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5. Modélisation du transistor MOS

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Effet de substrat <strong>du</strong> <strong>transistor</strong> : g s g mb g mbs<br />

Permet de répercuter les variations de la<br />

tension V BS sur la valeur de la tension de seuil<br />

g<br />

∂I<br />

D D tn<br />

D<br />

mb<br />

= =<br />

= −µ<br />

nCOX<br />

( VGS<br />

−Vtn<br />

) = −gm<br />

∂VSB<br />

∂Vtn<br />

∂V<br />

∂V<br />

SB<br />

tn<br />

L<br />

g<br />

g<br />

mb<br />

m<br />

∂I<br />

∂V<br />

⋅<br />

g<br />

mb<br />

=<br />

∂I<br />

∂ I<br />

DS<br />

∂ V<br />

BS<br />

W<br />

=<br />

2<br />

V<br />

SB<br />

γ g<br />

m<br />

+<br />

2 Φ<br />

= χ (≈0.1 à 0.3). g mb est souvent négligé devant g m<br />

À prendre en compte si Vsb AC est non nulle<br />

F<br />

∂V<br />

∂V<br />

tn<br />

SB<br />

=<br />

2<br />

V<br />

SB<br />

γ<br />

+ 2Φ<br />

F<br />

Résistance de sortie <strong>du</strong> <strong>transistor</strong> : r ds<br />

représente la résistance de sortie <strong>du</strong> <strong>transistor</strong> et<br />

modélise l’effet de mo<strong>du</strong>lation de la longueur <strong>du</strong> canal<br />

1<br />

r<br />

ds<br />

=<br />

g<br />

ds<br />

=<br />

∂ I<br />

DS<br />

∂ V<br />

DS<br />

≅<br />

λ I<br />

D<br />

µ<br />

nCOX<br />

W<br />

2<br />

I<br />

D<br />

= ( VGS<br />

−Vtn<br />

) (1 + λVDS<br />

)<br />

2 L<br />

Effet de mo<strong>du</strong>lation de canal court<br />

nCOX<br />

W<br />

I<br />

D<br />

= µ ( VGS<br />

−Vtn<br />

)<br />

2 L<br />

Courant de saturation<br />

2<br />

La résistance de sortie dépend <strong>du</strong> paramètre technologique<br />

λ dont la valeur est mal contrôlée (mesurée pratiquement)<br />

VA=1/ λ est la tension Early (d’après l’appellation BJT)

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