Compte-rendu de TP

1. nous nous centrons sur une imperfection ;2. nous déplaçons la platine d’un certain vecteur (mouvement vrai) ;3. nous ramenons le faisceau sur l’imperfection précédente à l’aide de l’optique électronique (beamshift, engendrant éventuellement une erreur) ;4. nous répétons les étapes 2 et 3 pour d’autres vecteurs ;5. nous recommençons à l’étape 2 avec un grandissement de plus en plus grand, jusqu’à être satisfaitsdu résultat.Les déplacements pour un grandissement donné sont schématisés sur la Figure 8 de la présente page.Zones servant au calibrage1/ Déplacement relatif parrapport à la platine(mouvement de la *platine*)2/ Mouvement de retour dufaisceau (« beam shift »)Figure 8 – Synoptique des déplacements effectuéslors de la calibration du champ d’écriture. Le référentieladopté est celui du bâti de la machine.Afin d’illustrer la nécessité d’effectuer cette étape, nous insolerons en sus des motifs de test de dose,un motif de test de la calibration du champ d’écriture, constitué :– d’une « longue » piste de 5 µm de large, pour laquelle aucune procédure de calibration du champd’écriture ne sera mise en place ;– de la même piste, avec cette fois une calibration du champ d’écriture effective.III.6Création d’un système de coordonnéesPour résumer, nous avons effectué, pour l’instant, les étapes suivantes :1. régler la mise au point et corriger l’astigmatisme ;2. mesurer le courant reçu par unité de surface, afin d’être en mesure de calculer le t dwell ;3. calibrer le champ d’écriture, pour éviter les problèmes lors des raccords de champ.Il ne nous reste donc plus qu’à convenir d’un système de coordonnées afin de pouvoir nous repérersur l’échantillon. Ceci est particulièrement important puisque nous ne pouvons pas aller observer la zoneà insoler sans l’insoler. . .Pour définir notre système de coordonnées, il nous suffit de choisir un point d’origine (0, 0), auquelnous adjoignons deux axes ⃗u et ⃗v 10 arbitraires.Dans la pratique, nous plaçons l’origine assez proche de défauts du wafer facilement observables, neserait-ce que pour faciliter l’observation ultérieure sous microscope optique des motifs insolés.On remarquera que nous nous sommes placés dans le cas d’un premier niveau. Toutefois, il est bond’être conscients du fait que s’il s’était agi d’un deuxième niveau, les choses auraient été plus compliquées.En effet, il se serait alors agi de se repositionner par rapport à un ancien système de coordonnées, toutcela sans exposer au faisceau d’électrons la zone d’intérêt. Cela constitue un tout autre défi. . .10. Deux axes suffisent pour former une base de notre espace de travail puisque nous travaillons dans un plan.9