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Modélisation électrothermique de transistors MESFET SiC et ...

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Chapitre I LES AMPLIFICATEURS DE PUISSANCE A L’ETAT SOLIDE (SSPA)<br />

La technologie du « recess », perm<strong>et</strong> d’enterrer la grille à une hauteur plus basse que<br />

les électro<strong>de</strong>s <strong>de</strong> drain <strong>et</strong> <strong>de</strong> source. Ce qui perm<strong>et</strong> <strong>de</strong> diminuer le champ électrique entre le<br />

drain <strong>et</strong> la grille <strong>et</strong> d’augmenter ainsi l’excursion maximale du cycle <strong>de</strong> charge. En éloignant<br />

la grille du drain, il est possible d’obtenir le même résultat.<br />

Le <strong>de</strong>uxième type d’avalanche existant dans un <strong>MESFET</strong> provient d’un courant en<br />

excès dans le canal circulant du drain vers la source, pour <strong>de</strong>s tensions grille source (VGS)<br />

supérieures au pincement.<br />

Il faut noter que la tension d’avalanche <strong>de</strong>s <strong>MESFET</strong>s <strong>SiC</strong> est <strong>de</strong> l’ordre <strong>de</strong> 200V <strong>et</strong><br />

nous ne travaillons pas dans ces zones. Pour l’instant nous ne caractérisons pas les<br />

phénomènes d’avalanche car les valeurs élevées <strong>de</strong> ces tensions ne sont pas actuellement<br />

mesurables avec les équipements disponibles sur le banc <strong>de</strong> caractérisation I(V) en<br />

impulsions.<br />

II.3 Etat <strong>de</strong> l’Art <strong>de</strong>s Transistors en Carbure <strong>de</strong> Silicium<br />

Les premiers <strong>transistors</strong> <strong>MESFET</strong>s sur Carbure <strong>de</strong> Silicium ont été réalisés à partir du<br />

polytype 6H-<strong>SiC</strong> parce que celui-ci présente <strong>de</strong> meilleures qualités cristallines. Ainsi,<br />

différentes équipes <strong>de</strong> recherche ont mis au point <strong>de</strong>s <strong>transistors</strong> <strong>MESFET</strong>s 6H-<strong>SiC</strong>, en<br />

particulier l’équipe <strong>de</strong> J.W. Palmour à Cree Research [31]. Puis, rapi<strong>de</strong>ment, le polytype 4H-<br />

<strong>SiC</strong> est apparu plus intéressant : en eff<strong>et</strong>, ce polytype possè<strong>de</strong> une mobilité dont la valeur est<br />

<strong>de</strong>ux fois supérieure à celle du polytype 6H-<strong>SiC</strong>. Grâce à ses propriétés physiques <strong>et</strong><br />

électriques comparables à celles du polytype 6H-<strong>SiC</strong>, le polytype 4H-<strong>SiC</strong> s’est avéré être le<br />

candidat idéal pour réaliser <strong>de</strong>s <strong>transistors</strong> <strong>MESFET</strong>s <strong>de</strong> puissance.<br />

En 1994, Charles E. Weitzel [32] <strong>de</strong> Phoenix Corporate Research Laboratories<br />

(Motorola) présente les résultats en puissance obtenus avec un transistor <strong>MESFET</strong> 4H-<strong>SiC</strong>. Il<br />

est constitué <strong>de</strong> <strong>de</strong>ux doigts <strong>de</strong> grille <strong>de</strong> 166 µm <strong>et</strong> la longueur <strong>de</strong> grille est <strong>de</strong> 0.7 µm. Une<br />

fréquence maximale d’oscillation <strong>de</strong> 12.9 GHz associée à une fréquence <strong>de</strong> transition <strong>de</strong> 6.7<br />

GHz a été mesurée.<br />

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