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Dispositivos de las tecnologías CMOS - Departamento de ...

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MATCHING <strong>de</strong> transistores<br />

I D + ∆I D = K P + ∆K P<br />

2<br />

W + ∆W<br />

L + ∆L [V GS − (V T + ∆V T )] 2<br />

Mismatch <strong>de</strong> corriente: ∆I D<br />

I D<br />

∆K P : <strong>de</strong>bido a variaciones <strong>de</strong>l espesor <strong>de</strong>l óxido <strong>de</strong> puerta y <strong>de</strong>l dopado <strong>de</strong>l sustrato (movilidad<br />

<strong>de</strong> portadores)<br />

∆V T : <strong>de</strong>bido a variaciones en el dopado <strong>de</strong>l sustrato y a la carga atrapada en el óxido <strong>de</strong> puerta<br />

∆W , ∆L : Variaciones <strong>de</strong> la geometría <strong>de</strong>l transistor <strong>de</strong>bidas a la litografía

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