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5 Herstellung und Charakterisierung der Matrix

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<strong>Herstellung</strong> <strong>und</strong> <strong>Charakterisierung</strong> <strong>der</strong> <strong>Matrix</strong> Seite 60<br />

desorbieren bis ca. 400 °C nach Kondensation. Daraus entstehen zunächst gespannte<br />

<strong>und</strong> nach Relaxation ab 400 °C stabile Siloxangruppen, die den Anteil an Q3- <strong>und</strong> Q4-<br />

vernetztem SiO2 erhöhen. Bei ca. 400 °C steigt die Aktivierungsenergie <strong>der</strong> Dehydroxy-<br />

lierung von 25 kcal/mol auf mindestens 50 kcal/mol an, was durch den stark endother-<br />

men Peak angezeigt wird. Zu diesem Zeitpunkt läuft die Desorption <strong>der</strong> geminalen <strong>und</strong><br />

eines Großteils <strong>der</strong> freien OH-Gruppen ab (s. Abbildung 15).<br />

H<br />

HH<br />

≡ − OH ) + ( ≡ Si − OH ) → ( ≡ Si − O − Si ≡)<br />

+ H O ↑<br />

Si 2<br />

( Gleichung 31<br />

O<br />

OO<br />

H<br />

H<br />

H<br />

O<br />

H<br />

O<br />

HH<br />

H<br />

H<br />

O<br />

OO<br />

O<br />

O<br />

Si<br />

Si<br />

H<br />

O Si<br />

H O Si<br />

H<br />

HH<br />

HH<br />

HH<br />

OO<br />

HH<br />

HH<br />

H<br />

HH<br />

OO<br />

OO<br />

H<br />

OO<br />

O<br />

HH<br />

H<br />

H<br />

H<br />

O<br />

H<br />

H<br />

O<br />

H<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

O H<br />

HH<br />

H<br />

O<br />

H<br />

innere Si-OH<br />

Silanolgruppen<br />

Si Si<br />

O<br />

O<br />

H<br />

H<br />

O<br />

HH<br />

H<br />

Si<br />

H<br />

OO<br />

O<br />

HH<br />

H<br />

H<br />

O<br />

H<br />

Si O<br />

Si<br />

H<br />

O<br />

O<br />

H<br />

H H<br />

OO<br />

O<br />

HH<br />

H<br />

HH<br />

H<br />

OO<br />

O<br />

OO<br />

HH<br />

HH<br />

HH<br />

H<br />

OO<br />

HH<br />

H<br />

HH<br />

OO<br />

OO<br />

Si<br />

Si<br />

Si<br />

H<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

O H<br />

190 °C<br />

H<br />

O<br />

O<br />

Si<br />

Si<br />

Si<br />

innere Si-OH<br />

Silanolgruppen<br />

Si<br />

Si<br />

O<br />

H<br />

O<br />

400 °C<br />

H O<br />

Si<br />

H<br />

H<br />

Si Si<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

Si<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

Si<br />

keine inneren<br />

Silanolgruppen<br />

Si<br />

Si<br />

Si Si<br />

O O<br />

Si<br />

Si<br />

OO<br />

H<br />

OO<br />

O<br />

H<br />

HH<br />

HH<br />

OO<br />

O<br />

H<br />

O<br />

O<br />

H<br />

H<br />

O<br />

H<br />

O<br />

OO<br />

HH<br />

H<br />

H O<br />

Si<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

Si<br />

1200 °C<br />

Si<br />

Si<br />

Si<br />

keine inneren<br />

Silanolgruppen<br />

Si<br />

Si<br />

900 °C<br />

O Si<br />

H<br />

Si<br />

Si Si<br />

Si<br />

OO<br />

O<br />

OO<br />

O<br />

O<br />

H O<br />

O<br />

OO<br />

HH<br />

H<br />

OO<br />

O<br />

Si<br />

Si<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

H<br />

OO<br />

O<br />

OO<br />

O<br />

H<br />

H<br />

H<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

O<br />

Si<br />

O H<br />

O<br />

innere Si-OH<br />

Silanolgruppen<br />

Abbildung 15: Dehydratations- <strong>und</strong> Dehydroxylierungsvorgänge mit Abnahme <strong>der</strong> vicinalen <strong>und</strong><br />

geminalen Silanolgruppen zur Veranschaulichung nach Zhuravlev [33] bei Calcinierung<br />

von SiO2<br />

Die Untersuchung <strong>der</strong> Feststoffstandards führte zu modifizierten TG-DTA-Ergebnissen,<br />

beispielhaft in Abbildung 16 für ein mit 50 ppm Pd dotiertes Material. Darin ist nicht<br />

primär eine Reaktion des Metalls mit dem Trägermaterial zu sehen, da die Metallmenge<br />

zur direkten Detektion mit dieser Methode zu gering ist. Vielmehr ist die Auswirkung<br />

<strong>der</strong> Metalldotierung auf die Kondensation <strong>und</strong> die Vernetzung des SiO2 zu erkennen. Im<br />

Temperaturbereich bis 1000 °C ist ein Masseverlust bis ca. 9 % auszumachen. Dieser<br />

deutlich geringere Wert im Vergleich zu <strong>und</strong>otiertem SiO2 weist auf eine Wirkung <strong>der</strong><br />

dotierten Analyten im Kondensationsprozess hin (s. Abbildung 16a), die sich in einer<br />

weiter fortgeschrittenen Vernetzung zeigt. Diese Wirkung manifestiert sich auch in <strong>der</strong><br />

gleichmäßiger ablaufenden Dehydroxylierung. Die bei reinem SiO2 auftretende, plötz-<br />

lich einsetzende stark endotherme Reaktion ist bei den metalldotierten Materialien sehr<br />

Si Si<br />

O<br />

H<br />

O<br />

Si<br />

HH<br />

H<br />

Si<br />

Si<br />

OO<br />

O<br />

HH<br />

H<br />

OO<br />

O

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