Prozessmesstechnik, 80150048 - Mysick.com
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Moderne <strong>Prozessmesstechnik</strong><br />
von SICK<br />
Bewährte Analysatoren und Lösungen aus einer Hand<br />
für die zukunftsorientierte <strong>Prozessmesstechnik</strong>
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PROZESSMESSTECHNIK<br />
Moderne <strong>Prozessmesstechnik</strong><br />
von SICK<br />
Zukunftsorientierte Lösungen für die Anforderungen der<br />
<strong>Prozessmesstechnik</strong><br />
In Zeiten des beschleunigten Wandels, weitreichender Veränderungen und Umwälzungen<br />
in Wirtschaft, Politik und Klimaschutz stehen Produkte und Lieferketten, die sich<br />
über einen langen Zeitraum etabliert hatten, auf dem Prüfstand. Die Prozessindustrie<br />
ist von diesem Wandel in doppelter Hinsicht betroffen.<br />
Auf der einen Seite steigen die Anforderungen an die Industrie. Knapper werdende<br />
Rohstoffe und sich verteuernde Energieträger verlangen nach mehr Effizienz. Immer<br />
deutlicher drücken sich Umweltbedenken in global verschärfenden Vorschriften und<br />
Gesetzen aus. Die Globalisierung und der zunehmende Wettbewerb aus den Schwellenländern<br />
bieten die Chance – aber auch das Risiko – eines weltweiten Absatzmarktes<br />
und Wettbewerbs.<br />
Auf der anderen Seite spricht man der Prozessindustrie eine Schlüsselrolle bei der<br />
Bewältigung dieser Herausforderungen zu. Viele Produkte, die zukünftig eine gute und<br />
nachhaltige Lebensweise von Milliarden von Menschen ermöglichen sollen, beruhen<br />
auf Prozessen, die sich noch in Versuchsstadien befinden oder noch gar nicht erfunden<br />
sind. Zukunftsszenarien basieren auf der Entwicklung von pflanzenbasierten<br />
Rohstoffen, neuen Dämmstoffen und neuartigen Beschichtungen.<br />
SICK ist ein kompetenter Partner in diesem Wandel. Zum einen kann SICK durch<br />
bewährte Produkte für die <strong>Prozessmesstechnik</strong> und ausgeprägte Expertise seine<br />
Kunden und Partner kompetent unterstützen, um mit ihnen gemeinsam maßgeschneiderte<br />
Lösungen zur Effizienzsteigerung von Produktionsanlagen und Prozessen<br />
zu erarbeiten.<br />
Zum anderen steht SICK für Innovations- und Technologieführerschaft und ist mit<br />
seinem weltweiten Vertriebs- und Servicenetzwerk ein starker Partner für die Überwachung<br />
neuer Verfahren und Messaufgaben an Ihrer Seite.<br />
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| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
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Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
Regionen mit starkem Energieverbrauch"<br />
Überzeugende Leistung<br />
Unternehmen. ......................4<br />
Branchen und Lösungen:<br />
Betriebsmessungen .................6<br />
Branchen und Lösungen:<br />
Prozessmessungen. .................8<br />
Technologien und Messprinzipien .... 10<br />
Geräte und Systeme .............. 12<br />
Projekt-Engineering und Systembau .. 14<br />
Konnektivität –<br />
richtig verbunden mit SICK. ......... 16<br />
Dienstleistungen und Service ....... 18<br />
Anforderungen an<br />
Prozessmesssysteme .............. 20<br />
Gasanalysatoren ................. 22<br />
Analysensysteme ................. 26<br />
Gasdurchflussmessgeräte . ......... 28<br />
Glossar. ......................... 30<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
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Unternehmen<br />
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PROZESSMESSTECHNIK<br />
„Sensor Intelligence.“ ist ein Versprechen<br />
Mit Einsatz und Erfahrung entstehen bei SICK Sensorlösungen für die industrielle<br />
Automatisierung. Von der Entwicklung bis zur Serviceleistung: Tag für Tag setzen alle<br />
Mitarbeiter ihr Können dafür ein, dass Sensoren und Applikationslösungen von SICK<br />
ihre vielseitigen Funktionen optimal erfüllen.<br />
Unternehmen mit Erfolgskultur<br />
Mit Produkten und Dienstleistungen helfen über 5.800<br />
Mitarbeiter den Anwendern von SICK-Sensortechnologie,<br />
ihre Produktivität zu erhöhen und ihre Kosten zu senken.<br />
Seinen Stammsitz hat das 1946 gegründete Unternehmen in<br />
Waldkirch, Deutschland, und es ist mit fast 50 Tochtergesellschaften<br />
und Beteiligungen sowie zahlreichen Vertretungen<br />
global aktiv.<br />
4<br />
Die Menschen arbeiten gern bei SICK. Das zeigt sich in regelmäßigen<br />
Auszeichnungen als „Arbeitgeber des Jahres“. Diese<br />
gelebte Arbeitsplatzkultur hat eine starke Anziehungskraft auf<br />
qualifizierte Fachkräfte. Sie finden ein Unternehmen vor, in dem<br />
sich Karriere und Lebensqualität das Gleichgewicht halten.<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Innovation schafft Vorteile im Wettbewerb<br />
Sensorik von SICK vereinfacht Abläufe, optimiert Prozesse<br />
und ermöglicht nachhaltiges Produzieren. Dafür forscht und<br />
entwickelt SICK an vielen Standorten weltweit. Im Dialog mit<br />
Kunden und in Zusammenarbeit mit Hochschulen entstehen<br />
innovative Sensorprodukte und Lösungen. Sie sind die Basis<br />
für das zuverlässige Steuern von Prozessen, den Schutz von<br />
Menschen und eine umweltfreundliche Produktion.<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
Leitbild mit weitreichender Wirkung<br />
Unternehmen <br />
<br />
SICK baut auf eine gewachsene Unternehmenskultur, setzt<br />
auf finanzielle Unabhängigkeit und technologische Offenheit.<br />
Innovation haben SICK zu einem Technologie- und Marktführer<br />
gemacht. Denn erst durch gezieltes Erneuern und Verbessern<br />
sind universell einsetzbare Sensoren auf lange Sicht erfolgreich.<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
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Branchen und Lösungen<br />
Betriebsmessungen<br />
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PROZESSMESSTECHNIK<br />
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Branche Anforderung Lösungen von SICK<br />
Kraftwerke<br />
Abfallverbrennung<br />
Bei der Energieerzeugung besonders aus<br />
fossilen Brennstoffen erfährt die moderne<br />
Gasanalyse eine immer größere Bedeutung.<br />
Neben den eingeführten Verfahren zur Reduzierung<br />
von Staub-, NO x<br />
- und SO 2<br />
-Konzentrationen<br />
gewinnen Gase wie HCl oder SO 3<br />
bei<br />
der Verbrennung von alternativen Brennstoffen<br />
an Relevanz.<br />
Beispiele für Betriebsmessungen:<br />
• Überwachung des Kohlebunkers/<br />
Kohlemühle<br />
• Kesselwandmessung zur Detektion potenzieller<br />
Korrosionsgefahren des Kessels<br />
SICK-Analysensysteme ermöglichen eine<br />
kontinuierliche Überwachung von Prozessen.<br />
Konzentrationsverläufe von Gaskomponenten,<br />
Staub und Gasvolumenströme werden<br />
exakt gemessen, Prozessabweichungen<br />
identifiziert und Abläufe optimiert.<br />
--CO, O 2<br />
• In-situ: TRANSIC100LP (O 2<br />
)<br />
• Extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />
--CO, O 2<br />
, CO-Korrosionsniveau:<br />
• In-situ: GM960<br />
• Feuerungsführung inkl. Verbrennungsluft --O 2<br />
, Volumenstrom<br />
• In-situ: ZIRKOR302, FLOWSIC100<br />
• Steuerung der Absorptionsmitteldosierung<br />
• Rauchgasentstickungsanlage (DeNO x<br />
),<br />
z. B. NH 3<br />
-Schlupfüberwachung<br />
--SO 3<br />
, H 2<br />
SO 4<br />
, HCl<br />
• Extraktiv: MCS100E HW<br />
--NO 2<br />
, NH 3<br />
• In-situ: GM32, GM700<br />
• Entstaubung (Gewebefilter, Elektrofilter) --Opazität, Staubkonzentration<br />
• In-situ: DUSTHUNTER T200, SP100<br />
• Rauchgasentschwefelung (DeSO x<br />
) --SO 2<br />
• In-situ: GM32<br />
• Extraktiv: MCS300P HW<br />
Für Abfallverbrennungsanlagen sowie bei<br />
Mitverbrennung von Abfällen gilt es gemäß<br />
gesetzlicher Vorgaben und Bestimmungen folgende<br />
Schadstoffe kontinuierlich zu messen:<br />
HCl, HF, NH 3<br />
, CO, NO x<br />
(NO + NO 2<br />
), SO 2<br />
, C ges<br />
,<br />
Staub und Quecksilber. Dazu kommen die<br />
Parameter H 2<br />
O, O 2<br />
, Druck und Temperatur.<br />
Für Betriebsmessungen sind folgende Messstellen<br />
von Bedeutung:<br />
Für die Verbrennungsoptimierung und für die<br />
nachfolgenden Rauchgasreinigungsprozesse<br />
kommen sowohl In-situ- als auch Extraktiv-<br />
Messungen in Frage. Die Messstellenbedingungen<br />
und die Messaufgabe entscheiden<br />
über die bevorzugte Technologie. SICK ist<br />
als einziger Hersteller in der Lage die „beste<br />
Lösung“ aus einer Hand anzubieten.<br />
• Feuerungsführung/Optimierung --O 2<br />
, CO<br />
• In-situ: ZIRKOR302, GM901<br />
• Rauchgasentstickung SNCR/SCR --NO 2<br />
, NH 3<br />
• In-situ: GM32, GM700<br />
• Rohgaswäschereingang - - HCl, SO 2<br />
, H 2<br />
O (O 2<br />
)<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P HW<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Branchen und Lösungen <br />
Betriebsmessungen<br />
Branche Anforderung Lösungen von SICK<br />
Zementherstellung<br />
Anlagen zur Herstellung von Zementklinker<br />
und Zement, zum Brennen und Mahlen<br />
von Kalkstein. Die Verwendung alternativer<br />
Brennstoffe zur Einsparung von Primärbrennstoffen<br />
gewinnt an Bedeutung. So gilt es alle<br />
relevanten Prozesse kontinuierlich und genau<br />
zu messen und zu überwachen.<br />
Beispiele für Betriebsmessungen:<br />
• Überwachung des Kohlebunkers/<br />
der Kohlemühle<br />
Für die hohen Anforderungen an Zementanlagen<br />
ist die SICK-Messtechnik besonders<br />
geeignet. Denn es stehen durch das breite<br />
Produktportfolio optimale Lösungen für alle<br />
Betriebsparameter, auch für hohe Temperaturen<br />
und Staubkonzentrationen, zur Verfügung<br />
--CO, O 2<br />
• In-situ: TRANSIC100LP (O 2<br />
)<br />
• Extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />
• Drehrohrofen-Einlauf --CO, NO, O 2<br />
, SO 2<br />
, CO 2<br />
, HCl<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P HW mit<br />
SCP3000<br />
• Vorwärmer und Kalzinator --<br />
CO, NO, SO 2<br />
, O 2<br />
• Kalt-extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />
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Metall und Stahl<br />
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Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
• Entstaubung (Elektrofilter) --Staubkonzentration<br />
• In-situ: DUSTHUNTER SP100<br />
• Rauchgas-Konditionierung --Volumenstrom<br />
• FLOWSIC100<br />
• Explosionsschutz am Elektrofilter --CO<br />
• Kalt-extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />
Anlagen zum Schmelzen oder Sintern von<br />
Erzen sowie zur Herstellung von NE-Metallen.<br />
Dort herrschen raue Umgebungsbedingungen<br />
wie z. B. hohe Temperaturen und Staubbelastungen.<br />
Die in den Prozessen entstehenden<br />
Gase werden weiterverarbeitet und müssen<br />
entsprechend gemessen und überwacht<br />
werden.<br />
Beispiele für Betriebsmessungen:<br />
Analysentechnik und optische Messtechnik<br />
stellen bei Herstellung, Verarbeitung, Transport<br />
und Lagerung von Stahl und anderen<br />
Metallen eine hohe Produktqualität und eine<br />
störungsfreie Verarbeitung sicher. SICK bietet<br />
neben jahrelanger Erfahrung als einziger<br />
Hersteller die komplette Messtechnik aus<br />
einer Hand.<br />
• Hochofen, Gichtgasmessung --CO, CO 2<br />
, CH 4<br />
, H 2<br />
• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />
• Abluft in Sauerstoff-Blaskonverter --CO, CO 2<br />
, H 2<br />
, O 2<br />
• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />
• Stahlherstellung --CO, CO 2<br />
, O 2<br />
, H 2<br />
, N 2<br />
O, HCl, Staub, Gasdurchfluss<br />
• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />
• Staubmessung: DUSTHUNTER T, SB<br />
• Gasdurchflussmessung: FLOWSIC100<br />
• Abgas des Kupfer-Blaskonverters --O 2<br />
, SO 2<br />
• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />
• Schlagmühle --O 2<br />
, SO 2<br />
• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />
• Reformer --CO, CO 2<br />
, O 2<br />
, H 2<br />
, CH 4<br />
• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />
• Aluminiumherstellung - - HF<br />
• In-situ: GM700<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
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Prozessmessungen<br />
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PROZESSMESSTECHNIK<br />
8<br />
Branche Anforderung Lösungen von SICK<br />
Chemie, Petrochemie und Raffinerie (HPI)<br />
Um in Chemieanlagen bei steigendem Wettbewerb<br />
wirtschaftlich produzieren zu können,<br />
wird eine optimierte Prozessführung benötigt.<br />
Durch die gezielte Kontrolle von Schlüsselkomponenten<br />
im Reaktionsablauf können<br />
Anlagendurchsatz, Ausbeute und Produktqualität<br />
verbessert und der Energieaufwand<br />
reduziert werden. Deshalb spielen Konzentrationsmessungen<br />
als Regelparameter der<br />
Anlage eine entscheidende Rolle.<br />
Zusätzlich sind Anlagensicherheit und Umweltschutz<br />
zentrale Themen. Hier spielt die<br />
Online-Analytik eine immer wichtigere Rolle<br />
für einen effizienten Anlagenbetrieb durch<br />
bewährte Messungen bei geringen Amortisierungszeiten<br />
von nur wenigen Monaten.<br />
Zur optimalen Führung einer Chemieanlage<br />
werden verlässliche und kontinuierliche<br />
Analyseninformationen benötigt. Die wartungsarmen,<br />
langzeitstabilen und robusten<br />
Analysatoren von SICK haben sich hier<br />
vielfach – sowohl in der Gas- als auch in der<br />
Flüssigkeitsanalytik – bewährt.<br />
Durch automatische Kalibrierung, innovative<br />
Bedienkonzepte, leistungsfähige Kommunikationsprotokolle<br />
lassen sich die Analysatoren<br />
und Systeme von SICK einfach in lokale<br />
Prozessleitsysteme anbinden.<br />
• Überwachung von Sicherheitsleitungen --Phosgen (COCl 2<br />
)<br />
• Extraktiv: MCS300P, GMS800<br />
• Korrosionsschutz und Prozessüberwachung<br />
Isocyanatproduktion (Ausgangsstoff<br />
für Polyurethane)<br />
• Prozessüberwachung von Lösemitteln in<br />
der PVC-Produktion<br />
• Abluftüberwachung in der Folienproduktion<br />
--Cl 2<br />
, CO, Phosgen (COCl 2<br />
), HCl, Monochlorbenzol,<br />
Isocyanat<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800<br />
• Flüssigkeitsmessung: MCS300P<br />
--Spurenmessung Wasser in Dichlorethan<br />
• Flüssigkeitsmessung: MCS300P<br />
--Dichlormethan (CH 2<br />
Cl 2<br />
), Trichlorethen<br />
(C 2<br />
HCl 3<br />
), Aceton (C 2<br />
H6O), Methanol<br />
(CH 3<br />
OH), CO und H 2<br />
O<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />
• Ethylen-Anlagen --CO 2<br />
in Ethaneinspeisung nach<br />
CO 2<br />
-Wäscher und im Decoking<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800<br />
--CO, CO 2<br />
im Spaltgas nach Kondensatabscheidung<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />
--Acetylen im Spaltgas vor Acetylenhydrierung<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800<br />
--Ethan in C 2<br />
-Splitterkopf<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800<br />
--Ethylen in C 2<br />
-Splittersumpf<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />
--TOC im Abwasser<br />
• TOCOR mit Probenaufbereitung<br />
• Prozessüberwachung in der<br />
Polyethylen(PE)-Produktion<br />
--1-Buten, Hexan<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />
• LNG (Liquefied Natural Gas) --CO 2<br />
nach Aminwäsche<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800<br />
• HyCO-Anlagen --CO nach PSA-Anlage<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800<br />
• VC/EDC-Anlagen --Feuchte in EDC, Anlagen-Korrosionsschutz<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />
• Brauchwasserüberwachung --TOC/TIC/TC<br />
• TOCOR mit Probenaufbereitung<br />
--VOC<br />
• GMS810-FIDOR mit Stripper<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Branchen und Lösungen <br />
Prozessmessungen<br />
Weitere Einsatzgebiete Anforderung Lösungen von SICK<br />
Inertisierung<br />
UEG-Überwachung<br />
Viele Lager- und Produktionsprozesse erfordern<br />
kontrollierte und genau geregelte Gasatmosphären.<br />
Häufig ist Sauerstoff wegen<br />
seiner Reaktionsfreudigkeit ein unerwünschter<br />
Bestandteil. Bei der Inertisierung wird der<br />
atmosphärische Sauerstoff durch inerte Gase<br />
ersetzt. Dieses Verfahren wird z. B. bei der<br />
Lagerung und dem Transport von verderblichen<br />
Gütern oder bei der Vermeidung der<br />
Bildung von explosiven Gasgemischen (Explosionsschutz)<br />
angewandt.<br />
• Überwachung der Sauerstoffkonzentration<br />
in Inertisierungsanlagen und in<br />
Rohrleitungen<br />
Eine kosteneffiziente Methode, ausreichende<br />
Inertisierung sicherzustellen, ist das direkte<br />
Messen der Sauerstoffkonzentration im<br />
zu überwachenden Medium. SICK bietet<br />
für diese Messaufgabe ein konsequentes<br />
Transmitterdesign und macht die Laserspektroskopie<br />
(TDLS) für die Feldinstrumentierung<br />
zugänglich.<br />
--O 2<br />
• In-situ: TRANSIC100LP<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
Weitere Einsatzgebiete<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
In vielen Produktionsprozessen werden<br />
brennbare Stoffe eingesetzt bzw. hergestellt.<br />
Daher spielen in diesen Prozessen Personenund<br />
Anlagenschutz eine übergeordnete Rolle.<br />
Für Anlagenbetreiber gilt es, das Entstehen<br />
von explosiven Gemischen zu vermeiden und<br />
die Bildung frühzeitig zu erkennen.<br />
• Überwachung volatiler Kohlenwasserstoffe<br />
in Lackier-, Beschichtungs- und<br />
Trocknungsanlagen<br />
Die aufgeführten Branchen sind nur ein<br />
Ausschnitt des Anwendungsspektrums. Die<br />
Gaszusammensetzung ist in vielen weiteren<br />
Einsatzgebieten ein entscheidender<br />
Parameter.<br />
Weitere Felder sind zum Beispiel:<br />
Zur Vermeidung oder zum Erkennen von<br />
gefährlichen Gasgemischen messen Analysatoren<br />
von SICK die Konzentration von<br />
brennbaren Gasen oder Dämpfen.<br />
--VOC<br />
• In-situ: FID<br />
Innerhalb dieser Branchen gibt es spezifische<br />
Messaufgaben zu lösen. SICK entwickelt<br />
gemeinsam mit seinen Kunden angepasste<br />
Analysentechnik für die jeweilige Anwendung.<br />
• Pharmazeutische Anlagen --O 2<br />
, H 2<br />
, CO 2<br />
, CO<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800<br />
• In-situ: TRANSIC100LP<br />
• Luftzerlegungsanlagen --O 2<br />
• In-situ: TRANSIC100LP<br />
• Prozessüberwachung in der Enzymherstellung<br />
• Anlagensteuerung von Kompostieranlagen<br />
• Prozessüberwachung von Deponiegas<br />
und Biofermentern<br />
• Chlorchemie<br />
--O 2<br />
• In-situ: TRANSIC100LP<br />
--CO 2<br />
, CH 4<br />
, O 2<br />
• Kalt-extraktiv: SIDOR<br />
--Cl 2<br />
• Kalt-extraktiv: GMS800-DEFOR<br />
• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
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Technologien und Messprinzipien<br />
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PROZESSMESSTECHNIK<br />
<strong>Prozessmesstechnik</strong> – made in Germany<br />
Je nach Verfahren unterscheiden sich Prozesse und Anlagen erheblich<br />
voneinander. Es gilt unterschiedliche Messaufgaben zu lösen sowie prozessbedingte<br />
Anforderungen zu erfüllen. SICK hat durch ein breites Produktportolio,<br />
eine Vielzahl von Messverfahren und langjährige Erfahrung eine<br />
passende Antwort auf diese Herausforderungen.<br />
In-situ-Messtechnik<br />
Prozessparameter misst man am besten dort, wo sie relevant<br />
sind und unverfälscht vorliegen – direkt im Prozess:<br />
„In-situ-Messtechnik“ ist hier das Stichwort. Die Bestimmung<br />
der Prozessparameter erfolgt unter Prozessbedingungen<br />
und stellt besondere Anforderungen an die Messgeräte.<br />
Diese innovative Technologie von SICK für die<br />
direkte Montage am jeweiligen Messort hat sich über viele<br />
Jahre bewährt. Sie zeichnet sich vor allem durch minimalen<br />
Wartungsbedarf und sehr geringe Ansprechzeiten aus.<br />
SICK bietet In-situ-Analysatoren in zwei Versionen an:<br />
• Messlanzenversionen bei Überdruck, in feuchten Gasen<br />
oder bei sehr hohen Gaskonzentrationen bzw. Staubbeladungen.<br />
Optimiert für den Anbau von nur einer Seite<br />
bietet diese In-situ-Lösung Vorteile durch eine definierte<br />
Messstrecke unter rauen Messbedingungen.<br />
• Cross-Duct-Versionen für Anwendungen, bei denen es<br />
besonders auf repräsentative Messungen über den gesamten<br />
Kanalquerschnitt ankommt.<br />
Bei In-situ-Messungen sind optische Verfahren auf dem Vormarsch.<br />
Dies ist ein Trend, den SICK seit Jahren maßgeblich<br />
mitgestaltet. Die Anforderung besteht darin, den Prozess<br />
direkt zu messen ohne ihn zu verändern. Die Frage<br />
nach einer Kalibrierung bzw. eines Abgleichs oder die Überprüfung<br />
der Messung ohne in den Prozess einzugreifen ist<br />
hier eine besondere Herausforderung.<br />
Die In-situ-Messgeräte von SICK führen automatische<br />
Abgleichprozeduren bzw. Messwertüberprüfungen im Messgerät<br />
aus. Dabei muss das Messsystem nicht vom Prozess<br />
entkoppelt werden.<br />
Ist die direkte Messung im Prozess nicht möglich, kommt<br />
eine Messung in einer Bypassanordnung in Betracht. Dabei<br />
wird ein Teilstrom dem Prozess entnommen, gemessen und<br />
sofort wieder zurückgeführt.<br />
10<br />
Messlanzenversion, Inline<br />
Messlanzenversion<br />
Cross-Duct-Version<br />
Vorteile:<br />
• Kontinuierliche und direkte Messung,<br />
keine Probenahme erforderlich<br />
• Cross-Duct-Version für besonders repräsentative<br />
Messergebnisse oder Messlanzenversion<br />
GMP-Messlanze mit offenem Messspalt oder<br />
GPP-Gasdiffusionslanze<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Extraktive Messtechnik<br />
Lassen die Prozessbedingungen eine direkte Messung<br />
nicht zu, gilt es das Messmedium aus dem Prozess zu<br />
extrahieren und die Analyse der Prozessparameter unter<br />
konstanten Bedingungen zu realisieren. Das Stichwort ist<br />
hier „extraktive Messtechnik“. Dabei wird dem Prozess ein<br />
Teilgasstrom entnommen, aufbereitet und dem Analysatormodul<br />
unter konstanten Bedingungen zugeführt. Je nach<br />
Prozessbedingungen und Messkomponenten bietet SICK<br />
komplette Lösungen von der Entnahmesonde über die<br />
optimierte Gasaufbereitung bis hin zu passenden<br />
Analysatormodulen.<br />
Bei extraktiven Messungen wird die Zusammensetzung des<br />
Prozesses dem Analysator unverfälscht zugeführt. Daher<br />
muss die Entnahme- und Analysentechnik den jeweiligen<br />
Prozessbedingungen angepasst werden.<br />
Kalt-extraktive Messtechnik<br />
Bei Prozessgasen mit niedrigerem Taupunkt kann die Analyse<br />
kalt-extraktiv ohne beheizte Messgasleitungen erfolgen.<br />
Neigen Prozessgase zur Kondensation, wird die<br />
Gasentnahme mit beheizten Leitungen und Sonden ausgeführt.<br />
Damit ein „kalte“ Messung erfolgen kann, wird mit<br />
einem Hochleistungsgaskühler der Taupunkt auf einen definierten<br />
Wert abgesenkt.<br />
Heiß-extraktive Messtechnik<br />
Für repräsentative Messungen darf die Gasmatrix nicht verändert<br />
werden. Eine besondere Herausforderung stellen<br />
die Messungen von kondensierenden oder wasserlöslichen<br />
Gasen dar. SICK löst dies durch die heiß-extraktive Entnahme<br />
und Analyse. Dabei werden alle medien berührten Komponenten<br />
inkl. Analysator beheizt und über dem Taupunkt<br />
(typisch >200 °C) gehalten.<br />
Weitere Messprinzipien und Auswerteverfahren<br />
••<br />
Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS)<br />
••<br />
Interferenz-Filterkorrelation, Gasfilterkorrelation<br />
••<br />
Absorption (NDIR 1 , NDUV)<br />
••<br />
UV-Absorptions-Spektrometrie<br />
••<br />
Differentielle Optische Absorptions-Spektroskopie (DOAS)<br />
••<br />
FTIR-Spektroskopie<br />
••<br />
Zirkoniumdioxid (ZrO 2<br />
Stromsonde)<br />
••<br />
Paramagnetisch/elektrochemisch (O 2<br />
)<br />
••<br />
Flammen-Ionisations-Detektion (FID)<br />
••<br />
Zeeman Atom-Absorptions-Spektroskopie (ZAAS)<br />
••<br />
Partikelabsorption/Partikelstreuung<br />
1 ND ... nicht dispersiv<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
Technologien und Messprinzipien <br />
<br />
Sonde<br />
Messgasentnahmeleitung<br />
Analysenschrank mit dem kaltextraktiven<br />
Analysensystem MAC800<br />
inkl. kompletter Gasaufbereitung<br />
Sonde<br />
Messgasentnahmeleitung<br />
Analysenschrank mit dem<br />
heiß-extraktiven Analysator<br />
MCS300P HW<br />
Vorteile:<br />
• Optimal konfigurierbare Analysatormodule für<br />
vielseitige Anwendungen<br />
• Automatische Validierung/Justage durch Prüfgase<br />
• Eine an die Anzahl der Messkomponenten<br />
angepasste Lösung<br />
• Genaue und zuverlässig verfügbare Messergebnisse<br />
dank bewährter Messprinzipien<br />
• Erfassung aggressiver, korrosiver, brennbarer Gase<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
11<br />
A<br />
B<br />
C<br />
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Geräte und Systeme<br />
<br />
<br />
A<br />
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C<br />
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P<br />
Q<br />
R<br />
S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
Vom Einzelgerät bis zum kompletten Analysensystem<br />
Die Performance eines Analysensystems hängt nicht nur<br />
von der Güte des verwendeten Analysators, sondern maßgeblich<br />
von der korrekten Auslegung des Probenahme- und<br />
-aufbereitungs systems ab. Eine genaue Abstimmung des<br />
Analysators auf die Prozessbedingungen wird in Applikationslaboren<br />
sichergestellt. Zur optimalen Funktion ist der Analysator<br />
auf das Zusammenspiel mit den angebauten Komponenten<br />
In-situ-Transmitter TRANSIC100LP<br />
In-situ-Messgeräte müssen<br />
unter harschen Prozessbedingungen<br />
auch in potenziell<br />
gefährlichen Stoffkonzentrationen<br />
direkt vor Ort verlässliche<br />
Prozessdaten liefern. Hier sind robuste<br />
Messverfahren gefragt. SICK führt mit dem<br />
TRANSIC100LP eine eigensichere Lasertechnik<br />
in die Welt der O 2<br />
-Prozesstransmitter ein,<br />
auch für explosionsgeschützte Bereiche.<br />
12<br />
TRANSIC100LP:<br />
in Ausführung in Zone 0, 1, 2 (Class 1, Div 1) prozessseitig,<br />
Zone 1 + 2 (Class 1, Div 2) geräteseitig<br />
In-situ-Mehrkomponenten-Analysator GM32<br />
Messungen, die<br />
besonders schnell<br />
sein müssen oder bei<br />
denen es leicht zu<br />
einer Verfälschung der<br />
Gasmatrix kommen kann,<br />
werden mittels In-situ-Messstellen realisiert.<br />
Der In-situ-Analysator GM32 misst direkt im<br />
Prozess und ist auch für den Einsatz in Ex-klassifizierten<br />
Zonen zertifiziert.<br />
GM32: Anbau in<br />
Zone 2 (Zone 1, Class 1 Div2) geräteseitig<br />
Durch die umfangreiche Produktpalette und umfassende<br />
Erfahrung liefert SICK applikationsbezogene<br />
Lösungen. Neben maßgeschneiderten Ausführungen<br />
stehen vor allem kostenoptimierte Systemgehäuse,<br />
kompakte Plug-and-play-Analysatoren sowie Komplettsysteme<br />
für anwendungsspezifische Messaufgaben<br />
zur Verfügung. Darüber hinaus projektieren,<br />
fertigen und liefern wir komplette Analyseanlagen,<br />
wie z. B. schlüsselfertige Analysencontainer inklusive<br />
der gesamten Geräteperipherie und Inbetriebnahme.<br />
wie Probenahme und -aufbereitung angewiesen. Vom Prozess<br />
ausgehend wird die bestmögliche Kombination von Analysator<br />
und unterstützender Peripherie an die Anlage anschlussfähig<br />
ausgelegt. Damit sich der Anlagenbetreiber auf die Realisierung<br />
eines effizienten Prozesses konzentrieren kann, übernimmt<br />
SICK die Umsetzung des gesamten Analysen systems.<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Geräte und Systeme <br />
<br />
Extraktive Gasanalysatoren GMS800<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
Die kalt-extraktiven Gasanalysatoren<br />
GMS800 ermöglicht die Realisierung<br />
von Messaufgaben sowohl in rauer<br />
Industrieumgebung als auch in den<br />
Ex-Zonen 1 + 2 (ATEX).<br />
Individuelle Geräteausführungen<br />
für einzelne Messstellen<br />
ebenso wie Komplettlösungen<br />
für unterschiedliche<br />
Applikationen oder<br />
mehrere Analysenlinien<br />
GMS820P<br />
werden als schlüsselfertige<br />
Systeme projektiert<br />
und geliefert. Dies sowohl<br />
für Prozess- als auch<br />
GMS815P<br />
Emissionsmessungen als<br />
komplette Analysenschränke oder -container. Je nach Anforderung<br />
stehen die modernen Analysatoren im 19"-Gehäuse<br />
(Typ GMS810), im Wandaufbaugehäuse (Typ GMS815P), im<br />
Ex-d-Gehäuse (Typ GMS820P) oder im Systemeinbaugehäuse<br />
(Typ GMS830/831) zur Verfügung. Typ GMS815P: Ausführung in Ex-Zone 2<br />
Extraktiver Mehrkomponenten-Analysator<br />
MCS300P<br />
Der Mehrkomponenten-<br />
Analysator MCS300P<br />
zeichnet sich durch seine<br />
vielfältigen Einsatzmöglichkeiten<br />
(Gase und<br />
Flüssigkeiten), sehr niedrigen<br />
Wartungsbedarf, hohe<br />
Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität<br />
aus. In explosionsgeschützter Ausführung eignet<br />
sich der MCS300P Ex besonders für Prozessanwendungen.<br />
Um eine Taupunktunterschreitung zu vermeiden, integriert<br />
SICK diesen Analysator in komplette heiß-extraktive Analysensysteme.<br />
MCS300P:<br />
Rohgasmessungen<br />
in einem Analysencontainer<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
13<br />
A<br />
B<br />
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D<br />
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Projekt-Engineering und Systembau<br />
<br />
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T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
In der Prozessanalytik werden Analysatoren oft in explosionsgefährdeten<br />
Bereichen installiert oder messen in Stoffen,<br />
die zündfähige Gemische bilden können. Die angewandten<br />
Vorschriften und Normen sind weltweit unterschiedlich. SICK<br />
bietet hierfür Messgeräte, die für Anlagen zugelassen sind<br />
und einer Einteilung nach Classes und Divisions als auch einer<br />
Zoneneinteilung folgen.<br />
Um den jeweiligen Anforderungen gerecht zu werden, verfolgt<br />
SICK anwendungsabhängig unterschiedliche Ex-Schutzkonzepte.<br />
14<br />
••<br />
Durch Überdruckkapselung wird die Bildung einer explosiven<br />
Atmosphäre dadurch verhindert, dass mit einem<br />
Zündschutzgas im Inneren des Analysators ein Überdruck<br />
gegenüber der Atmosphäre aufrechterhalten wird bzw. eine<br />
ständig ausreichende Verdünnung des Gases im Inneren<br />
stattfindet, die das Entstehen eines explosiven Gemisches<br />
verhindert.<br />
••<br />
Bei der druckfesten Kapselung wird die Entstehung eines<br />
explosiven Gasgemisches im Inneren des Analysators zugelassen,<br />
obwohl Zündquellen vorhanden sein können. Eine<br />
eventuell stattfindende Explosion wird jedoch auf das Innere<br />
des Gehäuses beschränkt.<br />
••<br />
Analysatoren mit erhöhter Sicherheit besitzen keine betriebsmäßigen<br />
Zündquellen. Funken, Lichtbögen und hohe<br />
Temperaturen werden ebenso wie Fehlerfunktionen durch<br />
besondere Maßnahmen vermieden.<br />
••<br />
Bei einer eigensicheren Auslegung werden Effekte verhindert,<br />
wie z. B. Oberflächentemperaturen, die zu einer Entzündung<br />
führen können, oder eine Funkenbildung. Letzteres<br />
wird durch eine sichere Energiebegrenzung erreicht – auch<br />
im Fehlerfall und unter Berücksichtigung von Energiespeichereffekten.<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Planung und Engineering nach Maß<br />
Projekt-Engineering und Systembau <br />
<br />
Planung und Engineering von SICK basiert auf langjähriger<br />
Erfahrung in der Emissionsüberwachung und Prozessmessung<br />
aller Art. Seien es Anwendungen in Kraftwerken oder unter<br />
schwierigen Bedingen in Ex-gefährdeten Bereichen einer Raffinerie<br />
– die Ingenieure von SICK planen und designen mittels<br />
modernster CAD-Systeme passende Lösungen für die jeweiligen<br />
Anforderungen. Dabei kommen nicht nur neueste Techniken<br />
bei den Analysatoren und der Probenaufbereitung zum Einsatz,<br />
sondern auch modernste Kommunikationskonzepte. Die Systeme<br />
werden entsprechend international geltenden Normen und<br />
nationalen Standards ausgeführt.<br />
Ein erfahrenes Projektmanagement und eine weltweite Serviceorganisation<br />
stehen dem Kunden nicht nur bis zur Inbetriebnahme,<br />
sondern für einen zuverlässigen und dauerhaften<br />
Betrieb der Anlagen zur Seite.<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
Robuste Analysensysteme und<br />
Container<br />
Maßgeschneiderte Ausführung einschließlich<br />
der gesamten Peripherie<br />
mit kompetenter Applikationsberatung<br />
und umfassendem<br />
Projektmanagement.<br />
Leistungsfaktoren<br />
••<br />
Alle notwendigen Technologien aus einer Hand<br />
••<br />
Umfangreiches Produktspektrum für alle Anforderungen<br />
••<br />
Lösungen für viele Messaufgaben<br />
••<br />
Kostenoptimierte Standard lösungen<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
••<br />
Anwendungsorientierte Komplettsysteme<br />
••<br />
Schlüsselfertige Analysencontainer, maßgeschneidert für<br />
die Kundenanforderungen<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
15<br />
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PS_header1_small_blue<br />
Anforderungen an Prozessmesssysteme<br />
<br />
PS_header2_small_blue<br />
A<br />
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PROZESSMESSTECHNIK<br />
Auswahlkriterien für kontinuierliche Prozessmesssysteme<br />
Die Auswahl eines Messsystems für eine bestimmte Applikation ist nicht einfach, entscheiden<br />
die Messungen doch über die Produktqualität, die Sicherheit von Anlagen und<br />
über den effizienten Einsatz von Ressourcen. Die Auswahl des passenden Messsystems ist<br />
somit direkt ergebnisrelevant und die Kosten der Anschaffung sind nur ein kleiner Teil der<br />
zu beachtenden Faktoren.<br />
In 9 Schritten zum passenden Prozessmesssystem<br />
1<br />
Welche Funktion hat die Messung im Prozess?<br />
Messungen werden nur erhoben, wenn sie relevant<br />
sind. Eine übergeordnete Überlegung über die<br />
Bedeutung der Messung hilft bei der Spezifikation der Messsysteme.<br />
Ist die Messung relevant für:<br />
••<br />
Anlagensicherheit?<br />
••<br />
Produktqualität?<br />
••<br />
Einsatz von Ressourcen wie Energie oder Einsatzstoffe?<br />
••<br />
Menge, Art des Outputs (Produkt/Emissionen)?<br />
••<br />
Einhaltung von Gesetzen oder Vorschriften?<br />
••<br />
Beurteilung von Versicherungen?<br />
2<br />
Welche Anforderungen ergeben sich für die<br />
von Messsystemen erhobenen Daten?<br />
Aus der Bedeutung der Messung für den Prozess<br />
ergeben sich Anforderungen an das Vorhandensein der Daten<br />
über die zu überwachenden Prozessparameter.<br />
••<br />
Wie oft müssen die Daten erhoben werden?<br />
••<br />
Verfügbarkeit, Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit der Daten?<br />
••<br />
Auswirkungen, wenn Messergebnisse nicht vorliegen?<br />
••<br />
Echtzeitmessung (zulässige Verzögerung)?<br />
3<br />
Wie wirtschaftlich ist die Messung?<br />
Wirtschaftliche Überlegungen spielen bei der Spezifikation<br />
einer Messaufgabe in der Prozessindustrie<br />
eine wichtige Rolle. Aus der Bedeutung der Messungen ergeben<br />
sich wichtige Kosten-Nutzen-Kriterien. Es werden Lebenszykluskosten,<br />
Effizienzsteigerung und/oder Energieeinsparung<br />
gegenübergestellt, die über eine Kapitalwertmethode auf einen<br />
Zeitpunkt hin bewertet werden. Dies sind:<br />
••<br />
Kosten für Planung und Inbetriebnahme<br />
••<br />
Kosten für anfängliche und laufende Schulungen<br />
••<br />
Gesamte Betriebskosten und organisatorischer Aufwand<br />
••<br />
Häufigkeit und Dauer von Kalibrierungen und Justagen<br />
••<br />
Prüf- oder Kalibriergase<br />
••<br />
Energieverbrauch bzw. Verbrauch von Betriebsmitteln wie<br />
z. B. Instrumentenluft<br />
••<br />
Lebensdauer und Entsorgungskosten<br />
16<br />
4<br />
Was gibt der Prozess vor?<br />
Die direkten Anforderungen durch den Prozess<br />
müssen möglichst genau definiert werden. Fehlende<br />
oder unzureichende Informationen können die Auswahl<br />
eines Messsystems in Frage stellen und eine kostenintensive<br />
Doppelbeschaffung nach sich ziehen.<br />
••<br />
Sind die Messparameter, der Messbereich mit der notwendigen<br />
Genauigkeit bekannt?<br />
••<br />
Wie schnell muss diese Messung sein?<br />
••<br />
Prozesstemperatur und -druck (min. – normal – max.)?<br />
••<br />
Ist das Medium einphasig (Tröpfchen, Gasblasen, Partikel)?<br />
••<br />
Anforderungen an die chemische Resistenz der Messsysteme:<br />
Sind Materialverträglichkeiten bekannt?<br />
••<br />
Anforderungen an die mechanische Resistenz: Fließgeschwindigkeit,<br />
Vibrationen?<br />
••<br />
Feuchtegehalt des Mediums?<br />
••<br />
Ist die Mediumzusammensetzung (Matrix) vollständig<br />
bekannt, damit Querempfindlichkeiten umfassend berücksichtigt<br />
werden können?<br />
••<br />
Sind Richtlinien, Gesetze, Normen oder Zulassungen für die<br />
verwendeten Geräte vorgeschrieben (z. B. Explosionsschutz<br />
oder elektrische/funktionale Sicherheit)<br />
5<br />
Welche Bedingungen herrschen am Einsatzort<br />
vor?<br />
Die Umgebungsbedingungen stellen weitere<br />
Anforderungen. Wird die Einbausituation bei der Auswahl nicht<br />
genügend genau spezifiziert, kann es zu einem Ausfall oder<br />
Verlust des Systems kommen.<br />
••<br />
Welche Umgebungsbedingungen (Temperatur, Luftdruck,<br />
Luftfeuchte) herrschen am Einsatzort?<br />
••<br />
Welche Temperaturbereiche (min./max.) sind während Wartungs-<br />
und Anlaufphasen zu erwarten?<br />
••<br />
Anbauort innen oder außen? Anforderungen an Staub- und<br />
Wasserschutz (IP-Schutzart)?<br />
••<br />
Wie wird das System montiert/befestigt: Schrank- oder<br />
Wandmontage? Ist die Messstelle für die Montage oder<br />
Wartung zugänglich?<br />
••<br />
Welche Gewinde bzw. Flanschanschlüsse sind vorhanden?<br />
Können zusätzliche Anschlüsse vorgesehen werden?<br />
••<br />
Energieversorgung, Instrumentenluft, Kalibriergas etc.<br />
vorhanden?<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
PS_header2_small_blue<br />
Anforderungen an PS_header1_small_blue<br />
Prozessmesssysteme<br />
<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
6<br />
Wie ist die Anbindung der Messstelle, wie<br />
wird die Information übertragen?<br />
Die Übertragung von Daten ist bei der Prozessüberwachung<br />
von entscheidender Bedeutung. Gemäß der<br />
Wichtigkeit der Messwerte unterscheiden sich die Sicherheitsansprüche<br />
an die Datenübertragung. Das Messsystem muss<br />
zur Anlage anschlussfähig sein.<br />
••<br />
Wird eine Anzeige vor Ort benötigt? Ist die Messstelle einsehbar?<br />
Ist eine abgesetzte Anzeige notwendig?<br />
••<br />
Welche Ausgangssignale und Alarme werden benötigt?<br />
••<br />
Müssen Alarme geschaltet werden?<br />
••<br />
Soll eine Anbindung an das Prozessleitsystem erfolgen?<br />
••<br />
Redundanz?<br />
7<br />
Auswahl des Messsystems?<br />
Wenn die Bedeutung einer Messung feststeht und<br />
alle prozessseitigen und physischen Anforderungen<br />
definiert sind, muss ein Messsystem gewählt werden. In diesem<br />
Punkt spielen konstruktive und historische Überlegungen<br />
für die Spezifikation der Messgeräte eine Rolle.<br />
••<br />
Ist das geeignete Messprinzip gewählt?<br />
••<br />
Hat sich das Messprinzip bewährt?<br />
••<br />
Liegen Erfahrungswerte zu den Geräten vor?<br />
••<br />
Ist konstruktiv eine hohe Zuverlässigkeit des Messgerätes<br />
sichergestellt?<br />
••<br />
Gibt es Alternativen, die in die Entscheidung mit einbezogen<br />
werden können?<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
8 Lösungskompetenz?<br />
Der dargestellte Entscheidungs prozess folgt nicht<br />
zwangsläufig einem linearen Ablauf. In der Realität<br />
findet man eher einen iterativen Prozess. Eine enge Zusammenarbeit<br />
mit den Herstellern ist ebenso hilfreich wie ein Gesprächspartner,<br />
der über die notwendige Beratungskompetenz<br />
verfügt. Anforderungen sind hier:<br />
••<br />
Ist ausreichende Methodenkompetenz, Wissen und genügend<br />
Applikations erfahrung vorhanden?<br />
••<br />
Steht er für einen zeitnahen Austausch auch vor Ort zur<br />
Verfügung?<br />
••<br />
Ist er bereit auch neue Applikationen mit zu entwickeln?<br />
••<br />
Verfügt er über eine Organisation, die dies abbilden kann?<br />
••<br />
Ist die nötige Infrastruktur z. B. durch Applikationslabore<br />
vorhanden?<br />
9<br />
Wartung und Service?<br />
Nicht nur die Kompetenz, sondern auch die operative<br />
Leistungsfähigkeit eines Messsystemanbieters<br />
ist Im Rahmen der Lebenszyklusbetrachtung von Bedeutung.<br />
Entscheidende Fragen sind:<br />
••<br />
Kann der Lieferant eine Betreuung der Messung über den<br />
gesamten Lebenszyklus aufrecht erhalten?<br />
••<br />
Ist ein Reparaturkonzept für das Messgerät vorhanden?<br />
••<br />
Verfügt der Anbieter über ein schlagkräftiges Servicenetzwerk<br />
– auch international?<br />
••<br />
Wie schnell kann ein Serviceeinsatz im Störfall erfolgen?<br />
••<br />
Wie schnell steht bei Bedarf Ersatz zur Verfügung?<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
17<br />
H<br />
I<br />
J<br />
K<br />
L<br />
M<br />
N<br />
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P<br />
Q<br />
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S<br />
T
Konnektivität –<br />
richtig verbunden mit SICK<br />
<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
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S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
Aktuelle Daten durch standardisierte Kommunikation<br />
Damit jederzeit sämtliche Daten, Messwerte und Parameter zur Verfügung stehen und<br />
komfortabel visualisiert und angepasst werden können, steht mit den SICK-Produkten<br />
eine standardisierte Datenkommunikation für digitale Steuerungen zur Verfügung. Und<br />
dies systemübergreifend aus Ihrem Anlagennetzwerk. Somit können Sie auch auf Installationen<br />
in entlegenen Gebieten elegant zugreifen.<br />
Signale, Schnittstellen und Protokolle<br />
••<br />
Analoge und digitale Signale<br />
••<br />
Schnittstellen:<br />
••<br />
Serielle Schnittstellen wie RS-232/RS-485/RS-422<br />
••<br />
Ethernet-Netzwerk<br />
••<br />
OPC<br />
••<br />
Protokolle:<br />
••<br />
Modbus oder Modbus TCP<br />
Ferndiagnose<br />
Ein Fernzugriff auf die Geräte und Systeme kann online erfolgen<br />
über:<br />
••<br />
die SICK-eigene Ferndiagnoseeinheit RDU mittels analogem<br />
Telefon, Mobilfunk oder Ethernet-Netzwerkanbindung<br />
••<br />
das FastViewer-Desktop-Sharing-System mit komfortablem<br />
Fernzugriff für Ferndiagnose, Fernwartung<br />
und Online-Support auf dem Kunden-PC.<br />
Auch über Firewalls hinweg zur effektiven<br />
Hilfe durch schnellen Blick auf Ihren Bildschirminhalt.<br />
18<br />
Bedienung<br />
Die Bedienung der Analysatoren und Systeme erfolgt<br />
••<br />
direkt an der Bedieneinheit des Analysators<br />
••<br />
durch eine Kontrolleinheit, über die mehrere Analysatoren<br />
visualisiert und parametriert werden können<br />
••<br />
ferngesteuert via Ethernet oder Mobilfunknetz<br />
••<br />
mit dem SICK-eigenen Visualisierungs- und Parametrierungsprogramm<br />
SOPAS ET<br />
TCP/IP<br />
Internet<br />
Messstelle/Gerät<br />
Anlagennetzwerk<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Konnektivität – <br />
richtig verbunden mit SICK<br />
Betriebsüberwachung Ferndiagnose Wartung<br />
4 ... 20 mA, Feldbus<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
Betriebsleitebene<br />
Temperatur, Druck<br />
Modbus TCP<br />
OPC Server<br />
Analysencontainer<br />
Sauerstoffkonzentration<br />
Ethernet<br />
Gaskonzentration<br />
OPC Server<br />
SOPAS ET<br />
MCS300P GMS815P/820P MAC800-System<br />
Systembus,<br />
4 ... 20 mA<br />
Wartung<br />
Ethernet<br />
Flow pH, ...<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
Analytik<br />
Anlage<br />
Weitere<br />
19<br />
A<br />
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D<br />
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Dienstleistungen und Services<br />
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N<br />
O<br />
P<br />
Q<br />
R<br />
S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
Service rund um Ihre Anlagen und Messsysteme<br />
Analysatoren und Messsysteme liefern<br />
überwachungs- und steuerungsrelevante<br />
Informationen, steigern Effizienz<br />
und schützen Menschen und Anlagen.<br />
Optimal integriert und gewartet, bieten<br />
diese Komponenten und Systeme einen<br />
Garant für gesicherte Prozesse, konstante<br />
Produktqualität und den Schutz von<br />
Mensch und Umwelt.<br />
Von Anfang an und über viele Jahre<br />
bieten die SICK LifeTime Services die<br />
passende Dienstleistung rund um Ihre<br />
Messsysteme und Anlagen: von der Planung<br />
und Konzeption über die Inbetriebnahme<br />
und den laufenden Betrieb bis<br />
zum Umbau oder Upgrade. Über 60 Jahre<br />
Praxiserfahrung und ein umfassendes<br />
Branchen-Know-how machen uns zum<br />
kompetenten Partner für die spezifischen<br />
Anforderungen unserer Kunden.<br />
20<br />
Beratung und Design<br />
••<br />
Applikationsberatung<br />
••<br />
Planungsleistungen<br />
••<br />
Projektmanagement<br />
••<br />
Projekt- und Kunden-<br />
Dokumentation<br />
Modernisierung und<br />
Nachrüstung<br />
••<br />
Software oder Firmware<br />
••<br />
Anpassung Messbereiche<br />
••<br />
Erweiterung um zusätzliche<br />
Messkomponenten<br />
Produkt- und<br />
System-Support<br />
••<br />
Abnahme vor Auslieferung<br />
••<br />
Vor-Ort-Inbetriebnahme<br />
••<br />
Technischer Support<br />
••<br />
Ersatz-/Verbrauchsteile<br />
••<br />
Wartungs- und Serviceverträge<br />
Training und<br />
Weiterbildung<br />
••<br />
Bedienung und Handhabung<br />
••<br />
Wartungsarbeiten<br />
••<br />
Gerätesoftware<br />
••<br />
Gesetzgebungen, Richtlinien<br />
und Verordnungen<br />
Überprüfung und<br />
Optimierung<br />
••<br />
Vor-Ort-Abnahme<br />
••<br />
Wartung der Systeme<br />
••<br />
Führen eines Logbuchs<br />
••<br />
Anlagenbetreuung<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
<br />
Kompetenzen<br />
<br />
<strong>Prozessmesstechnik</strong> für effiziente Planungen von nachhaltigen Technologien<br />
Mit den Leistungsfaktoren eines umfassenden<br />
Produktspektrums, aller notwendigen Technologien<br />
aus einer Hand steht SICK als zuverlässiger Partner<br />
für kostenoptimierte Lösungen vieler Messaufgaben.<br />
Robust<br />
Sowohl der Prozess als auch die Umgebung stellen direkte<br />
Anforderungen an die Messgeräte mit hohen Anforderungen an<br />
Druck-, Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit sowie<br />
Belastung durch hohe Staubbeladungen. Um diesen Qualitätsanforderungen<br />
gerecht zu werden, bietet SICK eine große<br />
Auswahl an hochwertigen,<br />
korrosionsbeständigen<br />
Materialien. Aufgrund der<br />
langjährigen Erfahrung<br />
haben sich SICK-Analysatoren<br />
sowohl bei Installationen<br />
in Polar regionen als<br />
auch in Wüsten bewährt.<br />
Sicher<br />
Die Anforderungen an den sicheren Betrieb von Anlagen, den<br />
Schutz von Beschäftigten und Umwelt steigen stetig. SICK setzt<br />
dies im Design kompakter Geräte um. Zur Vermeidung von<br />
Explosionen stehen eigensichere, druckfest oder überdruckgekapselte<br />
Messgeräte und Systeme zur Verfügung. Darüber<br />
hinaus bietet SICK Geräte an, die entstehende potenziell<br />
gefährliche Gaskonzentrationen detektieren, um Gegenmaßnahmen<br />
zuverlässig einzuleiten. Zur Vermeidung<br />
von Personenschäden werden bei<br />
Messungen besonders gesundheitsschädlicher<br />
Stoffe wie z. B.<br />
Phosgen (COCl 2<br />
) Konstruktionen<br />
ein gesetzt, die ein Austreten<br />
des Prozessgases unter allen<br />
Umständen verhindern.<br />
Verfügbar<br />
Prozessparameter verändern sich laufend, Informationen über<br />
den Prozess müssen immer und zeitnah verfügbar sein. Um<br />
eine hohe operative Verfügbarkeit der Messergebnisse zu<br />
sichern, verwendet SICK einschwenkbare Filter und minimiert<br />
so den Zeitraum für periodische Abgleiche. Um die<br />
Betriebszeit (Uptime) auch bei unvorhersehbaren Ereignissen<br />
zu erhöhen, verwirklicht SICK ein konsequent modulares Konzept<br />
in seinen Prozessanalysatoren. Alle Informationen über<br />
Kalibrierung und Sensorcharakteristika werden in den Modulen<br />
hinterlegt. Dies gewährleistet das schnelle Erkennen eines Fehlers<br />
und den gezielten Austausch entsprechender Messmodule<br />
– der Prozess bleibt unter Kontrolle.<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
SICK ist somit prädestiniert für die effiziente Planung<br />
der unterschiedlichsten Projekte zur Realisierung<br />
von nachhaltigen Messtechnologien, die sich über<br />
viele Jahre bewähren.<br />
Schnell<br />
Für den Betrieb einer Anlage ist<br />
es entscheidend, relevante Prozessparameter<br />
ständig im Blick zu<br />
haben und ohne Zeitverzögerung<br />
auf etwaige Änderungen reagieren<br />
zu können. SICK entwickelt hierfür<br />
In-situ-Messgeräte, die Prozessveränderungen<br />
sofort und vor Ort<br />
genau messen. Ebenso optimiert<br />
SICK die Ansprechzeit extraktiver<br />
Messsysteme. Durch konsequente Umsetzung dieser Prämisse<br />
können selbst bei Leitungslängen von 30 m Ansprechzeiten von<br />
30 s realisiert werden.<br />
Geringe Betriebskosten<br />
Für eine hohe Produktqualität, den nachhaltigen Ressourceneinsatz<br />
und die Sicherheit der Anlage ergeben sich hohe<br />
Anforderungen an die einzelnen Messaufgaben. SICK bietet<br />
den Einsatz besonders zuverlässiger Messprinzipien und<br />
Auswerteverfahren. So z. B. die Laserspektroskopie, bei der die<br />
Sauerstoffkonzentration direkt gemessen werden kann. Für den<br />
Anwender ergeben sich robuste Messungen – frei von Drift mit<br />
langen Kalibrierabständen von 12 Monaten. Die Messungen<br />
bleiben dadurch über einen langen Zeitraum stabil.<br />
Weltweit<br />
SICK kann seine Analysatoren für den Einsatz in unterschiedlichen<br />
Normenwelten anbieten. Beispielsweise für Messgeräte,<br />
die in explosionsgefährdeten Bereichen eingesetzt werden, mit<br />
Konzepte für amerikanisch geprägte Märkte nach NEC500,<br />
für Europa ATEX oder international IECEx. Ebenso sind die<br />
Geräte für alle wesentlichen nationalen Zulassungen registriert.<br />
Als zuverlässiger Partner bietet SICK mit seiner weltweit<br />
tätigen Serviceorganisation<br />
umfangreiche<br />
Dienstleistungen<br />
rund um die Anlagen<br />
und Systeme.<br />
Subsidiaries<br />
Sales offices<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
21<br />
A<br />
B<br />
C<br />
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H<br />
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Q<br />
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S<br />
T
Gasanalysatoren<br />
<br />
Produktfamilienübersicht<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
J<br />
K<br />
L<br />
M<br />
N<br />
O<br />
P<br />
Q<br />
R<br />
S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
In-situ-Gasanalysatoren<br />
22<br />
GM32, GM32 Ex<br />
Aggressive Gase direkt und schnell messen<br />
– auch im Ex-Bereich<br />
Technische Daten<br />
Messprinzip<br />
UV-Spektroskopie<br />
Messkomponenten<br />
NH 3<br />
, NO, NO 2<br />
, SO 2<br />
, CH 3<br />
SH, (CH 3<br />
) 2<br />
S, (CH 3<br />
) 2<br />
S 2<br />
, H 2<br />
S, TRS<br />
Max. Anzahl Messgrößen 9<br />
Prozesstemperatur 0 °C ... +550 °C<br />
höhere Temperaturen auf Anfrage<br />
Prozessdruck<br />
60 hPa<br />
relativ<br />
Umgebungstemperatur –20 °C ... +55 °C<br />
Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />
Ex-Bereich<br />
Nicht-Ex-Bereiche<br />
Ex-Bereich: Zone 2 (Zone 1, Class 1 Div2)<br />
Auf einen Blick<br />
Geräteausführungen<br />
Systemkomponenten<br />
Hinweis<br />
Cross-duct-Version, Messlanzen-Version<br />
Sende-Empfangseinheit, Sende-Empfangseinheit in überdruckgekapselter Ausführung, Messlanze oder Reflektoreinheit,<br />
Anschlusseinheit, Anschlusseinheit in überdruckgekapselter Ausführung, Steuereinheit SCU (Option)<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Direkte, schnelle In-situ-Messung<br />
••<br />
Keine Gasentnahme, -transport und -aufbereitung<br />
••<br />
Bis zu 9 Messgrößen gleichzeitig<br />
••<br />
DOAS- und CDE-Auswerteverfahren<br />
••<br />
Mehrere unabhängige Messbereiche bei gleichbleibender Genauigkeit<br />
••<br />
Automatische Selbsttestfunktion (QAL3) ohne Prüfgase<br />
••<br />
Überdruckgekapselte Ausführung für Ex-Zone 1 und 2, FM Class 1 Div 2<br />
Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/GM32<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
Produktfamilienübersicht<br />
Gasanalysatoren <br />
<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
GM700 TRANSIC100LP GM960<br />
Die Prozessanalyse effizient gestalten –<br />
auch unter schwierigen Bedingungen<br />
Laserbasierte Sauerstoffmessung für raue<br />
Industrieanwendungen<br />
Bestimmung von CO-Korrosionsniveau und<br />
-Korrosionslast durch Netzmessung<br />
Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS) Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS) Zirkoniumdioxid (ZrO 2<br />
)<br />
HCl, HF, NH 3<br />
, O 2<br />
O 2<br />
CO, O 2<br />
1 1 2<br />
0 °C ... +430 °C<br />
–20 °C ... +80 °C –<br />
höhere Temperaturen auf Anfrage<br />
250 hPa<br />
800 hPa ... 1.400 hPa 50 hPa ... 100 hPa<br />
abhängig von der Ausführung und der Spülluftversorgung<br />
–40 °C ... +50 °C<br />
vier Bereiche einstellbar<br />
–40 °C ... +60 °C –10 °C ... +45 °C<br />
Nicht-Ex-Bereiche,<br />
Ex-Zone 2<br />
Nicht-Ex-Bereiche,<br />
Zone 1 + 2 (Anbau Zone 0),<br />
Class I Division 2, Anbau Class I Division 1<br />
Nicht-Ex-Bereiche<br />
Messlanzen-Version, Cross-duct-Version Ex-Ausführung –<br />
Sende-Empfangseinheit, Messlanze oder<br />
Reflektoreinheit, Auswerteeinheit AWE<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Hohe Selektivität durch hohe<br />
spektrale Auflösung<br />
••<br />
Kurze Ansprechzeiten<br />
••<br />
Keine Kalibrierung erforderlich<br />
••<br />
Keine bewegten Teile, nahezu verschleißfrei<br />
••<br />
Keine Gasentnahme und -aufbereitung<br />
erforderlich<br />
– Kesselwandsonde mit CO- und O 2<br />
-Sensor,<br />
Anschlussbox, Mastereinheit<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
O 2<br />
-Transmitter basierend auf leistungsfähiger<br />
Laser-Spektroskopie<br />
••<br />
Optimiert für rauen Industrieeinsatz<br />
– explosionsgeschützte Ausführung<br />
••<br />
Messung direkt im Prozess oder<br />
im Nebenstrom mit Messgaszelle<br />
(Option)<br />
••<br />
Beständig gegen aggressive Chemikalien<br />
und hohe Feuchte<br />
••<br />
Stabile Messwerte durch<br />
Driftüberwachung<br />
••<br />
Wartungsarm während der gesamten<br />
Betriebsdauer<br />
••<br />
Beheizte Optiken zur Kondensatvermeidung<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Bis zu 40 Sonden mit je einem COund<br />
O 2<br />
-Sensor zur direkten Montage<br />
an der Kesselwand<br />
••<br />
Bis zu 40 Anschlusseinheiten für<br />
Druckluft, Energieversorgung und<br />
Datenbus<br />
••<br />
Eine Mastereinheit mit Standard-<br />
Netzwerkanschluss an die Anlagenperipherie<br />
••<br />
Software MEPA-GM960 zur grafischen<br />
Darstellung der Messwerte,<br />
Prozesssteuerung, Datenspeicherung<br />
und -kommunikation<br />
--mysick.<strong>com</strong>/de/GM700 --mysick.<strong>com</strong>/de/TRANSIC100LP --mysick.<strong>com</strong>/de/GM960<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
23<br />
A<br />
B<br />
C<br />
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S<br />
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Gasanalysatoren<br />
<br />
Produktfamilienübersicht<br />
A<br />
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H<br />
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Q<br />
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S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
Extraktive Gasanalysatoren<br />
Technische Daten<br />
24<br />
Messprinzip<br />
Messkomponenten<br />
GMS810/815P/820P/830<br />
Maßgeschneiderte Gasanalyse für Prozessund<br />
Emissionsüberwachung<br />
NDUV-Fotometrie, NDIR-Fotometrie, Interferenzfilterkorrelation,<br />
paramagnetisches Hantelprinzip, elektrochemische<br />
Zelle, Wärmeleitfähigkeitsmessung,<br />
Flammenionisationsdetektion<br />
Ar, SO 2<br />
, CHClF 2<br />
, CHCl 2<br />
F, CH 2<br />
Cl 2<br />
, CH 4<br />
, CH 3<br />
OH, CO,<br />
COCl 2<br />
, CO 2<br />
, CS 2<br />
, CO+CO 2<br />
, C 2<br />
H 2<br />
, C 2<br />
H 2<br />
F 4<br />
, C 2<br />
H 4<br />
, C 2<br />
H 6<br />
,<br />
SF 6<br />
, C 3<br />
H 6<br />
, (CH 3<br />
) 2<br />
CO, C 3<br />
H 8<br />
, C 4<br />
H 10<br />
, C 4<br />
H 6<br />
, C 6<br />
H 4<br />
Cl 2<br />
, C 5<br />
H 12<br />
,<br />
O 2<br />
, C 6<br />
H 14<br />
, C 7<br />
H 16<br />
, COS, He, H 2<br />
, H 2<br />
O, H 2<br />
S, NH 3<br />
, NO, NO 2<br />
,<br />
N 2<br />
O, Cl 2<br />
, weitere Komponenten auf Anfrage, C org<br />
MCS300P/MCS300P EX<br />
Simultane Prozessüberwachung von<br />
bis zu 6 Messkomponenten<br />
Gasfilterkorrelation, Interferenzfilterkorrelation<br />
Br 2<br />
, (C 2<br />
H 5<br />
) 3<br />
N, (CH 3<br />
) 3<br />
SiCl, C 2<br />
Cl 4<br />
, C 2<br />
H 2<br />
, C 2<br />
H 2<br />
Cl 2<br />
, C 2<br />
H 3<br />
Cl,<br />
C 2<br />
H 4<br />
, C 2<br />
H 4<br />
Cl 2<br />
, C 2<br />
H 5<br />
OH, C 2<br />
H 6<br />
, C 2<br />
HBrClF 3<br />
, C 2<br />
HCl 3<br />
,<br />
C 3<br />
F 5<br />
ClOH, C 3<br />
F 6<br />
, C 3<br />
F 6<br />
O, C 3<br />
H 6<br />
, C 3<br />
H 7<br />
OH, C 4<br />
H 8<br />
, C 4<br />
H 9<br />
NH 3<br />
,<br />
C 6<br />
H 4<br />
Cl 2<br />
, C 6<br />
H 5<br />
CHO, C 6<br />
H 5<br />
NO 2<br />
, CCl 2<br />
F 2<br />
, CCl 4<br />
, CH 2<br />
Cl 2<br />
,<br />
CH 3<br />
CHO, CH 3<br />
COOC 2<br />
H 3<br />
, CH 4<br />
, CHCl 3<br />
, CHClF 2<br />
, Cl 2<br />
, CO,<br />
CO 2<br />
, COCl 2<br />
, COS, CS 2<br />
, H 2<br />
O, HCl, HCN, HF, N 2<br />
O, NH 3<br />
,<br />
SF 6<br />
, SiF 4<br />
, SO 2<br />
, UF 6<br />
, NO, NO 2<br />
, C 3<br />
H 8<br />
, C 4<br />
H 10<br />
, C 6<br />
H 5<br />
Cl<br />
Max. Anzahl Messgrößen 8 6<br />
Prozesstemperatur Eingang Analysator: 0 °C ... +45 °C +50 °C ... +200 °C<br />
Prozessdruck Verschlauchte Gaswege: 200 hPa ... 300 hPa<br />
0,8 bar ... 60 bar<br />
Verrohrte Gaswege: 200 hPa ... 1.000 hPa<br />
Umgebungstemperatur +5 °C ... +45 °C +5 °C ... +40 °C<br />
Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />
Auf einen Blick<br />
Ex-Bereich<br />
Geräteausführungen<br />
Nicht-Ex-Bereiche,<br />
Ex-Zone 2, Ex-Zone 1<br />
19''-Einschub, Wandgehäuse, druckfest gekapseltes<br />
Gehäuse, Systemeinbaumodul<br />
Nicht-Ex-Bereiche,<br />
Ex-Zone 2 + 1<br />
–<br />
Systemkomponenten – Entnahmesonde, Messgasleitung, Messstellenumschaltung,<br />
Probenaufbereitung, Analysator<br />
Hinweis<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
7 verschiedene Analysatormodule:<br />
DEFOR (NDUV, UVRAS), FIDOR (FID),<br />
MULTOR (NDIR), OXOR-E (elektrochemisch<br />
O 2<br />
), OXOR-P (paramagnetische O 2<br />
),<br />
THERMOR (TC) und UNOR (NDIR)<br />
••<br />
4 verschiedene Gehäusevarianten<br />
••<br />
Gasmodul mit Messgaspumpe und/oder<br />
Überwachungssensoren<br />
••<br />
Neue Gehäusevariante zum einfachen und<br />
schnellen Einbau in Analysensysteme<br />
••<br />
Ferndiagnose über Ethernet mit der<br />
Software SOPAS ET<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Simultane Messung von bis zu 6<br />
Komponenten<br />
••<br />
Prozessküvetten bis 60 bar und 200 °C<br />
••<br />
Automatische Messstellenumschaltung<br />
••<br />
Integrierte Justiereinrichtung (optional)<br />
••<br />
Schutzvorrichtungen zur Messung toxischer<br />
oder brennbarer Mischungen<br />
••<br />
Erweitere Bedienung über PC und Software<br />
SOPAS ET<br />
••<br />
Flexibles I/O-Modulsystem<br />
Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/GMS800 --mysick.<strong>com</strong>/de/MCS300P<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
Produktfamilienübersicht<br />
Gasanalysatoren<br />
<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
GME700 EuroFID (UEG) MONOCOLOR 2Ex<br />
Anspruchsvolle Prozessanalyse<br />
auf Linie gebracht<br />
Zuverlässige UEG-Überwachung in Prozessen<br />
Kolorimetrische H 2<br />
S-Analyse über einen<br />
weiten Konzentrationsbereich<br />
Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS) Flammenionisationsdetektion Kolorimetrie<br />
HCl, HF, H 2<br />
O, NH 3<br />
, O 2<br />
C org<br />
H 2<br />
S<br />
2 1 1<br />
0 °C ... +210 °C Inline-Version: 0 °C ... +350 °C<br />
Übrige Ausführungen: 0 °C ... +200 °C<br />
600 hPa ... 1.200 hPa 50 hPa<br />
relativ<br />
0 °C ... +55 °C Analysator, Terminalbox: 0 °C ... +55 °C<br />
Bedieneinheit: 0 °C ... +40 °C<br />
Nicht-Ex-Bereiche<br />
Nicht-Ex-Bereiche,<br />
Ex-Zone 1+ 2<br />
+5 °C ... +45 °C<br />
Temperatur am Analysatoreingang<br />
60 hPa ... 120 hPa<br />
relativ<br />
+5 °C ... +40 °C<br />
Nicht-Ex-Bereiche,<br />
Ex-Zone 1 + 2<br />
19''-Einschub Inline-Version, Ausführung für Ex-Zone 1 19''-Einschub, Wandgehäuse für Ex-Zone 1<br />
Analysator Analysator, Bedieneinheit, Terminalbox –<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der<br />
Applikation und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Hohe Selektivität durch hohe<br />
spektrale Auflösung<br />
••<br />
Keine Kalibrierung erforderlich<br />
••<br />
Keine bewegten Teile, nahezu<br />
verschleißfrei<br />
••<br />
Beheizte Langweg-Messzelle<br />
••<br />
Heiß-Messtechnik<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der<br />
Applikation und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Integrierte Verdünnung des<br />
Messgases<br />
••<br />
Keine bewegten Teile<br />
••<br />
Alle Gaswege beheizt<br />
••<br />
Optimale Detektorgeometrie<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der<br />
Applikation und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Messbereiche von ppm bis Vol.-%<br />
••<br />
Sehr spezifische Messmethode<br />
••<br />
19’’-Einschub oder Wandaufbaugehäuse<br />
zum Einsatz in Ex-Zone 1<br />
(ATEX)<br />
••<br />
Kalibrierschieber zur Kalibrierung<br />
ohne Prüfgas<br />
--mysick.<strong>com</strong>/de/GME700 --mysick.<strong>com</strong>/de/EuroFID --mysick.<strong>com</strong>/de/MONOCOLOR<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
25<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
J<br />
K<br />
L<br />
M<br />
N<br />
O<br />
P<br />
Q<br />
R<br />
S<br />
T
Analysensysteme<br />
<br />
Produktfamilienübersicht<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
J<br />
K<br />
L<br />
M<br />
N<br />
O<br />
P<br />
Q<br />
R<br />
S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
Analysensysteme<br />
Technische Daten<br />
26<br />
Messprinzip<br />
MCS300P HW<br />
Simultane Prozessüberwachung von<br />
bis zu 6 Messkomponenten<br />
Gasfilterkorrelation, Interferenzfilterkorrelation, Zirkoniumdioxidsensor<br />
MAC800<br />
Modulares Komplettsystem zur extraktiven<br />
Gasanalyse<br />
Entsprechend den eingebauten GMS800-Analysatormodulen<br />
Messkomponenten CO, CO 2<br />
, HCl, H 2<br />
O, NH 3<br />
, NO, NO 2<br />
, N 2<br />
O, O 2<br />
, SO 2<br />
CO, CO 2<br />
, CH 4<br />
, NO, NO 2<br />
, N 2<br />
O, SO 2<br />
, O 2<br />
Max. Anzahl Messgrößen 6 9<br />
Auf einen Blick<br />
Prozesstemperatur Prozess: ≤ +1.300 °C<br />
Messgaseingang: ≤ +220 °C<br />
Prozess: ≤ +1.000 °C<br />
Eingang Analysensystem: ≤ +200 °C<br />
Prozessdruck 800 hPa ... 1.200 hPa –<br />
Umgebungstemperatur +5 °C ... +35 °C<br />
Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />
Mit Kühlgerät: +5 °C ... +55 °C<br />
Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />
Standard: +5 °C ... +35 °C<br />
Mit Kühlgerät: +5 °C ... +50 °C<br />
Ex-Bereich Nicht-Ex-Bereiche –<br />
Geräteausführungen Stahlblechschrank Stahlblechschrank, GFK-Schrank<br />
Systemkomponenten<br />
Hinweis<br />
Analysenschrank, Entnahmesonde, beheizte<br />
Messgasleitung, Messstellenumschaltung (max. 8<br />
Messstellen)<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Simultane Messung von bis zu<br />
6 Komponenten plus O 2<br />
••<br />
Messgasflussüberwachung und Messgasdruckerfassung<br />
••<br />
Temperatur der Systemkomponenten<br />
bis 220 °C<br />
••<br />
Automatische Messstellenumschaltung für<br />
bis zu 8 Messstellen (optional)<br />
••<br />
Automatische Justage am Null- und<br />
Referenzpunkt<br />
••<br />
Integrierte Justiereinrichtung ohne Prüfgas<br />
(optional)<br />
••<br />
Erweitere Bedienung über PC und Software<br />
SOPAS ET<br />
••<br />
Flexibles I/O-Modulsystem<br />
••<br />
In Kombination mit dem SCP3000 von SICK:<br />
Gasentnahme unter rauen Bedingungen am<br />
Drehrohrofen-EInlauf<br />
Modulargehäuse GMS830 oder GMS831, Analysenschrank,<br />
Entnahmesonde, Messgasleitung, Messgaskühler,<br />
NO x<br />
-Konverter (Option), Kühlgerät (Option),<br />
Heizung (Option)<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Kalt-extraktives Analysensystem geprüft<br />
nach EN 15267-3<br />
••<br />
Plug-and-play-Analysenmodule mit<br />
24-V- Energieversorgung<br />
••<br />
Bedieneinheit zur Darstellung aller Messwerte<br />
und Statusinformationen auf einem<br />
Touchscreen<br />
••<br />
Externe Sensoren über Schnittstellen anschließbar<br />
••<br />
Anzeige und Kontrolle externer Sensoren<br />
möglich<br />
••<br />
Fernüberwachung des gesamten Systems<br />
über Ethernet, Modbus oder optionales<br />
GPRS-Modem<br />
Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/MCS300P HW --mysick.<strong>com</strong>/de/MAC800<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
Produktfamilienübersicht<br />
Analysensysteme<br />
<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
MKAS<br />
Komplettsystem zur extraktiven Gasanalyse<br />
TOCOR<br />
Organische Wasserverunreinigungen zuverlässig überwachen<br />
Entsprechend den eingebauten S700-Analysatormodulen TOC/TC-Messung durch thermische oder UV-Oxidation von C zu CO 2<br />
mit anschließender CO 2<br />
-Messung mittels NDIR-Fotometrie<br />
CH 4<br />
, CO, CO 2<br />
, NO, NO 2<br />
, N 2<br />
O, O 2<br />
, SO 2<br />
C org<br />
(TOC/TC)<br />
Entsprechend den eingebauten Analysatormodulen 1<br />
Eingang Analysensystem: 0 °C ... +200 °C<br />
+5 °C ... +45 °C<br />
Prozess: 0 °C ... +900 °C<br />
abhängig von der Entnahmesonde<br />
– 900 hPa ... 1.100 hPa<br />
Standard: +5 °C ... +35 °C<br />
ohne direkte Sonneneinstrahlung<br />
Mit Kühlgerät: +5 °C ... +50 °C<br />
–10 °C ... +35 °C<br />
Nicht-Ex-Bereiche Nicht-Ex-Bereiche, Ex-Zone 2, Ex-Zone 1<br />
Stahlblechschrank, GFK-Schrank –<br />
Analysator SIDOR oder S710, Analysenschrank,<br />
Analysator, Analysenschrank, Entnahmefilter<br />
Entnahmesonde, Kühlgerät (Option), Messgaskühler, Messgasleitung,<br />
Messgaspumpe, NO x<br />
-Konverter (Option)<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und<br />
der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Bis zu 3 Analysatoren S710 oder SIDOR oder<br />
NO x<br />
-Konverter<br />
••<br />
Umfasst alle wichtigen Systemkomponenten<br />
••<br />
Prüfgasaufgabe über die Gasentnahmesonde<br />
••<br />
Hochleistungs-Messgaskühler<br />
••<br />
Messgas-Bypass<br />
••<br />
Betriebsfertig verdrahtet und geprüft<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Sehr hohe Messgenauigkeit auch bei kleinen<br />
TOC-Konzentrationen<br />
••<br />
Benötigtes Trägergas wird im System erzeugt<br />
••<br />
Messstellenumschaltung für 4 Messstellen als Option<br />
••<br />
Ausführungen für Einsatz in Ex-Zone 1 oder 2 (ATEX)<br />
••<br />
Ausführung als Standgerät oder Wandgerät<br />
--mysick.<strong>com</strong>/de/MKAS --mysick.<strong>com</strong>/de/TOCOR<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
27<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
J<br />
K<br />
L<br />
M<br />
N<br />
O<br />
P<br />
Q<br />
R<br />
S<br />
T
Gasdurchflussmessgeräte<br />
<br />
Produktfamilienübersicht<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
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Q<br />
R<br />
S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
Volumenstrommessgeräte<br />
Technische Daten<br />
28<br />
FLOWSIC100 Process<br />
Zuverlässige und exakte Volumenstrommessung<br />
in Prozessen<br />
FLOWSIC100 Process<br />
Messlanzen-Version für explosionsgefährdete<br />
Bereiche Zone 2 (ATEX)<br />
Messprinzip Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung<br />
Messkomponenten<br />
Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Volumenstrom<br />
i.B., Volumenstrom i.N., Schallgeschwindigkeit,<br />
Massestrom<br />
Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Volumenstrom<br />
i.B., Volumenstrom i.N., Schallgeschwindigkeit,<br />
Massestrom<br />
Max. Anzahl Messgrößen 1 1<br />
Auf einen Blick<br />
Prozesstemperatur –40 °C ... +260 °C<br />
tiefere Temperaturen auf Anfrage<br />
–40 °C ... +260 °C<br />
tiefere Temperaturen auf Anfrage<br />
Prozessdruck –0,5 bar ... 16 bar –100 hPa ... 100 hPa<br />
Umgebungstemperatur<br />
Sende-Empfangseinheiten FLSE100, Steuereinheit<br />
MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />
Sende-Empfangseinheiten FLSE100, Steuereinheit<br />
MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />
Schutzart IP 65 IP 65<br />
Geräteausführungen Cross-duct-Version Messlanzen-Version<br />
Hinweis<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />
und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Korrosionsbeständige Wandler aus Edelstahl<br />
oder Titan<br />
••<br />
Bis 16 bar Prozessdruck<br />
••<br />
Hermetisch abgedichtete Ultraschallwandler<br />
••<br />
Integrale Messung über den Kanaldurchmesser<br />
••<br />
Druckverlustfreie Messung ohne<br />
••<br />
Korrosionsbeständige Wandler aus Titan<br />
••<br />
Ausführung mit Messlanze zur Installation<br />
von einer Seite<br />
••<br />
Explosionsgeschützt für Einsatz in Zone 2<br />
(ATEX)<br />
••<br />
Automatische Funktionskontrolle mit Nullund<br />
Referenzpunkttest<br />
Beeinflussung des Prozesses<br />
••<br />
Automatische Funktionskontrolle mit Nullund<br />
Referenzpunkttest<br />
Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Process --mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Process<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
Produktfamilienübersicht<br />
Gasdurchflussmessgeräte <br />
<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
FLOWSIC100 Flare<br />
Zuverlässige Gasdurchflussmessung in Fackelgas-Anwendungen<br />
Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung<br />
Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Gasvolumen und -masse, Massestrom,<br />
Volumenstrom i.B., Volumenstrom i.N., Molekulargewicht<br />
FLOWSIC100 Flare<br />
Zuverlässige Gasdurchflussmessung in Fackelgas-Anwendungen<br />
Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung<br />
Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Gasvolumen und -masse, Massestrom,<br />
Molekulargewicht, Volumenstrom i.B., Volumenstrom i.N.<br />
1 1<br />
Standard: –70 °C ... +180 °C<br />
Hochtemperatur Zone 1: –70 °C ... +280 °C<br />
Hochtemperatur Zone 2: –70 °C ... +260 °C<br />
Niedertemperatur: –196 °C ... +100 °C<br />
auf Anfrage<br />
Standard: –70 °C ... +180 °C<br />
Hochtemperatur Zone 1: –70 °C ... +280 °C<br />
Hochtemperatur Zone 2: –70 °C ... +260 °C<br />
Niedertemperatur: –196 °C ... +100 °C<br />
auf Anfrage<br />
–0,5 barg ... 16 barg –0,5 barg ... 16 barg<br />
Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –40 °C ... +70 °C<br />
Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –50 °C ... +70 °C<br />
Option<br />
Steuereinheit MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />
Sende-Empfangseinheiten FLSE100: IP 65, IP 67<br />
Steuereinheit MCUP: IP 65<br />
Steuereinheit MCUP, Ex d-Gehäuse: IP 66<br />
Cross-duct-Version<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />
Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –40 °C ... +70 °C<br />
Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –50 °C ... +70 °C<br />
Option<br />
Steuereinheit MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />
Sende-Empfangseinheiten: IP 65, IP 67<br />
Steuereinheit MCU: IP 65<br />
Cross-duct-Version<br />
Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />
••<br />
Innovatives Sensordesign für sehr hohe Gasgeschwindigkeiten<br />
••<br />
Innovatives Sensordesign für sehr hohe Gasgeschwindig-<br />
••<br />
Hohe Wandlerleistung<br />
••<br />
Hochgenaue Zeitauflösung für Messung nahe Nullpunkt keiten<br />
••<br />
Rechtwinkliger Einbau der Sensoren<br />
••<br />
Hochgenaue Zeitauflösung für Messungen nahe Nullpunkt<br />
••<br />
Für Drücke bis 16 bar<br />
••<br />
Für Drücke bis 16 bar<br />
••<br />
Hermetisch abgedichtete Wandler aus Titan oder Edelstahl ••<br />
Hermetisch abgedichtete Wandler aus Titan oder Edelstahl<br />
••<br />
Für explosionsgefährdete Bereiche Zone 1, Zone 2 (ATEX/ ••<br />
Für explosionsgefährdete Bereiche Zone 1, Zone 2<br />
IECEx) und CSA Class I, Div1<br />
(ATEX/IECEx) und CSA CIass I, Div1<br />
••<br />
Optional mit Wechselvorrichtung<br />
••<br />
Optional mit Wechselvorrichtung (Version EX-RE)<br />
••<br />
Automatischer Null- und Referenzpunkttest<br />
••<br />
Automatischer Null- und Referenzpunkttest<br />
--mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Flare --mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Flare<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
29<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
J<br />
K<br />
L<br />
M<br />
N<br />
O<br />
P<br />
Q<br />
R<br />
S<br />
T
Glossar<br />
<br />
Produktfamilienübersicht<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
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S<br />
T<br />
PROZESSMESSTECHNIK<br />
Glossar<br />
A<br />
Analysensystem<br />
Besteht aus Verrohrung, Hardware und Instrumentierung, die<br />
benötigt wird, um eine automatische und dauerhafte Analyse<br />
eines Prozesses oder eines Produktstroms zu erhalten. Dies<br />
schließt das Analysenhaus, die Probenahme und -aufbereitung,<br />
die Analysatoren und Anzeigeeinheiten sowie die Entsorgung<br />
ein (ASTM D 3764).<br />
Ansprechzeit<br />
Das Zeitintervall, das von einer sprunghaften Veränderung an<br />
verschieden Stellen im Prozess verstreicht, bis diese Veränderung<br />
am Analysator angezeigt wird. Sie ist abhängig von Anlagendesign<br />
und der Flussrate (ASTM 3764). Die Ansprechzeit<br />
von Analysesystemen setzt sich zusammen aus der Zeit, die bei<br />
der Probenahme, der -Aufbereitung und der Ansprechzeit des<br />
Analysators.<br />
Auflösung<br />
Angabe zur quantitativen Erfassung des Merkmals eines Messgerätes,<br />
um zwischen nahe beieinanderliegenden Messwerten<br />
eindeutig zu unterscheiden, z. B. durch die kleinste Differenz<br />
zweier Messwerte, die das Messgerät eindeutig unterscheidet<br />
(DIN 1319-1:1995).<br />
B<br />
Bezugsnormal<br />
Material oder Substanz mit Merkmalen, deren Werte für den<br />
Zweck der Kalibrierung, die Beurteilung eines Messverfahrens<br />
oder die quantitative Ermittlung von Materialeigenschaften<br />
ausreichend festliegen, z. B. zertifizierte Prüfgase (DIN 1319-<br />
1:1995).<br />
D<br />
DOAS – Diff. Optische Absorptions-Spektroskopie<br />
Bei der differentiellen optischen Absorptionsspektroskopie wird<br />
ein für die zu bestimmenden Gase charakteristisches Absorptionsspektrum<br />
aufgenommen. Dabei werden die Gaskonzentrationen<br />
aus dem charakteristischen Unterschied der Absorption<br />
direkt bei den Absorptionsstrukturen errechnet. Durch die Auswertung<br />
des charakteristischen Absorptionsspektrums unter<br />
Betrachtung der Differenzen bleibt das Ergebnis unbeeinflusst<br />
von anderen Gaskomponenten, Staub und Feuchte.<br />
Drift<br />
Langsame zeitliche Änderung des Wertes eines messtechnischen<br />
Merkmals eines Messgerätes (DIN 1319-1:1995).<br />
E<br />
Empfindlichkeit<br />
Änderung des Wertes der Ausgangsgröße eines Messgeräts<br />
bezogen auf die verursachende Änderung des Wertes der Eingangsgröße<br />
(DIN 1319-1:1995).<br />
30<br />
F<br />
FID – Flammen-Ionisations-Detektion<br />
Messverfahren zur Bestimmung des Gesamtkohlenwasserstoffs<br />
(TOC oder C org<br />
). Im Detektor wird eine Flamme mit einem<br />
kohlenwasserstofffreien Gasgemisch betrieben und ein elektrisches<br />
Feld angelegt. Eintretende Kohlenwasserstoffe werden<br />
gecracked und gestripped und die CH-Fragmente oxidieren zu<br />
CHO+ Ionen. Der anfallende Ionenstrom wird gemessen.<br />
FTIR – Fourier-Transformations-Infrarot<br />
Messung mit Hilfe eines Michelson-Interferometers. An einem<br />
Strahlenteiler wird der Strahl geteilt. Ein Strahl wird auf einen<br />
festen Spiegel gelenkt, während der andere an einem beweglichen<br />
Spiegel reflektiert wird. Nach der Reflexion werden die<br />
Strahlen wieder zusammengeführt und interferieren miteinander.<br />
Daraus ergibt sich ein Interferogramm, das mit Hilfe einer<br />
Fourrier-Transformation in ein Spektrum verrechnet wird.<br />
G<br />
Gasfilterkorrelation<br />
Siehe Interferenzfilter-Korrelation wobei die Interferenzfilter<br />
durch gasgefüllte Küvetten ersetzt werden.<br />
Genauigkeit<br />
Qualitative Bezeichnung für das Ausmaß der Annäherung von<br />
Ermittlungsergebnissen an den Bezugswert, wobei dieser je<br />
nach Festlegung einer Vereinbarung der wahre, der richtige<br />
oder der Erfahrungswert sein kann.<br />
I<br />
Interferenzfilter-Korrelation<br />
Optische Filter werden abwechselnd in einen Lichtstrahl<br />
geschwenkt. Ein Filter lässt die Strahlung passieren, die vom<br />
zu messenden Gas absorbiert wird, während der andere Filter<br />
Strahlung passieren lässt, die nicht absorbiert wird. Aus der Differenz<br />
der Absorption, die an einem Detektor gemessen wird,<br />
errechnet sich die Gaskonzentration.<br />
K<br />
Kalibrierung<br />
Ermittlung des Zusammenhangs zwischen Messwert oder<br />
Erwartungswert, der Ausgangsgröße und dem zugehörigen<br />
wahren oder richtigen Wert, der als Eingangsgröße vorliegenden<br />
Messgröße für eine betrachtete Messeinrichtung bei<br />
vorgegebenen Bedingungen (DIN 1319-1:1995).<br />
L<br />
Laufzeitdifferenzmessung<br />
Messung der Fließgeschwindigkeit über Ultraschall. Sender und<br />
Empfänger werden dabei schräg zur Fließrichtung angebracht,<br />
wobei aus der Differenz der Laufzeit in und gegen die Fließrichtung<br />
die Fließgeschwindigkeit gemessen wird.<br />
| SICK 8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten
Produktfamilienübersicht<br />
M<br />
Messprinzip<br />
Die physikalische Grundlage der Messung. Das Messprinzip<br />
erlaubt es, anstelle der Messgröße eine andere Größe zu<br />
ermitteln, um aus ihrem Wert eindeutig den der Messgröße zu<br />
ermitteln (DIN 1319-1:1995).<br />
Messunsicherheit<br />
Kennwert, der aus Messungen gewonnen wird und zusammen<br />
mit dem Messergebnis zur Kennzeichnung eines Wertebereiches<br />
für den wahren Wert der Messgröße dient. Die Messunsicherheit<br />
ist ein quantitatives Maß für den nur qualitativ<br />
verwendeten Begriff der Genauigkeit (DIN 1319-1:1995).<br />
N<br />
NDIR – Nicht-Dispersive-Infrarot-Absorption<br />
Infrarotstrahlung eines bestimmten Wellenlängenbereichs wird<br />
über ein Chopper-Rad gepulst abwechselnd in die Messküvette<br />
und die Referenzküvette geleitet. Der Vergleich beider Messungen<br />
am Detektor ergibt die Gaskonzentration.<br />
P<br />
Präzision<br />
Die Übereinstimmung von unabhängigen Messungen, die durch<br />
wiederholtes Messen unter gleichen Bedingungen an derselben<br />
Probe entstehen. Präzision wird in Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit<br />
ausgedrückt.<br />
Probeverfahren<br />
Bei dieser Methode wird eine Probe an der Probenahme<br />
entnommen und nach bestimmten Vorgaben analysiert. Die<br />
Analyseergebnisse werden mit denen des Analysators unter<br />
Berücksichtigung der Ansprechzeit verglichen (ASTM D3764).<br />
Prüfgas<br />
Ein Kalibriergas ist ein Gas oder Gasgemisch, das aufgrund der<br />
bekannten Zusammensetzung für Kalibrierzwecke geeignet ist.<br />
Es ist auch zur Validierung oder Verifizierung einsetzbar.<br />
R<br />
Referenzverfahren<br />
Bei diesem Verfahren wird ein Referenzmaterial in den Analysator<br />
eingebracht und die Messergebnisse mit den Referenzwert<br />
der Referenzprobe verglichen (ASTM D3764). Auch die<br />
Verwendung von optischen Filtern kann als Referenzverfahren<br />
angesehen werden.<br />
Reproduzierbarkeit<br />
Grad der Übereinstimmung von unabhängigen Messungen, die<br />
vom selben Material von unterschiedlichen Personen in unterschiedlichen<br />
Analysatoren und in unterschiedlichen Laboren<br />
gewonnen werden.<br />
8015048/2012-10<br />
Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />
S<br />
PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />
Glossar<br />
<br />
Standardabweichung<br />
Positive Quadratwurzel aus der mittleren quadratischen Abweichung<br />
vom arithmetischen Mittelwert geteilt durch die Anzahl<br />
der Freiheitsgrade.<br />
Systematischer Fehler<br />
Abweichung des Erwartungswertes vom wahren Wert. Setzt<br />
sich zusammen aus bekannten und nicht bekannten systematischen<br />
Abweichungen (DIN 1319-1:1995). Systematische Fehler<br />
beeinflussen die Genauigkeit.<br />
T<br />
TDLS – Tunable Diode Laser Spectroscopy<br />
Ein Laser wird über eine Absorptionslinie des zu messenden<br />
Gases moduliert. Die Absorptionsstärke der spezifischen Linie<br />
wird über einen Detektor gemessen. Es kann alternativ die<br />
Fläche unter einem Absoptionsprofil bestimmt werden oder das<br />
2f-Verfahren angewandt werden und so die Gaskonzentration<br />
gemessen werden.<br />
U<br />
UVRAS – UV-Resonanz-Absorptions-Spektroskopie<br />
NO-spezifische Gasfilterkorrelations-Spektroskopie bei Verwendung<br />
einer NO-spezifischen Plasmaquelle.<br />
V<br />
Verfügbarkeit<br />
Ist das Verhältnis der gesamten Betriebszeit zu der Zeit, in der<br />
der Analysator korrekt funktioniert.<br />
W<br />
Wiederholbarkeit<br />
Der Unterschied zwischen zwei aufeinanderfolgenden Analyseergebnissen,<br />
die nur bei einem von 20 Messungen überschritten<br />
wird (95 % Vertrauensniveau). Der Analysator muss dabei<br />
in normalen Betriebsbedingungen und mit einer Probe gleicher<br />
Zusammensetzung betrieben werden (ASTM D3764). Oft wird<br />
auch die Standardabweichung des Analysators verwendet.<br />
Z<br />
Zeemann-Atom-Absorptions-Spektrospkoie (ZAAS)<br />
Ein um die Entladungslampe angelegtes elektromagnetisches<br />
Feld erzeugt eine zusätzliche Referenzwellenlänge, die außerhalb<br />
des Absorptionsbereichs von Hg-Atomen liegt. Die beiden<br />
Referenzwellenlängen werden abwechselnd am Detektor<br />
gemessen. So werden Querempfindlichkeiten und Verschmutzungen<br />
kompensiert.<br />
Zufällige Fehler<br />
Die zufällige Variation, die in einer Population von Messergebnissen<br />
trotz einer genauen Kontrolle der Variablen gefunden<br />
wird. Zufällige Fehler beeinflussen die Präzision.<br />
31<br />
A<br />
B<br />
C<br />
D<br />
E<br />
F<br />
H<br />
I<br />
J<br />
K<br />
L<br />
M<br />
N<br />
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Q<br />
R<br />
S<br />
T
8015048/2012-10 ∙ WB USmod de37<br />
SICK auf einen Blick<br />
Führende Technologien<br />
Mit mehr als 5.800 Mitarbeitern und<br />
über 50 Tochtergesellschaften weltweit<br />
ist SICK einer der führenden und erfolgreichsten<br />
Hersteller im Bereich der<br />
Sensortechnologie. Innovationskraft<br />
und Lösungskompetenz haben das Unternehmen<br />
zum Marktführer gemacht.<br />
Für jede Aufgabenstellung – in welcher<br />
Branche auch immer – ist ein Gespräch<br />
mit SICK-Experten die beste Basis für<br />
neue Impulse und innovative Lösungen.<br />
Einzigartiges Produktspektrum<br />
••<br />
Berührungsloses Erfassen, Zählen,<br />
Klassifizieren, Positionieren und<br />
Messen von Objekten und Medien<br />
aller Art<br />
••<br />
Unfall- und Personenschutz mit<br />
Sensoren, Sicherheits-Software und<br />
Services<br />
••<br />
Automatische Identifikation durch<br />
Barcode- und RFID-Lesegeräte<br />
••<br />
Lasermesssensoren erfassen Volumen,<br />
Lage und Kontur von Personen<br />
und Objekten<br />
••<br />
Komplette Systemlösungen für die<br />
Analyse und Durchflussmessung von<br />
Gasen und Flüssigkeiten<br />
Umfassende Dienstleistungen<br />
••<br />
SICK LifeTime Services – für Sicherheit<br />
und Produktivität<br />
••<br />
Applikationszentren in Europa, Asien<br />
und Nordamerika – für Systemlösungen<br />
im realen Umfeld des<br />
späteren Produktiveinsatzes<br />
••<br />
E-Business Partner Portal<br />
www.mysick.<strong>com</strong> – Preis- und Verfügbarkeitsabfrage<br />
von Produkten, Angebotsanfrage<br />
und Online-Bestellung<br />
Deutschland<br />
SICK Vertriebs-GmbH<br />
Willstätterstraße 30<br />
40549 Düsseldorf<br />
Tel. +49 211 5301-301<br />
Fax +49 211 5301-302<br />
E-Mail kundenservice@sick.de<br />
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Österreich<br />
SICK GmbH<br />
Straße 2A,<br />
Objekt M11, IZ NÖ-Süd<br />
2355 Wiener Neudorf<br />
Tel. +43 22 36 62 28 8-0<br />
Fax +43 22 36 62 28 85<br />
E-Mail office@sick.at<br />
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Schweiz<br />
SICK AG<br />
Breitenweg 6<br />
6370 Stans<br />
Tel. +41 41 619 29 39<br />
Fax +41 41 619 29 21<br />
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