Industriemikroskope - Nikon Metrology

Industriemikroskope LV150N/LV150NL/LV150NA/LV100ND/LV100DA-UIndustriemikroskope

Ausgestattet mit neuen Optiken,leitet das ECLIPSE eine neueÄra der Mikroskopie ein.Das ECLIPSE Mikroskopstativ ist nun modular aufgebaut, um den individuellen Anforderungen anIndustriemikroskope in unterschiedlichsten Produktionsbereichen, einschließlich Halbleiterfertigung,sowie Elektronik- und Materialanwendungen, gerecht zu werden. Die weiterentwickelte ECLIPSELV Serie wartet, neben Stativ- und Beleuchtungseinheiten, die je nach Beobachtungsverfahren und-zweck konfiguriert werden können, mit einem neuen Optiksystem und neuen Funktionen auf. Vierverschiedene Modelle – in motorisierter und manueller Ausführung plus Varianten mit Auflicht undkombiniertem Auflicht / Durchlicht – sind für vielfältige Einsatzzwecke erhältlich.Optische Performance setzt neue MaßstäbeDas legendäre Optiksystem CFI60 von Nikon, das in einmaliger Weise hohes Auflösungsvermögen mitlangen Arbeitsabständen kombiniert, wurde weiterentwickelt. Es erzielt nun beste Ergebnisse in jederHinsicht – lange Arbeitsabstände, chromatische Aberrationskorrektur und Gewichtseinsparung.BedienerfreundlichKombination mit DigitalkameraEine Digitalkamera, die Mikroskopdaten, inklusive Informationen zur Position der Objektive, erfasst undmotorisierte Mikroskope direkt ansteuern kann, ermöglicht eine effizientere Beobachtung und Erfassungvon Bildern.BeobachtungsverfahrenVerschiedene BeobachtungsverfahrenDas komplette Zubehörsortiment kann individuell kombiniert werden, um die Auswahl an Kontrastverfahrenzu erweitern, die für unterschiedlichste Proben eingesetzt werden können. Alle Modellvarianten erlaubenBeobachtungen im Hellfeld-, Dunkelfeld-, Differential-Interferenz-, Fluoreszenz-, Polarisations- undZweistrahl-Interferometrie-Kontrast. Die Modellreihen LV100ND und LV100DA-U bieten darüber hinausdie Möglichkeit von Durchlicht-Beobachtungen im Differential-Interferenz-, Dunkel-, Polarisations- undPhasenkontrast.2

DunkelfeldHellfeldAuflicht DICAuflicht-FluoreszenzPolarisationDurchlichtPhasenkontrastDurchlicht-DunkelfeldDurchlicht DICZweistrahlinterferometer3

LV-N SerieMerkmale(*Spezielle Modellvariante mit LED-Beleuchtung)*Modellvarianten mit AuflichtMikroskoptypManuelle VariantenMotorisierte Varianten(Objektivrevolver)HellfeldDunkelfeld DIC Fluoreszenz PolarisationPhasenkontrastZweistrahl-InterferometrieKompatibleBeobachtungsverfahrenLV150/LV150NALV150NLAuflicht*Verwenden Sie die für dieses Beobachtungsverfahren geeignete Objektive.KompatibleObjekttischeLV-S32 3x2 Objekttisch (Verfahrweg: 75 x 50 mm mit Glasplatte)*Kann mit LV-S32SPL ESD Platte ergänzt werdenLV-S6 6x6 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 150 mm)*Kann mit LV-S6WH Waferhalterung / LV-S6PL ESD-Platte ergänzt werdenLV-SRP P Drehbarer ObjekttischP-GS2 G Objekttisch 2 (zusammen mit Tischadapter LV-SAD)(Stand-Alone Steuereinheit)Objektiverkennung(bei Verwendung mit den intelligenten ObjektivrevolvernLV-NU5I und LV-INAD)Objektiverkennungund SteuerungIntegration des„Digital Sight“Mikroskop-KamerasystemsObjektiverkennung(bei Verwendung mit den intelligenten ObjektivrevolvernLV-NU>5I und LV-INAD)(PC-basierte Steuereinheit + Bildgebungssoftware)ObjektiverkennungundSteuerung4

Modellvarianten mit kombiniertem Auflicht/DurchlichtManuelle VariantenMotorisierte Varianten(Objektivrevolver / Lichtintensität / Aperturblende / Auswahl desBeobachtungsverfahrens)Hellfeld Dunkelfeld DIC Fluoreszenz Polarisation PhasenkontrastZweistrahl-InterferometrieLV100ND/LV100DA-UAuflichtDurchlicht* Verwenden Sie die für dieses Beobachtungsverfahren geeigneten Objektive.LV-S32 3x2 Objekttisch (Verfahrweg: 75 x 50 mm mit Glasplatte)*Kann mit LV-S32SGH Glasobjektträger ergänzt werdenLV-S64 6x4 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 100 mm mit Glasplatte)LV-SRP P Drehbarer ObjekttischP-GS2 G Objekttisch 2 (zusammen mit Tischadapter LV-SAD)NIU-CSRR2 Ni-U Drehbarer Keramiktisch mit rechtsseitigem Tischtrieb (Verfahrweg: 78 x 54 mm)C-SR2S Objekttisch mit rechtsseitigem Tischtrieb (Verfahrweg: 78 x 54 mm: Wird zusammen mitTischadapter LV-SAD verwendet)(Stand-Alone Steuereinheit)Objektiverkennung(bei Verwendung mit den intelligentenObjektivrevolvern LV-NU5I und LV-INAD)PC-basierte Steuereinheit + Bildgebungssoftware)Erkennung von Informationenzu Objektiven, Lichtintensität,Aperturblende undBeobachtungsverfahren(Hellfeld / Dunkelfeld / Fluoreszenz)Objektiverkennung(bei Verwendung mit den intelligentenObjektivrevolvern LV-NU>5I und LV-INAD)Erkennung von Information undSteuerung von Objektiven,Lichtintensität, Aperturblendeund Beobachtungsverfahren(Hellfeld / Dunkelfeld / Fluoreszenz)5

Optische Performance setzt neue MaßstäbeDas legendäre Optiksystem CFI60 von Nikon, das in einmaliger Weise hohes Auflösungsvermögen mitlangen Arbeitsabständen kombiniert, wurde weiterentwickelt. Es erzielt nun beste Ergebnisse injeder Hinsicht – Brillianz, Auflösung, lange Arbeitsabstände, chromatische Aberrationskorrektur undGewichtseinsparung.T Plan & TU Plan Fluor & TU Plan Apo ObjektiveSerienmäßig Plan-ObjektiveStandard-ObjektiveTU Plan Fluor SerieEPI/BD 5x/10x/20x/50x/100xLangerWDLichtMasseFly'seyelensMit diesen universellen Standard-Objektivenhaben Sie die Wahl zwischen den BeobachtungsverfahrenHellfeld, Dunkelfeld, einfache Polarisation, Differential-Interferenz- und Epi-Fluoreszenz. Die neuen halb-apochromatischenLinsen verbinden unübertroffene Ergebnisse bei der Reduktionchromatischer Aberrationen mit langen Arbeitsabständen in allenVergrößerungsstufen für jeden Anwendungszweck.Objektive für niedrige VergrößerungsbereicheT Plan EPIEPI 1x/2.5xDiese für niedrige Vergrößerungen konzipiertenObjektive ermöglichen klare Beobachtungen unterVerwendung eines herkömmlichen Analysators/Polarisators sowie funktionsorientierte Beobachtungenohne Hilfe eines Analysators/Polarisators.HalbapoHalbapoWeitesSichtfeldModell Vergrößerung NA Arbeitsabstand (mm)T Plan EPI 1× 0.03 3.8(Hellfeldvariante) 2.5× 0.075 6.5Apochromatische ObjektiveTU Plan Apo SerieEPI/BD 50x/100x/150xLangerWDApoLichtMasseModell Vergrößerung NA Arbeitsabstand (mm)TU Plan Fluor EPI 5× 0.15 23.5(Hellfeldvariante) 10× 0.30 17.520× 0.45 4.550× 0.80 1.0100× 0.90 1.0TU Plan Fluor BD 5× 0.15 18.0(Hellfeld-/Dunkelfeldvariante) 10× 0.30 15.020× 0.45 4.550× 0.80 1.0100× 0.90 1.0Verwendet Fly-Eye Linsen.Fly-Eye LinsenDa Linsen mit niedrigemVergrößerungsbereichnormalerweise ein weitesSichtfeld haben, lässt sichnur schwer eine gleichmäßigeAusleuchtung erzielen. BeiVerwendung von Fly-Eye Linsenermöglicht das CFI 60 -2Optiksystem Hell-/Dunkelfeldbeobachtungenim gesamtenSichtfeld mit nur geringfügigerUngleichmäßigkeit.* Die Abbildung zeigt Objektive für die Hellfeldmikroskopie (EPI)Dunkelfeld-BeleuchtungFly-Eye LinsenFly-Eye Linsen korrigieren denStreuwinkel des Lichts und sorgenfür einen gleichmäßigen Einfalls desLichts auf die Bildebene.Durch die Verwendung von Phasen-Fresnel-Linsen ermöglichen dieseObjektive deutlich längere Arbeitsabstände.Dabei stehen sie der überragendenLeistung apochromatischen Objektivebei der Korrektur chromatischer Aberrationenin nichts nach. Eine 50-fach Linse ist neu imSortiment erhältlich.Modell Vergrößerung NA Arbeitsabstand (mm)TU Plan Apo EPI 50× 0.8 2.0(Hellfeldvariante) 100× 0.9 2.0150× 0.9 1.5TU Plan Apo BD 50× 0.8 2.0(Hellfeld-/Dunkelfeldvariante) 100× 0.9 2.0150× 0.9 1.5Neues Dunkelfeld-BeleuchtungssystemBei zunehmend besserem Auflösungsvermögen(n.A.) und Arbeitsabstand(WD) vergrößert sich derAußendurchmesser der Linsen. Dadas auffallende Licht jedoch einevorgegebene Breite hat, sinktdie Lichtintensität bei herkömmlichenBeleuchtungssystemen.Das neue Beleuchtungssystemverwendet Ringlinsen bzw. Ringprismen,um den Lichteinfall zuerhöhen und ein fehlerfreies, hellesDunkelfeld zu erzielen.Ringlinsen/Ringprismen* Die Abbildung zeigtObjektive für dieHellfeldmikroskopie(Auflicht).Ringlinsen/-prismen nehmen mehrLicht auf und erhöhen so dieHelligkeit6

TU Plan ELWD & T Plan SLWD ObjektiveObjektive mit langem Arbeitsabstand und extralangem ArbeitsabstandObjektive mit langen Arbeitsabständen (WD)TU Plan ELWD SerieEPI/BD 20x/50x/100xLangerWDLichtMasseObjektive mit extralangen Arbeitsabständen (WD)T Plan EPI SLWDEPI 10x/20x/50x/100xLangerWDHalbapoHalbapoLichtMasseDurch die Verwendung von Phasen-Fresnel-Linsen ermöglichen diese Objektive längereArbeitsabstände und gleichzeitig eine bessereKorrektur der chromatischen Aberrationals herkömmliche Objektive. Die Arbeitsabläufebei Proben mit Höhenabstufungenwerden dadurch deutlich vereinfacht.Modell Vergrößerung NA Arbeitsabstand (mm)TU Plan EPI ELWD 20× 0.4 19.0(Hellfeldvariante) 50× 0.6 11.0100× 0.8 4.5TU Plan BD ELWD 20× 0.4 19.0(Hellfeld-/Dunkelfeldvariante) 50× 0.6 11.0100× 0.8 4.5Arbeitet mit den neuen Dunkelfeld-Beleuchtungssystem.Phase FresnelKorrektur der FarbaberrationDie halb-apochromatischen Objektiveder T Plan SLWD Seriemit extralangen Arbeitsabständenerzielen – bei optimierter Korrekturder chromatischen Aberration – diebesten Ergebnisse ihrer Klasse. Bei ihrer Entwicklungwurde vor allem dem Konzept extragroßer ArbeitsabständePriorität eingeräumt. Durch die Aufnahme der neuen SLWD 10x (WD:37mm) Linsen in das Sortiment wird die Einsatzfähigkeit für unterschiedlichsteProben noch erweitert.Modell Vergrößerung NA Arbeitsabstand (mm)T Plan EPI SLWD 10× 0.2 37.0(Hellfeldvariante) 20× 0.3 30.050× 0.4 22.0100× 0.6 10.0Korrektur von Farbaberrationen und längerer Arbeitsabstanddank Phasen-Fresnel-LinsenHerkömmliche Linsen nutzen die Lichtbrechung, um ein Bild zu formen. Da die Stärke der Lichtbrechung von der Farbe (Wellenlänge) abhängig ist, wirddas Bild der Reihe nach aus den Farben Blau, Grün und Rot zusammengesetzt, d. h. aus dem zuerst an den Linsen eintretenden Licht. Eine Phasen-Fresnel-Linse nutzt dagegen die Diffraktion (Lichtbeugung), um ein Bild der Reihe nach aus den Farben Rot, Grün und Blau zusammenzusetzen.Das zuerst an den Linsen eintretende Licht wird erfasst. Somit wird eine Eigenschaft genutzt, die im Gegensatz zur Lichtbrechung steht. Durch dieKombination dieser beiden Linsen wird die bei jeder Linse auftretende Farbaberration eliminiert und es entsteht ein Bild mit nur geringer Farbaberration.KonvexlinsenWeißes LichtBei längeren Wellenlängen ist der Brennpunktweiter entferntPhasen-Fresnel-LinsenBei kürzeren Wellenlängen liegt der Brennpunkt näherWeißes Licht* Die Abbildung zeigtObjektive für dieHellfeldmikroskopie (EPI).WechselseitigeFehlerkorrektur,um die FarbaberrationzureduzierenEntwickelt für lange ArbeitsabständeDurch die Verwendung von Phasen-Fresnel-Linsen ist dieKorrektur von Farbaberrationen sogar bei kurzen Abständenzwischen den Linsen möglich. Sie ermöglichen daher längereArbeitsabstände als herkömmliche Objektive.StufenloseFresnel-LinsenPhasen-Fresnel-LinsenDer Arbeitsabstandverlängert sich umden Wert, um den dieLinse verkürzt wirdWeitere ObjektiveObjektive mit GlasstärkenkorrekturCFI L Plan EPI CR20x/50x/100xDiese Objektive verfügenüber eine Korrekturfunktion, die einekontrastreiche Beobachtung von Zellenoder Mustern ohne Beeinträchtigung durchdas Glassubstrat ermöglicht.Modell Vergrößerung NA Arbeitsabstand (mm)CFI L Plan EPI CR 20× CR 0.45 10.90 - 10.00(Hellfeldvariante) 50× CR 0.70 3.90 - 3.00100× CRA 0.85 1.20 - 0.85100× CRB 0.85 1.30 - 0.95Objektive für die Interferometrie/Objektive für die Zweistrahl-InterferometrieCF IC EPI Plan TI/DIDI10x/20x/50x/100x2.5x/5xDiese Michelson- (TI – Durchlicht) und Mirau-(DI – Dunkelfeld) Zweistrahl-Interferometrielinsenermöglichen die Vermessung feinster Höhenunterschiedeohne ProbenberührungTIModell Vergrößerung NA Arbeitsabstand (mm)CF IC EPI Plan TI 2.5×A 0.075 10.30(for interferometry) 5×A 0.130 9.30CF IC EPI Plan DI 10×A 0.30 7.40(for two-beam interferometry) 20×A 0.40 4.7050×A 0.55 3.40100× 0.70 2.007

Leichte BedienungKombination mit DigitalkameraObjektiv-Informationserkennung und -SteuerungIn Verbindung mit dem intelligenten Objektivrevolver LV-NU5I und dem neuentwickelten Revolveradapter LV-INAD, der Vergrößerungsposition automatisch erkennt, geben die MikroskopeLV150N/LV100ND Informationen über die gerade im Einsatz befindlichen Objektive aus, die überdie Steuerung der Digitalkamera erfasst wurden. Bei einem Wechsel des Vergrößerungspositionwerden die Informationen automatisch in die richtigen Kalibrierdaten konvertiert.Neben der Erkennung der mit den Objektiven verbundenen Informationen ermöglicht das LV150NA Mikroskopden Wechsel zwischen den Objektiven über die Steuerung der Digitalkamera.LV-NU5I IntelligenterObjektivrevolverLV-INAD Adapter fürObjektivrevolverDS-KameraköpfeErkennung der Objektiv-InformationenAutomatische Umwandlung vonKalibrierdatenObjektiv-Steuerung* 1Stand-Alone DS-L3 Steuerung(Bei Verwendung des LV-INADzusammen mit dem LV150N)LV150N / LV100ND / LV150NA*1: Die Steuerung des Objektivrevolvers von der Digitalkamera aus ist in Verbindung mitdem LV150NA oder dem LV150N/LV100ND und dem motorisierten Objektivrevolver und derSteuerung LV-NCNT-2 für den motorisierten Objektivrevolver erhältlich.PC-basierte SteuerungDS-U3 (+NIS-Elements)(Bei Verwendung des LV-INADzusammen mit dem LV150N)Steuerung des Mikroskops und Erkennung der MikroskopdatenDie LV100DA-U ermöglicht die Erfassung von Informationen und Steuerung *2 von Objektiven, Lichtintensität, Aperturblende undBeobachtungsverfahren (Hellfeld/Dunkelfeld/Fluoreszenz) über die Steuereinheit der Digitalkamera – so können alle für die Bilderfassung wichtigenVoraussetzungen optimiert werden.DS-KameraköpfeLV100DA-UErkennung der Objektivposition, Lichtintensität,Aperturblende und Beobachtungsverfahren(Hellfeld/Dunkelfeld/Fluoreszenz)Automatische Umwandlung von KalibrierdatenSteuerung des Revolvers,Lichtintensität, Aperturblende undBeobachtungsverfahren(Hellfeld/Dunkelfeld/Fluoreszenz)Stand-Alone DS-L3 SteuerungPC-basierte SteuerungDS-U3 (+NIS-Elements)*2: Informationserkennung nur bei angeschlossener DS-L3 Steuereinheit . Die Steuerung von Objektiven, Lichtintensität, Aperturblende und Beobachtungsverfahren (Hellfeld/Dunkelfeld/Fluoreszenz) ist nur bei angeschlossener DS-U3 Steuereinheit (+NIS-Elements) möglich.Kompatibilitätsübersicht für die Informationserkennungs- und Steuerungsfunktion nach ModellenInformationserkennung und Steuerung möglichNur InformationserkennungObjektiveAuflicht (EIN/AUS, Anpassung der Lichtintensität)Durchlicht (EIN/AUS, Anpassung der Lichtintensität)AperturblendeAuswahl des Beobachtungsverfahrens (Hellfeld/Dunkelfeld/Fluoreszenz)LV150N/LV100ND(Bei Verwendung der LV-NU5I und LV-INAD)DS-L3DS-U3(+NIS-Elements)DS-L3LV150NADS-U3(+NIS-Elements)LV100DA-U(Bei Verwendung des LV-UEPI2ABeleuchtungssystems)DS-L3DS-U3(+NIS-Elements)* NIS-Elements F (kostenloses Softwarepaket) ist nicht mit den Informationserkennungs- und Steuerungsfunktionen kompatibel. Bitte verwenden Sie NIS-Elements D/Br/Ar.8

SteuerungenDigitalkamerasystem der „Digital Sight“ (DS) Serie für die MikroskopieStand-Alone SteuerungPC-basierte SteuerungMit der bedienerfreundlichen DS-L3,die mit einer komfortablen TouchPanel-Anzeige und zahlreichen Funktionenausgestattet ist, können Bilderschnell erfasst werden, ohne dass einPC oder Computerbildschirm benötigtwerden.Hochauflösender Touch Panel-MonitorEingebauter 8,4" Monitor (1024 x 768 Pixel). Mit dem gestochenscharfen und bedienerfreundlichen großen Touch Panel-Monitorkönnen Sie die Kamera ganz einfach per Fingerdruck oder Stiftsteuern und einstellen.SzenenmodusOptimale Bildgebungsparameterfür jeden Probentyp undjedes Beobachtungsverfahrenlassen sich einfach über Iconseingeben.Wafer/ICMetall, Keramik/KunststoffLeiterplatteFlachbildschirm-AnzeigeEine reiche Auswahl an FunktionenDie DS-L3 ermöglicht dieDurchführung einfacherMessungen direkt am Bild undEingabe von Zeichen undKommentaren.Diese können direkt auf dasBild geschrieben und mitden Messdaten ausgegebenwerden.Die DS-U3 ermöglicht dieAufnahme von Live-Bildern,fortgeschrittene Bildverarbeitung und-analyse und Steuerung aller Funktionendirekt vom PC aus und kannflexibel für zahlreiche Anwendungenkonfiguriert werden.Geeignet für zahlreiche AnwendungenMit NIS-Elements können Sie Bilder erfassen, verarbeiten undanalysieren.NIS-ElementsNIS-Elements Umfassende Software für die BildverarbeitungNIS-Elements als Steuerungssoftware. NIS-Elements verbindet automatische,intelligente Funktionen zur Steuerung von Mikroskopenund Peripheriegeräten mit leistungsstarken Funktionen zur Vermessung,Analyse und Archivierung der aufgenommenen Bilder.GroßbildWährend der Aufnahme der Einzelbilder werden diese zu einemGesamtbild (Panorama) mit weitem Gesichtsfeld zusammengesetzt.Auch bereits aufgenommene Bilder können im Nachhineinzusammengefügt werden.Manuelle Messung und BildkommentierungManuell können Sie Längen und Flächen einfach vermessen. DieErgebnisse können mit dem Bild verknüpft und im Textformat ineine Excel-Tabelle exportiert werden.MessfunktionenMessung (2-Punktabstand)Point to linedistancePoint to linedistanceCircleCircledistance Angle (Diameter, Radius) Area Pitch distanceFunktionen für Positions- und GrößenvergleicheZeichenfunktionenScaleindication Cross-hairs Grid XY scaleXYmeasurementCountmarkingText inputPen drawing(Straight/Curved)* Weitere Informationen zu den Funktionen des Digital Sight (DS) Kamerasystems finden Sie im Prospekt „Digital Camera DigitalSight Series for Microscopes“.9

BeobachtungsverfahrenGeeignet für zahlreiche Beobachtungsverfahren: Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation, Differential-Interferenz, Auflicht-Fluoreszenz und Zweistrahl-Interferometrie.(Hellfeld)(Episkopische DIC)HellfeldHalbleiter (IC Wafer)Von den Objektiven bis hin zu ihren Beleuchtungssystemenist die LV-N Modellreihe bestens gerüstet,um Überstrahlungen zu vermeiden und gleichzeitighelle, kontrastreiche Bilder zu liefern.DunkelfeldLV150N LV150NA LV100ND LV100DA-U LV150N LV150NA LV100ND LV100DA-U LV150N LV100NDHalbleiter (IC Wafer)Das einzigartige Konzept, das Nikon für Objektivein Dunkelfeldbeleuchtungssystemen entwickelt hat,ermöglicht Dunkelfeldbeobachtungen mit hoherHelligkeitsrate und eine hochempfindliche Erkennungvon Höhendifferenzen und Defekten in Proben.Episkopische DICSubstratJe nach Probenanforderungen sind DIC-Prismenschieberfür Standard- oder hohen Kontrast erhältlich.Die LV-N Modellreihe eignet sich ideal für Anwendungenwie die Beobachtung kleinster Höhendifferenzenin Elektronikbauelementen.(Hellfeld)(Auflicht-Fluoreszenz)(Hellfeld)(Polarisation)(Auflicht-Fluoreszenz) Polarisation Zweistrahl-InterferometrieLV150N LV150NA LV100ND LV100DA-U LV150N LV150NA LV100ND LV100DA-USubstrat (Löten)Die LV-N Modellreihe ist unübertroffen bei derBeobachtung von Proben mit fluoreszierendenEigenschaften.MineralienDie LV-N Modellreihe eignet sich besonders zurBeobachtung von Proben mit doppelbrechendenEigenschaften, wie beispielsweise Flüssig-Kristalleoder Kunststoffe/Glas, die optische Verzerrungenhervorrufen.LV150N LV150NA LV100ND LV100DA-UGlimmerMichelson- (TI – Durchlicht) und Mirau- (DI – Dunkelfeld)Zweistrahl-Interferometrie ist mit der LV-NModellreihe möglich. Mittels Mikrometerokularenkönnen kleinste Höhendifferenzen erkannt undberührungslos gemessen werden.(Hellfeld)(Phasenkontrast)Diaskopisch Hellfeld Phasenkontrast Diaskopisch DIC10LV150N LV150NA LV100ND LV100DA-ULCD (Farbfilter)Die LV-N Modellreihe eignet sich besonders zurBeobachtung von Proben mit Transparenzen, wiebeispielsweise optische Bauteile, flache Anzeigetafelnund von Proben auf Glasobjektträgern. BeiVerwendung zusammen mit dem C-SP Simple Polarizerund Analysatoren, sind einfache Durchlicht-Polarisationsbeobachtungen möglich.LV150N LV150NA LV100ND LV100DA-UEmulsionFarblose, transparente Proben können im Hellfeld-/Dunkelfeldkontrast und unter Nutzung zweierEigenschaften des Lichts – Diffraktion undInterferenz – sichtbar gemacht werden.LV150N LV150NA LV100ND LV100DA-UNanopartikelFarblose, transparente Proben können durch dieVerwendung von Polarisation in drei Dimensionenbeobachtet werden, um eine Interferenz zwischenzwei Lichtwellen zu schaffen.

Technische DatenGrundstativObjektivrevolverAuflichtBeleuchtungTubenObjekttischeOkulareObjektiveESDStromverbrauchGewichtMaximal Probenhöhe: 38 mm (bei Verwendung mit LVNU5AI U5AI Objektivrevolverund LV-S32 3x2 Tisch / LV-S64 6x4 Tisch)* 73 mm bei Verwendung eines ErhöhungsmodulsInterne 12 V/50 W Stromversorgung für Helligkeitsregelung, Grob- und FeintriebeLinks: Grob- und Feineinstellung / Rechts: Feineinstellung, 40 mm VerfahrwegGrobeinstellung: 14 mm/Umdrehung (mit Friktion, Schärfen-regler)Feintrieb: 0,1 mm/Umdrehung (1 µm/Abstandsteilung)Lochabstände Tischaufnahme: 70 x 94 (Befestigung durch 4-M4 Schraube)C-N6 ESD 6-fach Objektivrevolver ESDLV-NU5 Universeller 5-fach Objektivrevolver ESDLV-NBD5 BD 5-fach Objektivrevolver ESDLV-NU5I Intelligenter universeller 5-fachObjektivrevolver ESDLV-UEPI-NLV-LH50PC 12V50W Vorzentriertes LampenhausHell-/Dunkelfeldumschalter und zentrierbare Aperturblende und zentrierbareFeldblendeGeeignet für ø 25 mm Filter (NCB11, ND16, ND4), Polarisator/Analysator, λ Platte,Anregungslichtsymmetrierung, inkl. RauschunterdrückerLV-UEPI2LV-LH50PC 12V50W Vorzentriertes LampenhausHG vorzentrierte Faserbeleuchtung: C-HGFIE (mit Lichtkorrektur) *optionalHell-/Dunkelfeldumschalter und angeschlossene Aperturblende (zentrierbar),Feldblende (zentrierbar), Funktion zum automatischen Wechsel der optischenKomponente im Hellfeld-, Dunkelfeld- und Auflicht-FluoreszenzkontrastGeeignet für ø 25 mm Filter (NCB11, ND16, ND4), Polarisator/Analysator, λ Platte,Anregungslichtsymmetrierung, integrierter RauschunterdrückerLV-TI3 Trinokularer Okulartubus ESD (Aufrechtes Bild, Sichtfeld: 22/25)LV-TT2 TT2 Okular mit trinokularem Schrägtubus (Aufrechtes Bild, Sichtfeld: 22/25)C-TB Binokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)P-TB Binokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)P-TT2 Trinokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)LV-S32 3x2 Objekttisch (Verfahrweg: 75 x 50 mm mit Glasplatte) ESD kompatibelLV-S64 6x4 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 100 mm mit Glasplatte) ESD kompatibelLV-S6 6x6 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 150 mm) ESD kompatibelCFI OkularserieCFI 60 -2/CFI 60 Optiksystem Objektive: Konfiguration entsprechend dem Beobachtungsverfahren1.000 bis 10V, binnen 0,2 s (ohne Sonderzubehör)1.2 A / 75 WCa. 8.6 kgLV-NU5A Motorisierter universeller5-fach Objektivrevolver ESDLV-NU5AC Motorisierter universeller5-fach Objektivrevolver ESDCa. 8.7 kgMaximale Probenhöhe: 38 mm (bei Verwendung mit LV-S32 3x2 Tisch)* 73 mm bei Verwendung eines ErhöhungsmodulsInterne Spannungsversorgung für LED-Beleuchtung, Grob- und FeintriebeLinks: Grob- und Feintrieb / Rechts: Feintrieb, 40mm VerfahrwegGrobtrieb: 14 mm/Umdrehung (mit Friktion, Schärfenregler)Feintrieb: 0,1 mm/Umdrehung (1 µm/Abstandsteilung)Lochabstände Tischaufnahme: 70 x 94 (Befestigung durch 4-M4 Schraube)C-N6 ESD 6-fach Objektivrevolver ESDLV-NU5 Universeller 5-fach Objektivrevolver ESD1,1W weiße LEDGeeignet für Polarisator/AnalysatorLV-TI3 Trinokularer Okulartubus ESD (Aufrechtes Bild, Sichtfeld: 22/25)C-TB Binokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)P-TB Binokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)P-TT2 Trinokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)LV-S32 3x2 Tisch (Verfahrweg: 75 x 50 mm mit Glasplatte)ESD AusführungLV-S6 6x6 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 150 mm) ESD Ausführung0.1A / 3WCa. 8.6 kgGrundstativObjektivrevolverAuflichtBeleuchtungenDurchlichtBeleuchtungTubenObjekttischeKondensorenOkulareObjektiveESDStromverbrauGewichtchMaximale Probenhöhe: 38 mm (bei Verwendung mit LVNU5AI U5AIObjektivrevolver und LV-S32 3x2 Tisch / LV-S64 6x4 Tisch)Interne 12 V/50 W Stromversorgung für Helligkeitsregelung, Grob- und FeintriebeLinks: Grob- und Feintrieb / Rechts: Feintrieb, 40 mm VerfahrwegGrobtrieb: 14 mm/Umdrehung (mit Friktionseinstellung)Feintrieb: 0,1 mm/Umdrehung (Teilung)C-N6 ESD 6-fach Objektivrevolver ESD, LV-NU5 Universeller 5-fachObjektivrevolver ESDLV-NBD5 BD 5-fach Objektivrevolver ESD, LV-NU5I Intelligenter universeller5-fach Objektivrevolver ESDD-ND6 6-fach DIC ObjektivrevolverLV-UEPI-NLV-LH50PC 12V50W Vorzentriertes LampenhausHell-/Dunkelfeldumschalter und zentrierbare Aparturbelende undzentrierbare Feldblende geeignet für ø 25 mm Filter (NCB11, ND16, ND4),Polarisator/Analysator, inklusive RauschunterdrückungLV-UEPI2LV-LH50PC 12V50W Vorzentriertes LampenhausHG vorzentrierte Faserbeleuchtung: C-HGFIE (mit Lichtkorrektur) *optionalHell-/Dunkelfeldumschalter und angeschlossene Aperturblende (zentrierbar),Feldblende (zentrierbar), Funktion zum automatischen Wechsel der optischenKomponente im Hellfeld-, Dunkelfeld- und Auflicht-FluoreszenzkontrastGeeignet für ø 25 mm Filter (NCB11, ND16, ND4), Polarisator/Analysator,λ Platte, Anregungslichtsymmetrierung, integrierter RauschunterdrückerLV-LH50PC 12V50W Vorzentriertes Lampenhaus (Optiksystem Fly Eye)Interne Apertur, Feldblende, (ND8, NCB11); auch in 12V100W-Version erhältlich (optional)LV-TI3 Trinokularer Okulartubus ESD (Aufrechtes Bild, Sichtfeld: 22/25) LV-TT2 TT2 Okular mit trinokularem Schrägtubus (Aufrechtes Bild, Sichtfeld: 22/25),P-TB Binokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22) P-TT2 Trinokulartubus (Umgekehrtes Bild, Sichtfeld: 22)LV-S32 3x2 Tisch (Verfahrweg: 75 x 50 mm mit Glasplatte) / LV-S32SGH GlasobjektträgerLV-S64 6x4 Objekttisch (Verfahrweg: 150 x 100 mm mit Glasplatte), LV-SRP P drehbarer Objekttisch/ P-GS2 drehbarer Objekttisch: Wird zusammen mitTischadapter LV-SAD verwendetNIU-CSRR2 Ni-U Drehbarer Keramiktisch mit rechtsseitigem Tischtrieb (Verfahrweg: 78 x 54 mm), C-SR2S Tisch mit rechtsseitigem Tischtrieb (Verfahrweg:78 x 54 mm: Wird zusammen mit Tischadapter LV-SAD verwendet)LWD Achromat-Kondensor (Hellfeld), LV-CUD U Kondensor trocken (Phasenkontrast, diaskopischer DIC, Dunkel), Achromat 2x-100x Schiebekondensor(Hellfeld), DF Trockenkondensor (Dunkelfeld) und sonstigeCFI OkularserieIndustriemikroskop CFI 60 -2/CFI 60 Optiksystem Objektivlinsen: Konfiguration entsprechend dem Beobachtungsverfahren1.000 bis 10V, binnen 0,2 s (ohne Sonderzubehör)1.2 A / 75 WCa. 9.5 kgMaximale Probenhöhe: 33 mm (bei Verwendung mit LVNU5AI U5AIObjektivrevolver und LV-S32 3x2 Tisch / LV-S64 6x4 Tisch)Interne 12 V/50 W Stromversorgung für Helligkeitsregelung, Grob- und FeintriebeLinks: Grob- und Feintrieb / Rechts: Feintrieb, 40 mm VerfahrwegGrobtrieb: 14 mm/Umdrehung (mit Friktion, Schärfenregler)Feintrieb: 0,1 mm/Umdrehung (1 µm/Abstandsteilung)LV-NU5AI Motorisierter universeller Objektivrevolver(Motorisierter universeller 5-fach Objektivrevolver mit hoher Lebensdauer)LV-UEPI2ALV-LH50PC 12V50W Vorzentrierter BeleuchtungskopfHG vorzentrierte Faserbeleuchtung: C-HGFIE (mit Lichtkorrektur:PC-Steuerung) *optional Motorisierter Betrieb und Ansteuerung desBeleuchtungswählers Motorisierte Aperturblende, angeschlossen an denHellfeld-/Dunkelfeldwahlschalter (automatische Optimierung passend zuObjektivlinsen), Feldblende (zentrierbar) Geeignet für ø 25 mm Filter (NCB11,ND16, ND4), Polarisator/Analysator, λ Platte, Anregungslichtsymmetrierung,integrierter Rauschunterdrücker1.2 A / 90 WCa. 10 kg11

ObjektiveTypeHellfeldPolarisationHellfeldLangerArbeitsabstandHellfeldExtralangerArbeitsabstandHellfeld/DunkelfeldT Plan EPIPlan (Halb-Apochromat)ModellTU Plan Fluor EPIUniversell Plan Fluor (Halb-Apochromat)TU Plan Apo EPIUniversell Plan Apo (Apochromat)TU Plan Fluor EPI PPolarizing Universal Plan Fluor(Halb-Apochromat)TU Plan EPI ELWDLanger Arbeitsabstand Universell Plan(Halb-Apochromat)T Plan EPI SLWDExtralanger Arbeitsabstand Plan(Halb-Apochromat)TU Plan Fluor BDUniversal Plan Fluor (Halb-Apochromat)TU Plan Apo BDUniversell Plan Apo (Apochromat)VergrößerungArtikelnr1× MUE12010 0.03 3.82.5× MUE12030 0.075 6.55× MUE12050 0.15 23.510× MUE12100 0.3 17.520× MUE12200 0.45 4.550× MUE12500 0.8 1.0100× MUE12900 0.9 1.050× MUC11500 0.8 2.0100× MUC11900 0.9 2.0150× MUC11150 0.9 1.55× MUE13050 0.15 23.510× MUE13100 0.3 17.520× MUE13200 0.45 4.550× MUE13500 0.8 1.0100× MUE13900 0.9 1.020× MUE21200 0.4 19.050× MUE21500 0.6 11.0100× MUE21900 0.8 4.510× MUE31100 0.2 37.020× MUE31200 0.3 30.050× MUE31500 0.4 22.0100× MUE31900 0.6 10.05× MUE42050 0.15 18.010× MUE42100 0.3 15.020× MUE42200 0.45 4.550× MUE42500 0.8 1.0100× MUE42900 0.9 1.050× MUC41500 0.8 2.0100× MUC41900 0.9 2.0150× MUC41150 0.9 1.520× MUE61200 0.4 19.0Hellfeld/Dunkelfeld TU Plan BD ELWDLanger Langer Arbeitsabstand Universell Plan50× MUE61500 0.6 11.0Arbeitsabstand (Halb-Apochromat)100× MUE61900 0.8 4.5: Linsentyp Phasen-Fresnel (optisches Element Diffraktion) Ein Polarisator und ein Depolarisator sind im das T Plan EPI 1×/2.5× Objektiv integriert. (Die Polarisatoren sind einsetz-/abnehmbar.)NAArbeitsabstand (mm)TypeHellfeldMit KorrekturfunktionHellfeldHellfeldExtralangerArbeitsabstandHellfeldHellfeld/DunkelfeldInterferometrieHellfeldL Plan EPI CRZur Prüfung von LCDsL Plan EPI Plan (Achromat)LU Plan EPI SLWDExtralanger Arbeitsabstand Plan(Achromat)LU Plan Apo EPIUniversell Plan Apo (Apochromat)LU Plan Apo BDUniversell Plan Apo (Apochromat)CF IC EPI Plan TIFür die Interferometrie PlanCF IC EPI Plan DIFür die Zweistrahl-Interferometrie PlanCF IC EPI Plan ApoPlan ApochromatModellVergrößerung ArtikelnrNA Arbeitsabstand (mm)20× MUE35200 0.45 10.9 - 10.050× MUE35500 0.7 3.9 - 3.0100× MUE35900 0.85 1.2 - 0.85100× MUE35910 0.85 1.3 - 0.9540× MUE00400 0.65 1.020× MUE30201 0.35 24.050× MUE30501 0.45 17.0100× MUE30901 0.7 6.5100× MUC00090 0.95 0.4150× MUC10151 0.95 0.3100× MUC40900 0.9 0.51150× MUC50151 0.9 0.422.5× MUL42031 0.075 10.35× MUL42051 0.13 9.310× MUL40101 0.3 7.420× MUL40201 0.4 4.750× MUL40501 0.55 3.4100× MUL40900 0.7 2.050× MUT10051 0.95 0.4100× MUT10101 0.95 0.3150× MUT10153 0.95 0.212

Abmessungen558558462462519393251 251 362362251 251 362 362462623.3516506277250519516516393277277462623.3516506277250251 251 36236225025034134113

Systemdiagrammfür LV150N/LV150ND/LV100NDA/LV100DA-UC-Mount CCD KameraC-MountZoomAdapterC-MountTV AdapterC-MountTV Adapter0,35×0,45×0,6×C-MountTV Adapter AC-MountAdapter0,7xTV ZoomLinsenRelaisLinsen 1xV-T PhotoAdapterC-MountAdapterVM2,5xC-MountAdapterVM4xC-MountAdapter0.55xLV-TVTV AdapterTFY-TVTV TubusP-TBBinokulartubusFY-TV55TV TubusP-TT2TrinokularTubus0,5×TubusEinheitFGC-TBBinokulartubusFGLV-TI3TrinokularTI3 TubusFGLV-TT2 TrinokularerErgotubusP-CS Senarmont-KompensatorP-I TubusHP-CQQuarzkeilBLV-CRErhöhungsmodul 35P-CLPlatteBBBBHHHAAACCDCDVVEEL-DICDIC PrismaL-DIHC(Hoher Kontrast)DIC PrismaPPPLV-NU5AU5AObjektivrevolverP’QLV-NU5ACU5ACObjektivrevolverPLV-NU5AIU5AIObjektivrevolverPV-NU5INU5IObjektivrevolverALV-NU5NU5ObjektivrevolverLV-NBD5BD5ObjektivrevolverC-N6ESD6ObjektivrevolverLV-LPPlatteLV-DICSchieberPosition A&BLV-DIHCSchieberPosition A&BP’QD-DADIC AnalyzerRLV-NCNT-2ObjektivrevolverSteuereinheitTU Plan Fluor EPIObjektiveLU ObjektivrevolverAdapterTU Plan Fluor EPIObjektive(1X Objektiv nichtverwendbar in Verbindungmit Erhöhungsmodul)LV-INAD Objektivrevolver-Adapterfür autom. ObjektiverkennungBIO CFI60ObjektiveC-OA15mm AdapterDI ObjektiveD-C DICPrismenschieberD-LPPlatteSP AchromatkondensorDF Trocken-KondensorLWDC-C Abbe- C-C Achromat AchromatKondensor Kondensor KondensorAchromat2x-100xKondensorLV-CUD D-C DICUniverseller Modul (trocken)Kondensor(trocken)D-C PHModulC-SPEinfacherPolarisatorD-DPDIC DrehbarerPolarisatorPT PolarisatorDD-CDunkelfeldringLV-C2-4x LinsenV14

CFI UW10×CFI UW10×MLV-10×ESDCFI 10×CFI 10×MCFI 10×CMCFI 15×C-CTZentrier-TeleskopMessokularAdapterG ø25F ø22NFluoreszenzFilterblockBRSQC-ERErhöhungsmodulLV-DAF Autofokus-Einheit(Zusammen mitLV-IMA oder LV-FMA)ALV-FMAMotorisiertesFokussiermodulACDFTTD-ND6DICObjektivrevolverHY-IDPDoppelanschluss(100/0-55/45)LVDIA-U DIA-U BasisY-IDPDoppelanschluss (0-100)BAP-NN5ObjektivrevolverCFI TU EPI PObjektiveLV-FMFokussiermodulELV-TIAdapterTIObjektiveELV-EPILED LED-BeleuchtungLED SteuerungN M OJEE’K JILV-UEPI2A Motorisiert universelle Auflichtbeleuchtung 2NHLLV-LH50PCVorzentriertesLampenhausEE’K JILV-UEPI2 Universelle Auflichtbeleuchtung 2JILV-UEPI-N Universelle AuflichtbeleuchtungBMOALV-IMFokussiermodulBULV-HL50W12V-50W-LLHalogenlampe12V-50WHalogenlampeEALV-IMAFokussiermodul A(Erforderlich beizur Verwendung mitLV-DIA-U)E’UKOLV-HGFAHG FaseradapterEE”LVUEPI2-DLSAdapter fürDoppellichtquelleLV-PAB WürfelLV-PO PolarisatorLV-UPO PolarisatorLV- PPlatteD-FBLicht BalancerBAE” E”LV-ARM BasisarmYM-EPI3-3 PinVerlängerung Nr.C-HGFIFHG Faser1.5m/3mILML-ANAnalysatorLV-FLANFL AnalysatorNCB FilterschieberND FilterschieberLV-ECONE SteuerungTE Transformator100WC-LHGFIHG LeuchteC-HGFIHG VorzentrierteFaserbeleuchtungIntensilight(Manuell)C-HGFIEHG VorzentrierteFaserbeleuchtungIntensilight(Motorisiert)LV-S32SGHGlasobjektträgerLV-S32PLESD PlatteL-S6WHWaferhalterLV-S6PLESD PlatteP-AMHKreuztischLV-SRPdrehbarer ObjekttischP-GS2G Objekttisch 2C-SR2STisch mitRechtshandbedienungund 2S TrägerNIU-CSRR2Drehbarer Keramiktischmit Rechtshandbedienungund TrägerLV-S323x2 ObjekttischLV-S64 6x4 ObjekttischLV-S6 6x6 Objekttisch(nur Auflicht)LV-SAD TischadapterC15

Systemdiagrammfür LV150NLC-Mount CCD KameraCFI UW10×G ø25LV-S32PLESD PlateLV-10×ESDLV-S323x2 ObjekttischCFI 10×F ø220.5×TubusL-S6WHWafer Holder6BC-mountTV Adapter AFGLV-S6PLESD PlateLV-S6 6x6 ObjekttischC-TBBinokulartubusC-mountAdapter0.7xLV-TVTV AdapterFGL-ANAnalyzerBAC-mountAdapter0.55xCLV-TI3Trinokulartubus TI3LV150NL-LED EPIL-DICDIC PrismL-DIHC(Hoher Kontrast)DIC PrismaTU Plan EPIObjektiveLV-CRErhöhungsmodul 35ALV-NU5NU5ObjektivrevolverLU ObjektivrevolverAdapterCLE PlanObjektiveLV-PO PolarisatorC-N6ESD6ObjektivrevolverLV-UPO PolarisatorAlle Angaben ohne Gewähr. Dezember 2012 ©2006/2007/2008/2009/2011/2012 NIKON CORPORATIONHinweis: Der Export der in dieser Broschüre genannten Produkte* unterliegt der Kontrolle gemäß dem japanischen Devisen- und Außenhandelsgesetz. Das entsprechende Exportverfahren ist bei einem Export aus Japan einzuhalten.*Produkte: Hardware und die entsprechenden technischen Informationen (einschließlich Software)WarnungVor dem Betrieb des Systems, lesen Sie bitte die Bedienungsanleitung sorgfältig.Nikon_LV-N_DE_0513 – Copyright Nikon Metrology NV 2013. Alle Rechte vorbehalten. Angaben sind gekürzt, können geändert werden und dienen lediglich der allgemeinen Information.Nikon Metrology NVGeldenaaksebaan 329B-3001 Leuven, Belgiumphone: +32 16 74 01 00 fax: +32 16 74 01 03Sales.NM@nikon.comNikon CorporationShin-Yurakucho Bldg., 12-1, Yurakucho 1-chomeChiyoda-ku, Tokyo 100-8331 Japanphone: +81-3-3216-2384 fax: +81-3-3216-2388www.nikon-instruments.jp/eng/Nikon Metrology Europe NVtel. +32 16 74 01 01Sales.Europe.NM@nikon.comNikon Metrology GmbHtel. +49 6023 91733-0Sales.Germany.NM@nikon.comNikon Metrology SARLtel. +33 1 60 86 09 76Sales.France.NM@nikon.comNikon Metrology, Inc.tel. +1 810 2204360Sales.US.NM@nikon.comNikon Metrology UK Ltd.tel. +44 1332 811349Sales.UK.NM@nikon.comNikon Instruments (Shanghai) Co. Ltd.tel. +86 21 5836 0050tel. +86 10 5869 2255 (Beijing office)tel. +86 20 3882 0550 (Guangzhou office)Nikon Singapore Pte. Ltd.tel. +65 6559 3618Nikon Malaysia Sdn. Bhd.tel. +60 3 7809 3609Nikon Instruments Korea Co. Ltd.tel. +82 2 2186 8400Weitere Niederlassungen und Vertretungen finden Sie unter www.nikonmetrology.com