SL

h. večplastne maske s faznimi premičnimi plastmi;
Opomba: Predmet nadzora v točki 3B001(h) niso večplastne maske s faznimi
premičnimi plastmi, narejene za izdelavo spominskih enot, ki niso
predmet nadzora v točki 3A001.
i. Tiskarske litografske šablone, izdelane za integrirana vezja iz točke 3A001.
3B002 preizkuševalna oprema, izdelana posebej za preizkušanje izdelanih ali neizdelanih
3C Materiali
polprevodniških naprav in posebej zanjo izdelane komponente in pribor:
a. za preizkušanje parametrov S tranzistorskih naprav pri frekvencah nad 31,8 GHz;
b. se ne uporablja;
c. za preizkušanje mikrovalovnih integriranih vezij iz točke 3A001(b)(2).
3C001 Heteroepitaksialni materiali, sestavljeni iz "podlage" z naloženimi plastmi, pridobljeni z
epitaksialno rastjo, iz naslednjih materialov:
a. silicija (Si);
b. germanija (Ge);
c. silicijevega karbida (SiC) ali
d. "III/V spojin" galija ali indija.
17331/11 ADD 1 JS/ka 232
PRILOGA DGK 2B SL