SL

TABELA – TEHNIKE NANAŠANJA – TEHNIČNE OPOMBE
Postopki, našteti v stolpcu 1 tabele – nadaljevanje:
b. 4. nanašanje s katodnim lokom izkorišča sprejemno katodo materiala, ki oblikuje
nanos, in ob trenutnem stiku z ozemljeno vžigalno elektrodo pride na površini
katode do praznjenja loka. Nadzorovano gibanje loka razjeda površino katode in
ustvarja visokoionizirano plazmo. Anoda je lahko stožec ali konus, pritrjen na
obrobju katode, z izolatorjem, ali pa komora. Polarizacija podlage se uporablja za
nanašanje zunaj vidne linije.
Opomba: Ta opredelitev ne zajema nanašanja z naključnim katodnim lokom z
nepolariziranimi podlagami.
5. Ionsko nanašanje je posebna oblika splošnega postopka TE-PVD, v kateri se za
ioniziranje nanosnega materiala izkorišča vir plazme ali vir ionov, in negativni
polarizirani material se uporablja za podlage zaradi lažje ekstrakcije nanosnih
materialov iz plazme. Uporaba reaktivnih elementov, evaporizacije trdnih delcev v
komori, v kateri poteka postopek, in uporaba monitorjev za meritve optičnih
značilnosti in debeline prevlek med potekom postopka so običajne modifikacije
postopka.
c. Utrjevanje je površinska modifikacija ali površinska plast, kjer je substrat potopljen v
mešanico prahov, ki sestoji iz:
1. nanosnih kovinskih prahov (navadno aluminij, krom, silicij ali njihova
kombinacija);
2. aktivatorja (navadno soli halidov) in
3. inertnega prahu, najpogosteje aluminijev boksit.
Substrat in mešanica prahov sta v retorti, ogreti na temperaturo med 1 030 K (757 °C)
in 1 375 K (1 102 °C), za čas, ki zadošča za nanos prevleke.
17331/11 ADD 1 JS/ka 193
PRILOGA DGK 2B SL