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Modélisation électrothermique comportementale dynamique d ...

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Chapitre 1 - <strong>Modélisation</strong> système d’amplificateur de puissance RF pour des applications radars<br />

Cette étude s’est focalisée sur un amplificateur de puissance MMIC (Monolithic Microwave<br />

Integrated Circuit) fonctionnant en bande X (entre 8 et 12GHz). Les Transistors composant<br />

l’amplificateur sont de technologie Bipolaire à Hétérojonction GaInP/AsGa (TBH) issue de la<br />

filière HB20P d’UMS [12]. Les phénomènes décris pour le TBH peuvent être retranscris pour les<br />

transistors à effet de champ moyennant une bonne compréhension de leurs différences physiques<br />

[13]-[14].<br />

40<br />

1.3.2. Les Transistors Bipolaires à<br />

Hétérojonction<br />

Principe de l’effet transistor<br />

Les transistors bipolaires ont été inventés en 1947 par le laboratoire Bell. Le terme « bipolaire »<br />

vient du principe de fonctionnement de ces transistors qui met en jeu deux types de porteurs, les<br />

porteurs minoritaires et les porteurs majoritaires. De ce fait, ces dispositifs sont sensibles aux<br />

propriétés d’injection et de recombinaison des porteurs. Le principal avantage de ces transistors<br />

repose sur une densité de puissance importante due à leur structure verticale. D’autre part,<br />

l’isolement des jonctions par rapport à la surface du composant et des interfaces avec le substrat<br />

le rende peu sensible au effets de pièges contrairement aux transistors à effets de champ [10][14].<br />

Deux types de transistors bipolaires existent, les transistors bipolaires à homojonction et les<br />

Transistors Bipolaires à Hétérojonction (TBH). L’intérêt du TBH réside dans une bi-jonction<br />

émetteur-base qui favorise l’injection des électrons de l’émetteur vers la base alors qu’elle<br />

s’oppose à l’injection des trous de la base vers l’émetteur, accentuant ainsi l’efficacité d’injection.<br />

La Figure 1.17 présente une structure NPN polarisée, sa représentation schématique et la<br />

répartition des porteurs.

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