Werner Freimann, Facilities Process Support - Stadtentwässerung ...
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April 2008<br />
C O N F I D E N T I A L<br />
Entwicklung der Prozesswasserbehandlung in der<br />
Halbleiterindustrie, AMD in Dresden<br />
<strong>Werner</strong> <strong>Freimann</strong>, <strong>Facilities</strong> <strong>Process</strong> <strong>Support</strong>
Agenda<br />
Überblick AMD<br />
Ver- und Entsorgung (schematisch)<br />
Abwasserbehandlung (Kupfer)<br />
Übersicht Systeme<br />
Entwicklung<br />
Ausblick<br />
2 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
Allgemeiner Überblick<br />
3 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
Über AMD<br />
Advanced Micro Devices (AMD) ist ein<br />
führender, global tätiger Hersteller von<br />
innovativen Prozessoren für die Computing-,<br />
Graphik- und Consumer Electronics-Märkte.<br />
Hauptsitz Sunnyvale, Kalifornien<br />
(Silicon Valley), USA<br />
Mitarbeiter ~ 16.000 weltweit<br />
Umsatz 2007 $ 6 Milliarden<br />
davon 78 % außerhalb<br />
der USA<br />
Gegründet:<br />
1969<br />
4 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
AMD – Leistungsstark wie nie zuvor<br />
Sunnyvale<br />
Austin<br />
Business Operations<br />
Boston<br />
Markham<br />
DRESDEN<br />
Investitionen 1996 – 2007: ~ $ 6 Mrd.<br />
Bangalore<br />
Vertriebsstandorte<br />
Produktion und Entwicklung<br />
Design Zentren<br />
Penang /<br />
Kuala Lumpur<br />
Labuan F.T.<br />
Andere Standorte<br />
Singapur<br />
5 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
AMD in Dresden<br />
2008<br />
Fab 36<br />
DDC/OSRC Fab 38 Bump/Test<br />
EVC 2<br />
EVC 1<br />
Facility<br />
6 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
AMD in Dresden: Chronologie<br />
August<br />
Mai<br />
Dezember<br />
März<br />
Februar<br />
Oktober<br />
April<br />
3.000. Mitarbeiter<br />
2.500. Mitarbeiter<br />
2.000. Mitarbeiter<br />
1.500. Mitarbeiter<br />
1.000. Mitarbeiter<br />
500. Mitarbeiter<br />
1. Mitarbeiter<br />
2007<br />
2006<br />
2005<br />
2004<br />
2003<br />
2002<br />
2001<br />
2000<br />
1999<br />
1998<br />
1997<br />
1996<br />
1995<br />
November<br />
Mai<br />
Januar<br />
Oktober<br />
Mai<br />
Oktober<br />
Mai<br />
April<br />
Dezember<br />
Juni<br />
Juni<br />
Oktober<br />
Mai<br />
September<br />
Oktober<br />
Dezember<br />
Fab 36 vollständig ausgerüstet<br />
BTF in Betrieb genommen<br />
Reinraum BTF „ready for equipment“<br />
10 Jahre AMD in Dresden<br />
Ankündigung Fab 38 / BTF / Fab 36 Ausbau<br />
Grand Opening Fab 36<br />
Richtfest AMD Fab 36<br />
Erste Auslieferung des AMD Opteron<br />
Fertigstellung 2. Reinraumerweiterung<br />
Fertigstellung 1. Reinraumerweiterung<br />
Erste Auslieferung des AMD Athlon<br />
Grand Opening Fab 30<br />
Reinraum Fab 30 „ready for equipment“<br />
Richtfest Fab 30<br />
1. Spatenstich Fab 30<br />
Investitionsankündigung<br />
7 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
Querschnitte & Dimensionen<br />
Transistor<br />
8 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung AMD in Dresden in der Industrie C O N F I D E N T I A L
Wasser Ver- und Entsorgung<br />
(schematisch)<br />
Trinkwasser<br />
Drewag<br />
3 Quellen:<br />
Coschütz<br />
Hosterwitz<br />
Rödern<br />
420 m³/h<br />
100 m³/h<br />
(ca. 40%)<br />
Rec.<br />
UPW-<br />
Erzeugung<br />
112 m³/h<br />
210 m³/h<br />
Verwertung<br />
Entsorgung<br />
EVC<br />
Produktion +<br />
BTF<br />
< 1 m³/h<br />
Abwasserbehandlung<br />
Brauchwasser<br />
Sanitär<br />
Abluftwäscher<br />
(90 m³/h)<br />
66 m³/h<br />
29 Teilströme<br />
Verdunstung<br />
(7 m³/h)<br />
Neutralisation<br />
HF<br />
Kupfer<br />
Feststoff/Slurry<br />
Sn/Pb/Ni<br />
Stadtentwäss.<br />
9 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L<br />
Kat 1<br />
325 m³/h<br />
Kat 1<br />
Kat 2<br />
21 m³/h<br />
(46 m³/h)
Ver- und Entsorgung Kapazitäten Fab 36<br />
UPW-Erzeugung 300 m³/h<br />
Chemikalienversorgung 6.000 m³/Jahr => 700 l/h<br />
(ca. 200 Ch. für die Produktion)<br />
Neutralisation 3 x 220 m³/h<br />
HF-Behandlung 2 x 18 m³/h<br />
Cu-Behandlung 2 x 12 m³/h<br />
Slurry-Behandlung 2 x 25 m³/h<br />
(Sn/Pb-Behandlung 2 x 7,5 m³/h)<br />
Ni-Behandlung (im Bau) 2 x 2 m³/h<br />
10 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
Kupfer-Anlage<br />
Linie 1 - 10,0 m³/h<br />
Kupfer-Anlage<br />
Linie 2 - 10,0m³/h<br />
Slurry-Copper-<br />
Drain (SCD)<br />
Hebeanlage<br />
Salzsäure<br />
Eisen-II-Chlorid<br />
Kalkmilch<br />
Klarwasser<br />
Vorbehandlung - Kupferabwasser Fab 36<br />
Salzsäure<br />
Natronlauge<br />
Kalkmilch<br />
Vorlage- Pumpen ReaktionsReaktions- Flockungs- Vorklärer<br />
Schrägklärer<br />
behälter<br />
behälter 1 behälter 2 behälter<br />
Slurry-Copper-<br />
Drain (SCD)<br />
Hebeanlage<br />
Salzsäure<br />
Eisen-II-Chlorid<br />
Kalkmilch<br />
Klarwasser<br />
Salzsäure<br />
Natronlauge<br />
Kalkmilch<br />
Flockungshilfsmittel<br />
Filtrat<br />
Dünnschlammbehälter<br />
Dünnschlamm-<br />
Pumpen<br />
Vorlage- Pumpen ReaktionsReaktionsFlockungs- Vorklärer<br />
Schrägklärer<br />
behälter<br />
behälter 1 behälter 2 behälter<br />
Flockungshilfsmittel<br />
Filtrat<br />
Dünnschlammbehälter<br />
Dünnschlamm-<br />
Pumpen<br />
Klarwasser<br />
Pumpen<br />
Schlammeindicker<br />
Klarwasser<br />
Pumpen<br />
Schlammeindicker<br />
Schlammpumpen<br />
Schlammpumpen<br />
11 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L<br />
Filterpresse<br />
Abfallcontainer<br />
Klarwasser<br />
Klarwasser<br />
Filtratbehälter<br />
Kupfernachbehandlung<br />
Kupfernachbehandlung
Kupfe rvorbe ha ndlung<br />
Lini e 1 - 10,0m³/h<br />
Kupfe rvorbe ha ndlung<br />
Lini e 2 - 10,0m³/h<br />
Nachbehandlung - Kupferabwasser Fab 36<br />
Regenerat<br />
Copper Rinse<br />
Drain (CRD) 2m³<br />
Stadtwasser<br />
Regenerat<br />
Klarwasser<br />
Klarwasser<br />
Natronlauge (NaOH)<br />
CRD-Vorlagebehä<br />
lter<br />
Natronlauge (NaOH)<br />
Salzsäure (HCl)<br />
CRD<br />
Pumpe n 2, 0m³/h<br />
Salzsäure (HCl)<br />
Reinwasser 2,0m³/h<br />
Reinwasser 2,0m³/h<br />
Vorl age tank<br />
Na c hbehandlung<br />
Klarwasser (CRD)<br />
Klarwasser (CRD)<br />
Pumpen<br />
1 2,0 m³/h<br />
Flockungshilsmittel<br />
Kalkm ilch<br />
Stadtwasser<br />
Eisen-II-Chloride<br />
Natronlauge (NaOH)<br />
Eisen-III-Chloride<br />
Salzsäure (HCl)<br />
Pumpen<br />
1 2,0 m³/h<br />
CRD<br />
Regenerat<br />
Chargenbehandl<br />
ung 1<br />
Akti vkohle fil ter Sele ktivaustauscher<br />
zum Schlammei ndicke r 1<br />
zum Schlammei ndicke r 2<br />
zur Zinn-Bl ei -Behandl ung<br />
Flockungshilsmittel<br />
Kalkm ilch<br />
Stadtwasser<br />
Eisen-II-Chloride<br />
Natronlauge (NaOH)<br />
Eisen-III-Chloride<br />
Salzsäure (HCl)<br />
CRD<br />
Regenerat<br />
Cha rgenrgenbehandl ung 2<br />
Akti vkohle fil ter Sele ktivaustauscher<br />
Salz- Natrons<br />
äure l auge<br />
Dünns<br />
chlamm<br />
Pumpen<br />
Salz- Natrons<br />
äure l auge<br />
Rück spülwa sser<br />
Klarwasser<br />
Pumpen 2,0m³/h<br />
12 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L<br />
Reinwas ser<br />
Regenerat<br />
Rück spülwa sser<br />
Reinwas ser<br />
Regenerat<br />
Reinwasser<br />
Reinwas serbehä<br />
lter<br />
Klarwas se r CRD<br />
Regenerat<br />
Regenerat<br />
Pumpen<br />
Reinwas ser<br />
Pumpe n 2, 0m³/h<br />
Regeneratbehälter<br />
Reinwas ser<br />
Neutralis ation
Entwicklung<br />
Kupfertechnologie: erste Serienproduktion weltweit => Abwasserbehandlung<br />
Vorteile:<br />
Geringerer Widerstand => geringerer Stromverbrauch<br />
Schnellerer Stromfluss<br />
Verkleinerung der Leiterbahnen<br />
Weniger Prozessschritte<br />
C4 Bump-Technologie: Sn/Pb Abwasser => Abwasserbehandlung (Ziel: bleifreier Prozess)<br />
EDTA Vermeidung durch Umstellung auf Trockenätzprozess 2005/2006<br />
C4 Bump-Technologie: Ni Abwasser => Abwasseranlage derzeit im Bau<br />
HF Reduzierung in der Abluft => Maßnahmen zur Reduzierung der Treibhausgase<br />
(PFCs) => Erweiterung der HF-Abwasseranlage<br />
PFOS Reduzierung bereits 2003 (USA, Anreicherung in Organismen = frühzeitige<br />
Reduzierung), mittlerweile PFOS freie Produktion seit Nov. 2007, Fab 36 von<br />
Beginn an PFOS-frei<br />
13 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
Ausblick<br />
In der Halbleiterindustrie sind immer diverse Szenarien im Gespräch und in Planung, von<br />
denen die aussichtsreichsten kurzfristig umgesetzt werden. Interne Betrachtung der Verund<br />
Entsorgungsmöglichkeiten finden parallel statt und werden ebenfalls kurzfristig<br />
umgesetzt, mit dem Ziel innovative Technologien einzusetzen, bzw. zu entwickeln.<br />
Am „Horizont“ sichtbar:<br />
Entwicklung eines neuen Beschichtungsprozesses => ggf. Cyanid-Behandlung notwendig<br />
Kobalt-Behandlung noch nicht konkret<br />
Phosphor nicht kritisch aber unter Beobachtung<br />
Für die weitere Zusammenarbeit mit der <strong>Stadtentwässerung</strong> und der<br />
Umweltbehörde wünschen wir uns:<br />
Weiterhin sehr gute und fachlich enge Zusammenarbeit zwischen <strong>Stadtentwässerung</strong>,<br />
Umweltbehörde und AMD zur Erarbeitung auch kurzfristiger, pragmatischer Lösungen.<br />
Frühzeitige Information an AMD bei geplanten Satzungsänderungen, um ggf. bei AMD<br />
geplante Erweiterungen zu vermeiden.<br />
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AMD, the AMD Arrow logo, AMD Athlon, AMD Opteron, AMD Sempron, AMD Turion, AMD Virtualization, AMD-V, AMD<br />
LIVE!, AMD PowerNow!, AMD Cool’n’Quiet, ATI, the ATI logo, Imageon, Radeon, CrossFire, Avivo, TV Wonder, Theater,<br />
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15 24.04.2008 Prozesswasserbehandlung in der Industrie C O N F I D E N T I A L
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