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Etude de matériaux ferromagnétiques doux à forte aimantation et à ...

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Introduction générale<br />

Ce manuscrit est constitué <strong>de</strong> six parties : une introduction suivie <strong>de</strong> cinq chapitres.<br />

L’introduction, intitulée « Contexte », présente le cadre dans lequel ce travail s’est<br />

inscrit en posant les enjeux <strong>de</strong> la téléphonie mobile ainsi que l’importance <strong>de</strong>s composants<br />

passifs intégrés. Nous nous attar<strong>de</strong>rons <strong>à</strong> décrire l’état <strong>de</strong> l’art <strong>de</strong>s inductances ainsi que les<br />

solutions envisagées pour améliorer leurs performances.<br />

Le chapitre 1 rappelle les notions <strong>de</strong> magnétisme indispensables pour la<br />

compréhension <strong>de</strong>s résultats présentés dans la suite du manuscrit puis développe un état <strong>de</strong><br />

l’art spécifique aux inductances <strong>ferromagnétiques</strong> ainsi qu’aux <strong>matériaux</strong> magnétiques pour la<br />

RF. Nous exposerons ensuite notre stratégie en matière <strong>de</strong> développement matériau.<br />

Le chapitre 2 traite <strong>de</strong> l’élaboration <strong>de</strong>s films FeTaN <strong>et</strong> FeHfN <strong>et</strong> expose l’ensemble<br />

<strong>de</strong>s propriétés microstructurales, magnétiques <strong>et</strong> électriques. Des analyses plus détaillées<br />

seront notamment consacrées au comportement dynamique en fonction <strong>de</strong> la fréquence ainsi<br />

qu’<strong>à</strong> la stabilité thermique <strong>de</strong>s films <strong>et</strong> cela pour différentes concentrations en azote.<br />

Le troisième chapitre adopte la même démarche pour le développement matériau que<br />

celle choisie dans le chapitre 2 mais ouvre <strong>à</strong> <strong>de</strong>s solutions n<strong>et</strong>tement plus exploratoires. On y<br />

décrit les résultats obtenus pour les films magnétiques <strong>à</strong> <strong>forte</strong> résistivité qui sont <strong>de</strong>s variantes<br />

<strong>de</strong>s films étudiés au chapitre 2. En particulier, <strong>de</strong>ux approches sont considérées, l’une avec<br />

FeHfO qui est <strong>à</strong> rapprocher directement <strong>de</strong> FeHfN <strong>et</strong> l’autre avec FeHfNO qui résulte <strong>de</strong> la<br />

combinaison <strong>de</strong>s <strong>de</strong>ux autres. Nous insisterons en particulier dans ce chapitre sur les<br />

comportements insolites <strong>de</strong> certains <strong>de</strong>s films fabriqués <strong>et</strong> sur leurs propriétés extraordinaires<br />

au sens littéral du terme.<br />

Le chapitre 4 présente le détail <strong>de</strong>s conditions <strong>et</strong> les résultats <strong>de</strong> l’intégration du<br />

matériau magnétique possédant la plus gran<strong>de</strong> maturité. Il s’agit du FeHfN en version laminée<br />

par une couche d’isolant. Après un rappel <strong>de</strong>s étapes <strong>de</strong> validation <strong>de</strong> c<strong>et</strong>te version du<br />

matériau, nous exposerons <strong>et</strong> analyserons l’intégralité <strong>de</strong>s résultats <strong>de</strong> tests électriques <strong>de</strong>s<br />

différentes inductances <strong>ferromagnétiques</strong> ainsi fabriquées qui comportent <strong>de</strong> nombreuses<br />

variantes.<br />

Le chapitre 5 est dédié <strong>à</strong> la simulation électromagnétique <strong>de</strong>s inductances<br />

<strong>ferromagnétiques</strong> intégrant la version avec FeHfN <strong>et</strong> explorant plus largement les potentiels<br />

offerts par les versions plus résistives FeHfNO. Nous y démontrerons la pertinence <strong>de</strong> l’idée<br />

d’un redimensionnement pour un gain en compacité <strong>et</strong> traiterons <strong>de</strong> la problématique <strong>de</strong>s<br />

hauts facteurs <strong>de</strong> qualité sur <strong>de</strong>s considérations inattendues.<br />

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