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Etude de matériaux ferromagnétiques doux à forte aimantation et à ...

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Contexte<br />

2.4.2 Cu épais en AIC<br />

Le passage <strong>de</strong> la technologie classique aluminium « front-end » vers la technologie<br />

cuivre épais « Above IC » perm<strong>et</strong> d’améliorer drastiquement les performances <strong>de</strong>s<br />

inductances en terme <strong>de</strong> facteur <strong>de</strong> qualité. En eff<strong>et</strong>, le cuivre possè<strong>de</strong> une meilleure<br />

conductivité (ρ ∼ 6.0 10 7 S/m) que l’aluminium (ρ ∼ 3.8 10 7 S/m) <strong>et</strong> le facteur <strong>de</strong> qualité<br />

maximum est amélioré <strong>de</strong> plus <strong>de</strong> 60 % [28] (figure 24). Les procédés <strong>de</strong> fabrication<br />

d’inductances planaires en cuivre épais (4 <strong>à</strong> 5 µm) sont compatibles avec les contraintes <strong>de</strong>s<br />

circuits <strong>de</strong> microélectronique <strong>et</strong> sont déj<strong>à</strong> en production industrielle.<br />

Figure 24 : Résultats <strong>de</strong> simulation du facteur <strong>de</strong> qualité d’une inductance en aluminium comparé <strong>à</strong> celui d’une<br />

inductance en cuivre [28].<br />

2.5 Designs alternatifs visant <strong>à</strong> augmenter le facteur <strong>de</strong> qualité<br />

Il existe d’autres phénomènes relevant aussi <strong>de</strong> la résistance propre <strong>de</strong> l’inductance qui<br />

affectent gran<strong>de</strong>ment le facteur <strong>de</strong> qualité. En particulier, les inductances spirales sont le siège<br />

<strong>de</strong> répartitions très inhomogènes du courant <strong>à</strong> haute fréquence en raison <strong>de</strong>s différences <strong>de</strong><br />

potentiel entre spires voisines. En eff<strong>et</strong>, chaque spire possè<strong>de</strong> une longueur déroulée d’autant<br />

plus faible qu’on va vers le centre <strong>de</strong> l’inductance. Les spires les plus centrales sont alors<br />

caractérisées par <strong>de</strong>s résistances plus faibles <strong>et</strong> une concentration plus intense du champ<br />

magnétique. Elles seront donc le siège d’eff<strong>et</strong>s induits plus marqués. Il est donc important <strong>de</strong><br />

symétriser ou d’homogénéiser la distribution du courant tout le long <strong>de</strong> la spirale. Il existe<br />

plusieurs solutions <strong>à</strong> cela.<br />

2.5.1 Dérivation horizontale<br />

Les spires immédiatement voisines sont réalisées sur <strong>de</strong>ux niveaux <strong>de</strong> métal distincts<br />

<strong>et</strong> <strong>de</strong> façon symétrique <strong>de</strong> sorte que les tours compl<strong>et</strong>s intérieurs <strong>et</strong> extérieurs ont globalement<br />

la même résistance <strong>et</strong> la même inductance propre (<strong>et</strong> le même potentiel électrique). C<strong>et</strong>te<br />

approche, appelée dérivation horizontale, peut supprimer le courant d’encombrement <strong>et</strong> donc<br />

25

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