08.08.2013 Views

Лекция 15 - Научно-образовательный центр по ...

Лекция 15 - Научно-образовательный центр по ...

Лекция 15 - Научно-образовательный центр по ...

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Оптика наносистем<br />

Тимошенко Виктор Юрьевич<br />

Московский Государственный Университет<br />

им. М. В. Ломоносова, Физический факультет<br />

<strong>Научно</strong>-Образовательный Центр <strong>по</strong> нанотехнологиям


Содержание курса<br />

<strong>Лекция</strong> 1. Основные <strong>по</strong>нятия оптики конденсированных фаз вещества.<br />

<strong>Лекция</strong> 2. Взаимодействие света с металлами и диэлектриками.<br />

<strong>Лекция</strong> 3. Поглощение света в <strong>по</strong>лупроводниках.<br />

<strong>Лекция</strong> 4. Экситонное и примесное <strong>по</strong>глощение света.<br />

<strong>Лекция</strong> 5. Эмиссия излучения из твердых тел.<br />

<strong>Лекция</strong> 6. Оптические явления в неоднородных твердотельных системах.<br />

<strong>Лекция</strong> 7. Оптические свойства твердотельных наноком<strong>по</strong>зитов.<br />

<strong>Лекция</strong> 8. Фотонные кристаллы и микрорезонаторы.<br />

<strong>Лекция</strong> 9. Рассеяние света в твердых телах.<br />

Лекции 10,11. Влияние размеров тел на их оптические свойства.<br />

Лекции 12-14. Экситоны в <strong>по</strong>лупроводниковых наноструктурах.<br />

<strong>Лекция</strong> <strong>15</strong>. Оптические свойства и применения <strong>по</strong>лупроводниковых<br />

наноструктур.<br />

<strong>Лекция</strong> 16. Элементы спиновой оптики и спинтроники.<br />

<strong>Лекция</strong> 17. Нелинейные оптические явления в твердотельных системах.<br />

<strong>Лекция</strong> 18. Элементы нелинейной оптики наноструктур и наноком<strong>по</strong>зитов.


Лекции <strong>15</strong>:<br />

Оптические свойства и применения<br />

<strong>по</strong>лупроводниковых наноструктур<br />

Методы формирования и примеры<br />

низкоразмерных систем и наноструктур.<br />

Квантовые ямы и сверхрешетки. Квантовые<br />

нити. Квантовые точки. Механизм роста<br />

Странского-Крастанова. Пористый кремний.<br />

Сечение <strong>по</strong>глощения света нанокристаллами.<br />

Оптические свойства наноком<strong>по</strong>зитов с учетом<br />

экситонных эффектов. Применения квантовых<br />

ям и сверхрешеток в оптоэлектронке.<br />

Ис<strong>по</strong>льзование оптических и люминесцентных<br />

свойств квантовых точек. Лазеры на квантовых<br />

точках.


Квантовые ямы в <strong>по</strong>лупроводниковых<br />

гетероструктурах<br />

Гетероструктура – структура из двух различных<br />

<strong>по</strong>лупроводников (с разной шириной запрещенной<br />

зоны Eg). Запрещенная зона – энергетический<br />

зазор между за<strong>по</strong>лненными и неза<strong>по</strong>лненными<br />

разрешенными энергетическими зонами в твердом<br />

теле.<br />

Квантовая яма образуется в слое <strong>по</strong>лупроводника<br />

с узкой запрещенной зоной, заключенном между<br />

двумя <strong>по</strong>лупроводниками, обладающими более<br />

широкой запрещенной зоной:<br />

Eg1> Eg2. Обычно d =2-10 нм.<br />

Меняя d, можно изменять электронные и<br />

оптические свойства гетероструктур.<br />

Энергия электрона<br />

EС<br />

EV<br />

Схематичное изображение<br />

двойной гетероструктуры:<br />

AlGaAs GaAs AlGaAs<br />

AlGaAs AlGaAs<br />

GaAs<br />

Eg1<br />

d – ширина<br />

ямы<br />

Eg2<br />

Энергетическая диаграмма<br />

Ис<strong>по</strong>льзование двойной <strong>по</strong>лупроводниковой гетероструктуры с узким (единицы нм)<br />

слоем <strong>по</strong>лупроводника <strong>по</strong>зволяет создавать квантовые ямы и ветоизлучающие<br />

оптоэлектронные устройства (светодиоды и лазеры).


Полупроводниковые лазеры<br />

В <strong>по</strong>лупроводниковом лазере (лазерном<br />

диоде) ис<strong>по</strong>льзуется явление вынужденных<br />

оптических переходов, что дает усиление сигнала<br />

электролюминесценции при отражении от стенок<br />

резонатора, образованного специально<br />

<strong>по</strong>дготовленными боковыми гранями.<br />

С целью уменьшения <strong>по</strong>роговой плотности тока Jth были<br />

реализованы лазеры на гетероструктурах (с одним<br />

гетеропереходом: n-GaAs-p-GaAs-AlxGa1-xAs; и c двумя<br />

гетеропереходами: AlxGa1-xAs-GaAs-AlxGa1-xAs.<br />

Полупроводниковые лазеры на<br />

гетероструктурах<br />

Полосковые лазеры<br />

Вертикальные<br />

лазеры:


КВАНТОВЫЕ КАСКАДНЫЕ ЛАЗЕРЫ<br />

Новый тип лазеров, где генерация обусловлена переходами электронов между<br />

уровнями размерного квантования.<br />

•Длина волны излучения от 3.4 до 17 мкм<br />

•Пиковая мощность (1 Вт) при комнатной температуре в импульсном режиме и высокая<br />

мощность (0,2 Вт) при 77 К в непрерывном режиме<br />

•Одномодовый спектр<br />

•Широкая перестройка частоты для высокоразрешающей спектроскопии (в частности, для<br />

спектроскопии газов)<br />

•Высокая частота модуляции (> 10 ГГц)<br />

•Компактность ( 1 мм )<br />

F. Capasso et al., 1994<br />

Р. Казаринов, Р. Сурис, 1971<br />

•Анализ окружающей среды<br />

•Контроль промышленных процессов<br />

•Транс<strong>по</strong>рт - контроль сгорания топлива,<br />

противостолкновительные локаторы<br />

•Медицина - анализ дыхания, ранняя<br />

диагностика<br />

•Беспроводная оптическая связь<br />

•Военные применения


Фотоприемники на <strong>по</strong>лупроводниковых<br />

наноструктурах с квантовыми ямами и точками<br />

Спектральная чувствительность задается составом и<br />

толщиной квантовых ям или размером квантовых точек<br />

• Возможность перекрыть весь средний и дальний (вплоть до ТГц) ИК диапазон<br />

• Высокая чувствительность<br />

• Возможность изготовления многоэлементных и многозональных приемников


Самоорганизованные квантовые точки<br />

Изображение в атомно-силовом микроскопе<br />

саморганизованных квантовых точек InP на<br />

<strong>по</strong>верхности GaAs. Механизм роста Странского-<br />

Крастанова.<br />

Схема инжекционного лазера на<br />

квантовых точках.<br />

Гетероструктуры с самоорганизованными квантовыми точками являются следующим за<br />

планарными гетероструктурами эта<strong>по</strong>м наноинженерии электронных и оптических свойств<br />

<strong>по</strong>лупроводников.


3<br />

2<br />

1<br />

Eg (eV)<br />

0D<br />

1D<br />

2D<br />

Квантовый размерный эффект в<br />

кремниевых нанокристаллах<br />

Расчет методом эффективной массы<br />

Eg bulk<br />

Si<br />

2 4 6 8<br />

d (nm)<br />

Нанокристаллы Si в SiO 2<br />

M. Fujii et al., J. Appl. Phys. (1998).<br />

Квантово-размерный эффект для запрещенной зоны усиливается при<br />

переходе от 2D к 0D (<strong>по</strong>нижении размерности наноструктуры)


Спектры фотолюминесценции нанокристаллов Si в<br />

матрице диоксида кремния<br />

Интенсивность ФЛ (отн. ед.)<br />

1.2 1.1 1 0.9 0.8 0.7 0.6<br />

c-Si<br />

Длина волны (мкм)<br />

d = 6 ... 2 nm<br />

1.0 1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2<br />

Энергия фотонов (эВ)<br />

M. Fujii et al., PRB 62 (2000)<br />

h E<br />

E<br />

Eg0<br />

С уменьшением размеров нанокристаллов Si спектр их<br />

люминесценции сдвигается в высокоэнергетичную (коротковолновую)<br />

область вследствие квантового размерного эффекта. Кулоновское<br />

взаимодействие электронов и дырок в нанокристалле приводит к<br />

возникновению экситона ( Eexc<br />

), что несколько ослабляет квантоворазмерный<br />

сдвиг <strong>по</strong>лосы люминесценции.<br />

PL<br />

экситон<br />

exc


Применения в кремниевой oптоэлектронике<br />

1. Основным материалом для создания интегральных<br />

схем был, есть и будет в течение очень<br />

длительного времени кремний (Si).<br />

2. Однако, применение этого материала в<br />

оптоэлектронике ограничено устройствами,<br />

детектирующими излучение. Особенности<br />

энергетического спектра электронов в кремнии не<br />

<strong>по</strong>зволяют создавать эффективный излучатель<br />

света (светодиод или лазер).<br />

3. Зачем создавать светоизлучающие структуры на<br />

основе кремния, когда давно изготавливаются и<br />

отлично работают светодиоды на основе<br />

материалов A 3 B 5 (GaAs, GaP и т.д.)?


Интеграция с наноэлектроникой<br />

4. Известно, что между интегральными схемами в<br />

устройствах и между отдельными элементами<br />

интегральных схем связь чисто электрическая. Так в<br />

процессоре, содержащем до 10 8 транзисторов, длина<br />

проводников составляет 20 км. Это не самые<br />

надежные участки схемы, и было бы неплохо хотя бы<br />

часть из них заменить оптическими линиями.<br />

5. Как все-таки заставить кремний излучать свет при<br />

электрическом или оптическом возбуждении. Есть<br />

два пути:<br />

6. а) создать ансамбль наночастиц кремния и<br />

вследствие принципа неопределенности Гейзенберга<br />

Pхħ закон сохранения импульса становится не<br />

столь строгим и вероятность переходов растет (d -5 ).<br />

7. б) ввести примеси активаторы<br />

люминесценции, например, редкоземельных<br />

элементов. Весьма перспективным является Er 3+,<br />

дающий узкую линию в области 1.5 мкм.


Кремниевые наноструктуры как основа<br />

светоизлучающей и усиливающей оптоэлектроники<br />

Минимум <strong>по</strong>терь<br />

птических волоконных<br />

линий связи 1.5 μm<br />

eV μm<br />

1.88<br />

1.55<br />

1.26<br />

0.81<br />

0<br />

Er 3+ ion<br />

0.66<br />

0.80<br />

0.98<br />

1.53<br />

hν<br />

0<br />

Кремний (Si) – базовый<br />

материал<br />

оптоэлектроники<br />

Светодиоды, оптические<br />

усилители и лазеры,<br />

совместимые с планарной<br />

кремниевой технологией


3nm<br />

Структуры нанокристаллов Si в матрице SiO 2<br />

M. Zacharias et al., APL 80, 661 (2002).<br />

Метод приготовления:<br />

1. Термическое распыление SiO в<br />

вакууме 10 -7 мбар или в кислороде<br />

при давлении 10 -4 мбар, что<br />

<strong>по</strong>зволяло менять кон<strong>центр</strong>ацию<br />

атомов кремния и кислорода в слоях<br />

SiOx.<br />

2. Были <strong>по</strong>лучены SiO/SiO2<br />

сверхрешетки с толщинами слоев от<br />

1 до 4 nm и числом периодов до 100.<br />

3. Структуры были отожжены при 1100<br />

o C в атмосфере N2 , что привело к<br />

формированию структур<br />

нанокристаллов nc-Si/ SiO2.<br />

4. Часть структур nc-Si/SiO2<br />

имлантировалась ионами эрбия Er с<br />

дозами от 10 14 до 5·10 16 cм -2 с<br />

<strong>по</strong>следующим отжигом дефектов.<br />

Er


Интенсивность ФЛ (отн.ед.)<br />

1.0<br />

0.8<br />

0.6<br />

0.4<br />

0.2<br />

Легированные эрбием структуры<br />

кремниевых нанокристаллов<br />

d=3.5 нм<br />

nc-Si<br />

nc-Si:Er<br />

0.0<br />

0.6 0.7 0.8 0.9 1.0 1.1 1.2 1.3 1.4 1.5 1.6 1.7<br />

Длина волны (мкм)<br />

V.Yu.Timoshenko et al., Appl.Phys.Lett. (2004)<br />

Передача энергии от нанокристаллов Si к ионам Er<br />

может быть ис<strong>по</strong>льзована для создания<br />

светодиодов, лазеров и оптических усилителей на<br />

длине волны 1.5 мкм<br />

nc-Si<br />

N 1<br />

N 0<br />

SiO 2<br />

Er 3+<br />

E, eV<br />

1.88<br />

1.55<br />

1.26<br />

0.81<br />

0


Наноструктурирование <strong>по</strong>лупроводников методом<br />

электрохимического травления<br />

Впервые <strong>по</strong>лучили <strong>по</strong>ристый кремний А. Улир и его жена в 1955.<br />

A. Uhlir, Electrolytic shaping of germanium and silicon, Bell Syst. Tech., 1956, v.35, no.2, pp.333-347.<br />

c-Si<br />

metal plate<br />

HF<br />

solution<br />

[100<br />

]<br />

quantum wires<br />

•Огромная удельная <strong>по</strong>верхность (до 1000 м 2 /г)<br />

•Возможность формирования наноструктур с размерами 1-100 нм<br />

•Интенсивная фотолюминесценция (квантово-размерный эффект)<br />

•Простота изготовления<br />

cross-sectio<br />

wires is 1-5 n<br />

thickness of p<br />

layer is 1-100


Мезо- и микро<strong>по</strong>ристый кремний как примеры<br />

наноструктурированных <strong>по</strong>лупроводников<br />

Вид ПК Размер <strong>по</strong>р<br />

Микро<strong>по</strong>ристый 2 нм<br />

Мезо<strong>по</strong>ристый 2-50 нм<br />

Макро<strong>по</strong>ристый >50 нм<br />

Mesoporous Silicon<br />

100 nm<br />

Mesoporous Si is characterized more ordered<br />

structure of pores and nanocrystals<br />

Microporous Si exhibits stronger<br />

confinement for charge carriers and<br />

photoluminescence<br />

Because of smaller Si nanocrystals<br />

Microporous Silicon<br />

10 nm


Нанокристаллы Si в <strong>по</strong>ристом кремнии<br />

A.G.Cullis, L.T.Canham, Nature (1991)<br />

Porosity (40-90%)<br />

•Простой метод<br />

электрохимического травления<br />

• Зависящая от размеров<br />

(<strong>по</strong>ристости) <strong>по</strong>лоса<br />

люминесценции<br />

•Триплетные и синглетные<br />

состояния экситонов<br />

Exciton Lifetime (µs)<br />

10 3<br />

10 2<br />

10 1<br />

D. Kovalev et al., Phys. Stat. Sol. (1999)<br />

1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2 2.4<br />

Energy (eV)<br />

S<br />

S<br />

T


Экситон в кремниевых квантовых нитях:<br />

влияние размеров, <strong>по</strong>верхности и диэлектрической проницаемости<br />

e e<br />

n<br />

r<br />

e i<br />

d<br />

+<br />

M<br />

h PL<br />

r<br />

I.<br />

Излучательная<br />

рекомбинация<br />

экситонов<br />

II.<br />

Захват на <strong>по</strong>верхностные<br />

состояния и безызлучательная<br />

рекомбинация<br />

0 Ea <br />

<br />

nr nr exp <br />

kT <br />

Молекулы на <strong>по</strong>верхности нанокристаллов<br />

(М) влияют на их зарядовое состояние.<br />

Параметры экситонов N ex , E ex , h PL и r зависят<br />

от d, N M , e i , e e<br />

Расчетные значения энергии связи<br />

экситонов E ex в кремниевых квантовых<br />

нитях, окруженных диэлектрической<br />

средой с e e<br />

E exc (мэВ)<br />

100<br />

10<br />

1<br />

d = 2 нм<br />

d = 4 нм<br />

2<br />

4<br />

e e<br />

6<br />

8<br />

10<br />

e i =12<br />

III. Влияние диэлектрической проницаемости<br />

среды на энергию связи и кон<strong>центр</strong>ацию<br />

экситонов<br />

20


I PL (arb.un)<br />

1.0<br />

0.8<br />

0.6<br />

0.4<br />

0.2<br />

0.0<br />

Влияние распределения <strong>по</strong> размерам кремниевых<br />

нанокристаллов на ФЛ <strong>по</strong>ристого кремния (расчет)<br />

r<br />

1 d d<br />

(<br />

d)<br />

exp <br />

2 2<br />

2<br />

2<br />

d 0 (nm) :<br />

d 0<br />

2.0<br />

2.5<br />

3.0<br />

=0.2 nm<br />

600 700 800 900 1000<br />

(nm)<br />

A<br />

h PL(<br />

d)<br />

Eg0<br />

E ( ,<br />

2 exc d e<br />

d<br />

5<br />

( d)<br />

d<br />

0<br />

<br />

<br />

<br />

eff<br />

d 0<br />

)<br />

I PL (arb. un.)<br />

I<br />

PL<br />

<br />

N 0<br />

<br />

r<br />

600 700 800 900 1000<br />

g<br />

<br />

E<br />

1<br />

<br />

r exp <br />

kT<br />

exc<br />

<br />

С<br />

<br />

На <strong>по</strong>ложение максимума фотолюминесценции влияет как средний размер, так<br />

и разброс (дисперсия) размеров нанокристаллов.<br />

1.0<br />

0.8<br />

0.6<br />

0.4<br />

0.2<br />

0.0<br />

(<br />

) (<br />

h<br />

) (<br />

d)<br />

d<br />

h PL<br />

PL<br />

d 0 =2.5 nm<br />

(nm) :<br />

0.1<br />

0.2<br />

0.4<br />

(nm)<br />

<br />

<br />

1 <br />

1<br />

nr


I PL (отн. ед.)<br />

0.8<br />

0.6<br />

0.4<br />

0.2<br />

0.0<br />

Экспериментальное исследование<br />

фотолюминесценции <strong>по</strong>ристого кремния<br />

1.0 эксперимент<br />

расчет<br />

(d =2.5 нм, =0.2 нм, e =2)<br />

0 eff<br />

500 600 700 800 900 1000<br />

(нм)<br />

0.01 0.1 1<br />

Экспериментальные и расчетные спектры ФЛ хорошо согласуются.<br />

Наблюдается линейная зависимость интенсивности ФЛ с ростом интенсивности<br />

возбуждения, что находится в согласии с моделью.<br />

I PL , arb.un.<br />

1<br />

0.1<br />

0.01<br />

I exc , mW/cm 2


I PL (отн.ед.)<br />

Влияние окружающей среды на ФЛ и оптические<br />

свойства <strong>по</strong>ристого кремния<br />

1.0<br />

0.8<br />

0.6<br />

0.4<br />

0.2<br />

0.0<br />

10 -5<br />

10 -5<br />

10 -4<br />

1<br />

10 -4<br />

10 -3<br />

10 -3<br />

2<br />

10 -2<br />

10 -2<br />

p/p s<br />

10 -1<br />

10 -1<br />

10 0<br />

10 0<br />

Зависимость интенсивности в максимуме<br />

<strong>по</strong>лосы ФЛ (1) и коэффициента<br />

отражения (2) ПК от давления паров<br />

этанола.<br />

0.3<br />

0.2<br />

0.1<br />

R<br />

0.0<br />

1<br />

500 600 700 800 900 1000<br />

При конденсации молекул диэлектрических жидкостей в <strong>по</strong>рах происходит<br />

гашение ФЛ и сдвиг ее <strong>по</strong>лосы в коротковолновую область спектра, что<br />

находится в согласии с моделью.<br />

I PL (отн.ед.)<br />

1.0<br />

0.5<br />

4<br />

3<br />

2<br />

h (нм)<br />

Нормированные спектры ФЛ <strong>по</strong>ристого<br />

кремния в вакууме (1), а также в<br />

насыщенных парах бензола e= 2.3 (2),<br />

ацетона e=21 (3) или этанола e=25 (4).


I PL (отн.ед.)<br />

Влияние окружающей среды на ФЛ и кон<strong>центр</strong>ацию<br />

неравновесных носителей заряда в <strong>по</strong>ристом кремнии<br />

1<br />

0.1<br />

0.01<br />

вакуум<br />

I при 780 нм<br />

PL<br />

e среды<br />

C 6 H 6<br />

C 3 H 6 O<br />

окружающая среда<br />

C 2 H 5 OH CH 3 OH<br />

30<br />

20<br />

10<br />

0<br />

При конденсации молекул диэлектрических жидкостей в <strong>по</strong>рах происходит<br />

гашение ФЛ, рост кон<strong>центр</strong>ации ННЗ и укорочение времени жизни, что<br />

находится в согласии с моделью.<br />

e среды<br />

I FC (отн.ед.)<br />

6<br />

3<br />

0<br />

1<br />

0<br />

c-Si<br />

ПК<br />

амплитуда<br />

время релаксации<br />

вакуум бензол этанол<br />

e=1 e=2.3 e=24.3<br />

10<br />

5<br />

0<br />

10<br />

5<br />

0<br />

FC (мкс)


Нанокристаллы Si в <strong>по</strong>ристом кремнии<br />

A.G.Cullis, L.T.Canham, Nature (1991)<br />

Porosity<br />

•Простой метод<br />

электрохимического травления<br />

• Зависящая от размеров<br />

(<strong>по</strong>ристости) <strong>по</strong>лоса<br />

люминесценции<br />

•Триплетные и синглетные<br />

состояния экситонов<br />

Exciton Lifetime (µs)<br />

10 3<br />

10 2<br />

10 1<br />

D. Kovalev et al., Phys. Stat. Sol. (1999)<br />

1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2 2.4<br />

Energy (eV)<br />

S<br />

S<br />

T


Интенсивность люминесценции (отн. ед.)<br />

Передача энергии от экситонов в нанокристаллах Si<br />

к молекулам О2<br />

1<br />

0<br />

1 <br />

nc-Si<br />

in vacuum<br />

nc-Si +10 -5 bar O 2<br />

X 5<br />

1.0 1.2 1.4 1.6 1.8 2.0<br />

1 <br />

Энергия квантов света (эВ)<br />

1 <br />

1 <br />

3 <br />

T= 5 K<br />

Нанокристалл<br />

кремния<br />

Синглетный<br />

кислород


Генерация синглетного кислорода в водных<br />

суспензиях нанокристаллов кремния<br />

1 mg of Si nanocrystals<br />

dispersed in 10 ml of<br />

water<br />

<br />

vac<br />

<br />

Exciton PL Intensity (arb. units)<br />

1<br />

0.1<br />

0.01<br />

Si nanocrystals dispersed in water<br />

h ex=3.7 eV<br />

h PL=1.63 eV<br />

O 2 saturated<br />

PL =40 s<br />

without O 2<br />

PL =90 s<br />

0 50 100 <strong>15</strong>0 200 250 300<br />

Time (s)<br />

T=300 K<br />

I PL(<br />

t)<br />

dt IPL(<br />

t)<br />

dt 1.<br />

7<br />

E<br />

40%<br />

oxygen<br />

for SO ~ 1-3 s: N SO ~ 10 <strong>15</strong> – 10 16 (1/cm 3 )


Контрольные вопросы к<br />

Лекции <strong>15</strong>:<br />

• Как можно <strong>по</strong>лучить квантовые ямы в<br />

геретоструктурах?<br />

• Что описывает механизм роста Странского-<br />

Крастанова (квантовые точки, нити, ямы)?<br />

• Как изменяются люминесцентные свойства<br />

кремниевых нанокристаллов с уменьшением<br />

их размеров?<br />

• Прикакой <strong>по</strong>ристости возможен квантовый<br />

размерный эффект в <strong>по</strong>ристом кремнии?

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!