</strong>cular Chemistry: Concepts and Perspectives, VCH,<br />
Weinheim, 1995.<br />
[51] (a) Sing<strong>le</strong> Mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong> Spectroscopy (Eds.: Rig<strong>le</strong>r, R.; Orrit, M.; Ta<strong>le</strong>nce, I.;<br />
Basché, T.), Springer-Verlag, Berlin, 2001. (b) Moerner, W.E. J. Phys.<br />
Chem. B 2002, 106, 910. (c) Sing<strong>le</strong> Mo<strong>le</strong>cu<strong>le</strong> Detection in Solution (Eds.:<br />
Zander, Ch.; Ender<strong>le</strong>in, J.; Kel<strong>le</strong>r, R.A.), Wi<strong>le</strong>y-VCH, Weinheim, 2002.<br />
[52] (a) Gimzewski, J.K.; Joachim, C. Science 1999, 283, 1683. (b) Hla, S.-<br />
W.; Meyer, G.; Rieder, K.-H. ChemPhysChem 2001, 2, 361.<br />
[53] See, e.g.: Christ, T.; Kulzer, F.; Bordat, P.; Basché, T. Angew. Chem. Int.<br />
Ed. 2001, 40, 4192.<br />
[54] Structural and functional integration of motor proteins within<br />
artificial nanodevices has been obtained. For impressive examp<strong>le</strong>s,<br />
see: (a) Steinberg-Yfrach, G.; Rigaud, J.-L.; Durantini, E.N.; Moore,<br />
A.L.; Gust, D.; Moore, T.A. Nature 1998, 392, 479. (b) Soong, R.K.;<br />
Bachand, G.D.; Neves, H.P.; Olkhovets, A.G.; Craighead, H.G.;<br />
Montemagno, C.D. Science 2002, 290, 1555.<br />
[55] Balzani, V.; Credi, A.; Raymo, F.M.; Stoddart, J.F. Angew. Chem. Int.<br />
Ed. 2000, 39, 3348.<br />
[56] Acc. Chem. Res. 2001, 34, n. 6 (Special Issue on Mo<strong>le</strong>cular Machines;<br />
Guest Editor: Stoddart, J.F.).<br />
[57] Struct. Bond. 2001, 99 (Special Volume on Mo<strong>le</strong>cular Machines and<br />
Motors; Guest Editor: Sauvage, J.-P.).<br />
[58] Balzani, V.; Credi, A.; Venturi, M. Mo<strong>le</strong>cular Devices and Machines –<br />
A Journey into the Nano World, Wi<strong>le</strong>y-VCH, Weinheim, 2003.<br />
[59] (a) Ballardini, R.; Balzani, V.; Credi, A.; Gandolfi, M.T.; Venturi, M.<br />
Acc. Chem. Res. 2001, 34, 445. (b) Ballardini, R.; Balzani, V.; Credi,<br />
A.; Gandolfi, M.T.; Venturi, M. Int. J. Photoenergy 2001, 3, 63.<br />
[60] Kaifer, A.E.; Gómez-Kaifer, M. Supramo<strong>le</strong>cular E<strong>le</strong>ctrochemistry,<br />
Wi<strong>le</strong>y-VCH, Weinheim, 1999.<br />
[61] Balzani, V.; Credi, A.; Venturi, M. ChemPhysChem 2003, 4, 49.<br />
[62 ] Mo<strong>le</strong>cular Catenanes, Rotaxanes and Knots (Eds.: Sauvage, J.-P.;<br />
Dietrich-Buchecker, C.), Wi<strong>le</strong>y-VCH, Weinheim, Germany, 1999.<br />
[63] Ashton, P.R.; Ballardini, R.; Balzani, V.; Baxter, I.; Credi, A.; Fyfe,<br />
M.C.T.; Gandolfi, M.T.; Gomez-Lopez, M.; Martinez-Diaz, M.V.;<br />
Piersanti, A.; Spencer, N.; Stoddart, J.F.; Venturi, M.; White, A.J.P.;<br />
Williams, D.J. J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 11932.<br />
[64] Balzani, V.; C<strong>le</strong>mente-Leon, M.; Credi, A.; Lowe, J.N.; Badjic, J.D.;<br />
Stoddart, J.F.; Williams, D.J. Chem. Eur. J. 2003, 9, 5348.<br />
[65] Badjic, J.D.; Balzani, V.; Credi, A.; Silvi, S.; Stoddart, J.F. Science 2004,
303, 1845.<br />
[66] (a) Oster, G.; Wang, H. Trends Cell Biol. 2003, 13, 114. (b) Schliwa,<br />
M.; Woehlke, G. Nature 2003, 422, 759.<br />
[67] (a) Asakawa, M.; Ashton, P.R.; Balzani, V.; Credi, A.; Hamers, C.;<br />
Mattersteig, G.; Montalti, M.; Shipway, A.N.; Spencer, N.; Stoddart,<br />
J.F.; Tol<strong>le</strong>y, M.S.; Venturi, M.; White, A.J.P.; Williams, D.J. Angew.<br />
Chem. Int. Ed. 1998, 37, 333. (b) Balzani, V.; Credi, A.; Mattersteig,<br />
G.; Matthews, O.A.; Raymo, F.M.; Stoddart, J.F.; Venturi, M.; White,<br />
A.J.P.; Williams, D.J J. Org. Chem. 2000, 65, 1924.<br />
[68] Ashton, P.R.; Baldoni, V.; Balzani, V.; Credi, A.; Hoffmann, H.D.A.;<br />
Martinez-Diaz, M.V.; Raymo, F.M.; Stoddart, J.F.; Venturi, M. Chem.<br />
Eur. J. 2001, 7, 3482.<br />
[69] Leigh, D.A.; Wong, J.K.Y.; Dehez, F.; Zerbetto, F. Nature 2003, 424,<br />
174.<br />
[70] Recent examp<strong>le</strong>s: (a) Lynch, D.E.; Hamilton, D.G.; Calos, N.J.; Wood,<br />
B.; Sanders, J.K.M. Langmuir 1999, 15, 5600. (b) Brown, C.L.; Jonas,<br />
U.; Preece, J.A.; Ringsdorf, H.; Seitz, M.; Stoddart, J.F. Langmuir<br />
2000, 16, 1924. (c) Asakawa, M.; Higuchi, M.; Mattersteig, G.;<br />
Nakamura, T.; Pease, A.R.; Raymo, F.M.; Shimizu, T.; Stoddart, J.F.<br />
Adv. Mater. 2000, 12, 1099. (d) Gonza<strong>le</strong>z-Gaitano, G.; Guerrero-<br />
Martinez, A.; Ortega, F.; Tardajos, G. Langmuir 2001, 17, 1392.<br />
[71] Recent examp<strong>le</strong>s: (a) Buey, J.; Swager, T.M. Angew. Chem. Int. Ed.<br />
2000, 39, 608. (b) K<strong>le</strong>verlaan, C.J.; Indelli, M.T.; Bignozzi, C.A.;<br />
Pavanin, L.; Scandola, F.; Hasselman, G.M.; Meyer, G.J. J. Am. Chem.<br />
Soc. 2000, 122, 2840. (c) Shipway, A. N.; Willner, I. Acc. Chem. Res.<br />
2001, 34, 421. (d) Cavallini, M.; Lazzaroni, R.; Zamboni, R.; Biscarini,<br />
F.; Timpel, D.; Zerbetto, F.; Clarkson, G.J.; Leigh, D.A. J. Phys. Chem. B<br />
2001, 105, 10826. (e) Samorì, P.; Jackel, F.; Unsal, O.; Godt, A.; Rabe,<br />
J.P. ChemPhysChem 2001, 2, 461. (f) Au<strong>le</strong>tta, T.; van Veggel, F.C.J.M.;<br />
Reinhoudt, D.N. Langmuir 2002, 18, 1288. (f) Cavallini, M.; Biscarini,<br />
F.; Leon, S.; Zerbetto, F.; Bottari, G.; Leigh, D.A. Science 2003, 299,<br />
531. (g) Long, B.; Nikitin, K.; Fitzmaurice, D. J. Am. Chem. Soc. 2003,<br />
125, 5152.<br />
[72] (a) Steinberg-Yfrach, G.; Liddell, P.A.; Hung, S.-C.; Moore, A.L.; Gust,<br />
D.; Moore, T.A. Nature 1997, 385, 239. (b) Gust, D.; Moore, T.A.;<br />
Moore, A.L. Acc. Chem. Res. 2001, 34, 40. (c) Bennett, I.M.; Farfano,<br />
H.M.V.; Bogani, F.; Primak, A.; Liddell, P.A.; Otero, L.; Sereno, L.;<br />
Silber, J.J.; Moore, A.L.; Moore T.A.; Gust, D. Nature 2002, 420, 398.<br />
[73] (a) Chia, S.; Cao, J.; Stoddart, J.F.; Zink, J.I. Angew. Chem. Int. Ed.<br />
2001, 40, 2447. (b) Álvaro, M.; Ferrer, B.; García, H.; Palomares, E.J.;<br />
Balzani, V.; Credi, A.; Venturi, M.; Stoddart, J. F.; Wenger, S. J. Phys.<br />
Chem. B 2003, 107, 14319.<br />
[74] Recent examp<strong>le</strong>s of threaded and interlocked mo<strong>le</strong>cular systems<br />
supported on solid e<strong>le</strong>ctrodes: (a) Willner, I.; Pardo-Yissar, V.; Katz, E.;<br />
Ranjit, K.T. J. E<strong>le</strong>ctroanal. Chem. 2001, 497, 172. (b) Herranz, M.A.;<br />
Colonna, B.; Echegoyen, L. Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2002, 99,<br />
5040. (c) Raehm, L.; Kern, J.-M.; Sauvage, J.-P.; Hamann, C.; Palacin,<br />
S.; Bourgoin, J.-P. Chem. Eur. J. 2002, 8, 2153. (d) Bryce, M.R.;<br />
Cooke, G.; Duclairoir, F.M.A.; John, P.; Perepichka, D.F.; Polwart, N.;<br />
Rotello, V.M.; Stoddart, J.F.; Tseng, H.-R. J. Mater. Chem. 2003, 13,<br />
2111.<br />
[75] (a) Collier, C.P.; Wong, E.W.; Belohradsky, M.; Raymo, F.M.; Stoddart,<br />
J.F.; Kuekes, P.J.; Williams, R.S.; Heath, J.R. Science 1999, 285, 391.<br />
(b) Collier, C.P.; Mattersteig, G.; Wong, E.W.; Luo, Y.; Beverly, K.;<br />
Sampaio, J.; Raymo, F.M.; Stoddart, J.F.; Heath, J.R. Science 2000,<br />
289, 1172. (c) Luo, Y.; Collier, C.P.; Jeppesen, J.O.; Nielsen, K.A.;<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
DeIonno, E.; Ho, G.; Perkins, J.; Tseng, H.-R.; Yamamoto, T.; Stoddart,<br />
J.F.; Heath, J.R. ChemPhysChem 2002, 3, 519. (h) Diehl, M.R.;<br />
Steuerman, D.W.; Tseng, H.-R.; Vignon, S.A.; Star, A.; Ce<strong>le</strong>stre, P.C.;<br />
Stoddart, J.F.; Heath, J.R. ChemPhysChem 2003, 4, 1335.<br />
[76] Metzger, R.M. Chem. Rev. 2003, 103, 3803.<br />
Contatti<br />
Prof. Vincenzo Balzani<br />
Università di Bologna<br />
Dipartimento di Chimica “G. Ciamician”<br />
Via Selmi 2<br />
I-40126 Bologna<br />
e-mail: vincenzo.balzani@unibo.it<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
27<br />
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tR I C E R C A & S V I L U P P O<br />
28<br />
Sensori ottici con risoluzione<br />
sub-micrometrica<br />
Massimo Bressanutti Ape Research S.r.l.<br />
La realizzazione di sistemi di misura di piccoli spostamenti e la loro<br />
integrazione in sistemi miniaturizzati è un settore in rapida<br />
evoluzione che negli ultimi anni ha assunto dimensioni di mercato<br />
sempre maggiori, in relazione all’aumento del<strong>le</strong> esigenze di misura<br />
di un numero di clienti sempre più vasto. Le prob<strong>le</strong>matiche che si<br />
devono affrontare <strong>per</strong> realizzare questo tipo di strumentazione sono<br />
innanzitutto l’e<strong>le</strong>vata risoluzione (nanometrica o sub-micrometrica)<br />
richiesta <strong>per</strong> <strong>le</strong> varie applicazioni, che deve essere mantenuta<br />
su intervalli più o meno lunghi (range), e <strong>le</strong> relativamente picco<strong>le</strong><br />
dimensioni del sensore.<br />
Soddisfare contemporaneamente queste esigenze può risultare<br />
diffici<strong>le</strong> ed è necessario quindi prendere in considerazione di volta<br />
in volta soluzioni diverse, a seconda dell’applicazione e della sua<br />
geometria di utilizzo. Sul mercato vi sono diversi tipi di sensori ad<br />
e<strong>le</strong>vata risoluzione (encoder ottici lineari, sistemi interferometrici,<br />
sensori capacitivi, sensori a fibra ottica), ma non sempre questi riescono<br />
a coprire tutte <strong>le</strong> esigenze degli utilizzatori.<br />
A.P.E. Research, (www.a<strong>per</strong>esearch.com) sulla base del<strong>le</strong> propria<br />
es<strong>per</strong>ienza nel settore del<strong>le</strong> nanotecnologie, ed in particolare nel<br />
campo del nanoposizionamento, ha sviluppato un particolare modello<br />
di sensori a fibra ottica e, in collaborazione con l’Istituto Metrologico<br />
“G. Colonnetti” (I.M.G.C. – C.N.R. Torino), alcuni sistemi<br />
di misura basati su sensori capacitivi.<br />
La scelta di sviluppare due diverse tipologie di sistemi di misura di<br />
piccoli spostamenti o di vibrazioni ad alta frequenza, nasce da due<br />
esigenze ben distinte. Da un lato infatti si vo<strong>le</strong>va disporre (con i<br />
sensori capacitivi), di un sistema compatto in grado di misurare<br />
spostamenti su piccoli range (al più 100 m) con risoluzione nanometrica;<br />
dall’altro invece (con quelli ottici), di sensori in grado di<br />
o<strong>per</strong>are su range di misura più e<strong>le</strong>vati (dell’ordine del millimetro)<br />
pur mantenendo una risoluzione sub-micrometrica e sempre con<br />
ingombri estremamente ridotti.<br />
Questi sensori si pongono come valida alternativa agli encoder ottici<br />
lineari classici, con cui competono in termini di risoluzione ma<br />
rispetto ai quali sono migliori in termini di ingombro: la parte termina<strong>le</strong><br />
del sensore infatti è costituita da un capillare di acciaio, da<br />
cui fuoriesce la radiazione luminosa utilizzata <strong>per</strong> misurare lo spostamento,<br />
che può arrivare anche ad avere un diametro inferiore al<br />
millimetro.<br />
La sua compattezza unita alla semplicità di posizionamento (che<br />
non richiede particolari procedure di allineamento tipiche invece<br />
dei sistemi interferometrici) fanno in modo che questo sensore sia<br />
facilmente integrabi<strong>le</strong> in sistemi miniaturizzati.<br />
Queste caratteristiche, assieme ad una risposta in frequenza che<br />
può arrivare fino a 150 kHz, lo rendono adatto a molte e diverse<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
applicazioni, sia statiche che dinamiche: dall’analisi non intrusiva di<br />
sistemi vibranti, alla misura di velocità di impatto di lamel<strong>le</strong> o valvo<strong>le</strong><br />
su piastre, al<strong>le</strong> misure del moto di micro-meccanismi, di dispositivi<br />
di scansione e di posizionamento. La curva di risposta è ta<strong>le</strong> che<br />
si può lavorare a piacimento su due diversi range di misura: uno<br />
minore ad e<strong>le</strong>vata risoluzione ed uno maggiore a risoluzione più<br />
bassa. È possibi<strong>le</strong> inoltre se<strong>le</strong>zionare l’ampiezza di questi intervalli<br />
configurando opportunamente il sensore.<br />
Contatti<br />
A.P.E. Research S.r.l.<br />
Area Science Park<br />
s.s. 14, Km 163,5 Basovizza<br />
I-34012 Trieste<br />
Tel. +39.040.3757905<br />
Fax +39.040.3757906<br />
infos@a<strong>per</strong>esearch.com<br />
http://www.a<strong>per</strong>esearch.com
Trasduttori ad ultrasuoni<br />
microfabbricati<br />
Vittorio Foglietti, E<strong>le</strong>na Cianci IFN CNR<br />
Le tecniche di “imaging” medica<strong>le</strong> hanno visto importanti progressi<br />
tecnologici negli ultimi anni. Tra <strong>le</strong> varie tecniche utilizzate,<br />
l’ecografia, basata sulla propagazione di ultrasuoni attraverso il<br />
corpo umano, ha riscontrato un notevo<strong>le</strong> successo <strong>per</strong> varie ragioni<br />
tra <strong>le</strong> quali: 1) facilità d’uso <strong>per</strong> il medico, 2) basso costo rispetto<br />
ad altri tipi di “imaging” biomedica<strong>le</strong>, 3) procedura di acquisizione<br />
sicura ed affidabi<strong>le</strong>. Le immagini sono oggi principalmente di carattere<br />
bidimensiona<strong>le</strong>, ma è già possibi<strong>le</strong> ottenere immagini ecografiche<br />
tridimensionali in tempo rea<strong>le</strong>, senza ritardi apprezzabili<br />
introdotti dal sistema di acquisizione. Questo approccio implica<br />
l’uso di nuove sonde dove il fascio ultrasonico viene scansionato<br />
e<strong>le</strong>ttronicamente e l’uso di calcolatori veloci con speciali architetture.<br />
A tutt’oggi <strong>le</strong> sonde ad ultrasuoni fanno uso del fenomeno<br />
piezoe<strong>le</strong>ttrico tipico di alcuni materiali ceramici. Le nuove sonde<br />
hanno bisogno di matrici di 1000 X 1000 e<strong>le</strong>menti di cel<strong>le</strong> ceramiche<br />
di dimensioni di 30 X 30 micrometri ciascuna. Data l’e<strong>le</strong>vata<br />
densità, <strong>le</strong> difficoltà di connessione al sistema e<strong>le</strong>ttronico di acquisizione<br />
aumentano <strong>le</strong> comp<strong>le</strong>ssità di fabbricazione ed inevitabilmente<br />
i costi di produzione.<br />
Recentemente la tecnologia della micromeccanica, applicata al silicio,<br />
ha mostrato con successo che la combinazione di microstrutture<br />
con particolari sistemi di pilotaggio e<strong>le</strong>ttronico, può generare<br />
e rivelare fasci ultrasonici. Questa promettente s<strong>per</strong>imentazione<br />
può condurre ad una generazione di sonde ultrasoniche con un<br />
largo spettro di applicazioni. Il silicio rende inoltre possibi<strong>le</strong> l’integrazione<br />
sullo stesso “chip” del sistema di controllo e di pre-processamento<br />
del segna<strong>le</strong>, riducendo drasticamente la comp<strong>le</strong>ssità<br />
del sistema di interconnessione.<br />
La ricerca nel campo dei trasduttori capacitivi <strong>per</strong> applicazioni ad<br />
ultrasuoni ha acquistato, negli ultimi anni, sempre maggiore interesse,<br />
grazie alla possibilità di applicare la tecnologia di microfabbricazione<br />
del silicio alla fabbricazione di tali trasduttori, con un<br />
notevo<strong>le</strong> miglioramento in termini di prestazioni e costi. Lo studio<br />
e lo sviluppo di un nuovo concetto di sonda ultrasonica è il principa<strong>le</strong><br />
obiettivo di un progetto bilatera<strong>le</strong> europeo EUREKA: UMIC,<br />
che ha tra i vari partner fornitori di tecnologie, fabbricatori di sonde<br />
e sistemi ed utilizzatori. L’Istituto di Fotonica e <strong>Nanotecnologie</strong>,<br />
IFN-CNR, è tra i partner di questo progetto. Il progetto EUREKA<br />
ben si adatta a finanziare questo progetto, il cui obiettivo fina<strong>le</strong> è<br />
ben definito: lanciare una nuova famiglia di sonde ultrasoniche<br />
con largo spettro applicativo.<br />
Il principio di trasduzione e<strong>le</strong>ttrostatica, su cui si basano i trasduttori<br />
capacitivi, consiste nella modulazione della capacità di un condensatore<br />
con un e<strong>le</strong>ttrodo mobi<strong>le</strong> che, posto in vibrazione da<br />
un'onda di pressione incidente, fornisce un segna<strong>le</strong> di trasduzione<br />
e<strong>le</strong>ttrico. Ta<strong>le</strong> principio è noto sin dai primi anni del '900 e <strong>le</strong> prime<br />
versioni di trasduttori capacitivi <strong>per</strong> applicazioni ad ultrasuoni in<br />
aria risalgono agli anni '50; ma solamente l'utilizzo della tecnologia<br />
dei semiconduttori <strong>per</strong> la realizzazione di sistemi microe<strong>le</strong>ttro-<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
meccanici (MEMS, MicroE<strong>le</strong>ctroMechanical System), ha <strong>per</strong>messo<br />
nell'ultimo decennio lo sviluppo di cMUT (capacitive Micromachined<br />
Ultrasonic Transducer), con la possibilità di realizzare geometrie<br />
ripetibili e con dimensioni micrometriche su un wafer di silicio,<br />
di integrare il trasduttore con i circuiti e<strong>le</strong>ttronici, e quindi di fabbricare<br />
matrici di trasduttori ad alta densità a basso rumore e a costo<br />
contenuto, competitivi con i trasduttori piezoe<strong>le</strong>ttrici comunemente<br />
utilizzati, in particolare <strong>per</strong> applicazioni nel campo dell'imaging<br />
ecografico <strong>per</strong> indagini mediche.<br />
Le attuali sonde ecografiche sono costituite da un e<strong>le</strong>vato numero<br />
(centinaia) di e<strong>le</strong>menti di ceramica piezoe<strong>le</strong>ttrica separati da e<strong>le</strong>menti<br />
di materia<strong>le</strong> inerte, di dimensioni dell'ordine di cento micrometri,<br />
ciascuno di essi col<strong>le</strong>gato ad un cana<strong>le</strong> e<strong>le</strong>ttronico capace di<br />
generare ultrasuoni ed elaborare l'eco ricevuto. Le tecniche di lavorazione<br />
utilizzate <strong>per</strong> realizzare tali e<strong>le</strong>menti e la necessità di interconnessioni<br />
e<strong>le</strong>ttriche limita <strong>le</strong> dimensioni degli e<strong>le</strong>menti attivi<br />
del traduttore, e di conseguenza la risoluzione con cui possono essere<br />
rivelati particolari interni del corpo umano.<br />
Nella tecnologia da noi utilizzata, ciascun e<strong>le</strong>mento piezoe<strong>le</strong>ttrico<br />
è sostituito da un insieme di micromembrane metallizzate, che costituiscono<br />
l'e<strong>le</strong>ttrodo mobi<strong>le</strong> del condensatore, affacciate ad un<br />
e<strong>le</strong>ttrodo fisso, realizzato su un substrato di silicio. Le dimensioni<br />
degli e<strong>le</strong>menti e la separazione fra due e<strong>le</strong>menti adiacenti possono<br />
essere comunque ridotte, migliorando così la risoluzione latera<strong>le</strong><br />
della sonda.<br />
Inoltre i trasduttori cMUT presentano un'impedenza acustica molto<br />
vicina a quella del corpo umano, possono essere quindi accoppiati<br />
senza dover utilizzare strati polimerici di adattamento acustico,<br />
necessari invece nel caso di trasduttori piezoe<strong>le</strong>ttrici, che ne aumentano<br />
l'efficienza ma ne limitano la banda; infine i trasduttori<br />
hanno una risposta in frequenza molto ampia, possono quindi essere<br />
utilizzati come sonda universa<strong>le</strong> che copre varie applicazioni.<br />
Le attuali sonde piezoe<strong>le</strong>ttriche coprono una banda più stretta e<br />
quindi è necessario utilizzare sonde diverse in funzione dell'organo<br />
che si vuo<strong>le</strong> vedere e a che profondità è situato.<br />
Il processo di fabbricazione dei trasduttori capacitivi si basa sul<strong>le</strong><br />
tecniche di surface-micromachining. I dispositivi sono realizzati su<br />
substrati di silicio ossidati. Lo strato di ossido è sufficientemente<br />
spesso da rendere piccola la capacità parassita di accoppiamento<br />
tra gli e<strong>le</strong>menti dell’array attraverso il substrato. L’e<strong>le</strong>ttrodo fisso,<br />
alla base del<strong>le</strong> cel<strong>le</strong> e<strong>le</strong>ttrostatiche, è realizzato in uno strato metallico<br />
depositato mediante evaporazione, e protetto da un sotti<strong>le</strong><br />
film di nitruro di silicio. Il nitruro di silicio costituisce anche il materia<strong>le</strong><br />
struttura<strong>le</strong> del dispositivo, con cui vengono fabbricate <strong>le</strong><br />
membrane libere di vibrare. Lo strato strutturare viene cresciuto<br />
con stress meccanico controllato, agendo sui parametri del processo<br />
di deposizione chimica da fase vapore assistita da plasma. Infatti<br />
<strong>le</strong> proprietà meccaniche del film che costituisce la parte mobi<strong>le</strong><br />
del dispositivo determinano la sua integrità fina<strong>le</strong> (stress intrinseci<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
29<br />
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30<br />
troppo intensi possono fratturare la struttura sospesa o deformarla)<br />
e il funzionamento fina<strong>le</strong> del dispositivo (la frequenza di vibrazione<br />
della membrana varia in funzione della sua tensione meccanica).<br />
La tem<strong>per</strong>atura del processo di deposizione è compatibi<strong>le</strong><br />
con la tecnologia CMOS, rendendo così possibi<strong>le</strong> l’integrazione del<br />
dispositivo con l’e<strong>le</strong>ttronica di controllo.<br />
Il nitruro di silicio struttura<strong>le</strong> copre iso<strong>le</strong> circolari di materia<strong>le</strong> sacrifica<strong>le</strong><br />
(Fig. 1), che viene rimosso in attacco chimico in liquido, attraverso<br />
a<strong>per</strong>ture nello strato struttura<strong>le</strong> stesso, <strong>per</strong> fabbricare così<br />
membrane circolari sospese, vincolate lungo il <strong>per</strong>imetro, e libere<br />
di vibrare. La cavità su cui è sospesa ciascuna membrana viene evacuata<br />
e chiusa ermeticamente mediante una deposizione di nitruro<br />
di silicio, il materia<strong>le</strong> riempie <strong>le</strong> a<strong>per</strong>ture precedentemente scavate,<br />
senza <strong>per</strong>ò penetrare all’interno della cavità ed alterarne <strong>le</strong> dimensioni.<br />
Le dimensioni del<strong>le</strong> membrane, il diametro e lo spessore, e la distanza<br />
fra <strong>le</strong> membrane e l'e<strong>le</strong>ttrodo fisso determinano, insieme al<strong>le</strong><br />
proprietà e<strong>le</strong>ttromeccaniche della membrana, il funzionamento<br />
del trasduttore; il processo di fabbricazione sviluppato, basandosi<br />
su tecniche di micromachining, consente il controllo di tali parametri<br />
geometrici e quindi del<strong>le</strong> prestazioni del trasduttore.<br />
Per realizzare la trasduzione e<strong>le</strong>ttrostatica, <strong>le</strong> membrane vengono<br />
metallizzate, cosicché migliaia di membrane connesse in paral<strong>le</strong>lo<br />
costituiscono ciascun e<strong>le</strong>mento dell’array (Fig. 2). La litografia usata<br />
<strong>per</strong> la definizione del<strong>le</strong> membrane è ottica con sorgente a<br />
365nm.<br />
Fig. 1. Iso<strong>le</strong> di materia<strong>le</strong> sacrifica<strong>le</strong> allineate sugli e<strong>le</strong>ttrodi metallici.<br />
Fig. 2. Le cel<strong>le</strong> e<strong>le</strong>ttrostatiche di ogni e<strong>le</strong>mento sono connesse in paral<strong>le</strong>lo.<br />
L'e<strong>le</strong>ttrodo mobi<strong>le</strong> della cella è sostenuto da una membrana di nitruro di silicio<br />
sospesa su una cavità in vuoto e chiusa ermeticamente.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
I dispositivi MUT sono scalabili fino a dimensioni dell’ordine di decine<br />
di nm. In questo caso par<strong>le</strong>remo di dispositivi nanoe<strong>le</strong>ttromeccanici<br />
(NEMS). La tecnologia fabbricativa rimane sostanzialmente<br />
la stessa tranne nella litografia, nella qua<strong>le</strong> quella ottica convenziona<strong>le</strong><br />
deve essere sostituita con la litografia a fascio e<strong>le</strong>ttronico. I<br />
MUT-NEMS possono interessare un ampio orizzonte applicativo,<br />
qua<strong>le</strong> <strong>per</strong> esempio la nanorobotica, un campo interdisciplinare che<br />
coinvolge chimica, fisica, biologia e computer science. È interessante<br />
infine menzionare inoltre la nanofluidica, dove i mut possono<br />
giocare un ruolo chiave pompe nanofluidiche.<br />
Contatti<br />
Vittorio Foglietti<br />
Istituto di Fotonica e <strong>Nanotecnologie</strong> (IFN) del CNR<br />
Via Cineto Romano 42<br />
I-00156 Roma<br />
tel. 06 415221<br />
fax: 06 41522220<br />
e_mail: foglietti@ifn.cnr.it
Materiali nanostrutturati<br />
a base carbonio<br />
Maria Letizia Terranova, Angelamaria Fiori, Silvia Orlanducci,<br />
Susanna Piccirillo, Vito Sessa, Emanuela Tamburri<br />
Università di Roma Tor Vergata, Dip. di Scienze e Tecnologie Chimiche,<br />
Laboratorio “Materiali e Nanosistemi”<br />
Il carbonio è attualmente oggetto di un vivace interesse nei settori<br />
della scienza e della tecnologia che si occupano di e<strong>le</strong>ttronica mo<strong>le</strong>colare<br />
o biomo<strong>le</strong>colare e della ricerca di materiali organici <strong>per</strong> l’e<strong>le</strong>ttronica;<br />
un analogo fermento di interessi sta coinvolgendo anche<br />
la famiglia allargata del<strong>le</strong> forme di carbonio inorganico nanostrutturato<br />
di più o meno recente sco<strong>per</strong>ta. L’integrazione tra queste<br />
due classi di materiali di nuova generazione rappresenta, quindi,<br />
un traguardo ambizioso e promettente.<br />
Sulla base di una ricca e plurienna<strong>le</strong> es<strong>per</strong>ienza nella sintesi e caratterizzazione<br />
di materiali inorganici a base carbonio, l’attività di ricerca<br />
in corso nel “Laboratorio di Materiali e Nanosistemi” è focalizzata<br />
allo studio e alla preparazione di materiali nanostrutturati e<br />
nanosistemi mirati all’applicazione nel campo dell’e<strong>le</strong>ttronica, della<br />
sensoristica, dell’energetica.<br />
La fase di sintesi si avva<strong>le</strong> di due apparati Chemical Vapor Deposition<br />
(CVD a filamento caldo e a microonde), ciascuno equipaggiato<br />
con un sistema brevettato <strong>per</strong> l’immissione di polveri che li rende<br />
in grado di produrre un’ampia gamma di materiali diversi; è<br />
inoltre disponibi<strong>le</strong> un sistema <strong>per</strong> la deposizione di film metallici.<br />
La caratterizzazione viene effettuata all’interno del laboratorio <strong>per</strong><br />
mezzo di uno spettrometro Raman, un microscopio e<strong>le</strong>ttronico a<br />
scansione ad emissione di campo (FEG-SEM), un sistema <strong>per</strong> la misura<br />
dell’emissione di campo. Sono a disposizione anche un microscopio<br />
AFM, uno spettrometro di massa, un diffrattometro RHEED.<br />
Tra <strong>le</strong> linee di ricerca attualmente <strong>per</strong>seguite, la sintesi e la caratterizzazione<br />
struttura<strong>le</strong>-funziona<strong>le</strong> di diamante micro e nanocristallino<br />
è una del<strong>le</strong> attività più consolidate dal tempo e dai risultati. La<br />
peculiare versatilità dell’apparato di sintesi ha <strong>per</strong>messo di disegnare<br />
e produrre in modo se<strong>le</strong>ttivo materiali a base diamante dotati<br />
di particolari caratteristiche:<br />
• meccaniche (film protettivi e tribologici costituiti da clusters graficitici<br />
in matrice di carbonio amorfo o di diamante nanocristallino);<br />
• ottiche (film di diamante policristallino contenenti quantum dots<br />
di Si, fotoluminescenti nel visibi<strong>le</strong> a tem<strong>per</strong>atura ambiente);<br />
• di conducibilità (nanocompositi a conduzione metallica o semimetallica<br />
costituiti da nanofasi metalliche dis<strong>per</strong>se in matrice<br />
di diamante);<br />
• di emissione di campo (punte metalliche o fibre di carbonio<br />
con ricoprimento di diamante nanocristallino drogato, con notevo<strong>le</strong><br />
capacità fotoemettitiva).<br />
A queste attività di ricerca si è affiancata, nel 1998, quella rivolta<br />
alla produzione di nanostrutture grafitiche non planari, focalizzata<br />
alla sintesi di nanotubi a parete singola (SWCNT). Lo studio del<strong>le</strong><br />
eccezionali proprietà di questi materiali ne auspica vivamente l’applicazione<br />
nei più diversi settori della scienza e della tecnologia<br />
chiedendo, <strong>per</strong>ò, al<strong>le</strong> metodologie di sintesi un preciso controllo<br />
sul materia<strong>le</strong> (purezza di fase, caratteristiche geometriche) e sulla<br />
sua organizzazione. Nel Laboratorio, <strong>per</strong>ciò, la ricerca sui nanotubi<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
di carbonio a parete singola è concentrata verso l’ottenimento di<br />
sistemi ordinati secondo architetture atte all’integrazione in dispositivi<br />
e<strong>le</strong>ttronici. Tra i risultati ottenuti si può annoverare:<br />
• crescita di fasci di nanotubi allineati ed orientati ad angoli predefiniti<br />
rispetto al substrato;<br />
• crescita se<strong>le</strong>ttiva su specifiche aree di substrati litografati;<br />
• controllo della lunghezza dei nanotubi e della densità dei fasci.<br />
Una specifica linea di ricerca riguarda la messa a punto di trattamenti<br />
chimici post-sintesi <strong>per</strong> la funzionalizzazione dei SWCNT, la<br />
loro dis<strong>per</strong>sione in solventi e matrici polimeriche, la produzione di<br />
membrane, fibre, pasticche: sistemi tutti intesi all’applicazione nel<br />
campo dell’ottica non lineare, dell’e<strong>le</strong>ttronica, della sensoristica.<br />
Le metodologie di sintesi e di trattamento messi a punto <strong>per</strong>mettono<br />
di utilizzare in modo combinato i diversi nano-materiali e di proporre<br />
l’utilizzo del<strong>le</strong> nanostrutture risultanti in un ampio numero di<br />
applicazioni. Il disegno e lo sviluppo dei dispositivi prevedono, <strong>per</strong>ò,<br />
oltre all’approfondita conoscenza del materia<strong>le</strong> e del processo sintetico<br />
da cui proviene, precise competenze tecniche: l’efficace sinergia<br />
tra il nostro laboratorio e altri gruppi di ricerca ha <strong>per</strong>messo di ottenere<br />
buoni risultati nell’ambito del<strong>le</strong> nanotecnologie. Tra gli esempi<br />
più interessanti, realizzati o in fase di realizzazione, si possono citare:<br />
• sensori di pressione e di dislocazione basati sulla risposta piezoresistiva<br />
di membrane di SWCNT opportunamente processati;<br />
• sensori e biosensori a base di SWCNT <strong>per</strong> la determinazione<br />
e<strong>le</strong>ttrochimica di importanti mo<strong>le</strong>co<strong>le</strong> biologiche e di neurotrasmettitori;<br />
microe<strong>le</strong>ttrodi aghiformi che <strong>per</strong>mettono analisi “<br />
in vivo” di parametri clinici;<br />
• e<strong>le</strong>ttrodi e transistor plastici assemblati con nanocompositi<br />
SWCNT/polimero;<br />
• fotocatodi a base diamante ad alta resa quantica <strong>per</strong> fotoemissione<br />
nell’U.V.<br />
• preparazione di sistemi di SWCNT <strong>per</strong> la generazione di seconda<br />
e terza armonica;<br />
• trasduttori assemblati con strati nanocompositi di diamante<br />
conduttore in grado di o<strong>per</strong>are in ambienti ostili ed in sistemi<br />
che richiedono biocompatibilità;<br />
• sistemi ad e<strong>le</strong>vata emissione di campo costituiti da SWCNT organizzati<br />
in arrays con specifica densità ed angolazione;<br />
• fibre di SWCNT allineati <strong>per</strong> il trasporto di e<strong>le</strong>vate correnti in<br />
circuiti integrati e sistemi e<strong>le</strong>ttronici miniaturizzati.<br />
I progetti sono portati avanti in stretta collaborazione con i seguenti<br />
gruppi: Dip. di Ingegneria E<strong>le</strong>ttronica, Università di Roma<br />
Tor Vergata (Prof. A. Di Carlo); Lab. di BioE<strong>le</strong>ttroAnalitica di Tor<br />
Vergata – BEAT- (Prof. G. Pal<strong>le</strong>schi); CNR-ISMN (Dr. A. Curulli); Dip.<br />
di Energetica, Università di Roma La Sapienza (Prof. M. Rossi);<br />
ENEA <strong>Centro</strong> Ricerche Frascati Dip. Tecnologie Fisiche Avanzate<br />
(Dr. S. Botti); INFN-Frascati (Dr. F. Tazzioli)<br />
Contatti<br />
Prof. Maria Letizia Terranova<br />
Università di Roma Tor Vergata, Dip. di Scienze e Tecnologie Chimiche<br />
Via della Ricerca Scientifica<br />
I- 00133 Roma<br />
Tel. 039 0672594416<br />
e-mail terranova@roma2.infn.it<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
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Attività di nanotecnologia presso<br />
la Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant’Anna<br />
Paolo Dario, Arianna Menciassi, Lucia Beccai, Monia Genti<strong>le</strong>,<br />
Gianpiero Negri,Carlo Filippeschi Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant'Anna<br />
Il laboratorio CRIM della Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant’Anna, <strong>per</strong>segue<br />
l’eccel<strong>le</strong>nza scientifica e tecnologica nell’ambito dei microsistemi<br />
(MEMS) e del<strong>le</strong> micromacchine. Inoltre, nell’ambito del<strong>le</strong> microtecnologie<br />
ottiche (MOEMS), il CRIM dà il proprio contributo <strong>per</strong> la<br />
disseminazione e il coinvolgimento dell’industria in progetti di innovazione<br />
prodotto. Il laboratorio è dotato di macchine <strong>per</strong> microlavorazioni<br />
meccaniche ed e<strong>le</strong>ttroniche, alcune o<strong>per</strong>anti in camera<br />
bianca classe 1000 e 10000.<br />
Il CRIM, <strong>per</strong> esigenze di ricerca, presta attenzione al settore della<br />
nanometrologia. In ta<strong>le</strong> ambito è infatti attivo in progetti di ricerca<br />
specifici; citiamo ad esempio il progetto Vision on line (www.visononline.tv),<br />
un istituto virtua<strong>le</strong> che offre servizi on line <strong>per</strong> l’industria,<br />
nell’ambito dell’ingegneria di precisione, metrologia, microingegneria,<br />
microsistemi e nanotecnologie: accesso a banche<br />
dati, organizzazione di training, seminari e workshop. Come parte<br />
di ta<strong>le</strong> consorzio virtua<strong>le</strong> la società EUSPEN (European Society on<br />
Precision Engineering) organizza il quarto corso di training on line<br />
sul tema “Precisione e Nanometrologia”.<br />
Esempi di prototipi realizzati presso il CRIM<br />
Fig. 1. Mini-pinza <strong>per</strong> assemblaggio Sviluppo di strumenti <strong>per</strong> la<br />
micromanipolazione di e<strong>le</strong>menti fisici e biologici.<br />
Fig. 2. Sensore <strong>per</strong> il monitoraggio del mercurio Sviluppo di sensori <strong>per</strong> il<br />
monitoraggio dell'ambiente.<br />
Fig. 3. TEM lamella.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Fig. 4. Punta polimerica, rivestita in oro, realizzata in uno stampo di silicio<br />
lavorato al FIB - altezza 5 mm.<br />
Tra <strong>le</strong> dotazioni tecnologiche del laboratorio si ritiene opportuno<br />
menzionare un microscopio a fascio ionico (FIB, fig. 3) con tol<strong>le</strong>ranza<br />
di lavoro di 10nm e un microscopio a forza atomica (AFM). Si<br />
riportano di seguito alcune applicazioni degli strumenti ed alcuni<br />
esempi di lavorazioni realizzate:<br />
Applicazioni:<br />
• esame di materiali semiconduttori<br />
• correzione difetti di fabbricazione(circuiti integrati, maschere<br />
<strong>per</strong> litografia)<br />
• impiantazione ionica<br />
• preparazione di campioni <strong>per</strong> microscopia (TEM e SEM)<br />
• Sistemi micro e<strong>le</strong>ttro meccanici (MEMS)<br />
• Nanolitografia<br />
• Realizzazione e modifica di end effector <strong>per</strong> micro e nano manipolazione<br />
Realizzazioni:<br />
- lamella <strong>per</strong> osservazioni al TEM (fig.4);<br />
- punta polimerica, rivestita in oro, realizzata in uno stampo di<br />
silicio lavorato al FIB (fig. 5);<br />
- foro da 0.2 micron praticato in una sfera in poliestere del diametro<br />
di 1 micron.<br />
- modifica di uno strain gauge commercia<strong>le</strong> a semiconduttore<br />
<strong>per</strong> una applicazione in campo biomedica<strong>le</strong>;<br />
- realizzazione di una microasola in un filo di tungsteno di diametro<br />
10 m;<br />
- resistore in platino depositato con il FIB su un canti<strong>le</strong>ver AFM;<br />
Contatti<br />
Arianna Menciassi<br />
Laboratorio CRIM, Polo Sant'Anna Valdera, Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant'Anna<br />
Via<strong>le</strong> Rinaldo Piaggio, 34<br />
I 56025 Pontedera (PI)<br />
Fax +39 050 883497<br />
e-mail crim@crim.sssup.it
Sviluppo di un sensore<br />
microfabbricato <strong>per</strong> l’analisi<br />
del mercurio gassoso<br />
Mazzolai, V. Mattoli, V. Raffa, G. Tripoli, D. Accoto,<br />
A. Menciassi, P. Dario Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant’Anna<br />
Introduzione<br />
Presso il laboratorio CRIM (<strong>Centro</strong> di Ricerca In Microingegneria)<br />
della Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant’Anna di Pisa è stato sviluppato e<br />
s<strong>per</strong>imentato un innovativo sensore microfabbricato <strong>per</strong> l’analisi<br />
del mercurio atmosferico in aria (Hg°). Il mercurio rappresenta uno<br />
dei principali inquinanti atmosferici del nostro pianeta, presente<br />
<strong>per</strong> 90-99% nella forma di mercurio gassoso e<strong>le</strong>mentare Hg° 1.<br />
Il principio di misura<br />
Il sensore, basato sulla tecnica di variazione di resistività di un film<br />
sotti<strong>le</strong> d’oro 2,3,4, è caratterizzato da un’alta se<strong>le</strong>ttività e dall’assenza<br />
di parti ottiche. Il sensore consiste in quattro resistori montati<br />
in una configurazione a ponte di Wheatstone. Due resistori lavorano<br />
come e<strong>le</strong>menti sensibili e gli altri due come e<strong>le</strong>menti di riferimento.<br />
L’absorbimento di mercurio sul film d’oro produce un cambiamento<br />
nella resistività che, lontano dalla saturazione, è proporziona<strong>le</strong><br />
alla quantità di mercurio adsorbito. Il sensore è reversibi<strong>le</strong>:<br />
il desorbimento del mercurio, favorito al<strong>le</strong> alte tem<strong>per</strong>ature, è indotto<br />
<strong>per</strong> riscaldamento <strong>per</strong> effetto Jou<strong>le</strong>.<br />
Tecnologie e procedura di microfabbricazione del sensore<br />
Nel corso del lavoro svolto si è tentato sulla base degli studi teorici,<br />
della ricerca in <strong>le</strong>tteratura 5,6, della consultazione di es<strong>per</strong>ti del<br />
settore e dell’es<strong>per</strong>ienza accumulata, di individuare di volta in volta<br />
<strong>le</strong> tecnologie e <strong>le</strong> procedure di esecuzione ottimali nel rispetto del<strong>le</strong><br />
specifiche iniziali, dei nuovi requisiti e dei bisogni emersi durante<br />
l’attività di ricerca.<br />
Spessore film d’oro (nm) 150<br />
Su<strong>per</strong>ficie esposta<br />
di una singola serpentina (mm)<br />
Risoluzione (micron) 5<br />
Tipi di supporto Ceramica lappata<br />
(Spessore 0,635 mm, Rugosità (Ra) 220 nm)<br />
Vetro borosilicato<br />
(Spessore 0,5 mm, Rugosità (Ra) 80 nm)<br />
Tabella 1. Specifiche tecniche del sensore.<br />
MATERIALE FUNZIONE SPESSORE<br />
Au E<strong>le</strong>mento sensibi<strong>le</strong> < 200 nm<br />
Ti Layer adesivo < 50 nm<br />
TiO2 Layer adesivo < 50 nm<br />
SiO2 Layer intermedio<br />
Layer passivante<br />
< 500 nm<br />
Cr Layer adesivo < 100 nm<br />
Tabella 2. Tipologie di film deposti.<br />
Per la deposizione del film sensibi<strong>le</strong>, dei layer intermedi e dei layer<br />
passivanti si è ado<strong>per</strong>ata la tecnologia di sputtering a RF (Sputtering<br />
Sistec, model DCC 150). In tabella 2 sono e<strong>le</strong>ncati i principali film<br />
deposti, la loro funzione e la dimensione indicativa dei loro spessori.<br />
8,5<br />
R I C E R C A & S V I L U P P O<br />
Per la realizzazione del<strong>le</strong> maschere meccaniche è stata ado<strong>per</strong>ata<br />
la tecnologia della micro e<strong>le</strong>ttroerosione (EDM), caratterizzata da<br />
una ‘minimum feature size’ di 100 micron e da una risoluzione di 1<br />
micron. La misura degli spessori deposti è stata effettuata usando<br />
il sensore in dotazione all’apparecchiatura di sputtering. La caratterizzazione<br />
dei film deposti è stata effettuata utilizzando il microscopio<br />
ottico, il Microscopio a Forza Atomica (Figura 1) e il FIB (Focus<br />
Ion Beam). Queste strumentazioni consentono di acquisire immagini<br />
su<strong>per</strong>ficiali in un range dimensiona<strong>le</strong> che va dal millimetro<br />
fino all’Amstrong. Le acquisizioni fatte consentono di esprimere<br />
un giudizio sulla qualità del film prodotto, in termini di dimensione<br />
media dei grani e orientazione, difettosità su<strong>per</strong>ficia<strong>le</strong>, rugosità su<strong>per</strong>ficia<strong>le</strong>,<br />
porosità, presenza di impurezze, ecc.<br />
Il layout meccanico e la procedura di microfabbricazione del sensore<br />
(Figura 2) sono state fissate sulla base dei risultati ottenuti in fase<br />
di s<strong>per</strong>imentazione.<br />
I prob<strong>le</strong>mi di adesione substrato-film d’oro sono stati risolti tramite<br />
la deposizione di un film intermedio e l’uso di un substrato ceramico<br />
<strong>le</strong> cui caratteristiche sono riportate in tabella 1. I prob<strong>le</strong>mi di riproducibilità<br />
e stabilità del sensore sono stati risolti ottimizzando la<br />
procedura di deposizione in termini di parametri di deposizione e<br />
scelta del trattamento termico di post-deposizione. L’influenza dei<br />
parametri ambientali è stata minimizzata tramite l’ottimizzazione<br />
del disegno del sensore e l’integrazione a bordo di un microsensore<br />
di tem<strong>per</strong>atura. Il sensore è mostrato in figura 3. L’e<strong>le</strong>mento<br />
sensibi<strong>le</strong>, <strong>le</strong> piste e<strong>le</strong>ttriche e il sensore di tem<strong>per</strong>atura sono integrati<br />
su un supporto ceramico. Il sensore presenta una forma a carta<br />
SIM e il layout dei contatti e<strong>le</strong>ttrici è compatibi<strong>le</strong> con quello di<br />
una carta SIM a 8 contatti.<br />
Figura 1. Acquisizione AFM della su<strong>per</strong>ficie d’oro deposta.<br />
Figura 2. Disegno tecnico del sensore.<br />
Figura 3. Immagine del sensore.<br />
Risultati s<strong>per</strong>imentali<br />
Allo scopo di testare il sensore è stato al<strong>le</strong>stito il set-up s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong><br />
mostrato in Figura 4. Il circuito fluidico comprende un filtro, una<br />
camera contenente il sensore, un flussometro (Honeywell,<br />
AWM2300V Series Microbridge Mass Airflow Sensors, 1000<br />
sccm), una pompa (KNF, NMP 015M; 1.6 l/min, 400mbar in aspirazione)<br />
e un microcontrollore <strong>per</strong> il settaggio dei parametri e la gestione<br />
dei segnali.<br />
Le prove s<strong>per</strong>imentali sono state eseguite con un flusso costante di<br />
1 l/min, iniettando un campione di 500 l di aria satura di mercurio<br />
proveniente da un thermos tenuto a tem<strong>per</strong>ature controllata. L’iniezione<br />
è stata effettuata con una siringa manua<strong>le</strong> di precisione. Il<br />
tempo di iniezione è pari a 30 secondi.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
33<br />
t
tR I C E R C A & S V I L U P P O<br />
34<br />
La Figura 5 riporta la tensione in uscita dal ponte di Wheatstone in<br />
funzione della quantità di mercurio iniettata. I dati s<strong>per</strong>imentali<br />
mostrano una risposta lineare e un’alta sensibilità e un detection limit<br />
di circa 100 pg of mercurio.<br />
In Figura 6 sono riportati i dati s<strong>per</strong>imentali relativi ad una prova di<br />
saturazione del sensore: nel circuito s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong> sono state effettuate<br />
iniezioni multip<strong>le</strong> di una quantità costante di mercurio fino a<br />
saturazione. Il grafico mostra un limite di risposta lineare del sensore<br />
pari a circa 300 ng di mercurio e un limite di saturazione intorno<br />
a 5000 ng di mercurio.<br />
Le prove di rigenerazione hanno evidenziato che è necessario<br />
mantenere i resistori ad una tem<strong>per</strong>atura di circa 130°C <strong>per</strong> ottenere<br />
la rigenerazione comp<strong>le</strong>ta di un sensore saturo in un tempo<br />
inferiore ai 5 minuti, in accordo con quanto riportato in <strong>le</strong>tteratura<br />
7. Il sensore ha inoltre evidenziato una notevo<strong>le</strong> resistenza alla rigenerazione:<br />
i test s<strong>per</strong>imentali evidenziano che è possibi<strong>le</strong> sottoporre<br />
i sensori a più di 1300 cicli di rigenerazione senza che i resistori<br />
subiscano alcun danno meccanico o e<strong>le</strong>ttrico.<br />
Figura 4. Set-up s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong>.<br />
Figura 5. Prova di adsorbimento.<br />
Figura 6. Prova di saturazione.<br />
Le applicazioni<br />
L’obiettivo fina<strong>le</strong> della ricerca è stato lo sviluppo di un mini analizzatore<br />
portati<strong>le</strong> <strong>per</strong> la misura della concentrazione del mercurio<br />
gassoso in aria (Figura 7) e un mini dosimetro <strong>per</strong> la valutazione<br />
dell’esposizione <strong>per</strong>sona<strong>le</strong> all’inquinante (Figura 8). Il sensore descritto<br />
è stato s<strong>per</strong>imentato e testato in entrambi i dispositivi.<br />
Figura 7. Mini analizzatore portati<strong>le</strong> <strong>per</strong> la misuradella concentrazione<br />
del mercurio gassoso in aria.<br />
Figura 8. Mini dosimetro <strong>per</strong> la valutazione dell’esposizione <strong>per</strong>sona<strong>le</strong><br />
al mercurio.<br />
Conclusioni<br />
Gli autori hanno presentato un nuovo sensore miniaturizzato <strong>per</strong><br />
l’analisi del mercurio gassoso in aria, testato presso il laboratorio<br />
CRIM (Center of Research In Microengineering) della Scuola Su<strong>per</strong>iore<br />
Sant’Anna di Pisa. I risultati dell’analisi s<strong>per</strong>imenta<strong>le</strong> mostra-<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
no che il sensore lavora in un largo range di linearità con un’alta<br />
sensibilità. Il sensore mostra e<strong>le</strong>vata stabilità, accuratezza nella misura,<br />
basso consumo energetico ed alta resistenza alla rigenerazione.<br />
Il sensore è stato utilizzato e testato come e<strong>le</strong>mento sensibi<strong>le</strong> di<br />
un mini analizzatore portati<strong>le</strong> <strong>per</strong> la misura della concentrazione<br />
del mercurio gassosso in aria e di un mini dosimetro <strong>per</strong> la valutazione<br />
dell’esposizione <strong>per</strong>sona<strong>le</strong> all’inquinante.<br />
Ringraziamenti<br />
Il lavoro descritto è stato condotto nell’ambito del progetto europeo<br />
“European Mercury Emission from Chlor-Alkali Plants” (EME-<br />
CAP; Contract Number QLK4-CT-2000-00489).<br />
Riferimenti<br />
1 J. Munthe et All, Atmos. Environ., 35, 3007 (2001)<br />
2 J. J. McNerney and P. R. Buseck, Science 178, 611 (1972)<br />
3 V. Bezak, M. Kedroand A. Pevala, Thin-Solid-Films 23(3), 305-313<br />
(1974)<br />
4 M. Levlin, E. Ikavalko and T. Laitinen, Fresenius' Journal of Analytical<br />
Chemistry 365(7), 577-86 (1999)<br />
5 Physical Vapour Deposition, ed. Russelì J. Hill, Temescal, Division of The<br />
BOC Group, Inc., (1986)<br />
6 M.A. George and W. S. Glaunsinger, Thin Solid Film 245, 215-224<br />
(1994)<br />
7 M.M. Nayak, S. Srinivasulu, K. Rajanna, S. Mohan and A.E.<br />
Muthunayagam, Journal of Materials Science Letters 12, 119 (1993)<br />
Contatti<br />
B. Mazzolai<br />
Scuola Su<strong>per</strong>iore Sant’Anna<br />
P.zza Martiri della Libertà 33<br />
I-56127 Pisa<br />
e-mail: b.mazzolai@mail-arts.sssup.it
Notizie in breve<br />
Uno strumento <strong>per</strong> la ricerca sull’idrogeno<br />
Il Gruppo Idrogeno dell’Università di Padova e dell’Istituto Naziona<strong>le</strong><br />
di Fisica della Materia (INFM), il qua<strong>le</strong> o<strong>per</strong>a presso i dipartimenti<br />
di Ingegneria Meccanica (Settore Materiali) e di Fisica della<br />
stessa Università, si occupa da alcuni anni dello stoccaggio di idrogeno<br />
in polveri metalliche. Un notevo<strong>le</strong> impulso nella ricerca è dovuto<br />
alla recente acquisizione a Padova di uno strumento PCI<br />
(Pressure-Composition-Isotherm measurements), che consente di<br />
acquisire in modo automatico misure di tipo cinetico e termodinamico<br />
sull’assorbimento e desorbimento di idrogeno da parte dei<br />
campioni in esame di dimensioni nanometriche. I valori o<strong>per</strong>ativi di<br />
pressione e tem<strong>per</strong>atura (fino a 200 bar e 500 °C) sono idonei a<br />
studiare materiali anche in condizioni estreme. Questo è l’unico<br />
strumento del genere attualmente disponibi<strong>le</strong> in Italia<br />
Nuova previsione sul mercato globa<strong>le</strong><br />
della nanoe<strong>le</strong>ttronica<br />
Lo studio "Nanotechnology: Impact of Nanotechnology on the<br />
U.S. E<strong>le</strong>ctronics Industry" condotto dalla FTM Consulting mostra<br />
che il mercato della nanoe<strong>le</strong>ttronica è ancora ad uno stato embriona<strong>le</strong>,<br />
ma durante la prossima decade si prevede una crescita massiva<br />
con un incremento di più del 45% <strong>per</strong> generare un mercato su<strong>per</strong>iore<br />
a 75 miliardi di US$. In questo contesto si ritiene che il segmento<br />
degli hard disks crescerà fino a 36.3 miliardi di US$, mentre<br />
il mercato <strong>per</strong> i nanotubi utilizzati nei circuiti integrati arriverà a<br />
11.3 miliardi di US$.<br />
In particolare lo studio divide il mercato in due aree prioritarie: prodotti<br />
di prima generazione, che includono nanotubi e nanowires, e<br />
prodotti di seconda generazione, che includono e<strong>le</strong>ttronica mo<strong>le</strong>colare,<br />
quantum computing, e dispositivi auto assemblanti. I primi<br />
si prevede che emergeranno all’interno della prima decade, mentre<br />
quelli di seconda generazione probabilmente non entreranno<br />
nel mercato <strong>per</strong> almeno 10 anni.<br />
I nanocatalizzatori<br />
Il mercato globa<strong>le</strong> dei nanocatalizzatori, ovvero materiali su scala<br />
nanometrica che hanno almeno una dimensione dell’ordine del<br />
nanometro o che sono soggetti ad una modifica struttura<strong>le</strong> fino alla<br />
nanoscala durante lo sviluppo della loro attività catalitica, ha fatto<br />
registrare nel 2003 un valore di quasi 3.5 miliardi di dollari. Questi<br />
catalizzatori sono insomma una realtà importante e Business<br />
Communications, che ha pubblicato uno specifico rapporto sull’argomento,<br />
prevede che questo mercato dal 2004, nel corso del<br />
qua<strong>le</strong> è stimato debba raggiungere i 3.7 miliardi di US$, al 2009<br />
triplicherà.<br />
I nanocatalizzatori nel 2003 sono stati utilizzati <strong>per</strong> più del 38%<br />
dal settore petrolchimico, <strong>per</strong> il 19% dalla industria alimentare e<br />
<strong>per</strong> il 13.4% dal settore ambienta<strong>le</strong>. I segmenti nei quali tra il 2004<br />
e il 2009 la richiesta di nanocatalizzatori è prevista crescere più rapidamente<br />
sono: ambiente, con un rateo medio annua<strong>le</strong> (AAGR)<br />
del 22.9%, energia (35.4%), nanotecnologia (90.4%) e applicazioni<br />
miste come i rivestimenti idrofilici (35.7%).<br />
N O T I Z I E<br />
Cresce l’interesse del mondo finanziario<br />
<strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
Il 21 apri<strong>le</strong> 2004 il giorna<strong>le</strong> economico Svizzero “Finanz und Wirtschaft“<br />
ha pubblicato un lungo articolo sul<strong>le</strong> potenzialità del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
e sull’interesse generato tra gli investitori dal<strong>le</strong> aziende<br />
impegnate in questo campo citando imprese la quotazioni del<strong>le</strong><br />
quali sono cresciute negli ultimi mesi con numeri a tre cifre.<br />
Non vengono nascosti i <strong>per</strong>icoli di “bol<strong>le</strong>” speculative, analoghe a<br />
quel<strong>le</strong> avutesi a suo tempo <strong>per</strong> nanotecnologie o più recentemente<br />
<strong>per</strong> <strong>le</strong> cosiddette dot.com, ma l’importanza e <strong>le</strong> prospettive del<br />
settore sono tenute in grande considerazione.<br />
Per rimanere alla Svizzera viene ricordato che <strong>le</strong> maggiori istituzioni<br />
di istruzione su<strong>per</strong>iore del Paese sono impegnate in questo<br />
campo. In particolare il Politecnico di Zurigo (ETH) e Losanna, <strong>le</strong><br />
Università di Basi<strong>le</strong>a, Ginevra, Friburgo e Neuchatel dal<strong>le</strong> quali in<br />
diversi casi sono stati generati degli spin off, ma anche molte del<strong>le</strong><br />
maggiori imprese del Paese, o<strong>per</strong>anti in settori diversi, dalla farmaceutica<br />
all’energia, sono attive nel<strong>le</strong> nanotecnologie. Tra queste<br />
si possono citare Novartis, Roche, Ciba SC, Clariant, ABB,<br />
Unaxis, Bueh<strong>le</strong>r.<br />
Dal 19 di apri<strong>le</strong> 2004 il Credit Suisse offre ai suoi clienti un pacchetto<br />
di titoli nanotech contenente 15 imprese (molte del<strong>le</strong> quali<br />
americane) sui quali investire.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
35<br />
T
TN O T I Z I E<br />
36<br />
Progetti europei e nazionali<br />
Road Map <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
AIRI/Nanotec IT è il co-ordinatore di un progetto (Nanoroadmap)<br />
finanziato dalla UE nell'ambito del Sesto Programma Quadro relativo<br />
ad una indagine di previsione a lungo termine (road map) circa<br />
lo sviluppo/l'utilizzo futuro del<strong>le</strong> nanotecnologie in tre settori fondamentali:<br />
materiali, salute, energia. Accanto ad AIRI/Nanotec IT,<br />
al progetto partecipano partners di altri 7 importanti Paesi Europei<br />
e Israe<strong>le</strong>, e ciò contribuirà a rafforzare ed allargare il network dei<br />
contatti di Nanotec IT in questo settore strategico. Il progetto, che<br />
ha preso avvio il 1 Gennaio 2004, si concluderà dopo 30 mesi e la<br />
road map risultante fornirà indicazioni preziose circa lo sviluppo<br />
del<strong>le</strong> nanotecnologie nei prossimi 10 anni. L'obiettivo è di farne<br />
uno strumento di riferimento <strong>per</strong> la definizione del<strong>le</strong> strategie d'azione<br />
e del<strong>le</strong> attività sul<strong>le</strong> quali articolare l'impegno in ambito Europeo.<br />
Tutti gli es<strong>per</strong>ti dei paesi partecipanti saranno coinvolti <strong>per</strong><br />
la preparazione di questa road map ed in Italia saranno gli iscritti a<br />
Nanotec IT a giocare il ruolo principa<strong>le</strong>.<br />
Intesa MIUR-Veneto, stanziati 42 MEURO<br />
Il presidente della Regione del Veneto, Giancarlo Galan e il Vice<br />
Ministro dell'Istruzione, dell'Università e della Ricerca (MIUR), Guido<br />
Possa hanno firmato il 17 marzo al Palazzo Balbi di Venezia, un<br />
accordo di programmazione negoziata che porterà, nel prossimo<br />
triennio, circa 42 milioni di euro <strong>per</strong> il Distretto Veneto <strong>per</strong> <strong>le</strong> <strong>Nanotecnologie</strong>:<br />
15 milioni 861mila euro saranno messi a disposizione<br />
dalla Regione, 26 milioni dal MIUR.<br />
Progetto MOMO <strong>per</strong> portare <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
al<strong>le</strong> Picco<strong>le</strong> e Medie Imprese (PMI)<br />
Il 19 apri<strong>le</strong> a Udine, Agemont e il <strong>Centro</strong> Ricerche Plast-optica<br />
(CRP) recentemente avviato al CIT (<strong>Centro</strong> di Innovazione Tecnologica)<br />
di Amaro (UD), hanno presentato il progetto europeo da 2<br />
milioni di euro denominato MOMO, il qua<strong>le</strong> ha come obiettivo la<br />
trasformazione di scarti industriali in materiali plastici nanocompositi<br />
innovativi destinati ad applicazioni multisettoriali, con prestazioni<br />
migliori e costi inferiori fino ad oltre il 60% rispetto al<strong>le</strong> materie<br />
plastiche vergini. MOMO rientra nel<strong>le</strong> attività di Agemont volte<br />
ad accrescere la competitività del<strong>le</strong> PMI locali e rilanciare il territorio.<br />
Progetto NAIMO <strong>per</strong> i materiali intelligenti<br />
Nato dalla collaborazione tra l’Istituto <strong>per</strong> lo Studio dei Materiali<br />
Nanostrutturati (ISMN) del CNR di Bologna e la Université Libre de<br />
Bruxel<strong>le</strong>s, il progetto NAIMO (Nanosca<strong>le</strong> Integrated processing of<br />
self-organizing Multifunctional Organic materials) del Sesto Programma<br />
Quadro (PQ6), ha come quello di sviluppare materiali organici<br />
intelligenti e processi di fabbricazione semplici, economici e<br />
a basso impatto ambienta<strong>le</strong>, <strong>per</strong> la realizzazione di dispositivi e<strong>le</strong>ttronici<br />
ed opto-e<strong>le</strong>ttronici, circuiti, memorie e nuovi materiali nanostrutturati<br />
funzionali.<br />
Il progetto, della durata di quattro anni, vede la partecipazione,<br />
<strong>per</strong> l’Italia, oltre che l’ISMN–CNR, anche dell’Università di Bologna,<br />
di STMicroe<strong>le</strong>ctronics (Catania) e di Innova di Roma.<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Un nuovo approccio allo sviluppo di materiali<br />
nanostrutturati: il progetto NANAMET<br />
La metastabilità è il concetto base del progetto del VI Programma<br />
Quadro (PQ6) NAMAMET ( “Processing of NAnostructured MAterials<br />
through MEtastab<strong>le</strong> Transformation”), coordinato dal Politecnico<br />
di Torino e ad qua<strong>le</strong> partecipano 12 Enti di Ricerca di 7 paesi.<br />
L’approccio proposto, che rivoluziona quello termico tradiziona<strong>le</strong><br />
<strong>per</strong> la produzione di nanopolveri, prevede la preparazione di materiali<br />
nanostrutturati attraverso il passaggio <strong>per</strong> strutture metastabili<br />
ottenute mediante trattamenti ad alte tem<strong>per</strong>ature, seguiti da<br />
raffreddamento veloce. I materiali considerati sono ceramici polifasici,<br />
compositi metallo-ceramici, composti intermetallici e composti<br />
a memoria di forma.<br />
Collaborazione <strong>per</strong> materiali ibridi polimerici:<br />
il progetto MAPIONANO<br />
Nell’ambito dei Fondi <strong>per</strong> l’Investimento della Ricerca di Base (FIRB)<br />
messi a disposizione dal Ministero dell’Istruzione, dell’Università e<br />
della Ricerca (MIUR) nell’anno 2001, il <strong>Centro</strong> di Cultura <strong>per</strong> l’Ingegneria<br />
del<strong>le</strong> Materie Plastiche (CDCMP) del Politecnico di Torino<br />
presso la sede di A<strong>le</strong>ssandria, ha avviato da pochi mesi un progetto,<br />
in collaborazione con cinque gruppi appartenenti a Università<br />
Italiane e il Consorzio <strong>per</strong> la Formazione e la Ricerca Applicata sulla<br />
Plastica (PROPLAST), denominato MAPIONANO (“Aspetti di base e<br />
funzionali di MAteriali Polimerici ibridi Inorganici- Organici NANOstrutturati”),<br />
coordinato dal Prof. Giovanni Camino, del Politecnico<br />
di Torino e Direttore Scientifico del CDCMP.<br />
Il progetto si propone di effettuare uno studio sistematico del<strong>le</strong> interazioni<br />
tra polimero e nanofil<strong>le</strong>r ed il loro effetto sul<strong>le</strong> proprietà<br />
fisiche e chimiche realizzando es<strong>per</strong>imenti su sistemi controllati al<br />
fine di comprendere sia <strong>le</strong> <strong>le</strong>ggi che governano la dis<strong>per</strong>sione della<br />
matrice inorganica nel polimero, sia i fenomeni che si celano dietro<br />
<strong>le</strong> proprietà di questi materiali. Infatti, <strong>per</strong> una determinata coppia<br />
polimero/matrice inorganica, la difficoltà nel prevedere a priori se<br />
si riuscirà ad ottenere un nanocomposito e quali proprietà esso<br />
avrà verte in larga parte attorno alla conoscenza ed alla misura del<strong>le</strong><br />
interazioni chimiche e fisiche che si instaurano tra il polimero e la<br />
componente inorganica.<br />
Il primo seminario <strong>per</strong> illustrare l’andamento della ricerca si è tenuto<br />
il 20 febbraio 2004 presso il <strong>Centro</strong> di Cultura <strong>per</strong> l’Ingegneria<br />
del<strong>le</strong> Materie Plastiche ad A<strong>le</strong>ssandria<br />
Finanziamenti FIRB <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
In base alla <strong>le</strong>gge 388/2000 (finanziaria 2001), art. 104, è stato costituito<br />
presso il MIUR il FIRB (Fondo <strong>per</strong> gli Investimenti della Ricerca<br />
di Base), <strong>per</strong> interventi a favore di progetti di ricerca autonomamente<br />
presentati e di progetti di: potenziamento di grandi infrastrutture,<br />
sviluppo di tecnologie <strong>per</strong>vasive e multisettoriali; costituzione,<br />
potenziamento e messa in rete di centri di alta qualificazione<br />
scientifica. Sono soggetti ammissibili: università, enti pubblici di<br />
ricerca e i relativi ricercatori, nonché altri soggetti, senza scopo di<br />
lucro (pubblici o privati).<br />
La seguente tabella riporta i proponenti dei progetti finanziati apparsi<br />
sulla Gazzetta Ufficia<strong>le</strong>, dai quali (non essendo specificati nel<br />
D.M.) si è risaliti, tramite il web, alla istituzione e alla sede di appartenenza<br />
(salvo errori).
D. MIUR 13-12-2002 – O.P.1: SVILUPPO E MESSA A PUNTO DI TECNOLOGIE PER LA SINTESI E LA MANIPOLAZIONE DELLA MATERIA SU SCALA NANOMETRICA<br />
N O T I Z I E<br />
PROPONENTE ISTITUZIONE SEDE FINANZIAMENTO COMPLESSIVO IN EURO<br />
Roberto Cingolani NNL/INFM Lecce 4.000.000,00<br />
Fabio Beltram NEST/INFM Pisa 4.100.000,00<br />
Gianluca De Bellis ITB/CNR Milano 1.400.000,00<br />
Dante Gatteschi Univ. Firenze, Dip. Chimica & INSTM Firenze 3.700.000,00<br />
Rolando Barbucci Univ. Siena, Dip. Scienze e Tecnologie Chimiche e Biosistemi Siena 3.000.000,00<br />
Armando Rea<strong>le</strong> Univ. L'Aquila, Dip. Fisica & INFN UdR L'Aquila L'Aquila 1.760.000,00<br />
Claudio Nicolini Istituto Naziona<strong>le</strong> di Biostrutture e Biosistemi (INBB) Sassari 2.190.000,00<br />
Silvio Quici ISTM/CNR Milano 2.890.000,00<br />
23.040.000,00<br />
D. MIUR 13-12-2002 – O.P.2: SVILUPPO E REALIZZAZIONE DI SISTEMI MINIATURIZZATI<br />
PROPONENTE ISTITUZIONE SEDE FINANZIAMENTO COMPLESSIVO IN EURO<br />
Silvio Modesti TASC/INFM Trieste 4.764.000,00<br />
Giovanni Asti Univ. Parma, Dip. Fisica Parma 4.619.000,00<br />
Domenico Acierno Univ. Napoli, Dip. Ing. Materiali e Produzione & INSTM Napoli 3.701.000,00<br />
Orazio Svelto Poli Milano & CNR Milano 3.491.000,00<br />
Sergio Cova Poli Milano, Dip. E<strong>le</strong>ttronica e Informazione Milano 1.930.000,00<br />
Paolo De Nata<strong>le</strong> Univ.Firenze e Lab. LENS Firenze 3.000.000,00<br />
Arnaldo D'Amico Univ. Tor Vergata, Ingegneria Sistemi Sensoriali e Apprendimento Roma 1.800.000,00<br />
D. MIUR 14-1-2003<br />
23.305.000,00<br />
PROPONENTE ISTITUZIONE SEDE FINANZIAMENTO COMPLESSIVO IN EURO<br />
Vittorio Ragaini Univ. Milano, Dip. Chimica Fisica E<strong>le</strong>ttrochimica Milano 272.000,00<br />
Giulio Pozzi Univ. Bologna, Dip. Fisica Bologna 283.000,00<br />
Giorgio Bertotti IEN Gali<strong>le</strong>o Ferraris Torino 189.000,00<br />
Dario Braga Univ. Bologna, Facoltà di Scienze M. F. N. Bologna 50.000,00<br />
Antonio Siri Univ. Genova, Facoltà S.M.F.N. & INFN e INFM UdR Genova Genova 110.000,00<br />
Paolo Lazzeretti Univ. Modena, Facoltà Chimica Modena 110.000,00<br />
Rinaldo Cubeddu Poli Milano, Dip. Fisica Milano 70.000,00<br />
Paolo Scardi Univ. Trento, Facoltà Ingegneria Trento 160.000,00<br />
Lucio Randaccio Univ. Trieste, Dip. Scienze Chimiche Trieste 95.000,00<br />
Lorenzo Marrucci Univ. Napoli, Dip. Scienze Fisiche & INFM Napoli 95.000,00<br />
Erio Tosatti Scuola Internaziona<strong>le</strong> Su<strong>per</strong>iore di Studi Avanzati (SISSA) Trieste 120.000,00<br />
Vittoria Russo Maria Univ. Roma, Dip. Chimica Roma 170.000,00<br />
Lamberto Duo' Poli Milano, Ingegneria Meccanica Milano 70.000,00<br />
Giuseppe Marrucci Univ. Napoli, Dip. Ingegneria Chimica & INSTM Napoli 50.000,00<br />
Renato Gonnelli Politecnico Torino, Dip. Fisica Torino 90.000,00<br />
Massimo Inguscio Univ. Firenze, Dip. Fisica & Lab. LENS Firenze 130.000,00<br />
Ennio Arimondo Univ. Pisa, Dip. Fisica "Enrico Fermi" Pisa 130.000,00<br />
D. MIUR 21-10-2003 – O.P.1: SVILUPPO E MESSA A PUNTO DI TECNOLOGIE PER LA SINTESI E LA MANIPOLAZIONE DELLA MATERIA SU SCALA NANOMETRICA<br />
2.194.000,00<br />
PROPONENTE ISTITUZIONE SEDE FINANZIAMENTO COMPLESSIVO IN EURO<br />
Giovanni Camino Politecnico Torino, <strong>Centro</strong> di Cultura <strong>per</strong> <strong>le</strong> Materie Plastiche & INSTM Torino 2.190.000,00<br />
Roberto Guerrieri Univ. Bologna, <strong>Centro</strong> di Ricerca "Erco<strong>le</strong> De Castro" (ARCES) Bologna 2.065.000,00<br />
Fulvio Parmigiani TASC/INFM Trieste 2.190.000,00<br />
Renato Bozio Univ. Padova, Dip. Fisica Chimica & INSTM & CIVEN & Veneto Nanotech Padova 2.570.000,00<br />
9.015.000,00<br />
D. MIUR 21-10-2003 – O.P.2: SVILUPPO E REALIZZAZIONE DI SISTEMI MINIATURIZZATI<br />
PROPONENTE ISTITUZIONE SEDE FINANZIAMENTO COMPLESSIVO IN EURO<br />
Roberto Pao<strong>le</strong>sse Univ. Tor Vergata, Dip. Scienze e Tecnologie Chimiche Roma 1.450.000,00<br />
Riccardo Marino Univ. Tor Vergata, Ingegneria Sistemi Sensoriali e di Apprendimento Roma 1.810.000,00<br />
Mario Zen ITC-Irst Trento 3.796.000,00<br />
Roberta Fantoni ENEA Brindisi 2.780.000,00<br />
Alberto Maria Merlo CRF Torino 3.132.000,00<br />
Maurizio Severi IMM/CNR Bologna 2.732.000,00<br />
D. MIUR 10-12-2003<br />
15.700.000,00<br />
PROPONENTE ISTITUZIONE SEDE FINANZIAMENTO COMPLESSIVO IN EURO<br />
Massimo Olivucci Univ. Siena, Dip. Chimica Siena 80.000,00<br />
Carlo Bellitto CNR Roma 350.000,00<br />
Leo Gabriella ISMN/CNR Roma 100.000,00<br />
530.000,00<br />
TOTALE 73.784.000,00<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
37<br />
T
TN O T I Z I E<br />
38<br />
Seminari & Convegni<br />
A Bologna la Seconda Conferenza Naziona<strong>le</strong><br />
sulla nanoscienza e <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
Si è svolta a Bologna presso l’Area della Ricerca del CNR, dal 25 al<br />
27 dello scorso febbraio, la seconda Conferenza Naziona<strong>le</strong> sul<strong>le</strong><br />
nanotecnologie e la scienza della scala nanoscopica, 2nd National<br />
Conference on Nanoscience and Nanotechnology: the Mo<strong>le</strong>cular<br />
Approach.<br />
La Conferenza ha raccolto esponenti di numerosissime realtà universitarie<br />
e centri di ricerca provenienti da tutta Italia e da altri Paesi<br />
europei che hanno sviluppato l’approccio mo<strong>le</strong>colare alla nanoscienza<br />
e alla nanotecnologia, tematiche interdisciplinari e di frontiera<br />
ed a forte impatto innovativo nel contesto internaziona<strong>le</strong>.<br />
Ta<strong>le</strong> iniziativa ha fatto seguito ad un workshop tenutosi nel 2002 a<br />
Catania come conferenza satellite di un meeting MEL-ARI-IND organizzato<br />
dalla Commissione Europea dal programma IST-Future<br />
and Emerging Technologies.<br />
All’incontro di Bologna hanno partecipato 228 congressisti, 93 dei<br />
quali giovani non strutturati. Quest’ultimo dato è molto importante<br />
in quanto dimostra il notevo<strong>le</strong> interesse che queste nuove tematiche<br />
rivestono <strong>per</strong> giovani e promettenti ricercatori.<br />
Le sponsorizzazioni hanno <strong>per</strong>messo tra l’altro di premiare i 7 migliori<br />
poster, uno <strong>per</strong> ciascuna sessione tematica, presentati da giovani<br />
ricercatori.<br />
Inoltre, la sponsorizzazione da parte dell’INSTM, mediante il conferimento<br />
di borse di studio a co<strong>per</strong>tura della quota di iscrizione, ha<br />
<strong>per</strong>messo di favorire la partecipazione alla conferenza anche di<br />
dottorandi.<br />
Le comunicazioni presentate sono state 215, di cui 9 invited p<strong>le</strong>nary<br />
talks, 52 contributing talks e 153 posters.<br />
Quattro interventi p<strong>le</strong>nari sono stati presentati da ricercatori internazionali<br />
di spicco, o<strong>per</strong>anti sia in istituzioni accademiche (Prof.<br />
R.H. Friend – Cambridge UK e Prof. R.J.M. Nolte – Nijmegen the<br />
Netherlands) che in centri di ricerca industriali (Prof. H. Hofstraat –<br />
Philips Research Laboratories e Prof. M. Schadt – Rolic). La nanoe<strong>le</strong>ttronica<br />
organica e l’optoe<strong>le</strong>ttronica sia negli aspetti di base che<br />
negli sviluppi applicativi più recenti ed innovativi, quali la f<strong>le</strong>xib<strong>le</strong><br />
e<strong>le</strong>ctronic pa<strong>per</strong>, sono stati in particolare discussi e presentati dai<br />
professori R.H. Friend e H. Hofstraat. (R. Zamboni)<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Es<strong>per</strong>ti internazionali di nanotecnologia<br />
a confronto<br />
Il 19 marzo presso il VEGA Parco Scientifico Tecnologico di Marghera,<br />
Venezia, si è tenuto il workshop “Impact of nanotech clusters<br />
on local business”, organizzato con la collaborazione della<br />
Camera di Commercio, Industria, Artigianato, Agricoltura di Venezia,<br />
Veneto Nanotech e il Civen, il consorzio interuniversitario veneto<br />
<strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie. L’evento ha riunito scienziati e ricercatori<br />
provenienti da alcuni dei principali distretti <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
di Stati Uniti, Germania, Regno Unito e Francia, i quali hanno<br />
messo a disposizione <strong>le</strong> loro es<strong>per</strong>ienze di ricerca, di gestione del<strong>le</strong><br />
strutture, di rapporti e di applicazione di queste nuove tecnologie<br />
al<strong>le</strong> imprese dei Paesi di riferimento.<br />
Al tavolo dei relatori si sono alternati Massimo Albonetti, Presidente<br />
CCIAA di Venezia, Renato Bozio, Presidente Civen, Antonio<br />
Marcomini, Presidente VEGA e Luigi Rossi Luciani, Presidente<br />
Veneto Nanotech, e, nell’ordine, i de<strong>le</strong>gati stranieri: Marc Drillon<br />
dell’Institut de Physique et Chimie des Matériaux di Strasburgo,<br />
Francia, Andreas Leson, del Fraunhofer Institute for Material<br />
and Beam Technology IWS di Dresden, Germania, Kim Kai Wai<br />
Wong del Begbroke Science Park dell’Università di Oxford, Regno<br />
Unito, Teri Odom, del Nanosca<strong>le</strong> Science and Engineering Center<br />
alla Northwestern University di Chicago, USA, Dan Hayes, della<br />
Nanofabrication Facility alla Penn State University, University Park,<br />
USA.
Notizie Nanotec IT<br />
L’impatto del<strong>le</strong> nanotecnologie nei trasporti<br />
Il 21 apri<strong>le</strong> 2004 si è tenuto presso il <strong>Centro</strong> Ricerche FIAT di Orbassano<br />
(TO) il workshop "Impatto del<strong>le</strong> nanotecnologie nell'industria<br />
dei trasporti", organizzato congiuntamente da Nanotec IT e CRF.<br />
L'evento, al qua<strong>le</strong> hanno partecipato ricercatori, sia del mondo<br />
della ricerca pubblica che dell’industria, impegnati in questo campo<br />
o comunque su tematiche con potenziali ricadute nel settore in<br />
questione, ha messo in evidenza <strong>le</strong> grandi potenzialità connesse<br />
con l'applicazione del<strong>le</strong> nanotecnologie nel settore dei trasporti e<br />
consentito un ampio confronto sul<strong>le</strong> prob<strong>le</strong>matiche da affrontare.<br />
Il workshop, che è stato a<strong>per</strong>to con il benvenuto dell'Amministratore<br />
De<strong>le</strong>gato del CRF, Ing. Michellone e l'introduzione del Dr.<br />
Mantovani, Direttore di Nanotec IT, ha visto la partecipazione di oltre<br />
200 <strong>per</strong>sone. Al workshop è intervenuto anche l'Amministratore<br />
De<strong>le</strong>gato FIAT, Ing. Morchio, il qua<strong>le</strong> ha espresso apprezzamento<br />
<strong>per</strong> l’iniziativa ed ha sottolineato l'importanza che viene attribuita<br />
alla ricerca nel<strong>le</strong> strategie del Gruppo.<br />
Nell’occasione è stata presentata anche la Rete Industria<strong>le</strong> Italiana<br />
Microsistemi, realizzata di recente da CRF, Olivetti i-Jet, Pirelli, ST-<br />
Microe<strong>le</strong>ctronics, Saes Getters e Magneti Marelli, la qua<strong>le</strong> ha come<br />
obiettivo quello di intensificare i rapporti già esistenti tra i membri<br />
<strong>per</strong> costituire una struttura in grado di competere a livello mondia<strong>le</strong><br />
in un settore in grande espansione e con effetti ri<strong>le</strong>vanti su tutto<br />
il Paese.<br />
Informazioni dettagliate sul<strong>le</strong> memorie presentate saranno pubblicate<br />
sul numero di settembre della news<strong>le</strong>tter.<br />
Metrologia <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie<br />
Il 12-13 Maggio 2004 si terranno a Torino (Villa Gualino) due Giornate<br />
di Studio "Metrologia <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie", organizzate da<br />
AIRI/Nanotec IT con la collaborazione dell'Istituto G. Colonnetti del<br />
CNR. Il workshop intende affrontare <strong>le</strong> tematiche della metrologia<br />
del<strong>le</strong> su<strong>per</strong>fici (2-D e 3-D) e della metrologia a scala atomica alla luce<br />
del<strong>le</strong> esigenze di misura che emergono nel<strong>le</strong> nano (micro) tecnologie.<br />
Lo scopo è quello di approfondire lo stato dell’arte e del<strong>le</strong> possibili<br />
innovazioni <strong>per</strong> <strong>le</strong> tecniche e i metodi di misura, la strumentazione<br />
e i campioni, paral<strong>le</strong>lamente al<strong>le</strong> specifiche esigenze di misura che<br />
emergono in ambito industria<strong>le</strong> in questo settore nell’intento di<br />
promuovere sinergie, collaborazioni e reti tematiche che riguardino<br />
ricerca, innovazione e produzione.<br />
Informazioni dettagliate sull’andamento del workshop e sul<strong>le</strong> memorie<br />
presentate saranno pubblicate sul numero di settembre della<br />
news<strong>le</strong>tter.<br />
PRIMO CENSIMENTO ITALIANO DELLE NANOTECNOLOGIE<br />
N O T I Z I E<br />
Convegno Internaziona<strong>le</strong> “NanoRoadMap”<br />
Il 4-5 Novembre 2004 si terrà a Roma un convegno internaziona<strong>le</strong><br />
<strong>le</strong>gato al progetto (NANOROADMAP) finanziato dalla UE nell’ambito<br />
del VI Programma Quadro (PQ6) <strong>per</strong> la realizzazione di una<br />
road map sul<strong>le</strong> nanotecnologie del qua<strong>le</strong> AIRI/Nanotec IT è il coordinatore.<br />
L’obiettivo principa<strong>le</strong> del progetto é quello di preparare<br />
una road map sul<strong>le</strong> applicazioni del<strong>le</strong> nanotecnologie in tre specifici<br />
settori industriali (materiali, salute a applicazioni biomediche,<br />
energia) che coprirà i prossimi dieci anni, <strong>per</strong> dare a industria<br />
(grandi imprese e PMI), comunità scientifica, managers di R&S, pianificatori<br />
e politici Europei uno strumento uti<strong>le</strong> <strong>per</strong> cercare di fare<br />
del<strong>le</strong> nanotecnologie un fattore di crescita e di competitività <strong>per</strong> il<br />
sistema industria<strong>le</strong> Europeo. Il progetto ha preso avvio il 1 gennaio<br />
2004 ed il convegno in questione illustrerà i risultati dei primi dieci<br />
mesi di attività mettendo in evidenza, anche con il contributo di riconosciuti<br />
es<strong>per</strong>ti internazionali, lo stato attua<strong>le</strong> della situazione e<br />
<strong>le</strong> tendenze, sia <strong>per</strong> ciò che riguarda l’impegno a livello dei più importanti<br />
Paesi nel mondo, sia <strong>per</strong> ciò che riguarda la ricerca e <strong>le</strong> applicazioni.<br />
Informazioni sul convegno e sul<strong>le</strong> modalità di partecipazione<br />
saranno disponibili sul sito www.nanotec.it.<br />
Convegno sul<strong>le</strong> applicazioni del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
in campo biomedica<strong>le</strong><br />
Nanotec IT, in collaborazione con l’Institute of Nanotechnology<br />
(IoN) Britannico, ha organizzato un convegno internaziona<strong>le</strong> dal titolo:<br />
“Nanotechnology and Smart Materials for Medical Devices:<br />
From Medical Diagnostic to Therapy” che si terrà a Roma i giorni<br />
29-30 novembre 2004.<br />
L’obiettivo della Conferenza, “application oriented”, è quello di<br />
mettere in evidenza come <strong>le</strong> nanotecnologie si collochino alla frontiera<br />
della ricerca in campo biomedico e terapeutico e possano diventare<br />
un nuovo paradigma <strong>per</strong> la cura della salute e la diagnostica<br />
medica. Gli interventi privi<strong>le</strong>geranno gli aspetti che sono più vicino<br />
alla applicazione pratica ed affrontare lo spettro del<strong>le</strong> prob<strong>le</strong>matiche<br />
più ri<strong>le</strong>vanti, e quindi lo sviluppo di dispositivi/strumentazioni<br />
“intelligenti” che emulino i sistemi naturali, nuovi sistemi diagnostici<br />
in vitro e in vivo miniaturizzati, nuove tecniche e materiali<br />
<strong>per</strong> “imaging”, dispositivi e prodotti <strong>per</strong> la somministrazione di<br />
farmaci e <strong>per</strong> impianti, ma anche gli effetti del<strong>le</strong> nanotecnologie<br />
sulla pratica medica ed il sistema sanitario.<br />
Es<strong>per</strong>ti provenienti dall’estero e nazionali presenteranno <strong>le</strong> loro attività<br />
ed il loro punto di vista sull’evoluzione futura in questo settore<br />
fondamenta<strong>le</strong>. Informazioni sul convegno e sul<strong>le</strong> modalità di<br />
partecipazione saranno disponibili sul sito www.nanotec.it.<br />
Da fine maggio 2004 sarà disponibi<strong>le</strong> il primo censimento italiano del<strong>le</strong> nanotecnologie, con informazioni dettagliate su oltre 120<br />
organizzazioni, pubbliche e private, è sarà distribuito gratuitamente agli iscritti Nanotec IT e in vendita <strong>per</strong> gli altri interessati (vedi<br />
www.nanotec.it)<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
39<br />
T
TN O T I Z I E<br />
40<br />
Siti Web & Eventi<br />
Organizzazioni internazionali<br />
• CASNANO (NanoScience and Tech Center of Chinese<br />
Academy of Sciences) China<br />
www.casnano.net.cn<br />
• C(n)SI (California NanoSystems Institute) U.S.A.<br />
www.cnsi.ucla.edu/mainpage.html<br />
• CRN (Centre for Responsib<strong>le</strong> Nanotechnology) U.S.A.<br />
http://crnano.org<br />
• ENA (European Nanobusiness Association) Belgium<br />
www.nanoeurope.org<br />
• EUSPEN (EUropean Society for Precision Engineering and<br />
Nanotechnology) U.K.<br />
www.euspen.org<br />
• INEX Nanotechnology Exploitation U.K.<br />
www.inex.org.uk<br />
• Israeli Nano Business Alliance Israel<br />
www.nanobusiness.org.il<br />
• Michigan Small Tech U.S.A.<br />
www.michigansmalltech.com<br />
• Minanet- micro nano technology in Europe<br />
www.minanet.com<br />
• MIT - Massachusetts Institute of Technology U.S.A.<br />
web.mit.edu/aboutmit/index.html<br />
• NanoBusiness Alliance U.S.A.<br />
www.nanobusiness.org<br />
• Nanonet Styria Austria<br />
www.nanonet.at<br />
• NanoSpain Spain<br />
www.nanospain.net<br />
• Nanotechnology in Australia Australia<br />
www.nanotechnology.gov.au<br />
• Nanotechnology Research Institute Japan<br />
unit.aist.go.jp/nanotech<br />
• Nano Nordic Sweden<br />
www.nanonordic.com<br />
• National Nanotechnology Initiative (NNI) U.S.A.<br />
www.nano.gov<br />
NEWSLETTER NANOTEC IT NUMERO 1<br />
Eventi<br />
• Maggio 12-13, 2004<br />
Metrologia <strong>per</strong> <strong>le</strong> nanotecnologie, Torino, Italia<br />
• Maggio 17-19, 2004<br />
NanoBusiness 2004, New York City, NY, USA<br />
• Maggio 24-26, 2004<br />
Lightweight Materials for Auto & Air 2004<br />
Washington DC, USA<br />
• Maggio 26-28, 2004<br />
NanoTrends 2004, Munich, Germania<br />
• Giugno 6-16, 2004<br />
XIV Convegno Naziona<strong>le</strong> di Catalisi (GIC 2004), Lerici SP, Italia<br />
• Giugno 14-16, 2004<br />
Actuator 2004, Bremen, Germany<br />
• Giugno 28-29, 2004<br />
Euronano Tex 2004, Barcelona, Spain<br />
• Luglio 28 – Agosto 02, 2004<br />
IUVSTA - 8th International Conference on Nanometer-Sca<strong>le</strong><br />
Science and Technology (NANO-8), Venezia, Italia<br />
• Agosto 29 – Sep 02, 2004<br />
COMS2004 - The 9th International Conference on the<br />
Commercialization of Micro- and Nano-Systems Edmonton,<br />
Alberta, Canada<br />
• Settembre 14-16, 2004<br />
Nanofair 2004 / Nano Conference 2004, St. Gal<strong>le</strong>n,<br />
Switzerland<br />
• Settembre 29 – Oct 01, 2004<br />
EMT 2004 - E<strong>le</strong>ctrochemical Micro&Nano System<br />
Technologies, Tokyo, Japan<br />
• Novembre 03-04, 2004<br />
Nanotechnology in Crime Prevention & Detection II, London,<br />
UK<br />
• Novembre 04-05, 2004<br />
1° International Conference Nanoroadmap, Roma, Italia<br />
• Novembre 29-30, 2004<br />
International Conference: “Nanotechnology and Smart<br />
Materials for Medical Devices: From Medical Diagnostic<br />
to Therapy”, Roma, Italia<br />
• Dicembre 01-02, 2004<br />
Nanotechnology and Smart Texti<strong>le</strong>s for Industry and Fashion<br />
London, UK<br />
In grassetto eventi Nanotec IT
1. NANOTEC IT NEWSLETTER<br />
Sulla News<strong>le</strong>tter sono riportate <strong>le</strong> notizie più importanti (disponibili anche su www.nanotec.it),<br />
quali risultati di ricerche ed applicazioni, eventi, corsi, iniziative di Nanotec IT e degli iscritti,<br />
articoli su tendenze e su risultati di ricerche, su politiche della ricerca, su prob<strong>le</strong>matiche connesse<br />
alla diffusione del<strong>le</strong> nanotecnologie.<br />
Tiratura: n.1.000 copie. Pubblicazione: apri<strong>le</strong>, settembre, dicembre. Destinatari: (attivi o interessati<br />
al<strong>le</strong> nanotecnologie): industria, istituti universitari, istituti di enti pubblici di ricerca, associazioni<br />
industriali, pubbliche amministrazioni.<br />
Gli ordini devono <strong>per</strong>venire a Nanotec IT • AIRI entro il 6 agosto 2004 <strong>per</strong> il secondo numero<br />
e il 26 novembre 2004 <strong>per</strong> il terzo numero.<br />
Seconda di co<strong>per</strong>tina<br />
1 pagina 20x29 cm 800,00 euro<br />
1/2 pagina 20x14,5 cm 500,00 euro<br />
1/3 di pagina 20x7 cm 350,00 euro<br />
1/6 di pagina 10x7 cm 200,00 euro<br />
Quarta di co<strong>per</strong>tina<br />
1 pagina 20x29 cm 1.000,00 euro<br />
1/2 pagina 20x14,5 cm 600,00 euro<br />
1/3 di pagina 20x7 cm 400,00 euro<br />
1/6 di pagina 10x7 cm 250,00 euro<br />
Per pubblicità su entrambi i 2 numeri del 2004 sconto 20%.<br />
2. PRIMO CENSIMENTO ITALIANO DELLE NANOTECNOLOGIE<br />
120 schede di organizzazioni private e pubbliche attive nella ricerca sul<strong>le</strong> nanotecnologie,<br />
contenenti descrizione dell’organizzazione, indirizzo, <strong>per</strong>sona di contatto, addetti alla ricerca<br />
(in particolare sul<strong>le</strong> nanotecnologie), aree di ricerca, pubblicazioni, brevetti, partecipazione<br />
a programmi di R&S, apparecchiature e impianti, attività di formazione.<br />
Volume formato cm 17x24, con co<strong>per</strong>tina.<br />
Prima di co<strong>per</strong>tina<br />
Logo azienda<strong>le</strong> 4x4 cm 3.000,00 euro<br />
Pagine pubblicitarie (pagine iniziali prima edizione)<br />
1 pagina 17x24 cm 1.500,00 euro<br />
1/2 pagina 17x12 cm 900,00 euro<br />
1/3 di pagina 17x8 cm 600,00 euro<br />
1/6 di pagina 8,5x8 cm 300,00 euro<br />
Gli ordini devono <strong>per</strong>venire a Nanotec IT/AIRI entro il 21 maggio 2004.<br />
3. SITO WEB (www.nanotec.it)<br />
Banner<br />
Dimensioni 150x50 pixel (o equiva<strong>le</strong>nti), risoluzione 200 dpi.<br />
12 mesi 1500,00 euro<br />
3 mesi 500,00 euro<br />
CAMPAGNA ABBONAMENTI<br />
LISTINO PREZZI [AL NETTO DI IVA 20%]<br />
PER IMPORTI SUPERIORI A 2.000 È PREVISTO UNO SCONTO DEL 20%.<br />
Inserti pubblicitari, sponsorizzazioni e partecipazione a mostre/esposizioni saranno possibili<br />
a condizioni ancora da definire. In novembre 2004 saranno infatti organizzate<br />
due grandi conferenze internazionali sul<strong>le</strong> nanotecnologie, i cui programmi sono in preparazione<br />
e saranno pubblicati sul sito appena disponibili.<br />
• First International Conference Nanoroadmap- Roma, 4-5.11.04<br />
• International Conference: “Nanotechnology and Smart Materials for Medical Devices:<br />
From Medical Diagnostic to Therapy”-Roma, 29-30.11.2004.
NANOTEC IT è una struttura autonoma dell’AIRI il cui obiettivo primario è quello di diventare il punto di riferimento naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> <strong>le</strong><br />
nanotecnologie, nel qua<strong>le</strong> trovino una sintesi missioni e obiettivi del mondo industria<strong>le</strong> e quelli del mondo della ricerca, si da rendere più<br />
efficace ed efficiente l’impegno del Paese nel settore.<br />
NANOTEC IT si propone di diffondere l’informazione relativa a questo settore, di stimolare la collaborazione tra strutture di ricerca pubbliche<br />
e imprese, grandi e PMI, di favorire la valorizzazione dei risultati della ricerca e il trasferimento tecnologico, di fornire e<strong>le</strong>menti utili <strong>per</strong> una<br />
ottima<strong>le</strong> allocazione del<strong>le</strong> risorse nazionali.<br />
Il fine ultimo di NANOTEC IT è quello di contribuire a trasformare i risultati della ricerca in uno strumento di vantaggio competitivo <strong>per</strong> <strong>le</strong><br />
imprese del Paese favorendo:<br />
• l’applicazione di queste tecnologie emergenti;<br />
• lo sviluppo di nuovi prodotti;<br />
• la creazione di nuovi business.<br />
All'iniziativa avviata dall'AIRI hanno già aderito gran parte dei principali attori, sia pubblici che privati, impegnati in Italia nel<strong>le</strong> nanotecnologie.<br />
Iscritti a NANOTEC IT<br />
• A.P.E. Research<br />
• CNR (Consiglio Naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Ricerche) - I.E.I.I.T. (Istituto di e<strong>le</strong>ttronica e di ingegneria dell'informazione e del<strong>le</strong> te<strong>le</strong>comunicazioni)<br />
• CNR (Consiglio Naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Ricerche) - IFN (Istituto di fotonica e nanotecnologie)<br />
• CNR (Consiglio Naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Ricerche) - INFM (Istituto Naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> la Fisica della Materia)<br />
• CNR (Consiglio Naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Ricerche) - ISTM (Istituto di scienze e tecnologie mo<strong>le</strong>colari)<br />
• CNR (Consiglio Naziona<strong>le</strong> del<strong>le</strong> Ricerche) - ISMN (Istituto <strong>per</strong> lo studio dei materiali nanostrutturati)<br />
• CRF - <strong>Centro</strong> Ricerche FIAT<br />
• CSM - <strong>Centro</strong> Sviluppo Materiali<br />
• INSTM (Consorzio Interuniversitario Naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> la Scienza e Tecnologia dei Materiali)<br />
• ENEA<br />
• ENITECNOLOGIE<br />
• INFN (Istituto Naziona<strong>le</strong> <strong>per</strong> la Fisica Nuc<strong>le</strong>are)<br />
• ITC-irst<br />
• PIRELLI LABS<br />
• SAES GETTERS<br />
• SCUOLA SUPERIORE SANT'ANNA - CRIM (<strong>Centro</strong> di Ricerche in Microingegneria)<br />
• SERVITEC<br />
• STMICROELECTRONICS<br />
• VENETO NANOTECH<br />
Attività del <strong>Centro</strong><br />
- osservatorio <strong>per</strong>manente <strong>per</strong> la raccolta e se<strong>le</strong>zione, sia a livello naziona<strong>le</strong> che internaziona<strong>le</strong>, di informazioni, risultati e tendenze di ricerca,<br />
applicazioni, dati e previsioni di mercato, attori sia a livello di ricerca che industria<strong>le</strong>, presenza e dislocazione di infrastrutture e apparecchiature<br />
<strong>per</strong> la ricerca, programmi nazionali e della UE a sostegno della ricerca e innovazione, ecc.;<br />
- censimento naziona<strong>le</strong> sul<strong>le</strong> nanotecnologie;<br />
- diffusione capillare del<strong>le</strong> informazioni raccolte;<br />
- attivazione di iniziative volte a far emergere e mettere in evidenza <strong>le</strong> necessità del mondo industria<strong>le</strong> in materia di ricerca di base, di<br />
formazione e di addestramento, di infrastrutture e centri di competenza, di politiche nazionali di indirizzo e intervento;<br />
- attivazione e facilitazione di contatti e collaborazioni <strong>per</strong> R&S tra imprese e tra imprese e istituzioni di ricerca;<br />
- promozione e sostegno di iniziative ed eventi volti a favorire il trasferimento tecnologico e <strong>le</strong> applicazioni;<br />
- programmazione e organizzazione di iniziative di formazione (corsi accademici, corsi brevi, scuo<strong>le</strong> stive, stages, borse di studio, cc.).<br />
A NANOTEC IT possono iscriversi sia organizzazioni attivi nella ricerca, sul<strong>le</strong> nanotecnologie (grandi imprese, PMI, centri di ricerca privati,<br />
enti pubblici di ricerca, università, dipartimenti universitari), sia soggetti non impegnati direttamente in attività di ricerca, ma interessati a<br />
seguirne evoluzione ed applicazioni (imprese, associazioni, enti finanziari, banche ecc.), sia infine fornitori di apparecchiature e<br />
strumentazioni di ricerca sul<strong>le</strong> nanotecnologie. Gli iscritti che sono Soci Airi partecipano direttamente, attraverso il Comitato Direttivo,<br />
all’indirizzo della attività del <strong>Centro</strong> mentre quelli che non sono Soci Airi avranno solo un ruolo consultivo, pur potendo contribuire a<br />
tutte <strong>le</strong> iniziative e ovviamente fruire di tutti i servizi del <strong>Centro</strong>.<br />
Per maggiori informazioni:<br />
NANOTEC IT - c/o Airi - Via<strong>le</strong> Gorizia 25/c - 00198 Roma - tel. 068848831 - 068546662 - fax 068552949<br />
info@nanotec.it – www.nanotec.it