標準握筆姿勢手指之受力分析 - 國立高雄應用科技大學

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876蔡明章、沈彥宇、周佑恩、高自平、黃世疇書寫短撇劃時 , 筆尖由右往左下 , 食指施力 , 而由中指及拇指阻擋 , 最大壓力產生在食指處 98 ± 2.2g。各手指壓力 - 時間關係 , 如圖 12 所示。圖 12 短撇劃時各手指壓力 - 時間圖書寫捺劃時 , 筆尖由左上往右下 , 食指及拇指施力 , 而中指阻擋 , 最大壓力在食指 103 ± 3.4g。各手指壓力 - 時間關係 , 如圖 13 所示。圖 13 捺劃時各手指壓力 - 時間圖
標準握筆姿勢手指之受力分析 877本研究發現 , 標準式握筆姿勢 , 在書寫點、橫、直、勾、仰橫、長撇、短撇、捺等劃時 , 受到筆劃走向、書寫時穩定度及運筆距離長短等不同 , 而對姆指、食指及中指產生不同壓力。” 點 ” 最大壓力為 118±6.4 (g)、”橫 ” 最大壓力為 132±4.3 (g)、” 直 ” 最大壓力為 121±5.8 (g)、” 勾 ” 最大應力為 85±1.2 (g)、” 仰橫 ” 最大壓力為108±7.2(g)、” 長撇 ” 最大壓力為 93±1.6 (g)、” 短撇 ” 最大壓力為 98±2.2 (g)、” 捺 ” 最大壓力為 103±3.4(g)。姆指於書寫 ” 橫 ” 劃時推動筆桿書寫 , 有最大壓力 80±1.8(g); 食指書寫 ” 直 ” 劃時推動筆 , 有最大壓力 121±5.8 (g);中指書寫 ” 橫 ” 劃時穩定筆桿 , 有最大壓力 132±4.3 (g)。4. 結論由本研究得知 , 以標準握筆姿勢 , 書寫橫劃時 , 姆指用指腹 , 將筆向右推 , 食指協助導引 , 中指的第一關節處肌肉 , 產生阻力穩定筆桿 , 所以姆指與中指在橫劃書寫時 , 有最大的受力 , 若長時間的書寫 , 對中指造成負擔 , 需適當休息。橫劃與直劃書寫時 , 為維持筆劃穩定度與筆尖壓力一致性 , 對中指與食指有較大的作用壓力 , 每隔一段時間 , 必須讓手指休息 , 避免受傷。書寫由左上往右下 , 而使食指在書寫點 , 直、長撇、短撇及捺劃時施加力量 , 而勾劃及仰橫劃則為阻擋功能 , 致使在食指第一節關節處 , 肌肉容易產生疼痛。本文並未考慮桌、椅的高度相對受測者身高及桌與椅相對位置等因素 , 未來的實驗 , 可以將此因素列入 ,達到更完整的結果。誌謝感謝國立高雄應用科技大學機械工程系江家慶助理教授 , 及光纖感測暨雷射加工實驗室研究生 , 協助、指導與支援實驗相關設備。參考文獻[1] 高百均 ,「手寫筆的長度、直徑、材質與紙面書寫成效之初探」, 中華民國設計學會學術研究成果研討會 , 國立台灣科技大學 ,pp.453~459,2002 年 5 月 4 日。[2] Drury,C G andPizatella.T , ”Hand Placement In Manual Material Handing,” Human Factors 25(5),pp.551-562,1983.[3] Pheastant. S and Neill .D , “Performance in Gripping and Turning –A Study in Hand/Handing Effectiveness,” AppliedErgonomices 6, pp.205-206 , 1975.[4] Kao, H.S.R., ”Differential effects of writing instruments on handwriting performance,” Acta Psychologica Taiwanica ,”Vol.21, pp. 9-13, 1979.[5] 駱秋君 ,「 PDA 觸控筆與辨識率、舒適度和穩定度關係之初探」, 人因工程應用與設計之發展趨勢研討會論文集 ,國立清華大學 ,131-136 頁 ,2002 年 3 月 9 日。[6] 許秀菊 ,「國小低年級學童書寫動作調整之行動研究」, 國立台北師範學院幼兒教育學系碩士論文 ,2004。[7] 盧瑞琴、陳金鈴、宋蕙君、林意淳 ,「不同握筆姿勢其尺側屈腕肌能量耗用之比較」人因工程學會暨國科會相關計劃研究成果研討會 ,44-49 頁 ,2000 年 4 月 3 日。[8] 葉天傑 ,「外力式長週期與傳統式短週期光纖光柵的特性分析及實驗量測」, 國立台灣大學機械工程學研究所碩士論文 ,2001。[9] Hill ,K.O., Fujii ,Y. and John, D.C., B.S. Kawasaki, “Photosensitivity in optical fiber wave guides: application to reflectionfilter fabrication,” Appl. Phy. Lett., Vol.32,pp.647-649, 1978.[10] Hill, K.O., Malo, B., Bilodeau, F., Johnson, D.C. and Albert ,J., “Bragg Gratings Fabricated in Monomode PhotosensitiveOpitcal Fiber by UV Exposure through a Phase Mask,” Applied Physics Letters, Vol.10, 1035-1037, 1993.
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