Compte-rendu de TP

(a) Avec calibration : nous n’observons pas de défautapparent de la piste insolée (de largeurthéorique 5 µm), ce qui laisse à penser que leraccord de champ est plutôt correct.(b) Sans calibration : nous observons qu’une portionde la piste a été insolée deux, sans queces deux insolations ne se superposent parfaitement.Figure 13 – Raccords de champ d’écriture avec ou sans procédure de calibration dudit champ.IV.4.bExplicationsCe léger renflement visible sur la Figure 13b laisse à penser qu’avant la calibration ad-hoc, le champd’écriture réel était légèrement plus grand que celui prévu par la machine. A priori, nous serions dans lecas illustré à la Figure 7b page 8.Par contre, une fois la calibration effectuée, le champ estimé semble bien concorder avec le champréel puisqu’il n’y a plus de double insolation, ni de rupture dans la piste.VConclusion(s)Si la lithographie par faisceau d’électrons présentent de nombreux avantages, dont deux majeurs sontsa très bonne résolution ainsi que sa grande versatilité, elle n’en possède pas moins un défaut particulièrementrédhibitoire dans de nombreux cas, à savoir son extrême lenteur. S’il ne fallait pas autantde temps pour insoler une surface décente, cette technique serait reine. Malheureusement, à finesse desmotifs égale, elle ne fait absolument pas le poids face aux techniques de fabrication collectives telles quela lithographie optique.Si nous devions résumer les étapes du TP, nous pourrions retenir qu’après avoir enrésiné un waferrecyclé de silicium avec du PMMA, nous avons eu l’occasion de voir les grandes étapes du process, tellesque :– la mise au point, le choix de la taille optimale du step size, notamment par compromis sur laprofondeur de champ, le tout étant lié à la distance de travail ;– la détermination de la durée d’insolation t dwell nécessaire à la bonne activation de la résine, ainsique la procédure de test de dose afin d’ajuster au mieux l’énergie déposée ;– la nécessité d’effectuer une calibration du champ d’écriture (dès lors que les motifs à insoler nerentrent pas en entier dans le champ) afin d’éviter les doubles insolations (visible sur l’expérienceque nous avons mené en TP) ou au contraire les ruptures dans les motifs (a priori non observé aucours du TP).Suite au développement de notre résine ainsi insolée, nous avons pu constater par des observations aumicroscope optique l’existence de phénomènes venant perturber l’insolation théorique de nos motifs. Nousavons ainsi pu voir à l’œuvre les effets de proximité, qui traduisent la réinsolation des zones adjacentesau point visé par les électrons rétrodiffusés dans le substrat. Nous avons pu illustrer ces effets dans deuxcas typiques :14