Focus-Stacking – mehr Schärfentiefe

3.5 Focus-Stacking mit PhotoAcute 69
erhält damit automatisch eine Ebenenmaske, welche die Kame-
ra weitgehend maskiert (vor der Filterbearbeitung schützt). Die
Ebenenpalette sieht dabei etwa so aus, wie es Abbildung 3-26
zeigt. Die Ebene haben wir Gaußschen Weichzeichner benannt.
Abb. 3-26:
Nach dem Anlegen
der neuen Ebene bei
aktivierter Auswahl sollte
die Ebenenpalette etwa so
aussehen.
Nun rufen wir über FilterrWeichzeichnenfilterrGaußscher
Weich zeichner) den Gaußschen Weichzeichner auf, setzen Abb. 3-25: Die Funktion AuswahlrFarbbereich hilft uns, eine
den Mauszeiger im Bild zur Kontrolle auf einen Stoffbereich erste Version für eine nachfolgend zu erstellende Ebenemaske
mit Moiré-Muster und schieben den Radius-Regler (siehe Abb.
anzulegen.
3-27) des Weichzeichners langsam so hoch, bis das Moiré und
das Stoffmuster in der Vorschau weitgehend verschwunden sind.
Die Vorschau-Option sollte dabei natürlich aktiviert sein, damit der Effekt
nicht nur in der Vorschau, sondern im gesamten Bild erkennbar ist. Mit
einem Klick auf OK wird die Filteroperation aktiviert.
Da die Ebenenmaske aber für unsere Zwecke noch nicht ganz sauber
war und einen Teil von Kamera und Objektiv nicht vollständig schwarz
maskierte, klicken wir nun in der Ebenenpalette nochmals auf das Icon der
Ebenenmaske, wählen das Pinselwerkzeug, stellen die Pinselfarbe auf
Schwarz und die Pinselhärte auf weich und malen bei aktivierter Ebe nenmaske
(im Bildfenster) nun die Bereiche schwarz, die vor dem Gaußschen
Weichzeichner geschützt sein sollen. Dabei werden die zuvor weichge-
Abb. 3-27:
Regeln Sie langsam den Radius-Regler
hoch, bis das Stoffmuster verschwunden ist.