Лекция 15 - Научно-образовательный центр по ...
Лекция 15 - Научно-образовательный центр по ...
Лекция 15 - Научно-образовательный центр по ...
You also want an ePaper? Increase the reach of your titles
YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.
Оптика наносистем<br />
Тимошенко Виктор Юрьевич<br />
Московский Государственный Университет<br />
им. М. В. Ломоносова, Физический факультет<br />
<strong>Научно</strong>-Образовательный Центр <strong>по</strong> нанотехнологиям
Содержание курса<br />
<strong>Лекция</strong> 1. Основные <strong>по</strong>нятия оптики конденсированных фаз вещества.<br />
<strong>Лекция</strong> 2. Взаимодействие света с металлами и диэлектриками.<br />
<strong>Лекция</strong> 3. Поглощение света в <strong>по</strong>лупроводниках.<br />
<strong>Лекция</strong> 4. Экситонное и примесное <strong>по</strong>глощение света.<br />
<strong>Лекция</strong> 5. Эмиссия излучения из твердых тел.<br />
<strong>Лекция</strong> 6. Оптические явления в неоднородных твердотельных системах.<br />
<strong>Лекция</strong> 7. Оптические свойства твердотельных наноком<strong>по</strong>зитов.<br />
<strong>Лекция</strong> 8. Фотонные кристаллы и микрорезонаторы.<br />
<strong>Лекция</strong> 9. Рассеяние света в твердых телах.<br />
Лекции 10,11. Влияние размеров тел на их оптические свойства.<br />
Лекции 12-14. Экситоны в <strong>по</strong>лупроводниковых наноструктурах.<br />
<strong>Лекция</strong> <strong>15</strong>. Оптические свойства и применения <strong>по</strong>лупроводниковых<br />
наноструктур.<br />
<strong>Лекция</strong> 16. Элементы спиновой оптики и спинтроники.<br />
<strong>Лекция</strong> 17. Нелинейные оптические явления в твердотельных системах.<br />
<strong>Лекция</strong> 18. Элементы нелинейной оптики наноструктур и наноком<strong>по</strong>зитов.
Лекции <strong>15</strong>:<br />
Оптические свойства и применения<br />
<strong>по</strong>лупроводниковых наноструктур<br />
Методы формирования и примеры<br />
низкоразмерных систем и наноструктур.<br />
Квантовые ямы и сверхрешетки. Квантовые<br />
нити. Квантовые точки. Механизм роста<br />
Странского-Крастанова. Пористый кремний.<br />
Сечение <strong>по</strong>глощения света нанокристаллами.<br />
Оптические свойства наноком<strong>по</strong>зитов с учетом<br />
экситонных эффектов. Применения квантовых<br />
ям и сверхрешеток в оптоэлектронке.<br />
Ис<strong>по</strong>льзование оптических и люминесцентных<br />
свойств квантовых точек. Лазеры на квантовых<br />
точках.
Квантовые ямы в <strong>по</strong>лупроводниковых<br />
гетероструктурах<br />
Гетероструктура – структура из двух различных<br />
<strong>по</strong>лупроводников (с разной шириной запрещенной<br />
зоны Eg). Запрещенная зона – энергетический<br />
зазор между за<strong>по</strong>лненными и неза<strong>по</strong>лненными<br />
разрешенными энергетическими зонами в твердом<br />
теле.<br />
Квантовая яма образуется в слое <strong>по</strong>лупроводника<br />
с узкой запрещенной зоной, заключенном между<br />
двумя <strong>по</strong>лупроводниками, обладающими более<br />
широкой запрещенной зоной:<br />
Eg1> Eg2. Обычно d =2-10 нм.<br />
Меняя d, можно изменять электронные и<br />
оптические свойства гетероструктур.<br />
Энергия электрона<br />
EС<br />
EV<br />
Схематичное изображение<br />
двойной гетероструктуры:<br />
AlGaAs GaAs AlGaAs<br />
AlGaAs AlGaAs<br />
GaAs<br />
Eg1<br />
d – ширина<br />
ямы<br />
Eg2<br />
Энергетическая диаграмма<br />
Ис<strong>по</strong>льзование двойной <strong>по</strong>лупроводниковой гетероструктуры с узким (единицы нм)<br />
слоем <strong>по</strong>лупроводника <strong>по</strong>зволяет создавать квантовые ямы и ветоизлучающие<br />
оптоэлектронные устройства (светодиоды и лазеры).
Полупроводниковые лазеры<br />
В <strong>по</strong>лупроводниковом лазере (лазерном<br />
диоде) ис<strong>по</strong>льзуется явление вынужденных<br />
оптических переходов, что дает усиление сигнала<br />
электролюминесценции при отражении от стенок<br />
резонатора, образованного специально<br />
<strong>по</strong>дготовленными боковыми гранями.<br />
С целью уменьшения <strong>по</strong>роговой плотности тока Jth были<br />
реализованы лазеры на гетероструктурах (с одним<br />
гетеропереходом: n-GaAs-p-GaAs-AlxGa1-xAs; и c двумя<br />
гетеропереходами: AlxGa1-xAs-GaAs-AlxGa1-xAs.<br />
Полупроводниковые лазеры на<br />
гетероструктурах<br />
Полосковые лазеры<br />
Вертикальные<br />
лазеры:
КВАНТОВЫЕ КАСКАДНЫЕ ЛАЗЕРЫ<br />
Новый тип лазеров, где генерация обусловлена переходами электронов между<br />
уровнями размерного квантования.<br />
•Длина волны излучения от 3.4 до 17 мкм<br />
•Пиковая мощность (1 Вт) при комнатной температуре в импульсном режиме и высокая<br />
мощность (0,2 Вт) при 77 К в непрерывном режиме<br />
•Одномодовый спектр<br />
•Широкая перестройка частоты для высокоразрешающей спектроскопии (в частности, для<br />
спектроскопии газов)<br />
•Высокая частота модуляции (> 10 ГГц)<br />
•Компактность ( 1 мм )<br />
F. Capasso et al., 1994<br />
Р. Казаринов, Р. Сурис, 1971<br />
•Анализ окружающей среды<br />
•Контроль промышленных процессов<br />
•Транс<strong>по</strong>рт - контроль сгорания топлива,<br />
противостолкновительные локаторы<br />
•Медицина - анализ дыхания, ранняя<br />
диагностика<br />
•Беспроводная оптическая связь<br />
•Военные применения
Фотоприемники на <strong>по</strong>лупроводниковых<br />
наноструктурах с квантовыми ямами и точками<br />
Спектральная чувствительность задается составом и<br />
толщиной квантовых ям или размером квантовых точек<br />
• Возможность перекрыть весь средний и дальний (вплоть до ТГц) ИК диапазон<br />
• Высокая чувствительность<br />
• Возможность изготовления многоэлементных и многозональных приемников
Самоорганизованные квантовые точки<br />
Изображение в атомно-силовом микроскопе<br />
саморганизованных квантовых точек InP на<br />
<strong>по</strong>верхности GaAs. Механизм роста Странского-<br />
Крастанова.<br />
Схема инжекционного лазера на<br />
квантовых точках.<br />
Гетероструктуры с самоорганизованными квантовыми точками являются следующим за<br />
планарными гетероструктурами эта<strong>по</strong>м наноинженерии электронных и оптических свойств<br />
<strong>по</strong>лупроводников.
3<br />
2<br />
1<br />
Eg (eV)<br />
0D<br />
1D<br />
2D<br />
Квантовый размерный эффект в<br />
кремниевых нанокристаллах<br />
Расчет методом эффективной массы<br />
Eg bulk<br />
Si<br />
2 4 6 8<br />
d (nm)<br />
Нанокристаллы Si в SiO 2<br />
M. Fujii et al., J. Appl. Phys. (1998).<br />
Квантово-размерный эффект для запрещенной зоны усиливается при<br />
переходе от 2D к 0D (<strong>по</strong>нижении размерности наноструктуры)
Спектры фотолюминесценции нанокристаллов Si в<br />
матрице диоксида кремния<br />
Интенсивность ФЛ (отн. ед.)<br />
1.2 1.1 1 0.9 0.8 0.7 0.6<br />
c-Si<br />
Длина волны (мкм)<br />
d = 6 ... 2 nm<br />
1.0 1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2<br />
Энергия фотонов (эВ)<br />
M. Fujii et al., PRB 62 (2000)<br />
h E<br />
E<br />
Eg0<br />
С уменьшением размеров нанокристаллов Si спектр их<br />
люминесценции сдвигается в высокоэнергетичную (коротковолновую)<br />
область вследствие квантового размерного эффекта. Кулоновское<br />
взаимодействие электронов и дырок в нанокристалле приводит к<br />
возникновению экситона ( Eexc<br />
), что несколько ослабляет квантоворазмерный<br />
сдвиг <strong>по</strong>лосы люминесценции.<br />
PL<br />
экситон<br />
exc
Применения в кремниевой oптоэлектронике<br />
1. Основным материалом для создания интегральных<br />
схем был, есть и будет в течение очень<br />
длительного времени кремний (Si).<br />
2. Однако, применение этого материала в<br />
оптоэлектронике ограничено устройствами,<br />
детектирующими излучение. Особенности<br />
энергетического спектра электронов в кремнии не<br />
<strong>по</strong>зволяют создавать эффективный излучатель<br />
света (светодиод или лазер).<br />
3. Зачем создавать светоизлучающие структуры на<br />
основе кремния, когда давно изготавливаются и<br />
отлично работают светодиоды на основе<br />
материалов A 3 B 5 (GaAs, GaP и т.д.)?
Интеграция с наноэлектроникой<br />
4. Известно, что между интегральными схемами в<br />
устройствах и между отдельными элементами<br />
интегральных схем связь чисто электрическая. Так в<br />
процессоре, содержащем до 10 8 транзисторов, длина<br />
проводников составляет 20 км. Это не самые<br />
надежные участки схемы, и было бы неплохо хотя бы<br />
часть из них заменить оптическими линиями.<br />
5. Как все-таки заставить кремний излучать свет при<br />
электрическом или оптическом возбуждении. Есть<br />
два пути:<br />
6. а) создать ансамбль наночастиц кремния и<br />
вследствие принципа неопределенности Гейзенберга<br />
Pхħ закон сохранения импульса становится не<br />
столь строгим и вероятность переходов растет (d -5 ).<br />
7. б) ввести примеси активаторы<br />
люминесценции, например, редкоземельных<br />
элементов. Весьма перспективным является Er 3+,<br />
дающий узкую линию в области 1.5 мкм.
Кремниевые наноструктуры как основа<br />
светоизлучающей и усиливающей оптоэлектроники<br />
Минимум <strong>по</strong>терь<br />
птических волоконных<br />
линий связи 1.5 μm<br />
eV μm<br />
1.88<br />
1.55<br />
1.26<br />
0.81<br />
0<br />
Er 3+ ion<br />
0.66<br />
0.80<br />
0.98<br />
1.53<br />
hν<br />
0<br />
Кремний (Si) – базовый<br />
материал<br />
оптоэлектроники<br />
Светодиоды, оптические<br />
усилители и лазеры,<br />
совместимые с планарной<br />
кремниевой технологией
3nm<br />
Структуры нанокристаллов Si в матрице SiO 2<br />
M. Zacharias et al., APL 80, 661 (2002).<br />
Метод приготовления:<br />
1. Термическое распыление SiO в<br />
вакууме 10 -7 мбар или в кислороде<br />
при давлении 10 -4 мбар, что<br />
<strong>по</strong>зволяло менять кон<strong>центр</strong>ацию<br />
атомов кремния и кислорода в слоях<br />
SiOx.<br />
2. Были <strong>по</strong>лучены SiO/SiO2<br />
сверхрешетки с толщинами слоев от<br />
1 до 4 nm и числом периодов до 100.<br />
3. Структуры были отожжены при 1100<br />
o C в атмосфере N2 , что привело к<br />
формированию структур<br />
нанокристаллов nc-Si/ SiO2.<br />
4. Часть структур nc-Si/SiO2<br />
имлантировалась ионами эрбия Er с<br />
дозами от 10 14 до 5·10 16 cм -2 с<br />
<strong>по</strong>следующим отжигом дефектов.<br />
Er
Интенсивность ФЛ (отн.ед.)<br />
1.0<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
Легированные эрбием структуры<br />
кремниевых нанокристаллов<br />
d=3.5 нм<br />
nc-Si<br />
nc-Si:Er<br />
0.0<br />
0.6 0.7 0.8 0.9 1.0 1.1 1.2 1.3 1.4 1.5 1.6 1.7<br />
Длина волны (мкм)<br />
V.Yu.Timoshenko et al., Appl.Phys.Lett. (2004)<br />
Передача энергии от нанокристаллов Si к ионам Er<br />
может быть ис<strong>по</strong>льзована для создания<br />
светодиодов, лазеров и оптических усилителей на<br />
длине волны 1.5 мкм<br />
nc-Si<br />
N 1<br />
N 0<br />
SiO 2<br />
Er 3+<br />
E, eV<br />
1.88<br />
1.55<br />
1.26<br />
0.81<br />
0
Наноструктурирование <strong>по</strong>лупроводников методом<br />
электрохимического травления<br />
Впервые <strong>по</strong>лучили <strong>по</strong>ристый кремний А. Улир и его жена в 1955.<br />
A. Uhlir, Electrolytic shaping of germanium and silicon, Bell Syst. Tech., 1956, v.35, no.2, pp.333-347.<br />
c-Si<br />
metal plate<br />
HF<br />
solution<br />
[100<br />
]<br />
quantum wires<br />
•Огромная удельная <strong>по</strong>верхность (до 1000 м 2 /г)<br />
•Возможность формирования наноструктур с размерами 1-100 нм<br />
•Интенсивная фотолюминесценция (квантово-размерный эффект)<br />
•Простота изготовления<br />
cross-sectio<br />
wires is 1-5 n<br />
thickness of p<br />
layer is 1-100
Мезо- и микро<strong>по</strong>ристый кремний как примеры<br />
наноструктурированных <strong>по</strong>лупроводников<br />
Вид ПК Размер <strong>по</strong>р<br />
Микро<strong>по</strong>ристый 2 нм<br />
Мезо<strong>по</strong>ристый 2-50 нм<br />
Макро<strong>по</strong>ристый >50 нм<br />
Mesoporous Silicon<br />
100 nm<br />
Mesoporous Si is characterized more ordered<br />
structure of pores and nanocrystals<br />
Microporous Si exhibits stronger<br />
confinement for charge carriers and<br />
photoluminescence<br />
Because of smaller Si nanocrystals<br />
Microporous Silicon<br />
10 nm
Нанокристаллы Si в <strong>по</strong>ристом кремнии<br />
A.G.Cullis, L.T.Canham, Nature (1991)<br />
Porosity (40-90%)<br />
•Простой метод<br />
электрохимического травления<br />
• Зависящая от размеров<br />
(<strong>по</strong>ристости) <strong>по</strong>лоса<br />
люминесценции<br />
•Триплетные и синглетные<br />
состояния экситонов<br />
Exciton Lifetime (µs)<br />
10 3<br />
10 2<br />
10 1<br />
D. Kovalev et al., Phys. Stat. Sol. (1999)<br />
1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2 2.4<br />
Energy (eV)<br />
S<br />
S<br />
T
Экситон в кремниевых квантовых нитях:<br />
влияние размеров, <strong>по</strong>верхности и диэлектрической проницаемости<br />
e e<br />
n<br />
r<br />
e i<br />
d<br />
+<br />
M<br />
h PL<br />
r<br />
I.<br />
Излучательная<br />
рекомбинация<br />
экситонов<br />
II.<br />
Захват на <strong>по</strong>верхностные<br />
состояния и безызлучательная<br />
рекомбинация<br />
0 Ea <br />
<br />
nr nr exp <br />
kT <br />
Молекулы на <strong>по</strong>верхности нанокристаллов<br />
(М) влияют на их зарядовое состояние.<br />
Параметры экситонов N ex , E ex , h PL и r зависят<br />
от d, N M , e i , e e<br />
Расчетные значения энергии связи<br />
экситонов E ex в кремниевых квантовых<br />
нитях, окруженных диэлектрической<br />
средой с e e<br />
E exc (мэВ)<br />
100<br />
10<br />
1<br />
d = 2 нм<br />
d = 4 нм<br />
2<br />
4<br />
e e<br />
6<br />
8<br />
10<br />
e i =12<br />
III. Влияние диэлектрической проницаемости<br />
среды на энергию связи и кон<strong>центр</strong>ацию<br />
экситонов<br />
20
I PL (arb.un)<br />
1.0<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
0.0<br />
Влияние распределения <strong>по</strong> размерам кремниевых<br />
нанокристаллов на ФЛ <strong>по</strong>ристого кремния (расчет)<br />
r<br />
1 d d<br />
(<br />
d)<br />
exp <br />
2 2<br />
2<br />
2<br />
d 0 (nm) :<br />
d 0<br />
2.0<br />
2.5<br />
3.0<br />
=0.2 nm<br />
600 700 800 900 1000<br />
(nm)<br />
A<br />
h PL(<br />
d)<br />
Eg0<br />
E ( ,<br />
2 exc d e<br />
d<br />
5<br />
( d)<br />
d<br />
0<br />
<br />
<br />
<br />
eff<br />
d 0<br />
)<br />
I PL (arb. un.)<br />
I<br />
PL<br />
<br />
N 0<br />
<br />
r<br />
600 700 800 900 1000<br />
g<br />
<br />
E<br />
1<br />
<br />
r exp <br />
kT<br />
exc<br />
<br />
С<br />
<br />
На <strong>по</strong>ложение максимума фотолюминесценции влияет как средний размер, так<br />
и разброс (дисперсия) размеров нанокристаллов.<br />
1.0<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
0.0<br />
(<br />
) (<br />
h<br />
) (<br />
d)<br />
d<br />
h PL<br />
PL<br />
d 0 =2.5 nm<br />
(nm) :<br />
0.1<br />
0.2<br />
0.4<br />
(nm)<br />
<br />
<br />
1 <br />
1<br />
nr
I PL (отн. ед.)<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
0.0<br />
Экспериментальное исследование<br />
фотолюминесценции <strong>по</strong>ристого кремния<br />
1.0 эксперимент<br />
расчет<br />
(d =2.5 нм, =0.2 нм, e =2)<br />
0 eff<br />
500 600 700 800 900 1000<br />
(нм)<br />
0.01 0.1 1<br />
Экспериментальные и расчетные спектры ФЛ хорошо согласуются.<br />
Наблюдается линейная зависимость интенсивности ФЛ с ростом интенсивности<br />
возбуждения, что находится в согласии с моделью.<br />
I PL , arb.un.<br />
1<br />
0.1<br />
0.01<br />
I exc , mW/cm 2
I PL (отн.ед.)<br />
Влияние окружающей среды на ФЛ и оптические<br />
свойства <strong>по</strong>ристого кремния<br />
1.0<br />
0.8<br />
0.6<br />
0.4<br />
0.2<br />
0.0<br />
10 -5<br />
10 -5<br />
10 -4<br />
1<br />
10 -4<br />
10 -3<br />
10 -3<br />
2<br />
10 -2<br />
10 -2<br />
p/p s<br />
10 -1<br />
10 -1<br />
10 0<br />
10 0<br />
Зависимость интенсивности в максимуме<br />
<strong>по</strong>лосы ФЛ (1) и коэффициента<br />
отражения (2) ПК от давления паров<br />
этанола.<br />
0.3<br />
0.2<br />
0.1<br />
R<br />
0.0<br />
1<br />
500 600 700 800 900 1000<br />
При конденсации молекул диэлектрических жидкостей в <strong>по</strong>рах происходит<br />
гашение ФЛ и сдвиг ее <strong>по</strong>лосы в коротковолновую область спектра, что<br />
находится в согласии с моделью.<br />
I PL (отн.ед.)<br />
1.0<br />
0.5<br />
4<br />
3<br />
2<br />
h (нм)<br />
Нормированные спектры ФЛ <strong>по</strong>ристого<br />
кремния в вакууме (1), а также в<br />
насыщенных парах бензола e= 2.3 (2),<br />
ацетона e=21 (3) или этанола e=25 (4).
I PL (отн.ед.)<br />
Влияние окружающей среды на ФЛ и кон<strong>центр</strong>ацию<br />
неравновесных носителей заряда в <strong>по</strong>ристом кремнии<br />
1<br />
0.1<br />
0.01<br />
вакуум<br />
I при 780 нм<br />
PL<br />
e среды<br />
C 6 H 6<br />
C 3 H 6 O<br />
окружающая среда<br />
C 2 H 5 OH CH 3 OH<br />
30<br />
20<br />
10<br />
0<br />
При конденсации молекул диэлектрических жидкостей в <strong>по</strong>рах происходит<br />
гашение ФЛ, рост кон<strong>центр</strong>ации ННЗ и укорочение времени жизни, что<br />
находится в согласии с моделью.<br />
e среды<br />
I FC (отн.ед.)<br />
6<br />
3<br />
0<br />
1<br />
0<br />
c-Si<br />
ПК<br />
амплитуда<br />
время релаксации<br />
вакуум бензол этанол<br />
e=1 e=2.3 e=24.3<br />
10<br />
5<br />
0<br />
10<br />
5<br />
0<br />
FC (мкс)
Нанокристаллы Si в <strong>по</strong>ристом кремнии<br />
A.G.Cullis, L.T.Canham, Nature (1991)<br />
Porosity<br />
•Простой метод<br />
электрохимического травления<br />
• Зависящая от размеров<br />
(<strong>по</strong>ристости) <strong>по</strong>лоса<br />
люминесценции<br />
•Триплетные и синглетные<br />
состояния экситонов<br />
Exciton Lifetime (µs)<br />
10 3<br />
10 2<br />
10 1<br />
D. Kovalev et al., Phys. Stat. Sol. (1999)<br />
1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2 2.4<br />
Energy (eV)<br />
S<br />
S<br />
T
Интенсивность люминесценции (отн. ед.)<br />
Передача энергии от экситонов в нанокристаллах Si<br />
к молекулам О2<br />
1<br />
0<br />
1 <br />
nc-Si<br />
in vacuum<br />
nc-Si +10 -5 bar O 2<br />
X 5<br />
1.0 1.2 1.4 1.6 1.8 2.0<br />
1 <br />
Энергия квантов света (эВ)<br />
1 <br />
1 <br />
3 <br />
T= 5 K<br />
Нанокристалл<br />
кремния<br />
Синглетный<br />
кислород
Генерация синглетного кислорода в водных<br />
суспензиях нанокристаллов кремния<br />
1 mg of Si nanocrystals<br />
dispersed in 10 ml of<br />
water<br />
<br />
vac<br />
<br />
Exciton PL Intensity (arb. units)<br />
1<br />
0.1<br />
0.01<br />
Si nanocrystals dispersed in water<br />
h ex=3.7 eV<br />
h PL=1.63 eV<br />
O 2 saturated<br />
PL =40 s<br />
without O 2<br />
PL =90 s<br />
0 50 100 <strong>15</strong>0 200 250 300<br />
Time (s)<br />
T=300 K<br />
I PL(<br />
t)<br />
dt IPL(<br />
t)<br />
dt 1.<br />
7<br />
E<br />
40%<br />
oxygen<br />
for SO ~ 1-3 s: N SO ~ 10 <strong>15</strong> – 10 16 (1/cm 3 )
Контрольные вопросы к<br />
Лекции <strong>15</strong>:<br />
• Как можно <strong>по</strong>лучить квантовые ямы в<br />
геретоструктурах?<br />
• Что описывает механизм роста Странского-<br />
Крастанова (квантовые точки, нити, ямы)?<br />
• Как изменяются люминесцентные свойства<br />
кремниевых нанокристаллов с уменьшением<br />
их размеров?<br />
• Прикакой <strong>по</strong>ристости возможен квантовый<br />
размерный эффект в <strong>по</strong>ристом кремнии?