27.06.2018 Views

NGHIÊN CỨU CHẾ TẠO VÀ ĐÁNH GIÁ KHẢ NĂNG HẤP PHỤ CỦA VẬT LIỆU CACBON MAO QUẢN TRUNG BÌNH TỪ OXIT SILIC

https://app.box.com/s/rywp0rmsbrj6398hsexoe78fftubzlkr

https://app.box.com/s/rywp0rmsbrj6398hsexoe78fftubzlkr

SHOW MORE
SHOW LESS

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

ình đồng nhất thì phương pháp sử dụng chất tạo cấu trúc oxit silic mao quản trung<br />

bình là phương pháp đơn giản, có khả năng điều khiển cấu trúc dễ dàng và tạo được<br />

cấu trúc đồng nhất nhất. Tuy nhiên cũng như các phương pháp sử dụng chất tạo cấu<br />

trúc đã trình bày, phương pháp này cũng có nhược điểm là khá tốn kém và đắt tiền.<br />

2.5. Giới thiệu về vật liệu mao quản trung bình oxit silic:<br />

Trong những năm 1990, họ vật liệu mao quản trung bình M41S đã được tổng hợp<br />

thành công tại các phòng thí nghiệm của hãng Mobil (Mỹ). Những vật liệu này có cấu<br />

trúc mao quản có độ trật tự cao, kích thước mao quản đồng nhất và tùy thuộc vào điều<br />

kiện tổng hợp mà kích thước mao quản thay đổi từ 15-100 Å. Vật liệu mao quản trung<br />

bình oxit silic có nhiều dạng khác nhau, tiết diện mao quản hình lục lăng, tiết diện mao<br />

quản hình vuông … Hình dạng cũng như kích thước mao quản được điều khiển bởi<br />

tương tác giữa tác nhân vô cơ (silic) và chất tạo cấu trúc (chất hoạt động bề mặt) [1],<br />

[24].<br />

2.5.1. Nguồn nguyên liệu tổng hợp vật liệu mao quản trung bình oxit silic.<br />

Để tổng hợp vật liệu mao quản trung bình oxit silic cần có các nguồn nguyên liệu<br />

sau [1], [24]:<br />

- Nguồn silic: silicon alkoxide (C x H y _OSi): TMOS (Tetramethoxysilane), TEOS<br />

(tetraethoxysilane), SiO 2 , Na 2 SiO 3. H 2 O…<br />

- Chất tạo cấu trúc là chất hoạt động bề mặt, hỗn hợp chất hoạt động bề mặt như<br />

chất hoạt động bề mặt cation CTAOH (C 16 H 33 (CH 3 ) 3 NOH), CTACl<br />

DẠY KÈM QUY NHƠN OFFICIAL ST&GT<br />

daykemquynhonbusiness@gmail.com<br />

(cetyltrimethylammonium cloride: C 16 H 33 (CH 3 ) 3 NCl) , CTABr.. hoặc chất hoạt động<br />

bề mặt không ion polyethylene oxide (C 16 H 33 (OCH 2 CH 2 ) 10 OH), polypropylene oxide,<br />

chất hoạt động bề mặt anion…<br />

- Một số chất khác như: H 2 O, axit, bazơ, muối, dung môi….<br />

2.5.2. Cơ chế hình thành vật liệu mao quản trung bình oxit silic.<br />

Có nhiều cơ chế khác nhau được đề nghị để giải thích sự hình thành vật liệu mao<br />

quản trung bình oxit silic trong đó cơ chế định hướng theo cấu trúc tinh thể lỏng là cơ<br />

chế được nhiều nhà khoa học đề nghị [1], [24].<br />

21

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!