(Microsoft PowerPoint - 1 IR SNStech-0324 PT\277\353 Final.ppt)
(Microsoft PowerPoint - 1 IR SNStech-0324 PT\277\353 Final.ppt)
(Microsoft PowerPoint - 1 IR SNStech-0324 PT\277\353 Final.ppt)
Create successful ePaper yourself
Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.
• 블랭크 마스크 산업<br />
• 에스앤에스텍 개요<br />
• 핵심 경쟁력<br />
• 전략과 비전<br />
• 투자포인트<br />
• 별첨
블랭크마스크 산업<br />
• 핵심원재료<br />
• 지속적 성장<br />
• 진입장벽<br />
• 공급 체인<br />
• 사업 매력도
포토마스크 블랭크마스크<br />
반도체제조<br />
제조공정<br />
반도체소자<br />
블랭크마스크 포토마스크<br />
TFT-LCD Panel<br />
TFT-LCD<br />
제조공정<br />
핵심원재료<br />
블랭크마스크<br />
반도체 및 LCD (TFT-LCD, Color Filter, OLED) 제조공정에 필수적인 포토마스크의 핵심원재료<br />
-블랭크마스크는<br />
석영기판 위에 차광막, 반사방지막, 감광막으로 구성<br />
블랭크마스크> 포토마스크> 반도체/ / LCD<br />
반도체용<br />
공정 반도체<br />
LCD용<br />
LCD Panel TFT<br />
4
단위: 억원) (단위<br />
단위: : 100m2) (단위<br />
3,145 3,228 3,420 3,843 3,625 CAGR<br />
4,073<br />
5.3% 38.5 43.5 50.5 58.5 70.0 74.5<br />
CAGR 14.1%<br />
2005 2006 2007 2008 2009 2010 2010 2009 2008 2007 2006 2005 모건스탠리보고서) 메릴린치, (자료:<br />
지속적 성장<br />
블랭크마스크의 중요성<br />
반도체 집적도(R)<br />
결정요소<br />
집적도 향상(R<br />
(R축소<br />
축소) 방안<br />
글로벌 R&D 동향<br />
R = κ1x<br />
NA λ<br />
공정/재료변수<br />
개선<br />
λ 파장 길이 축소<br />
NA 렌즈 사이즈 확대<br />
κ1<br />
R&D 집중<br />
광원의 한계<br />
장비의 한계<br />
반도체용:안정성장<br />
안정성장+ LCD<br />
안정성장<br />
핵심원재료인<br />
블랭크마스크<br />
중요성 증대<br />
+ LCD용:고성장<br />
블랭크마스크 수요 전망<br />
• 반도체용<br />
• LCD용<br />
5
진입장벽<br />
높은진입장벽<br />
진입장벽<br />
경쟁구도(~2002)<br />
경쟁구도(현재<br />
현재)<br />
높은진입장벽<br />
진입장벽+ 공급자위주<br />
위주시장<br />
기술 장벽<br />
초박막/고청정<br />
증착, 코팅, 세정기술<br />
투자 장벽<br />
규모의 경제 달성을 위한<br />
시간적, 자본적 투자부담<br />
판매 장벽<br />
• 다단계 품질인증 요구<br />
(포토마스크 반도체/LCD)<br />
• 공급자 교체에 장기간 소요<br />
약 20~30여년간<br />
2~3개 일본업체<br />
독과점<br />
세계 유일의<br />
신규 진입업체<br />
에스앤에스텍<br />
(2002년~)<br />
6
공급 체인<br />
반도체용 마스크<br />
LCD용 마스크<br />
Quartz > Blank Mask > Photomask > End Users<br />
7
(2000년=100) 300 S사 반도체부문 H사 블랭크마스크 부문 200<br />
50% 40%<br />
10% 20% 30%<br />
0%<br />
산업> 안정적성장성<br />
성장성+지속적<br />
지속적수익성<br />
반도체부문 H사 블랭크마스크 부문 S사<br />
사업 매력도<br />
매출액 성장률<br />
영업이익률<br />
고부가기술요구<br />
기술요구산업<br />
전방산업 경기 변동에 영향이 적은 안정적 매출 성장<br />
100<br />
FY00FY01FY02FY03FY04FY05FY06FY07FY08 -<br />
안정적이고 지속적인 고수익<br />
각사사업보고서, 교보증권보고서추정치) (자료: FY00FY01FY02FY03FY04FY05FY06FY07FY08<br />
8
에스앤에스텍 개요<br />
• 설립 배경<br />
• 주요 연혁<br />
• 사업 영역<br />
• 경영 실적<br />
• 에스앤에스텍의 위상<br />
9
10<br />
10<br />
10<br />
10<br />
설립<br />
설립<br />
설립<br />
설립 배경<br />
배경<br />
배경<br />
배경<br />
고부가가치<br />
고부가가치<br />
고부가가치<br />
고부가가치핵심<br />
핵심<br />
핵심<br />
핵심원재료의<br />
원재료의<br />
원재료의<br />
원재료의국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크 부품소재<br />
부품소재<br />
부품소재<br />
부품소재<br />
부품소재<br />
부품소재<br />
부품소재<br />
부품소재<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내 업체의<br />
업체의<br />
업체의<br />
업체의<br />
업체의<br />
업체의<br />
업체의<br />
업체의 부재<br />
부재<br />
부재<br />
부재<br />
부재<br />
부재<br />
부재<br />
부재<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화 개발<br />
개발<br />
개발<br />
개발<br />
개발<br />
개발<br />
개발<br />
개발 착수<br />
착수<br />
착수<br />
착수<br />
착수<br />
착수<br />
착수<br />
착수<br />
반도체<br />
반도체<br />
반도체<br />
반도체<br />
/LCD<br />
/LCD<br />
/LCD<br />
/LCD 업체<br />
업체<br />
업체<br />
업체<br />
정부지원<br />
정부지원<br />
정부지원<br />
정부지원<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화 필요성<br />
필요성<br />
필요성<br />
필요성 절실<br />
절실<br />
절실<br />
절실<br />
•소재<br />
소재<br />
소재<br />
소재~완제품<br />
완제품<br />
완제품<br />
완제품종합경쟁력<br />
종합경쟁력<br />
종합경쟁력<br />
종합경쟁력확보<br />
확보<br />
확보<br />
확보한계<br />
한계<br />
한계<br />
한계<br />
•핵심원재료<br />
핵심원재료<br />
핵심원재료<br />
핵심원재료해외의존도<br />
해외의존도<br />
해외의존도<br />
해외의존도심화<br />
심화<br />
심화<br />
심화<br />
•원활한<br />
원활한<br />
원활한<br />
원활한원재료<br />
원재료<br />
원재료<br />
원재료수급<br />
수급<br />
수급<br />
수급필요성<br />
필요성<br />
필요성<br />
필요성증대<br />
증대<br />
증대<br />
증대<br />
•대일무역수지<br />
대일무역수지<br />
대일무역수지<br />
대일무역수지적자<br />
적자<br />
적자<br />
적자확대<br />
확대<br />
확대<br />
확대<br />
•국가<br />
국가<br />
국가<br />
국가기간산업<br />
기간산업<br />
기간산업<br />
기간산업반도체<br />
반도체<br />
반도체<br />
반도체/LCD<br />
/LCD<br />
/LCD<br />
/LCD의<br />
기반<br />
기반<br />
기반<br />
기반약화<br />
약화<br />
약화<br />
약화<br />
기술협력<br />
기술협력<br />
기술협력<br />
기술협력<br />
국책과제<br />
국책과제<br />
국책과제<br />
국책과제<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화 성공<br />
성공<br />
성공<br />
성공<br />
성공<br />
성공<br />
성공<br />
성공 및<br />
해외시장<br />
해외시장<br />
해외시장<br />
해외시장<br />
해외시장<br />
해외시장<br />
해외시장<br />
해외시장 진출<br />
진출<br />
진출<br />
진출<br />
진출<br />
진출<br />
진출<br />
진출<br />
기술<br />
기술<br />
기술<br />
기술/제품<br />
제품<br />
제품<br />
제품/고객의<br />
고객의<br />
고객의<br />
고객의<br />
진입장벽<br />
진입장벽<br />
진입장벽<br />
진입장벽 해소<br />
해소<br />
해소<br />
해소
•2003.05<br />
•2008.12<br />
대한민국 •2007.05 TSMC 품질인증 SMIC •2006.04<br />
국내<br />
전문기업<br />
부품소재상지식경제부<br />
지식경제부장관상<br />
장관상수상<br />
대한민국기술대상은상<br />
은상수상<br />
•2008.11‘1,000 만불’수출의탑수상 •2008.10‘2008년벤처기업대상”국무총리상수상 •2008.06 코스닥상장예비심사승인 •2007.03<br />
대구광역시스타기업<br />
스타기업선정<br />
주요 연혁<br />
인증<br />
“World Best Blank Mask”<br />
수상<br />
유일의블랭크마스크<br />
블랭크마스크전문기업 국내유일의<br />
2007 ~ 2008<br />
부품소재상 •2008.12<br />
2005<br />
대한민국10<br />
~<br />
10대신기술<br />
2006<br />
신기술지정<br />
NEP 재인증 •2008.08 우수제조기술연구센타(ATC) 지정 2007.05 TSMC 품질인증<br />
세계일류상품및생산기업인증 •2005.06 인증) 신제품인증(NEP 2003 ~ 2004•2006.07 “Technology Fast Korea 2006“동상수상 •2005.11‘500만불’수출의탑및산업부장관표창수상<br />
•2005.08 제4회중소기업기술혁신대전“대통령상”수상 수출유망중소기업선정 •2004.07<br />
2001<br />
•2004.08 기술혁신형중소기업(INNO-BIZ)인증<br />
하이닉스품질인증 •2004.06 ~ 2002<br />
Toppan •2004.03 부품소재전문기업인증 •2003.09 Photronics Global 품질인증 2003.05 삼성전자품질인증<br />
품질인증 PKL •2001.10 9001 ISO 에스앤에스텍설립 •2001.02<br />
11
바이너리<br />
블랭크마스크<br />
Wafer<br />
안정성장+ LCD용:고성장<br />
사업 영역<br />
반도체용 블랭크마스크<br />
LCD용 블랭크마스크<br />
반도체용:안정성장<br />
주요<br />
제품<br />
주요<br />
제품<br />
12<br />
매출<br />
반도체용 52% LCD용 48%<br />
•화학증폭형레지스트블랭크마스크 •1000ÅNormal Cr •660 Cr Cr 블랭크마스크 ÅThinner •590<br />
8세대<br />
6~7세대<br />
LCD 4~5세대<br />
1~3세대<br />
•850x1200 •800x920 •520x800Size •500x750Size •1220x1440 •330x450Size 블랭크마스크 •520x610
400 (억원)<br />
300<br />
200<br />
100<br />
0<br />
매출액(LCD)<br />
203.5<br />
매출액(반도체)<br />
171 181 65 111 199<br />
139<br />
2007 2008 2006<br />
100 80<br />
20 40 60<br />
0<br />
입지확보<br />
12.9 14.8 56 15 37<br />
2008 0 510 2007 2006<br />
20<br />
경영 실적<br />
매출 실적<br />
수익 실적<br />
고부가<br />
CAGR 36.7%<br />
380.0<br />
CAGR 60.1%<br />
LCD용성장<br />
성장본격화<br />
본격화> 글로벌입지 고부가LCD<br />
영업이익률 (억원) (%) 영업이익<br />
282.0<br />
13<br />
31.6
국내유일, 세계3대블랭크마스크<br />
블랭크마스크전문기업<br />
전문기업, 에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍의 위상<br />
Best in Growth<br />
매출액, 시장점유율 측면 세계 최고의 성장성<br />
Best in Network<br />
글로벌 반도체/LCD<br />
포토마스크 업체와 상생협력<br />
Best in Developing<br />
Hardmask(반도체<br />
반도체), TM Mask(LCD) 등 차세대 제품 개발 선도<br />
Sole in Korea<br />
국내 유일, 세계 3대 블랭크마스크 전문기업<br />
14
핵심 경쟁력<br />
• 전문인력<br />
• 핵심기술<br />
• 국가적 지원<br />
• Global 고객<br />
• 네트워크<br />
• 시장 지배력
3,000<br />
0<br />
11.8 9.1 6.8 13.6<br />
2006 2007 2008 0 510 15 투자금액 매출액 대비 투자비중<br />
2005<br />
차한선 이사/연구개발담당<br />
ETRI, Hynix, PKL<br />
장동건 한국전자<br />
박연수 이형재 부장/수석연구원<br />
PKL, 주성엔지니어링<br />
연구인력 비중<br />
경영진 및 기술진<br />
전문인력<br />
전문전문인력<br />
24%<br />
2008<br />
연구인력<br />
25명<br />
이 름 직 위 경 력<br />
전문고급인력<br />
고급인력+적극적<br />
적극적R&D<br />
투자<br />
R&D 투자<br />
(백만원) (%)<br />
남기수 대표이사& CEO ( ETRI (국내최초<br />
Blank Mask 연구), PKL<br />
이종림 전무이사/기획<br />
기획및영업<br />
아남반도체<br />
강긍원 전무이사/연구소장<br />
삼성전자<br />
전석원 상무이사/경리<br />
경리및자금<br />
PKL<br />
16<br />
1,500
두께<br />
2000Å<br />
두께<br />
590Å<br />
표면균일도<br />
15Å<br />
표면균일도<br />
극한의코팅<br />
보유<br />
10)<br />
10만분의1 분석기술 -원자단위표면분석 -원자단위조성비분석 -원자단위결합에너지분석 표면균일도 15Å≈원자1~5개 2000Å≈머리카락의<br />
590Å≈머리카락의<br />
-Å단위두께측정 측정기술<br />
핵심기술<br />
블랭크마스크 단면도<br />
초정밀 고청정 초박막 핵심 기술<br />
요소 기술<br />
증착/세정기술<br />
세정기술보유 코팅/증착<br />
감광막<br />
코팅<br />
기술 (Å= 10-10)<br />
두께<br />
Defect Free<br />
금속막<br />
증착<br />
기술 두께<br />
기<br />
판<br />
세정<br />
기술<br />
특허 보유현황<br />
12Å<br />
(개)<br />
590 30만분의1 표면균일도 12Å≈원자1~4개<br />
제거수준 0.1um 이상 cf) 반도체클린룸은 0.5um 이상 파티클<br />
출원<br />
등록<br />
총계<br />
-광학특성측정 검사기술 -박막위상변화량측정<br />
Scan Defect 검사 -전자현미경검사 -SEM -Laser<br />
국내 133 28 161<br />
해외 12 1 13<br />
총계 145 29 174<br />
17
100 150 200 250<br />
0<br />
평판디스플레이용TM<br />
크롬블랭크마스크<br />
블랭크마스크기술<br />
기술개발<br />
4,104<br />
레지스트를이용한<br />
이용한나노급<br />
나노급블랭크마스크<br />
블랭크마스크기술<br />
기술개발<br />
1,535<br />
기판가공<br />
가공기술<br />
3,980<br />
기술개발<br />
블랭크마스크기술<br />
기술개발<br />
제작을위한<br />
Thinner<br />
가능한<br />
레지스트<br />
2005 2006 2007 2008<br />
주역<br />
국가적 지원<br />
주요 정부 과제 수행실적<br />
기술개발 과제명<br />
블랭크마스크개발<br />
TM<br />
사업비(백만원<br />
백만원)<br />
국가차원기술<br />
기술개발의<br />
개발의주역<br />
4,114 개발<br />
완료과제<br />
신규과제<br />
정부지원 과제 매출실적<br />
(억원)<br />
평판디스플레이용크롬<br />
화학증폭형레지스트를<br />
블랭크마스크용기판<br />
Haze Free 블랭크마스크기술<br />
45nm급Hard Mask용블랭크마스크<br />
나노급소자<br />
소자제작을<br />
습식식각이<br />
식각이가능한<br />
243.1<br />
348 개발 760<br />
134 개발 540 개발<br />
18<br />
35.5<br />
반도체용 LCD용<br />
신물질Thinner 가능한화학증폭형<br />
화학증폭형레지스트 위한신물질<br />
83.4<br />
139.8<br />
레지스트블랭크마스크<br />
블랭크마스크기술<br />
기술개발<br />
Thinner
19.8%<br />
아시아<br />
아시아 미국/유럽 한국<br />
지속적글로벌<br />
글로벌네트워크<br />
네트워크확대<br />
확대> 지속적수출<br />
수출증가<br />
주요수출국<br />
51.2%<br />
Global 고객<br />
글로벌 고객기반<br />
“세계<br />
주요 반도체/LCD<br />
생산거점에<br />
공급선 확보”<br />
정부지원 과제 매출실적<br />
해외매출 비중<br />
지속 증가<br />
51.2%<br />
2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 19.8%<br />
“지속적인<br />
고객 개척”<br />
19
네트워크<br />
공동 연구개발 네트워크<br />
“세계<br />
Top 반도체, , LCD, 포토마스크 업체” + “국가정책<br />
지원과제”<br />
전략적연구개발<br />
연구개발+전략적<br />
전략적마케팅<br />
마케팅네트워크<br />
네트워크확보<br />
전략적 제휴 네트워크<br />
마케팅 네트워크<br />
“세계<br />
Top 포토마스크 업체”<br />
20
50% 40%<br />
20% 30%<br />
10%<br />
23.9%<br />
23.7%<br />
신제품양산<br />
양산개시<br />
대형고객점유율<br />
점유율확대<br />
: TSMC, SMIC 5.0%<br />
4.9%<br />
27.8%<br />
6.1%<br />
37.8%<br />
9.0%<br />
21.4%<br />
4.3%<br />
2010(E) 2009(E) 2008 2007 2006<br />
40% 50%<br />
30%<br />
10% 20%<br />
0%<br />
32.7%<br />
38.4%<br />
확대<br />
45.2%<br />
42.1%<br />
22.7%<br />
TM 해외판매본격화<br />
24.6%<br />
21.8%<br />
16.6%<br />
12.0%<br />
2007 2008 2009(E) 2010(E) 2006<br />
시장 지배력<br />
반도체용 블랭크마스크 시장점유율<br />
LCD용 블랭크마스크 시장점유율<br />
비약적인시장지배력<br />
시장지배력확대<br />
세계<br />
국내<br />
세계<br />
국내<br />
41.4%<br />
21<br />
0%
전략과 비전<br />
• 기술 로드맵<br />
• 신제품<br />
• 신규 고객<br />
• 신규 사업<br />
• 비전
구조<br />
변경<br />
구조<br />
개선및<br />
Layer<br />
Material & Structure •Shadowing Effect 저감기술개발 •New<br />
TM<br />
마스크<br />
기술 로드맵<br />
반도체용 블랭크마스크 기술로드맵<br />
LCD용 블랭크마스크 기술로드맵<br />
차세대블랭크<br />
블랭크마스크<br />
마스크기술<br />
기술개발의<br />
개발의첨병<br />
첨병, 에스앤에스텍<br />
EUV<br />
11세대<br />
1780<br />
10세대<br />
1400<br />
8세대<br />
Hard Mask<br />
감광막<br />
Buffer, Capping Absorber Multilayer 기판<br />
4-8세대<br />
Material & Structure 개발 •Top Type TM •Bottom Type TM 블랭크마스크원재료 •New<br />
PSM<br />
•Absorber Layer 두께저감기술개발 •Substrate Polishing •Defect 제어기술개발<br />
Hard BIM<br />
•New Material •500 Å이하의금속막개발 •2000 Å이하의레지스트코팅기술 Layer PSM<br />
Layer •KrF Hardmask<br />
위상반전마스크의원재료 •ArF<br />
마스크610<br />
바이<br />
너리<br />
마스크<br />
1-3세대<br />
Cr 블랭크마스크 •Slit mask용블랭크마스크 •1000ÅNormal<br />
23<br />
추가<br />
~ 2000 2004 2008 2012 2016~<br />
금속막 감광막 기판<br />
•화학증폭형레지스트블랭크마스크<br />
•660 Cr •590 ÅThinner Cr 블랭크마스크<br />
•1000ÅNormal<br />
~ 2000 2004 2008 2012 2016~<br />
390<br />
1220 1620
5% 10% 15% 20% 25%<br />
0%<br />
TM Mask<br />
신제품양산<br />
기술을<br />
발전시켜, , LCD 공정을단순화를<br />
가능하게하는<br />
하는신개념<br />
신개념제품<br />
45mm급이하<br />
이하특정<br />
특정device<br />
용<br />
Pattern define 구현을위한<br />
위한차세대<br />
차세대제품<br />
대비<br />
모든<br />
제품<br />
글로벌리더<br />
리더제품<br />
2009년하반기<br />
2008 2009(E) 2010(E) 2011(E)<br />
우위<br />
신제품<br />
신제품 개요<br />
LCD용 TM Mask<br />
Slit Mask를대체할<br />
대체할TM Mask 기술을<br />
반도체용 Hard Mask<br />
Mask 및Hard Mask를필두로<br />
필두로고부가가치<br />
고부가가치신제품 TM<br />
개요<br />
제품력<br />
2008년하반기<br />
생산일정 2008<br />
신제품 매출비중 전망<br />
Mask<br />
더욱발전시켜 Slit 기존제품대비<br />
Wet Etch가가능한<br />
모든PR, Cr, Thin Film, Particle 등 모든부분에서<br />
부분에서우수하고<br />
가능한세계최초의<br />
세계최초의제품 대비PR, 하반기양산<br />
16.9%<br />
19.0%<br />
양산 2009<br />
20.6%<br />
PR, Thin Film, Thickness, Haze Free우위 하반기양산<br />
제품대비<br />
24<br />
4.4%<br />
Mask Hard Mask TM
25<br />
25<br />
25<br />
25<br />
신규고객<br />
신규고객<br />
신규고객<br />
신규고객<br />
지속적인<br />
지속적인<br />
지속적인<br />
지속적인세계시장<br />
세계시장<br />
세계시장<br />
세계시장점유율<br />
점유율<br />
점유율<br />
점유율확대<br />
확대<br />
확대<br />
확대<br />
글로벌<br />
글로벌<br />
글로벌<br />
글로벌 신규<br />
신규<br />
신규<br />
신규 타겟<br />
타겟<br />
타겟<br />
타겟 고객<br />
고객<br />
고객<br />
고객<br />
DNP<br />
DNP<br />
DNP<br />
DNP<br />
DTF<br />
DTF<br />
DTF<br />
DTF<br />
SKE<br />
SKE<br />
SKE<br />
SKE<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
AMTC<br />
AMTC<br />
AMTC<br />
AMTC<br />
DNP<br />
DNP<br />
DNP<br />
DNP<br />
Compugraphics<br />
Compugraphics<br />
Compugraphics<br />
Compugraphics DNPT<br />
DNPT<br />
DNPT<br />
DNPT<br />
AIPC<br />
AIPC<br />
AIPC<br />
AIPC<br />
FINEX<br />
FINEX<br />
FINEX<br />
FINEX<br />
Compugraphics<br />
Compugraphics<br />
Compugraphics<br />
Compugraphics<br />
IBM<br />
IBM<br />
IBM<br />
IBM<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
Toppan<br />
유럽<br />
유럽<br />
유럽<br />
유럽 중국<br />
중국<br />
중국<br />
중국 한국<br />
한국<br />
한국<br />
한국<br />
일본<br />
일본<br />
일본<br />
일본<br />
동남아<br />
동남아<br />
동남아<br />
동남아<br />
북미<br />
북미<br />
북미<br />
북미<br />
“2015<br />
2015<br />
2015<br />
2015 세계시장<br />
세계시장<br />
세계시장<br />
세계시장 M/S 30%<br />
M/S 30%<br />
M/S 30%<br />
M/S 30%”<br />
대한민국<br />
대한민국<br />
대한민국<br />
대한민국<br />
지역별<br />
지역별<br />
지역별<br />
지역별 마케팅<br />
마케팅<br />
마케팅<br />
마케팅 거점<br />
거점<br />
거점<br />
거점<br />
대만<br />
대만<br />
대만<br />
대만<br />
일본<br />
일본<br />
일본<br />
일본<br />
미국<br />
미국<br />
미국<br />
미국/중국<br />
중국<br />
중국<br />
중국<br />
싱가포르<br />
싱가포르<br />
싱가포르<br />
싱가포르/<br />
유럽<br />
유럽<br />
유럽<br />
유럽
•세계적<br />
•차세대<br />
Polishing(<br />
기술적<br />
분석기술<br />
연관기술<br />
기술사업<br />
사업추가<br />
추가> 신규성장동력<br />
성장동력확보<br />
높은사업<br />
기술<br />
•국책과제<br />
국책과제수주<br />
수주: 블랭크마스크용기판<br />
기판가공<br />
가공기술<br />
기술개발<br />
•총사업비<br />
사업비: 3,980백만원<br />
백만원(정부지원금<br />
정부지원금: : 1,900백만원<br />
백만원) •개발<br />
개발기간<br />
기간: : 2008년9월~ 2013년8월<br />
경쟁력강화<br />
차세대제품경쟁력<br />
원가절감및차세대제품<br />
획기적원가절감<br />
통한획기적<br />
연계를통한<br />
시너지연계를<br />
사업과의시너지<br />
블랭크마스크사업과의<br />
기존블랭크마스크<br />
•기존<br />
신규 사업<br />
사업 개요<br />
기술 경쟁력<br />
Flatness<br />
블랭크마스크의기판<br />
기판Polishing( •블랭크마스크의<br />
제품인Hard Mask 세계적수준의<br />
수준의Roughness, Flatness 차세대제품인<br />
투과율<br />
가공) 사업: 기술적 Polishing(가공<br />
Mask 및Advanced EUVL Roughness, Flatness 평가및분석기술 Hard<br />
보유Lapping<br />
난이도가높아<br />
높아일본기업에의 기술적난이도가<br />
EUVL용블랭크마스크의<br />
블랭크마스크의주요<br />
주요기술 분석기술보유<br />
Advanced<br />
Polishing<br />
일본기업에의의존도가<br />
의존도가높은<br />
적용가능<br />
기술적용<br />
진행 현황<br />
기대 효과<br />
26
비전<br />
세계적 소재부품 전문기업<br />
관련 다각화<br />
미래 성장 동력<br />
세계적소재부품<br />
소재부품전문기업<br />
비전세계적<br />
Quartz 연마<br />
세라믹 부품 가공<br />
터치 스크린<br />
박막형 태양 전지<br />
전문기업<br />
반도체용 블랭크 마스크<br />
현재 : Cash Cow<br />
미래 : Hard Mask<br />
LCD용 블랭크 마스크<br />
현재 : Cash Cow<br />
고성장/고수익<br />
미래 : 10/11세대<br />
27
투자포인트<br />
• 수익확대 본격화<br />
• 매출 및 수익 전망<br />
• 주요 재무비율<br />
• 주당 투자지표<br />
• 투자포인트 요약<br />
• 최근실적
수익확대 본격화<br />
환경<br />
투자<br />
제품<br />
반도체 : 고객사 대일의존도 축소<br />
LCD : Market Leader 지위 선점<br />
대규모 기계/설비<br />
투자 완료<br />
고부가가치 제품 개발 완료<br />
본격적인수익확대<br />
수익확대시기에<br />
시기에진입<br />
국내외 전략적 대형고객<br />
시장점유율 본격 확대<br />
자체 현금 창출을 통한<br />
보완투자로 생산능력 증대<br />
차세대 블랭크마스크 양산<br />
(TM Mask, Hard Mask)<br />
제2도약의<br />
시점<br />
엔고로 시장확대 적기<br />
규모의 경제 효과 개시<br />
수익성 Level-up<br />
의 기점<br />
제품별 마진 확대<br />
제품 포트폴리오 Upgrade<br />
29
800 (억원)<br />
600<br />
400<br />
0<br />
반도체용 블랭크마스크 LCD용 527.2 687.3<br />
180.9 372.1 199.1 275.8 315.2 380.0 527.2<br />
251.5 111.0<br />
2009(E) 2010(E) 2008 2007 171.0<br />
* 신규제품: TM Mask, Hard Mask<br />
160 (억원)<br />
120<br />
80<br />
40<br />
0<br />
영업이익률<br />
에스앤에스텍<br />
30%<br />
56.1 80.4 133.7 12.9% 14.8% 15.2% 19.5%<br />
2007 2008 2009(E) 2010(E) 0%<br />
10% 20%<br />
36.5<br />
매출 및 수익 전망<br />
매출전망<br />
영업이익 전망<br />
고성장고수익<br />
고수익에스앤에스텍<br />
신규제품<br />
20%<br />
30<br />
200<br />
282.0 380.0<br />
2010(E)<br />
기존제품<br />
80%
성장성<br />
매출액증가율(% YoY) 0.8 38.6 34.8<br />
2006 2007 2008<br />
안정성<br />
영업이익증가율(% -84.0<br />
1,003.1 53.9<br />
경상이익증가율(% YoY) -87.4<br />
455.3 45.9<br />
순이익증가율(% YoY) -96.9<br />
2,131.6 10.2<br />
자산총계증가율(% YoY) -10.3<br />
3.8 8.2<br />
부채비율(%)<br />
127.2 (%) 263.1<br />
90.1 (%) 66.2<br />
127.2 104.3 93.1<br />
2006 2007 2008<br />
31<br />
차입금의존도(%)<br />
46.3 43.5 38.9<br />
유보율(%)<br />
263.1 319.1 379.7<br />
유동비율(%)<br />
90.1 70.4 177.2<br />
당좌비율(%)<br />
66.2 57.0 141.0<br />
수익성<br />
주요 재무비율<br />
2006 2007 2008<br />
성장성/ 수익성/ 안정성겸비<br />
매출총이익률(%)<br />
21.8 28.0 27.5<br />
영업이익률(%)<br />
1.6 12.9 14.8<br />
당기순이익률(%)<br />
0.8 12.4 10.1<br />
활동성<br />
2006 2007 2008<br />
자기자본순이익률(%)<br />
0.7 14.3 12.9<br />
총자본세전순이익률(%)<br />
0.9 5.2 6.8<br />
총자산회전율(x)<br />
0.4 0.5 0.7<br />
자기자본회전율(X)<br />
0.9 1.2 1.4<br />
고정자산회전율(x)<br />
0.5 0.7 1.0<br />
매출채권회전율(x)<br />
5.3 5.6 4.9<br />
재고자산회전율(x)<br />
4.5 6.2 7.5
'06 '07 '08<br />
'06 '07 '08<br />
주당 투자지표<br />
2006 2007 2008<br />
주당순이익 (원) 13 280 309<br />
주당EBITDA (원) (<br />
317 608 798<br />
주당매출액 (원) 1,659 2,257 3,041<br />
주당순자산 (원) 1,491 1,780 2,115<br />
2008년주당순이익<br />
주당순이익309<br />
309원<br />
PER (x) 312.8 14.3 13.0<br />
PBR (x) 2.7 2.2 1.9<br />
주당순이익 (원)<br />
주당순자산 (원)<br />
280<br />
309<br />
1,491<br />
1,780<br />
2,115<br />
13<br />
32
33<br />
33<br />
33<br />
33<br />
투자<br />
투자<br />
투자<br />
투자 포인트<br />
포인트<br />
포인트<br />
포인트 요약<br />
요약<br />
요약<br />
요약<br />
제2의도약이<br />
도약이<br />
도약이<br />
도약이준비된<br />
준비된<br />
준비된<br />
준비된에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
미래시장<br />
미래시장<br />
미래시장<br />
미래시장<br />
미래시장<br />
미래시장<br />
미래시장<br />
미래시장<br />
선도<br />
선도<br />
선도<br />
선도<br />
선도<br />
선도<br />
선도<br />
선도<br />
높은<br />
높은<br />
높은<br />
높은 진입장벽<br />
진입장벽<br />
진입장벽<br />
진입장벽<br />
CAGR 53%<br />
CAGR 53%<br />
CAGR 53%<br />
CAGR 53%<br />
영업이익률<br />
영업이익률<br />
영업이익률<br />
영업이익률 20%<br />
20%<br />
20%<br />
20%<br />
(2010)<br />
지속성장<br />
지속성장<br />
지속성장<br />
지속성장 사업구조<br />
사업구조<br />
사업구조<br />
사업구조<br />
긴밀한<br />
긴밀한<br />
긴밀한<br />
긴밀한 산/학/관 협력<br />
협력<br />
협력<br />
협력<br />
수출<br />
수출<br />
수출<br />
수출 확대<br />
확대<br />
확대<br />
확대<br />
원가<br />
원가<br />
원가<br />
원가 획기적<br />
획기적<br />
획기적<br />
획기적 절감<br />
절감<br />
절감<br />
절감<br />
신성장<br />
신성장<br />
신성장<br />
신성장 동력<br />
동력<br />
동력<br />
동력 개발<br />
개발<br />
개발<br />
개발<br />
•반도체<br />
반도체<br />
반도체<br />
반도체/LCD<br />
/LCD<br />
/LCD<br />
/LCD 대일<br />
대일<br />
대일<br />
대일의존도<br />
의존도<br />
의존도<br />
의존도탈피<br />
탈피<br />
탈피<br />
탈피<br />
•‘03~<br />
03~<br />
03~<br />
03~’08<br />
08<br />
08<br />
08 연평균<br />
연평균<br />
연평균<br />
연평균매출액<br />
매출액<br />
매출액<br />
매출액53%<br />
53%<br />
53%<br />
53% 성장<br />
성장<br />
성장<br />
성장<br />
•전방산업<br />
전방산업<br />
전방산업<br />
전방산업경기에<br />
경기에<br />
경기에<br />
경기에덜민감<br />
민감<br />
민감<br />
민감<br />
•국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내유일<br />
유일<br />
유일<br />
유일/ 세계<br />
세계<br />
세계<br />
세계3 大 블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크<br />
블랭크마스크업체<br />
업체<br />
업체<br />
업체<br />
•기술<br />
기술<br />
기술<br />
기술/고객<br />
고객<br />
고객<br />
고객/투자<br />
투자<br />
투자<br />
투자장벽<br />
장벽<br />
장벽<br />
장벽<br />
•연관기술<br />
연관기술<br />
연관기술<br />
연관기술산업진출<br />
산업진출<br />
산업진출<br />
산업진출<br />
-터치스크린<br />
터치스크린<br />
터치스크린<br />
터치스크린, 태양<br />
태양<br />
태양<br />
태양전지<br />
전지<br />
전지<br />
전지, 세라믹<br />
세라믹<br />
세라믹<br />
세라믹<br />
•2008<br />
2008<br />
2008<br />
2008 수출<br />
수출<br />
수출<br />
수출비중<br />
비중<br />
비중<br />
비중51.2%<br />
51.2%<br />
51.2%<br />
51.2%<br />
•고부가가치<br />
고부가가치<br />
고부가가치<br />
고부가가치신제품<br />
신제품<br />
신제품<br />
신제품매출<br />
매출<br />
매출<br />
매출본격화<br />
본격화<br />
본격화<br />
본격화<br />
•규모의<br />
규모의<br />
규모의<br />
규모의경제<br />
경제<br />
경제<br />
경제진입<br />
진입<br />
진입<br />
진입<br />
•투자부담<br />
투자부담<br />
투자부담<br />
투자부담최소<br />
최소<br />
최소<br />
-긴장비최소<br />
장비<br />
장비<br />
장비수명주기<br />
수명주기<br />
수명주기<br />
수명주기<br />
•원재료<br />
원재료<br />
원재료<br />
원재료/장비<br />
장비<br />
장비<br />
장비국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국산화<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
국내<br />
유일<br />
유일<br />
유일<br />
유일<br />
유일<br />
유일<br />
유일<br />
유일 기술<br />
기술<br />
기술<br />
기술<br />
기술<br />
기술<br />
기술<br />
기술<br />
고성장<br />
고성장<br />
고성장<br />
고성장<br />
고성장<br />
고성장<br />
고성장<br />
고성장<br />
고수익<br />
고수익<br />
고수익<br />
고수익<br />
고수익<br />
고수익<br />
고수익<br />
고수익<br />
•확장성<br />
확장성<br />
확장성<br />
확장성높은<br />
높은<br />
높은<br />
높은기반기술<br />
기반기술<br />
기반기술<br />
기반기술
34<br />
34<br />
34<br />
34<br />
2009<br />
2009<br />
2009<br />
2009년 2월말<br />
월말<br />
월말<br />
월말 손익<br />
손익<br />
손익<br />
손익 현황<br />
현황<br />
현황<br />
현황<br />
(백만원<br />
백만원<br />
백만원<br />
백만원) 2008<br />
2008<br />
2008<br />
2008년2월<br />
(누계<br />
누계<br />
누계<br />
누계)<br />
매출액<br />
매출액<br />
매출액<br />
매출액 반도체<br />
반도체<br />
반도체<br />
반도체 2,922<br />
2,922<br />
2,922<br />
2,922<br />
LCD<br />
LCD<br />
LCD<br />
LCD 1,642<br />
1,642<br />
1,642<br />
1,642<br />
전체<br />
전체<br />
전체<br />
전체 4,564<br />
4,564<br />
4,564<br />
4,564<br />
매출총이익<br />
매출총이익<br />
매출총이익<br />
매출총이익 913<br />
913<br />
913<br />
913<br />
영업이익<br />
영업이익<br />
영업이익<br />
영업이익 150<br />
150<br />
150<br />
150<br />
세전이익<br />
세전이익<br />
세전이익<br />
세전이익 -197<br />
197<br />
197<br />
197<br />
EBITDA<br />
EBITDA<br />
EBITDA<br />
EBITDA 871<br />
871<br />
871<br />
871<br />
2009<br />
2009<br />
2009<br />
2009년 2월 실적<br />
실적<br />
실적<br />
실적<br />
2008<br />
2008<br />
2008<br />
2008년의<br />
년의<br />
년의<br />
년의고성장<br />
고성장<br />
고성장<br />
고성장지속<br />
지속<br />
지속<br />
지속<br />
2009<br />
2009<br />
2009<br />
2009년2월<br />
(누계<br />
누계<br />
누계<br />
누계)<br />
3,319<br />
3,319<br />
3,319<br />
3,319<br />
4,564<br />
4,564<br />
4,564<br />
4,564<br />
7,883<br />
7,883<br />
7,883<br />
7,883<br />
1,644<br />
1,644<br />
1,644<br />
1,644<br />
684<br />
684<br />
684<br />
684<br />
868<br />
868<br />
868<br />
868<br />
1,416<br />
1,416<br />
1,416<br />
1,416<br />
증가율<br />
증가율<br />
증가율<br />
증가율<br />
(% yoy)<br />
(% yoy)<br />
(% yoy)<br />
(% yoy)<br />
+13.5%<br />
+13.5%<br />
+13.5%<br />
+13.5%<br />
+178.0%<br />
+178.0%<br />
+178.0%<br />
+178.0%<br />
+72.7%<br />
+72.7%<br />
+72.7%<br />
+72.7%<br />
+80.1%<br />
+80.1%<br />
+80.1%<br />
+80.1%<br />
+356.0%<br />
+356.0%<br />
+356.0%<br />
+356.0%<br />
흑전<br />
흑전<br />
흑전<br />
흑전<br />
+62.6%<br />
+62.6%<br />
+62.6%<br />
+62.6%<br />
매출비중<br />
매출비중<br />
매출비중<br />
매출비중/마진<br />
마진<br />
마진<br />
마진<br />
(%)<br />
(%)<br />
(%)<br />
(%)<br />
42.1%<br />
42.1%<br />
42.1%<br />
42.1%<br />
57.9%<br />
57.9%<br />
57.9%<br />
57.9%<br />
100.0%<br />
100.0%<br />
100.0%<br />
100.0%<br />
20.9%<br />
20.9%<br />
20.9%<br />
20.9%<br />
8.7%<br />
8.7%<br />
8.7%<br />
8.7%<br />
11.0%<br />
11.0%<br />
11.0%<br />
11.0%<br />
18.0%<br />
18.0%<br />
18.0%<br />
18.0%
부록<br />
• 상장 정보<br />
• 일반 현황<br />
• 요약 재무제표
공모전주식수<br />
12,494,092주<br />
2,300,000주<br />
액면가<br />
공모<br />
3,500원~4,500<br />
~4,500원<br />
8,050백만원<br />
백만원~10,350<br />
~10,350백만원<br />
공모후<br />
14,794,092주<br />
공모주주<br />
15.5%<br />
최대주주 및<br />
특수관계인<br />
성장성/ 수익성/ 안정성겸비<br />
수요예측일2009<br />
2009년3월25<br />
25일~ 26일<br />
~ 4월2일<br />
14일<br />
최 대 3,845,000 보호예수<br />
2,030,882<br />
5,875,882<br />
벤 처 금 융 2,024,749 유통가능물량<br />
기 타 4,593,461<br />
공 모 주 주 2,300,000<br />
소 계 8,918,210<br />
상장 정보<br />
공모 개요<br />
공모 일정<br />
주주구성<br />
공모주식수<br />
공모희망가액<br />
희망가액(예정<br />
예정) 3,500<br />
공모금액(예정<br />
예정) 8,050 공모후주식수<br />
14,794,092<br />
2,300,000 액면가 500 주식수<br />
보호예수 현황<br />
청약예정일2009<br />
2009년4월1일~ 4<br />
상장예정일2009<br />
2009년4월14<br />
대표주관사대우증권<br />
대우증권<br />
36<br />
1.5%<br />
기타 5.9%<br />
26.0%<br />
일반법인<br />
24.2% 벤처금융<br />
26.9%<br />
외국인
37<br />
37<br />
37<br />
37<br />
일반<br />
일반<br />
일반<br />
일반 현황<br />
현황<br />
현황<br />
현황<br />
회사개요<br />
회사개요<br />
회사개요<br />
회사개요<br />
회사명<br />
회사명<br />
회사명<br />
회사명<br />
주식회사<br />
주식회사<br />
주식회사<br />
주식회사에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
에스앤에스텍<br />
본점소재지<br />
본점소재지<br />
본점소재지<br />
본점소재지<br />
대구광역시<br />
대구광역시<br />
대구광역시<br />
대구광역시달서구<br />
달서구<br />
달서구<br />
달서구호림동<br />
호림동<br />
호림동<br />
호림동9번지<br />
번지<br />
번지<br />
번지<br />
대표이사<br />
대표이사<br />
대표이사<br />
대표이사<br />
남기수<br />
남기수<br />
남기수<br />
남기수<br />
최대주주<br />
최대주주<br />
최대주주<br />
최대주주<br />
정수홍<br />
정수홍<br />
정수홍<br />
정수홍<br />
납입자본금<br />
납입자본금<br />
납입자본금<br />
납입자본금 62<br />
62<br />
62<br />
62억원<br />
억원<br />
억원<br />
억원(공모전<br />
공모전<br />
공모전<br />
공모전)<br />
설립일<br />
설립일<br />
설립일<br />
설립일 2001<br />
2001<br />
2001<br />
2001년2월22<br />
22<br />
22<br />
22일<br />
업종<br />
업종<br />
업종<br />
업종<br />
반도체<br />
반도체<br />
반도체<br />
반도체재료<br />
재료<br />
재료<br />
재료제조<br />
제조<br />
제조<br />
제조<br />
주력<br />
주력<br />
주력<br />
주력 제품<br />
제품<br />
제품<br />
제품<br />
블랭크<br />
블랭크<br />
블랭크<br />
블랭크마스크<br />
마스크<br />
마스크<br />
마스크<br />
홈페이지<br />
홈페이지<br />
홈페이지<br />
홈페이지<br />
www.snstech.co.kr<br />
www.snstech.co.kr<br />
www.snstech.co.kr<br />
www.snstech.co.kr<br />
조직도<br />
조직도<br />
조직도<br />
조직도<br />
대표이사<br />
대표이사<br />
대표이사<br />
대표이사<br />
경영지원부<br />
경영지원부<br />
경영지원부<br />
경영지원부<br />
영업기획부<br />
영업기획부<br />
영업기획부<br />
영업기획부<br />
생산본부<br />
생산본부<br />
생산본부<br />
생산본부<br />
연구소<br />
연구소<br />
연구소<br />
연구소<br />
총무인사팀<br />
총무인사팀<br />
총무인사팀<br />
총무인사팀<br />
구매팀<br />
구매팀<br />
구매팀<br />
구매팀<br />
회계팀<br />
회계팀<br />
회계팀<br />
회계팀<br />
자금팀<br />
자금팀<br />
자금팀<br />
자금팀<br />
영업팀<br />
영업팀<br />
영업팀<br />
영업팀 소형팀<br />
소형팀<br />
소형팀<br />
소형팀 SEMI<br />
SEMI<br />
SEMI<br />
SEMI-CON<br />
CON<br />
CON<br />
CON<br />
대형팀<br />
대형팀<br />
대형팀<br />
대형팀<br />
기획팀<br />
기획팀<br />
기획팀<br />
기획팀 생산관리<br />
생산관리<br />
생산관리<br />
생산관리<br />
FPD1<br />
FPD1<br />
FPD1<br />
FPD1<br />
FPD2<br />
FPD2<br />
FPD2<br />
FPD2<br />
MASK<br />
MASK<br />
MASK<br />
MASK 개발<br />
개발<br />
개발<br />
개발<br />
설비팀<br />
설비팀<br />
설비팀<br />
설비팀<br />
QA / AC<br />
QA / AC<br />
QA / AC<br />
QA / AC
37,530 39,219 35,541<br />
51,526 53,485 57,877<br />
28,844 27,303 27,911<br />
6,247 6,247 6,247<br />
16,334 16,334 16,334<br />
20,304 27,561<br />
7,895 10,440<br />
4,248 4,825<br />
3,648 5,614<br />
877 5,437<br />
요약 재무제표<br />
요약 대차대조표<br />
요약 손익계산서<br />
2006 2007 2008<br />
백만원)<br />
유동자산<br />
유동자산 13,996 14,267 22,336<br />
2006 2007 2008<br />
백만원)<br />
매출액<br />
매출액 20,345<br />
28,200 38,000<br />
비유동자산 (백만원<br />
자산총계<br />
부채총계 37,530 51,526 28,844<br />
비유동자산<br />
자산총계<br />
부채총계<br />
자본금<br />
자본금<br />
자본잉여금 16,334 6,247<br />
자본잉여금<br />
이익잉여금 102<br />
매출원가 20,345 28,200 (백만원<br />
관리비 15,903 20,304<br />
4,442 7,895<br />
4,112 4,248<br />
매출원가<br />
매출총이익 4,442<br />
판매비와 관리비<br />
영업이익 331<br />
영업외수익 1,868<br />
영업외비용 1,710<br />
법인세전이익 488<br />
331 3,648<br />
38<br />
22,682 26,182 29,966<br />
51,526 53,485 57,877<br />
102 3,602 7,457<br />
자본총계<br />
자본총계 22,682<br />
법인세비용 331<br />
1,868 877<br />
부채와 자본총계<br />
자본총계 51,526<br />
당기순이익 157<br />
1,710 1,814 7,096<br />
488 2,711 3,956<br />
331 -789<br />
100<br />
157 3,500 3,856
Change language