Dispositivos de las tecnologÃas CMOS - Departamento de ...
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MATCHING <strong>de</strong> transistores<br />
I D + ∆I D = K P + ∆K P<br />
2<br />
W + ∆W<br />
L + ∆L [V GS − (V T + ∆V T )] 2<br />
Mismatch <strong>de</strong> corriente: ∆I D<br />
I D<br />
∆K P : <strong>de</strong>bido a variaciones <strong>de</strong>l espesor <strong>de</strong>l óxido <strong>de</strong> puerta y <strong>de</strong>l dopado <strong>de</strong>l sustrato (movilidad<br />
<strong>de</strong> portadores)<br />
∆V T : <strong>de</strong>bido a variaciones en el dopado <strong>de</strong>l sustrato y a la carga atrapada en el óxido <strong>de</strong> puerta<br />
∆W , ∆L : Variaciones <strong>de</strong> la geometría <strong>de</strong>l transistor <strong>de</strong>bidas a la litografía