31.07.2013 Views

[Tiedoston alaotsikko] - Tampereen teknillinen yliopisto

[Tiedoston alaotsikko] - Tampereen teknillinen yliopisto

[Tiedoston alaotsikko] - Tampereen teknillinen yliopisto

SHOW MORE
SHOW LESS

Create successful ePaper yourself

Turn your PDF publications into a flip-book with our unique Google optimized e-Paper software.

4. XPS pinta-analyyttisenä tutkimusmenetelmänä 36<br />

Kuva 4.9: Emissiokulman vaikutus informaatiosyvyyteen. Mukailtu lähteestä [4 s. 91]<br />

Emissiokulman muuttaminen tarkoittaa, että näytettä käännetään suhteessa detektorille<br />

kulkeutuvien elektronien suuntaan. Kuten kaavasta 4.6 voidaan havaita, emissiokulman<br />

muuttaminen vaikuttaa intensiteettiin tietyltä syvyydeltä ja sitä kautta myös informaatiosyvyyteen,<br />

jolta 95% saadusta signaalista on peräisin. Emissiokulman kasvattaminen<br />

aiheuttaa sen, että detektorille päätyvät elektronit ovat kulkeneet näytemateriaalissa<br />

enintään aiemmin luvussa 4.3.1 mainitun 3λ matkan, mutta tässä tapauksessa eivät<br />

kohtisuoraan pintaa kohti. Trigonometrian perusteella voidaan laskea kyseisen emissiokulman<br />

tuottama informaatiosyvyys, joka on kohtisuora etäisyys pinnasta. Tässä työssä<br />

käytetyn 45 asteen emissiokulman informaatiosyvyys on likimain 2,1λ (<br />

). Koska<br />

informaatiosyvyys pienenee pintakerrosten signaalin suhteellinen osuus kasvaa. Emissiokulman<br />

40–45 astetta käyttäminen huokoisen näytteen mittauksessa on suoraviivainen<br />

ja tehokas metodi, kuten Peter J. Compson asian ilmaisee [51 s. 658]. [19, 44, 51]

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!