Tesi di MASTER in - surfacetreatments.it
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La posizione che maggiormente <strong>in</strong>teressa noi è la T3 poiché quella è la superficie del substratomaggiormente esposta al trattamento <strong>di</strong> deposizione.I vantaggi del L.P.C.V.D. possono esser facilmente evidenziati rappresentando graficamente la fasedella deposizione (Fig.5.6.).Al sistemada vuoto≅10 -5 mbarSpirariscaldanteD<strong>it</strong>o a T1ReattoreSchlenkHeatHeatSubtrato a T3Precursore <strong>in</strong> equilibriotra fase solida-vapore≅10 -5 mbarFilm depos<strong>it</strong>atoHeatHeatMuffola che riscalda il precursoreTabella 5.6.: Rappresentazione del processo L.P.C.V.D.