2. Waferbonden
2. Waferbonden
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<strong>2.</strong> <strong>Waferbonden</strong><br />
die Qualität der Fügegrenzfläche aus. Auch diese vergleichsweise hohen Stufenstrukturen<br />
können nicht durch die Verbiegung der Wafer geschlossen werden.<br />
Aber auch eine Kontamination der Oberfläche auf molekularer Ebene, wie etwa durch<br />
angelagerte Kohlenwasserstoff- oder Metallverbindungen, sollte verhindert werden. Zwar<br />
haben derartige Oberflächenverschmutzungen nur einen geringen Einfluß auf das spontane<br />
Bondverhalten der Wafer (Bondwellengeschwindigkeit kann sich reduzieren - siehe <strong>2.</strong>3<br />
Waferbondprozeß), aber sie verändern die Eigenschaften der Bondgrenzfläche während der<br />
Wärmebehandlung teilweise erheblich. So führen organische Kontaminationen beispielsweise<br />
zur Reduzierung der maximal erreichbaren Bondenergie und können ausgezeichnete<br />
Nukleationskeime für Grenzflächenblasen bilden [29], während sich metallische Verunreinigungen<br />
auf die elektrischen Eigenschaften der Grenzschicht auswirken. In Abbildung<br />
<strong>2.</strong>3 wird schematisch dargestellt, wie man sich eine ungereinigte hydrophile Siliziumoberfläche<br />
vorzustellen hat.<br />
nicht-polare<br />
organische<br />
Komponenten<br />
Wasser<br />
OH<br />
OH<br />
Luft<br />
OH<br />
adsorbierte<br />
Gase<br />
polare<br />
organische<br />
Komponenten<br />
Oxid<br />
ionische<br />
Komponenten<br />
Siliziumwafer<br />
Abbildung <strong>2.</strong>3.: Schematische Darstellung einer ungereinigten hydrophilen Siliziumoberfläche<br />
[3]<br />
In jedem Fall ist eine chemische Reinigung der Oberflächen vor dem Bondprozeß erforderlich,<br />
um die beschriebenen Verunreinigungen zu minimieren. Gleichzeitig können<br />
durch eine gezielte chemische Behandlung die Oberflächenspezies dahingehend verändert<br />
werden, daß eine zusätzliche Aktivierung oder Passivierung (entsprechend hydrophil<br />
oder hydrophob) stattfindet. Dabei darf es jedoch zu keiner wesentlichen Erhöhung der<br />
Mikrorauhigkeit kommen. Klar ist, daß zur Vermeidung einer erneuten Kontamination<br />
auch die Arbeitsutensilien und die chemischen Reinigungslösungen, ja selbst das Wasser<br />
zum Spülen sowohl auf die Partikelbelastung als auch auf die Fremdionenkonzentrationen<br />
bezogen, von höchster Reinheit sein müssen.<br />
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