5 Herstellung und Charakterisierung der Matrix
5 Herstellung und Charakterisierung der Matrix
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<strong>Herstellung</strong> <strong>und</strong> <strong>Charakterisierung</strong> <strong>der</strong> <strong>Matrix</strong> Seite 60<br />
desorbieren bis ca. 400 °C nach Kondensation. Daraus entstehen zunächst gespannte<br />
<strong>und</strong> nach Relaxation ab 400 °C stabile Siloxangruppen, die den Anteil an Q3- <strong>und</strong> Q4-<br />
vernetztem SiO2 erhöhen. Bei ca. 400 °C steigt die Aktivierungsenergie <strong>der</strong> Dehydroxy-<br />
lierung von 25 kcal/mol auf mindestens 50 kcal/mol an, was durch den stark endother-<br />
men Peak angezeigt wird. Zu diesem Zeitpunkt läuft die Desorption <strong>der</strong> geminalen <strong>und</strong><br />
eines Großteils <strong>der</strong> freien OH-Gruppen ab (s. Abbildung 15).<br />
H<br />
HH<br />
≡ − OH ) + ( ≡ Si − OH ) → ( ≡ Si − O − Si ≡)<br />
+ H O ↑<br />
Si 2<br />
( Gleichung 31<br />
O<br />
OO<br />
H<br />
H<br />
H<br />
O<br />
H<br />
O<br />
HH<br />
H<br />
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Si<br />
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O Si<br />
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innere Si-OH<br />
Silanolgruppen<br />
Si Si<br />
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H<br />
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HH<br />
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Si<br />
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Si O<br />
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Si<br />
Si<br />
Si<br />
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Si<br />
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Si<br />
O<br />
Si<br />
O H<br />
190 °C<br />
H<br />
O<br />
O<br />
Si<br />
Si<br />
Si<br />
innere Si-OH<br />
Silanolgruppen<br />
Si<br />
Si<br />
O<br />
H<br />
O<br />
400 °C<br />
H O<br />
Si<br />
H<br />
H<br />
Si Si<br />
Si<br />
O<br />
Si<br />
Si<br />
Si<br />
O<br />
Si<br />
Si<br />
keine inneren<br />
Silanolgruppen<br />
Si<br />
Si<br />
Si Si<br />
O O<br />
Si<br />
Si<br />
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Si<br />
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1200 °C<br />
Si<br />
Si<br />
Si<br />
keine inneren<br />
Silanolgruppen<br />
Si<br />
Si<br />
900 °C<br />
O Si<br />
H<br />
Si<br />
Si Si<br />
Si<br />
OO<br />
O<br />
OO<br />
O<br />
O<br />
H O<br />
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Si<br />
O<br />
Si<br />
O<br />
Si<br />
O H<br />
O<br />
innere Si-OH<br />
Silanolgruppen<br />
Abbildung 15: Dehydratations- <strong>und</strong> Dehydroxylierungsvorgänge mit Abnahme <strong>der</strong> vicinalen <strong>und</strong><br />
geminalen Silanolgruppen zur Veranschaulichung nach Zhuravlev [33] bei Calcinierung<br />
von SiO2<br />
Die Untersuchung <strong>der</strong> Feststoffstandards führte zu modifizierten TG-DTA-Ergebnissen,<br />
beispielhaft in Abbildung 16 für ein mit 50 ppm Pd dotiertes Material. Darin ist nicht<br />
primär eine Reaktion des Metalls mit dem Trägermaterial zu sehen, da die Metallmenge<br />
zur direkten Detektion mit dieser Methode zu gering ist. Vielmehr ist die Auswirkung<br />
<strong>der</strong> Metalldotierung auf die Kondensation <strong>und</strong> die Vernetzung des SiO2 zu erkennen. Im<br />
Temperaturbereich bis 1000 °C ist ein Masseverlust bis ca. 9 % auszumachen. Dieser<br />
deutlich geringere Wert im Vergleich zu <strong>und</strong>otiertem SiO2 weist auf eine Wirkung <strong>der</strong><br />
dotierten Analyten im Kondensationsprozess hin (s. Abbildung 16a), die sich in einer<br />
weiter fortgeschrittenen Vernetzung zeigt. Diese Wirkung manifestiert sich auch in <strong>der</strong><br />
gleichmäßiger ablaufenden Dehydroxylierung. Die bei reinem SiO2 auftretende, plötz-<br />
lich einsetzende stark endotherme Reaktion ist bei den metalldotierten Materialien sehr<br />
Si Si<br />
O<br />
H<br />
O<br />
Si<br />
HH<br />
H<br />
Si<br />
Si<br />
OO<br />
O<br />
HH<br />
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OO<br />
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