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InGrid und GEMGrid: Pixelauslese mit integrierter Gasverstärkung

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<strong>InGrid</strong> <strong>und</strong> <strong>GEMGrid</strong>: <strong>Pixelauslese</strong> <strong>mit</strong> <strong>integrierter</strong><br />

<strong>Gasverstärkung</strong><br />

Christoph Brezina, Klaus Desch, Jochen Kaminski,<br />

Thorsten Krautscheid<br />

Physikalisches Institut<br />

der<br />

Universität Bonn<br />

DPG Frühjahrstagung, Bonn<br />

18. März 2010<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 1


Motivation<br />

GEMs <strong>mit</strong> <strong>Pixelauslese</strong>:<br />

Jedes e - muss ein GEM-Loch<br />

passieren<br />

⇒ Ortsauflösung ist durch<br />

Lochabstand li<strong>mit</strong>iert<br />

⇒ Mehr Auslesekanäle als<br />

benötigt<br />

Fluktuationen in der<br />

<strong>Gasverstärkung</strong><br />

Hohe <strong>Gasverstärkung</strong><br />

Hohe diffusion zwischen GEMs<br />

⇒ Große “Blobs” auf der<br />

Ausleseebene<br />

⇒ Hohe Belegung der<br />

Auslesekanäle<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 2


Integrierte <strong>Pixelauslese</strong><br />

Integrierte <strong>Pixelauslese</strong><br />

Micromegas auf einem Pixelchip<br />

Vorteile:<br />

Niedrige <strong>Gasverstärkung</strong><br />

Gute Ausrichtung<br />

⇒ Ein Loch pro Pixel<br />

Niedrige Diffusion<br />

⇒ Jedes primäre e - wird<br />

auf einem Pixel detektiert<br />

⇒ Niedrige Belegung<br />

Gute dE/dx Bestimmung<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 3


Integrierte <strong>Pixelauslese</strong><br />

Integrierte <strong>Pixelauslese</strong><br />

Micromegas auf einem Pixelchip<br />

Vorteile:<br />

Niedrige <strong>Gasverstärkung</strong><br />

Gute Ausrichtung<br />

⇒ Ein Loch pro Pixel<br />

Niedrige Diffusion<br />

⇒ Jedes primäre e - wird<br />

auf einem Pixel detektiert<br />

⇒ Niedrige Belegung<br />

Gute dE/dx Bestimmung<br />

# pixels<br />

# pixels<br />

Simulation eines ILC-Bunchtrains<br />

3<br />

× 10 Pixel occupancy (GEMs)<br />

140<br />

120<br />

100<br />

80<br />

60<br />

40<br />

20<br />

0<br />

0 5 10 15 20 25 30 35 40 45<br />

# hits<br />

500<br />

400<br />

300<br />

200<br />

100<br />

3<br />

× 10<br />

Pixel occupancy (<strong>InGrid</strong>s)<br />

0<br />

0 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20<br />

# hits<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 3


Herstellung <strong>integrierter</strong> Pixeldetektoren<br />

Post processing von CMOS-Chips:<br />

1 Chip <strong>mit</strong> Schutzschicht aus<br />

amorphen Silizium<br />

2 Negativer Photolack (SU-8)<br />

3 Belichtung <strong>mit</strong> UV-Licht zur<br />

Gestaltung der Säulen<br />

4 Aufbringen der Metallschicht<br />

5 Mustern der Metallschicht<br />

(Löcher formen)<br />

6 Entwickeln des Photolacks zum<br />

leeren des Gebiets um die<br />

Säulen<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 4


Integrierte Pixeldetektoren auf Waferbasis<br />

Schema Bodenlage Gitter<br />

Herstellung am IZM<br />

Herstellung von <strong>InGrid</strong>s <strong>und</strong> <strong>GEMGrid</strong>s auf Waferbasis<br />

Unterschiede in der Herstellung:<br />

BCB anstelle von SU-8<br />

Si-Nitrid anstelle von aSi:H<br />

Dicing nach der Herstellung<br />

Erste <strong>GEMGrid</strong>s hergestellt<br />

<strong>InGrid</strong>s folgen in Kürze<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 5


<strong>GEMGrid</strong>s<br />

<strong>GEMGrid</strong> Testchips<br />

Pad <strong>und</strong> Gitter aus Aluminium<br />

Simultane Auselese von Pad,<br />

Gitter <strong>und</strong> äußerem Ring<br />

Abmessungen:<br />

Lochdurchmesser: ≈ 40 m<br />

Pitch: 55 m<br />

Dicke BCB-Schicht: 50 m<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 6


Testaufbau<br />

Testaufbau:<br />

Driftfeldstärke: 500 V<br />

cm<br />

Maximale Driftstrecke: 2 cm<br />

Gas: Argon/Isobutan (95/5)<br />

Verstärkungsfeld: 300 - 350 V<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 7


Erste Versuche<br />

Bisher:<br />

4 von 9 Chips getestet<br />

Halten Spannung bis<br />

440 V in Luft<br />

330 V in Isobutan<br />

Stromfluss zwischen Gitter <strong>und</strong><br />

Pad<br />

Nächste Schritte:<br />

Test der übrigen Chips<br />

Aufspüren des Kontakts<br />

Wärmebildkamera<br />

Probenadel<br />

Überschläge<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 8


Zusammenfassung <strong>und</strong> Ausblick<br />

Zusammenfassung<br />

Ausblick<br />

<strong>InGrid</strong>s <strong>und</strong> <strong>GEMGrid</strong>s sind Micromegas-Detektoren <strong>mit</strong><br />

hochgranuler <strong>Pixelauslese</strong><br />

Sehr hohe Orts- <strong>und</strong> Energieauflösung<br />

Erste Tests <strong>mit</strong> <strong>GEMGrid</strong>s vom IZM<br />

Weitere Untersuchungen der Struktur <strong>und</strong> ihrer Fehler<br />

⇒ Optimierung des Herstellungsprozess<br />

Verbesserung der Auslese (FADC)<br />

Erste <strong>InGrid</strong>s vom IZM<br />

Analyse der Orts- <strong>und</strong> Energieauflösung<br />

T. Krautscheid Integrierte <strong>Pixelauslese</strong> 9

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