20.07.2013 Views

Фундаментальное материаловедение

Фундаментальное материаловедение

Фундаментальное материаловедение

SHOW MORE
SHOW LESS

You also want an ePaper? Increase the reach of your titles

YUMPU automatically turns print PDFs into web optimized ePapers that Google loves.

Сегрегационные эффекты и пространственное расслоение при ионной<br />

имплантации прокатанных фольг сплава Cu-Ni<br />

Новоселов А.А., Баянкин В.Я.<br />

аспирант<br />

Физико-технический институт УрО РАН, Ижевск, Россия<br />

E–mail: less@fti.udm.ru<br />

Методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, рентгеноструктурного<br />

анализа и измерения микротвердости исследовалось влияние имплантации ионов бора и<br />

аргона при различных плотностях ионного тока (20-50 мкА/см 2 ) на химический состав и<br />

атомную структуру медно-никелевых фольг. В качестве объекта исследований<br />

использовалась прокатанная фольга состава Ni20Cu80 и Ni40Cu60 толщиной 40 мкм.<br />

Анализ химического состава облученных образцов методом рентгеновской<br />

фотоэлектронной спектроскопии показал, что в облученных образцах формируется<br />

немонотонная осциллирующая зависимость состава сплава и концентрации<br />

имплантированных ионов по глубине. Имплантация химически активного элемента –<br />

бора – приводит к более высокому содержанию меди в приповерхностном слое<br />

толщиной 20 нм. Анализ рентгеноэлектронных спектров выявил наличие боридов<br />

металлов.<br />

Исследования микротвердости имплантированных фольг[1], как<br />

стуктурозависимого параметра материала, выявили упрочнение как облученной, так и<br />

необлученной стороны фольги, а рентреноструктурный анализ показал, что межатомные<br />

расстояния облученных образцов не отличаются от исходных в пределах погрешности<br />

измерений для всех плотностей тока и типов ионов, за исключением случая<br />

имплантации ионов Ar + с наибольшей плотностью ионного тока 50 мкА/см 2 . Таким<br />

образом, изменения атомной структуры после облучения не происходит, независимо от<br />

типа ионов и плотности тока (кроме указанного случая), и изменение микротвердости<br />

фольги, по-видимому, связано с изменением дефектной структуры материала и<br />

дислокационным упрочнением поверхностных слоев.<br />

Предлагается объяснение наблюдаемого композиционного расслоения вследствие<br />

радиационно-индуцированной сегрегации и преимущественного связывания атомов<br />

определенного сорта с потоками дефектов[2]. Кроме того, дефектная структура<br />

прокатанных фольг является исходно сильно неравновесной, напряженной и<br />

обладающей высокой плотностью дислокаций[3]. Ионная имплантация приводит к<br />

трансформации дефектной структуры, что вызывает локальные градиенты механических<br />

напряжений. Их наличие является еще одной причиной возникновения потоков<br />

дефектов и, соответственно, атомов вещества.<br />

По полученным результатам были сделаны следующие выводы:<br />

1. Химический состав поверхностных слоев и микротвердость облученных фольг<br />

немонотонно зависят от плотности ионного тока.<br />

2. Предварительный отжиг приводит к уменьшению амплитуды осцилляций<br />

химического состава, что указывает на дефекто-зависимый, а не спинодальный<br />

характер расслоения.<br />

3. Формирование осциллирующей немонотонной зависимости отношения<br />

концентраций Ni/Cu и концентрации бора в поверхностных слоях может быть<br />

связано с изменением дефектной структуры прокатанных фольг, инициируемой<br />

ионной бомбардировкой, вызывающей локальные градиенты механических<br />

напряжений, что, в свою очередь, обуславливает диффузионное перераспределение<br />

компонентов системы.<br />

Литература<br />

1. Тетельбаум Д.И., Азов А.Ю. // Вестник ННГУ, сер. ФТТ, 2001, Вып.2(5), С.120-129.<br />

2. Комаров Ф.Ф. Ионная имплантация в металлы // М.: Металлургия, 1990, 216 с.<br />

3. Хмелевская В.С. Неравновесные состояния в твердом теле // Обнинск: ИАТЭ, 2004.

Hooray! Your file is uploaded and ready to be published.

Saved successfully!

Ooh no, something went wrong!