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Prozessmesstechnik, 80150048 - Mysick.com

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Moderne <strong>Prozessmesstechnik</strong><br />

von SICK<br />

Bewährte Analysatoren und Lösungen aus einer Hand<br />

für die zukunftsorientierte <strong>Prozessmesstechnik</strong>


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PROZESSMESSTECHNIK<br />

Moderne <strong>Prozessmesstechnik</strong><br />

von SICK<br />

Zukunftsorientierte Lösungen für die Anforderungen der<br />

<strong>Prozessmesstechnik</strong><br />

In Zeiten des beschleunigten Wandels, weitreichender Veränderungen und Umwälzungen<br />

in Wirtschaft, Politik und Klimaschutz stehen Produkte und Lieferketten, die sich<br />

über einen langen Zeitraum etabliert hatten, auf dem Prüfstand. Die Prozessindustrie<br />

ist von diesem Wandel in doppelter Hinsicht betroffen.<br />

Auf der einen Seite steigen die Anforderungen an die Industrie. Knapper werdende<br />

Rohstoffe und sich verteuernde Energieträger verlangen nach mehr Effizienz. Immer<br />

deutlicher drücken sich Umweltbedenken in global verschärfenden Vorschriften und<br />

Gesetzen aus. Die Globalisierung und der zunehmende Wettbewerb aus den Schwellenländern<br />

bieten die Chance – aber auch das Risiko – eines weltweiten Absatzmarktes<br />

und Wettbewerbs.<br />

Auf der anderen Seite spricht man der Prozessindustrie eine Schlüsselrolle bei der<br />

Bewältigung dieser Herausforderungen zu. Viele Produkte, die zukünftig eine gute und<br />

nachhaltige Lebensweise von Milliarden von Menschen ermöglichen sollen, beruhen<br />

auf Prozessen, die sich noch in Versuchsstadien befinden oder noch gar nicht erfunden<br />

sind. Zukunftsszenarien basieren auf der Entwicklung von pflanzenbasierten<br />

Rohstoffen, neuen Dämmstoffen und neuartigen Beschichtungen.<br />

SICK ist ein kompetenter Partner in diesem Wandel. Zum einen kann SICK durch<br />

bewährte Produkte für die <strong>Prozessmesstechnik</strong> und ausgeprägte Expertise seine<br />

Kunden und Partner kompetent unterstützen, um mit ihnen gemeinsam maßgeschneiderte<br />

Lösungen zur Effizienzsteigerung von Produktionsanlagen und Prozessen<br />

zu erarbeiten.<br />

Zum anderen steht SICK für Innovations- und Technologieführerschaft und ist mit<br />

seinem weltweiten Vertriebs- und Servicenetzwerk ein starker Partner für die Überwachung<br />

neuer Verfahren und Messaufgaben an Ihrer Seite.<br />

2<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


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8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

Regionen mit starkem Energieverbrauch"<br />

Überzeugende Leistung<br />

Unternehmen. ......................4<br />

Branchen und Lösungen:<br />

Betriebsmessungen .................6<br />

Branchen und Lösungen:<br />

Prozessmessungen. .................8<br />

Technologien und Messprinzipien .... 10<br />

Geräte und Systeme .............. 12<br />

Projekt-Engineering und Systembau .. 14<br />

Konnektivität –<br />

richtig verbunden mit SICK. ......... 16<br />

Dienstleistungen und Service ....... 18<br />

Anforderungen an<br />

Prozessmesssysteme .............. 20<br />

Gasanalysatoren ................. 22<br />

Analysensysteme ................. 26<br />

Gasdurchflussmessgeräte . ......... 28<br />

Glossar. ......................... 30<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

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 Unternehmen<br />

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PROZESSMESSTECHNIK<br />

„Sensor Intelligence.“ ist ein Versprechen<br />

Mit Einsatz und Erfahrung entstehen bei SICK Sensorlösungen für die industrielle<br />

Automatisierung. Von der Entwicklung bis zur Serviceleistung: Tag für Tag setzen alle<br />

Mitarbeiter ihr Können dafür ein, dass Sensoren und Applikationslösungen von SICK<br />

ihre vielseitigen Funktionen optimal erfüllen.<br />

Unternehmen mit Erfolgskultur<br />

Mit Produkten und Dienstleistungen helfen über 5.800<br />

Mitarbeiter den Anwendern von SICK-Sensortechnologie,<br />

ihre Produktivität zu erhöhen und ihre Kosten zu senken.<br />

Seinen Stammsitz hat das 1946 gegründete Unternehmen in<br />

Waldkirch, Deutschland, und es ist mit fast 50 Tochtergesellschaften<br />

und Beteiligungen sowie zahlreichen Vertretungen<br />

global aktiv.<br />

4<br />

Die Menschen arbeiten gern bei SICK. Das zeigt sich in regelmäßigen<br />

Auszeichnungen als „Arbeitgeber des Jahres“. Diese<br />

gelebte Arbeitsplatzkultur hat eine starke Anziehungskraft auf<br />

qualifizierte Fachkräfte. Sie finden ein Unternehmen vor, in dem<br />

sich Karriere und Lebensqualität das Gleichgewicht halten.<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Innovation schafft Vorteile im Wettbewerb<br />

Sensorik von SICK vereinfacht Abläufe, optimiert Prozesse<br />

und ermöglicht nachhaltiges Produzieren. Dafür forscht und<br />

entwickelt SICK an vielen Standorten weltweit. Im Dialog mit<br />

Kunden und in Zusammenarbeit mit Hochschulen entstehen<br />

innovative Sensorprodukte und Lösungen. Sie sind die Basis<br />

für das zuverlässige Steuern von Prozessen, den Schutz von<br />

Menschen und eine umweltfreundliche Produktion.<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

Leitbild mit weitreichender Wirkung<br />

Unternehmen <br />

<br />

SICK baut auf eine gewachsene Unternehmenskultur, setzt<br />

auf finanzielle Unabhängigkeit und technologische Offenheit.<br />

Innovation haben SICK zu einem Technologie- und Marktführer<br />

gemacht. Denn erst durch gezieltes Erneuern und Verbessern<br />

sind universell einsetzbare Sensoren auf lange Sicht erfolgreich.<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

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 Branchen und Lösungen<br />

Betriebsmessungen<br />

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PROZESSMESSTECHNIK<br />

6<br />

Branche Anforderung Lösungen von SICK<br />

Kraftwerke<br />

Abfallverbrennung<br />

Bei der Energieerzeugung besonders aus<br />

fossilen Brennstoffen erfährt die moderne<br />

Gasanalyse eine immer größere Bedeutung.<br />

Neben den eingeführten Verfahren zur Reduzierung<br />

von Staub-, NO x<br />

- und SO 2<br />

-Konzentrationen<br />

gewinnen Gase wie HCl oder SO 3<br />

bei<br />

der Verbrennung von alternativen Brennstoffen<br />

an Relevanz.<br />

Beispiele für Betriebsmessungen:<br />

• Überwachung des Kohlebunkers/<br />

Kohlemühle<br />

• Kesselwandmessung zur Detektion potenzieller<br />

Korrosionsgefahren des Kessels<br />

SICK-Analysensysteme ermöglichen eine<br />

kontinuierliche Überwachung von Prozessen.<br />

Konzentrationsverläufe von Gaskomponenten,<br />

Staub und Gasvolumenströme werden<br />

exakt gemessen, Prozessabweichungen<br />

identifiziert und Abläufe optimiert.<br />

--CO, O 2<br />

• In-situ: TRANSIC100LP (O 2<br />

)<br />

• Extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />

--CO, O 2<br />

, CO-Korrosionsniveau:<br />

• In-situ: GM960<br />

• Feuerungsführung inkl. Verbrennungsluft --O 2<br />

, Volumenstrom<br />

• In-situ: ZIRKOR302, FLOWSIC100<br />

• Steuerung der Absorptionsmitteldosierung<br />

• Rauchgasentstickungsanlage (DeNO x<br />

),<br />

z. B. NH 3<br />

-Schlupfüberwachung<br />

--SO 3<br />

, H 2<br />

SO 4<br />

, HCl<br />

• Extraktiv: MCS100E HW<br />

--NO 2<br />

, NH 3<br />

• In-situ: GM32, GM700<br />

• Entstaubung (Gewebefilter, Elektrofilter) --Opazität, Staubkonzentration<br />

• In-situ: DUSTHUNTER T200, SP100<br />

• Rauchgasentschwefelung (DeSO x<br />

) --SO 2<br />

• In-situ: GM32<br />

• Extraktiv: MCS300P HW<br />

Für Abfallverbrennungsanlagen sowie bei<br />

Mitverbrennung von Abfällen gilt es gemäß<br />

gesetzlicher Vorgaben und Bestimmungen folgende<br />

Schadstoffe kontinuierlich zu messen:<br />

HCl, HF, NH 3<br />

, CO, NO x<br />

(NO + NO 2<br />

), SO 2<br />

, C ges<br />

,<br />

Staub und Quecksilber. Dazu kommen die<br />

Parameter H 2<br />

O, O 2<br />

, Druck und Temperatur.<br />

Für Betriebsmessungen sind folgende Messstellen<br />

von Bedeutung:<br />

Für die Verbrennungsoptimierung und für die<br />

nachfolgenden Rauchgasreinigungsprozesse<br />

kommen sowohl In-situ- als auch Extraktiv-<br />

Messungen in Frage. Die Messstellenbedingungen<br />

und die Messaufgabe entscheiden<br />

über die bevorzugte Technologie. SICK ist<br />

als einziger Hersteller in der Lage die „beste<br />

Lösung“ aus einer Hand anzubieten.<br />

• Feuerungsführung/Optimierung --O 2<br />

, CO<br />

• In-situ: ZIRKOR302, GM901<br />

• Rauchgasentstickung SNCR/SCR --NO 2<br />

, NH 3<br />

• In-situ: GM32, GM700<br />

• Rohgaswäschereingang - - HCl, SO 2<br />

, H 2<br />

O (O 2<br />

)<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P HW<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Branchen und Lösungen <br />

Betriebsmessungen<br />

Branche Anforderung Lösungen von SICK<br />

Zementherstellung<br />

Anlagen zur Herstellung von Zementklinker<br />

und Zement, zum Brennen und Mahlen<br />

von Kalkstein. Die Verwendung alternativer<br />

Brennstoffe zur Einsparung von Primärbrennstoffen<br />

gewinnt an Bedeutung. So gilt es alle<br />

relevanten Prozesse kontinuierlich und genau<br />

zu messen und zu überwachen.<br />

Beispiele für Betriebsmessungen:<br />

• Überwachung des Kohlebunkers/<br />

der Kohlemühle<br />

Für die hohen Anforderungen an Zementanlagen<br />

ist die SICK-Messtechnik besonders<br />

geeignet. Denn es stehen durch das breite<br />

Produktportfolio optimale Lösungen für alle<br />

Betriebsparameter, auch für hohe Temperaturen<br />

und Staubkonzentrationen, zur Verfügung<br />

--CO, O 2<br />

• In-situ: TRANSIC100LP (O 2<br />

)<br />

• Extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />

• Drehrohrofen-Einlauf --CO, NO, O 2<br />

, SO 2<br />

, CO 2<br />

, HCl<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P HW mit<br />

SCP3000<br />

• Vorwärmer und Kalzinator --<br />

CO, NO, SO 2<br />

, O 2<br />

• Kalt-extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />

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Metall und Stahl<br />

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Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

• Entstaubung (Elektrofilter) --Staubkonzentration<br />

• In-situ: DUSTHUNTER SP100<br />

• Rauchgas-Konditionierung --Volumenstrom<br />

• FLOWSIC100<br />

• Explosionsschutz am Elektrofilter --CO<br />

• Kalt-extraktiv: MKAS mit SIDOR<br />

Anlagen zum Schmelzen oder Sintern von<br />

Erzen sowie zur Herstellung von NE-Metallen.<br />

Dort herrschen raue Umgebungsbedingungen<br />

wie z. B. hohe Temperaturen und Staubbelastungen.<br />

Die in den Prozessen entstehenden<br />

Gase werden weiterverarbeitet und müssen<br />

entsprechend gemessen und überwacht<br />

werden.<br />

Beispiele für Betriebsmessungen:<br />

Analysentechnik und optische Messtechnik<br />

stellen bei Herstellung, Verarbeitung, Transport<br />

und Lagerung von Stahl und anderen<br />

Metallen eine hohe Produktqualität und eine<br />

störungsfreie Verarbeitung sicher. SICK bietet<br />

neben jahrelanger Erfahrung als einziger<br />

Hersteller die komplette Messtechnik aus<br />

einer Hand.<br />

• Hochofen, Gichtgasmessung --CO, CO 2<br />

, CH 4<br />

, H 2<br />

• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />

• Abluft in Sauerstoff-Blaskonverter --CO, CO 2<br />

, H 2<br />

, O 2<br />

• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />

• Stahlherstellung --CO, CO 2<br />

, O 2<br />

, H 2<br />

, N 2<br />

O, HCl, Staub, Gasdurchfluss<br />

• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />

• Staubmessung: DUSTHUNTER T, SB<br />

• Gasdurchflussmessung: FLOWSIC100<br />

• Abgas des Kupfer-Blaskonverters --O 2<br />

, SO 2<br />

• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />

• Schlagmühle --O 2<br />

, SO 2<br />

• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />

• Reformer --CO, CO 2<br />

, O 2<br />

, H 2<br />

, CH 4<br />

• Kalt-extraktiv: MAC800, GMS800<br />

• Aluminiumherstellung - - HF<br />

• In-situ: GM700<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

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 Branchen und Lösungen<br />

Prozessmessungen<br />

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PROZESSMESSTECHNIK<br />

8<br />

Branche Anforderung Lösungen von SICK<br />

Chemie, Petrochemie und Raffinerie (HPI)<br />

Um in Chemieanlagen bei steigendem Wettbewerb<br />

wirtschaftlich produzieren zu können,<br />

wird eine optimierte Prozessführung benötigt.<br />

Durch die gezielte Kontrolle von Schlüsselkomponenten<br />

im Reaktionsablauf können<br />

Anlagendurchsatz, Ausbeute und Produktqualität<br />

verbessert und der Energieaufwand<br />

reduziert werden. Deshalb spielen Konzentrationsmessungen<br />

als Regelparameter der<br />

Anlage eine entscheidende Rolle.<br />

Zusätzlich sind Anlagensicherheit und Umweltschutz<br />

zentrale Themen. Hier spielt die<br />

Online-Analytik eine immer wichtigere Rolle<br />

für einen effizienten Anlagenbetrieb durch<br />

bewährte Messungen bei geringen Amortisierungszeiten<br />

von nur wenigen Monaten.<br />

Zur optimalen Führung einer Chemieanlage<br />

werden verlässliche und kontinuierliche<br />

Analyseninformationen benötigt. Die wartungsarmen,<br />

langzeitstabilen und robusten<br />

Analysatoren von SICK haben sich hier<br />

vielfach – sowohl in der Gas- als auch in der<br />

Flüssigkeitsanalytik – bewährt.<br />

Durch automatische Kalibrierung, innovative<br />

Bedienkonzepte, leistungsfähige Kommunikationsprotokolle<br />

lassen sich die Analysatoren<br />

und Systeme von SICK einfach in lokale<br />

Prozessleitsysteme anbinden.<br />

• Überwachung von Sicherheitsleitungen --Phosgen (COCl 2<br />

)<br />

• Extraktiv: MCS300P, GMS800<br />

• Korrosionsschutz und Prozessüberwachung<br />

Isocyanatproduktion (Ausgangsstoff<br />

für Polyurethane)<br />

• Prozessüberwachung von Lösemitteln in<br />

der PVC-Produktion<br />

• Abluftüberwachung in der Folienproduktion<br />

--Cl 2<br />

, CO, Phosgen (COCl 2<br />

), HCl, Monochlorbenzol,<br />

Isocyanat<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800<br />

• Flüssigkeitsmessung: MCS300P<br />

--Spurenmessung Wasser in Dichlorethan<br />

• Flüssigkeitsmessung: MCS300P<br />

--Dichlormethan (CH 2<br />

Cl 2<br />

), Trichlorethen<br />

(C 2<br />

HCl 3<br />

), Aceton (C 2<br />

H6O), Methanol<br />

(CH 3<br />

OH), CO und H 2<br />

O<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />

• Ethylen-Anlagen --CO 2<br />

in Ethaneinspeisung nach<br />

CO 2<br />

-Wäscher und im Decoking<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800<br />

--CO, CO 2<br />

im Spaltgas nach Kondensatabscheidung<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />

--Acetylen im Spaltgas vor Acetylenhydrierung<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800<br />

--Ethan in C 2<br />

-Splitterkopf<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800<br />

--Ethylen in C 2<br />

-Splittersumpf<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />

--TOC im Abwasser<br />

• TOCOR mit Probenaufbereitung<br />

• Prozessüberwachung in der<br />

Polyethylen(PE)-Produktion<br />

--1-Buten, Hexan<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />

• LNG (Liquefied Natural Gas) --CO 2<br />

nach Aminwäsche<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800<br />

• HyCO-Anlagen --CO nach PSA-Anlage<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800<br />

• VC/EDC-Anlagen --Feuchte in EDC, Anlagen-Korrosionsschutz<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />

• Brauchwasserüberwachung --TOC/TIC/TC<br />

• TOCOR mit Probenaufbereitung<br />

--VOC<br />

• GMS810-FIDOR mit Stripper<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Branchen und Lösungen <br />

Prozessmessungen<br />

Weitere Einsatzgebiete Anforderung Lösungen von SICK<br />

Inertisierung<br />

UEG-Überwachung<br />

Viele Lager- und Produktionsprozesse erfordern<br />

kontrollierte und genau geregelte Gasatmosphären.<br />

Häufig ist Sauerstoff wegen<br />

seiner Reaktionsfreudigkeit ein unerwünschter<br />

Bestandteil. Bei der Inertisierung wird der<br />

atmosphärische Sauerstoff durch inerte Gase<br />

ersetzt. Dieses Verfahren wird z. B. bei der<br />

Lagerung und dem Transport von verderblichen<br />

Gütern oder bei der Vermeidung der<br />

Bildung von explosiven Gasgemischen (Explosionsschutz)<br />

angewandt.<br />

• Überwachung der Sauerstoffkonzentration<br />

in Inertisierungsanlagen und in<br />

Rohrleitungen<br />

Eine kosteneffiziente Methode, ausreichende<br />

Inertisierung sicherzustellen, ist das direkte<br />

Messen der Sauerstoffkonzentration im<br />

zu überwachenden Medium. SICK bietet<br />

für diese Messaufgabe ein konsequentes<br />

Transmitterdesign und macht die Laserspektroskopie<br />

(TDLS) für die Feldinstrumentierung<br />

zugänglich.<br />

--O 2<br />

• In-situ: TRANSIC100LP<br />

A<br />

B<br />

C<br />

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E<br />

F<br />

Weitere Einsatzgebiete<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

In vielen Produktionsprozessen werden<br />

brennbare Stoffe eingesetzt bzw. hergestellt.<br />

Daher spielen in diesen Prozessen Personenund<br />

Anlagenschutz eine übergeordnete Rolle.<br />

Für Anlagenbetreiber gilt es, das Entstehen<br />

von explosiven Gemischen zu vermeiden und<br />

die Bildung frühzeitig zu erkennen.<br />

• Überwachung volatiler Kohlenwasserstoffe<br />

in Lackier-, Beschichtungs- und<br />

Trocknungsanlagen<br />

Die aufgeführten Branchen sind nur ein<br />

Ausschnitt des Anwendungsspektrums. Die<br />

Gaszusammensetzung ist in vielen weiteren<br />

Einsatzgebieten ein entscheidender<br />

Parameter.<br />

Weitere Felder sind zum Beispiel:<br />

Zur Vermeidung oder zum Erkennen von<br />

gefährlichen Gasgemischen messen Analysatoren<br />

von SICK die Konzentration von<br />

brennbaren Gasen oder Dämpfen.<br />

--VOC<br />

• In-situ: FID<br />

Innerhalb dieser Branchen gibt es spezifische<br />

Messaufgaben zu lösen. SICK entwickelt<br />

gemeinsam mit seinen Kunden angepasste<br />

Analysentechnik für die jeweilige Anwendung.<br />

• Pharmazeutische Anlagen --O 2<br />

, H 2<br />

, CO 2<br />

, CO<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800<br />

• In-situ: TRANSIC100LP<br />

• Luftzerlegungsanlagen --O 2<br />

• In-situ: TRANSIC100LP<br />

• Prozessüberwachung in der Enzymherstellung<br />

• Anlagensteuerung von Kompostieranlagen<br />

• Prozessüberwachung von Deponiegas<br />

und Biofermentern<br />

• Chlorchemie<br />

--O 2<br />

• In-situ: TRANSIC100LP<br />

--CO 2<br />

, CH 4<br />

, O 2<br />

• Kalt-extraktiv: SIDOR<br />

--Cl 2<br />

• Kalt-extraktiv: GMS800-DEFOR<br />

• Heiß-extraktiv: MCS300P<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

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 Technologien und Messprinzipien<br />

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T<br />

PROZESSMESSTECHNIK<br />

<strong>Prozessmesstechnik</strong> – made in Germany<br />

Je nach Verfahren unterscheiden sich Prozesse und Anlagen erheblich<br />

voneinander. Es gilt unterschiedliche Messaufgaben zu lösen sowie prozessbedingte<br />

Anforderungen zu erfüllen. SICK hat durch ein breites Produktportolio,<br />

eine Vielzahl von Messverfahren und langjährige Erfahrung eine<br />

passende Antwort auf diese Herausforderungen.<br />

In-situ-Messtechnik<br />

Prozessparameter misst man am besten dort, wo sie relevant<br />

sind und unverfälscht vorliegen – direkt im Prozess:<br />

„In-situ-Messtechnik“ ist hier das Stichwort. Die Bestimmung<br />

der Prozessparameter erfolgt unter Prozessbedingungen<br />

und stellt besondere Anforderungen an die Messgeräte.<br />

Diese innovative Technologie von SICK für die<br />

direkte Montage am jeweiligen Messort hat sich über viele<br />

Jahre bewährt. Sie zeichnet sich vor allem durch minimalen<br />

Wartungsbedarf und sehr geringe Ansprechzeiten aus.<br />

SICK bietet In-situ-Analysatoren in zwei Versionen an:<br />

• Messlanzenversionen bei Überdruck, in feuchten Gasen<br />

oder bei sehr hohen Gaskonzentrationen bzw. Staubbeladungen.<br />

Optimiert für den Anbau von nur einer Seite<br />

bietet diese In-situ-Lösung Vorteile durch eine definierte<br />

Messstrecke unter rauen Messbedingungen.<br />

• Cross-Duct-Versionen für Anwendungen, bei denen es<br />

besonders auf repräsentative Messungen über den gesamten<br />

Kanalquerschnitt ankommt.<br />

Bei In-situ-Messungen sind optische Verfahren auf dem Vormarsch.<br />

Dies ist ein Trend, den SICK seit Jahren maßgeblich<br />

mitgestaltet. Die Anforderung besteht darin, den Prozess<br />

direkt zu messen ohne ihn zu verändern. Die Frage<br />

nach einer Kalibrierung bzw. eines Abgleichs oder die Überprüfung<br />

der Messung ohne in den Prozess einzugreifen ist<br />

hier eine besondere Herausforderung.<br />

Die In-situ-Messgeräte von SICK führen automatische<br />

Abgleichprozeduren bzw. Messwertüberprüfungen im Messgerät<br />

aus. Dabei muss das Messsystem nicht vom Prozess<br />

entkoppelt werden.<br />

Ist die direkte Messung im Prozess nicht möglich, kommt<br />

eine Messung in einer Bypassanordnung in Betracht. Dabei<br />

wird ein Teilstrom dem Prozess entnommen, gemessen und<br />

sofort wieder zurückgeführt.<br />

10<br />

Messlanzenversion, Inline<br />

Messlanzenversion<br />

Cross-Duct-Version<br />

Vorteile:<br />

• Kontinuierliche und direkte Messung,<br />

keine Probenahme erforderlich<br />

• Cross-Duct-Version für besonders repräsentative<br />

Messergebnisse oder Messlanzenversion<br />

GMP-Messlanze mit offenem Messspalt oder<br />

GPP-Gasdiffusionslanze<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Extraktive Messtechnik<br />

Lassen die Prozessbedingungen eine direkte Messung<br />

nicht zu, gilt es das Messmedium aus dem Prozess zu<br />

extrahieren und die Analyse der Prozessparameter unter<br />

konstanten Bedingungen zu realisieren. Das Stichwort ist<br />

hier „extraktive Messtechnik“. Dabei wird dem Prozess ein<br />

Teilgasstrom entnommen, aufbereitet und dem Analysatormodul<br />

unter konstanten Bedingungen zugeführt. Je nach<br />

Prozessbedingungen und Messkomponenten bietet SICK<br />

komplette Lösungen von der Entnahmesonde über die<br />

optimierte Gasaufbereitung bis hin zu passenden<br />

Analysatormodulen.<br />

Bei extraktiven Messungen wird die Zusammensetzung des<br />

Prozesses dem Analysator unverfälscht zugeführt. Daher<br />

muss die Entnahme- und Analysentechnik den jeweiligen<br />

Prozessbedingungen angepasst werden.<br />

Kalt-extraktive Messtechnik<br />

Bei Prozessgasen mit niedrigerem Taupunkt kann die Analyse<br />

kalt-extraktiv ohne beheizte Messgasleitungen erfolgen.<br />

Neigen Prozessgase zur Kondensation, wird die<br />

Gasentnahme mit beheizten Leitungen und Sonden ausgeführt.<br />

Damit ein „kalte“ Messung erfolgen kann, wird mit<br />

einem Hochleistungsgaskühler der Taupunkt auf einen definierten<br />

Wert abgesenkt.<br />

Heiß-extraktive Messtechnik<br />

Für repräsentative Messungen darf die Gasmatrix nicht verändert<br />

werden. Eine besondere Herausforderung stellen<br />

die Messungen von kondensierenden oder wasserlöslichen<br />

Gasen dar. SICK löst dies durch die heiß-extraktive Entnahme<br />

und Analyse. Dabei werden alle medien berührten Komponenten<br />

inkl. Analysator beheizt und über dem Taupunkt<br />

(typisch >200 °C) gehalten.<br />

Weitere Messprinzipien und Auswerteverfahren<br />

••<br />

Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS)<br />

••<br />

Interferenz-Filterkorrelation, Gasfilterkorrelation<br />

••<br />

Absorption (NDIR 1 , NDUV)<br />

••<br />

UV-Absorptions-Spektrometrie<br />

••<br />

Differentielle Optische Absorptions-Spektroskopie (DOAS)<br />

••<br />

FTIR-Spektroskopie<br />

••<br />

Zirkoniumdioxid (ZrO 2<br />

Stromsonde)<br />

••<br />

Paramagnetisch/elektrochemisch (O 2<br />

)<br />

••<br />

Flammen-Ionisations-Detektion (FID)<br />

••<br />

Zeeman Atom-Absorptions-Spektroskopie (ZAAS)<br />

••<br />

Partikelabsorption/Partikelstreuung<br />

1 ND ... nicht dispersiv<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

Technologien und Messprinzipien <br />

<br />

Sonde<br />

Messgasentnahmeleitung<br />

Analysenschrank mit dem kaltextraktiven<br />

Analysensystem MAC800<br />

inkl. kompletter Gasaufbereitung<br />

Sonde<br />

Messgasentnahmeleitung<br />

Analysenschrank mit dem<br />

heiß-extraktiven Analysator<br />

MCS300P HW<br />

Vorteile:<br />

• Optimal konfigurierbare Analysatormodule für<br />

vielseitige Anwendungen<br />

• Automatische Validierung/Justage durch Prüfgase<br />

• Eine an die Anzahl der Messkomponenten<br />

angepasste Lösung<br />

• Genaue und zuverlässig verfügbare Messergebnisse<br />

dank bewährter Messprinzipien<br />

• Erfassung aggressiver, korrosiver, brennbarer Gase<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

11<br />

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 Geräte und Systeme<br />

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T<br />

PROZESSMESSTECHNIK<br />

Vom Einzelgerät bis zum kompletten Analysensystem<br />

Die Performance eines Analysensystems hängt nicht nur<br />

von der Güte des verwendeten Analysators, sondern maßgeblich<br />

von der korrekten Auslegung des Probenahme- und<br />

-aufbereitungs systems ab. Eine genaue Abstimmung des<br />

Analysators auf die Prozessbedingungen wird in Applikationslaboren<br />

sichergestellt. Zur optimalen Funktion ist der Analysator<br />

auf das Zusammenspiel mit den angebauten Komponenten<br />

In-situ-Transmitter TRANSIC100LP<br />

In-situ-Messgeräte müssen<br />

unter harschen Prozessbedingungen<br />

auch in potenziell<br />

gefährlichen Stoffkonzentrationen<br />

direkt vor Ort verlässliche<br />

Prozessdaten liefern. Hier sind robuste<br />

Messverfahren gefragt. SICK führt mit dem<br />

TRANSIC100LP eine eigensichere Lasertechnik<br />

in die Welt der O 2<br />

-Prozesstransmitter ein,<br />

auch für explosionsgeschützte Bereiche.<br />

12<br />

TRANSIC100LP:<br />

in Ausführung in Zone 0, 1, 2 (Class 1, Div 1) prozessseitig,<br />

Zone 1 + 2 (Class 1, Div 2) geräteseitig<br />

In-situ-Mehrkomponenten-Analysator GM32<br />

Messungen, die<br />

besonders schnell<br />

sein müssen oder bei<br />

denen es leicht zu<br />

einer Verfälschung der<br />

Gasmatrix kommen kann,<br />

werden mittels In-situ-Messstellen realisiert.<br />

Der In-situ-Analysator GM32 misst direkt im<br />

Prozess und ist auch für den Einsatz in Ex-klassifizierten<br />

Zonen zertifiziert.<br />

GM32: Anbau in<br />

Zone 2 (Zone 1, Class 1 Div2) geräteseitig<br />

Durch die umfangreiche Produktpalette und umfassende<br />

Erfahrung liefert SICK applikationsbezogene<br />

Lösungen. Neben maßgeschneiderten Ausführungen<br />

stehen vor allem kostenoptimierte Systemgehäuse,<br />

kompakte Plug-and-play-Analysatoren sowie Komplettsysteme<br />

für anwendungsspezifische Messaufgaben<br />

zur Verfügung. Darüber hinaus projektieren,<br />

fertigen und liefern wir komplette Analyseanlagen,<br />

wie z. B. schlüsselfertige Analysencontainer inklusive<br />

der gesamten Geräteperipherie und Inbetriebnahme.<br />

wie Probenahme und -aufbereitung angewiesen. Vom Prozess<br />

ausgehend wird die bestmögliche Kombination von Analysator<br />

und unterstützender Peripherie an die Anlage anschlussfähig<br />

ausgelegt. Damit sich der Anlagenbetreiber auf die Realisierung<br />

eines effizienten Prozesses konzentrieren kann, übernimmt<br />

SICK die Umsetzung des gesamten Analysen systems.<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Geräte und Systeme <br />

<br />

Extraktive Gasanalysatoren GMS800<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

Die kalt-extraktiven Gasanalysatoren<br />

GMS800 ermöglicht die Realisierung<br />

von Messaufgaben sowohl in rauer<br />

Industrieumgebung als auch in den<br />

Ex-Zonen 1 + 2 (ATEX).<br />

Individuelle Geräteausführungen<br />

für einzelne Messstellen<br />

ebenso wie Komplettlösungen<br />

für unterschiedliche<br />

Applikationen oder<br />

mehrere Analysenlinien<br />

GMS820P<br />

werden als schlüsselfertige<br />

Systeme projektiert<br />

und geliefert. Dies sowohl<br />

für Prozess- als auch<br />

GMS815P<br />

Emissionsmessungen als<br />

komplette Analysenschränke oder -container. Je nach Anforderung<br />

stehen die modernen Analysatoren im 19"-Gehäuse<br />

(Typ GMS810), im Wandaufbaugehäuse (Typ GMS815P), im<br />

Ex-d-Gehäuse (Typ GMS820P) oder im Systemeinbaugehäuse<br />

(Typ GMS830/831) zur Verfügung. Typ GMS815P: Ausführung in Ex-Zone 2<br />

Extraktiver Mehrkomponenten-Analysator<br />

MCS300P<br />

Der Mehrkomponenten-<br />

Analysator MCS300P<br />

zeichnet sich durch seine<br />

vielfältigen Einsatzmöglichkeiten<br />

(Gase und<br />

Flüssigkeiten), sehr niedrigen<br />

Wartungsbedarf, hohe<br />

Zuverlässigkeit und Langzeitstabilität<br />

aus. In explosionsgeschützter Ausführung eignet<br />

sich der MCS300P Ex besonders für Prozessanwendungen.<br />

Um eine Taupunktunterschreitung zu vermeiden, integriert<br />

SICK diesen Analysator in komplette heiß-extraktive Analysensysteme.<br />

MCS300P:<br />

Rohgasmessungen<br />

in einem Analysencontainer<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

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 Projekt-Engineering und Systembau<br />

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PROZESSMESSTECHNIK<br />

In der Prozessanalytik werden Analysatoren oft in explosionsgefährdeten<br />

Bereichen installiert oder messen in Stoffen,<br />

die zündfähige Gemische bilden können. Die angewandten<br />

Vorschriften und Normen sind weltweit unterschiedlich. SICK<br />

bietet hierfür Messgeräte, die für Anlagen zugelassen sind<br />

und einer Einteilung nach Classes und Divisions als auch einer<br />

Zoneneinteilung folgen.<br />

Um den jeweiligen Anforderungen gerecht zu werden, verfolgt<br />

SICK anwendungsabhängig unterschiedliche Ex-Schutzkonzepte.<br />

14<br />

••<br />

Durch Überdruckkapselung wird die Bildung einer explosiven<br />

Atmosphäre dadurch verhindert, dass mit einem<br />

Zündschutzgas im Inneren des Analysators ein Überdruck<br />

gegenüber der Atmosphäre aufrechterhalten wird bzw. eine<br />

ständig ausreichende Verdünnung des Gases im Inneren<br />

stattfindet, die das Entstehen eines explosiven Gemisches<br />

verhindert.<br />

••<br />

Bei der druckfesten Kapselung wird die Entstehung eines<br />

explosiven Gasgemisches im Inneren des Analysators zugelassen,<br />

obwohl Zündquellen vorhanden sein können. Eine<br />

eventuell stattfindende Explosion wird jedoch auf das Innere<br />

des Gehäuses beschränkt.<br />

••<br />

Analysatoren mit erhöhter Sicherheit besitzen keine betriebsmäßigen<br />

Zündquellen. Funken, Lichtbögen und hohe<br />

Temperaturen werden ebenso wie Fehlerfunktionen durch<br />

besondere Maßnahmen vermieden.<br />

••<br />

Bei einer eigensicheren Auslegung werden Effekte verhindert,<br />

wie z. B. Oberflächentemperaturen, die zu einer Entzündung<br />

führen können, oder eine Funkenbildung. Letzteres<br />

wird durch eine sichere Energiebegrenzung erreicht – auch<br />

im Fehlerfall und unter Berücksichtigung von Energiespeichereffekten.<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Planung und Engineering nach Maß<br />

Projekt-Engineering und Systembau <br />

<br />

Planung und Engineering von SICK basiert auf langjähriger<br />

Erfahrung in der Emissionsüberwachung und Prozessmessung<br />

aller Art. Seien es Anwendungen in Kraftwerken oder unter<br />

schwierigen Bedingen in Ex-gefährdeten Bereichen einer Raffinerie<br />

– die Ingenieure von SICK planen und designen mittels<br />

modernster CAD-Systeme passende Lösungen für die jeweiligen<br />

Anforderungen. Dabei kommen nicht nur neueste Techniken<br />

bei den Analysatoren und der Probenaufbereitung zum Einsatz,<br />

sondern auch modernste Kommunikationskonzepte. Die Systeme<br />

werden entsprechend international geltenden Normen und<br />

nationalen Standards ausgeführt.<br />

Ein erfahrenes Projektmanagement und eine weltweite Serviceorganisation<br />

stehen dem Kunden nicht nur bis zur Inbetriebnahme,<br />

sondern für einen zuverlässigen und dauerhaften<br />

Betrieb der Anlagen zur Seite.<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

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Robuste Analysensysteme und<br />

Container<br />

Maßgeschneiderte Ausführung einschließlich<br />

der gesamten Peripherie<br />

mit kompetenter Applikationsberatung<br />

und umfassendem<br />

Projektmanagement.<br />

Leistungsfaktoren<br />

••<br />

Alle notwendigen Technologien aus einer Hand<br />

••<br />

Umfangreiches Produktspektrum für alle Anforderungen<br />

••<br />

Lösungen für viele Messaufgaben<br />

••<br />

Kostenoptimierte Standard lösungen<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

••<br />

Anwendungsorientierte Komplettsysteme<br />

••<br />

Schlüsselfertige Analysencontainer, maßgeschneidert für<br />

die Kundenanforderungen<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

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Anforderungen an Prozessmesssysteme<br />

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PROZESSMESSTECHNIK<br />

Auswahlkriterien für kontinuierliche Prozessmesssysteme<br />

Die Auswahl eines Messsystems für eine bestimmte Applikation ist nicht einfach, entscheiden<br />

die Messungen doch über die Produktqualität, die Sicherheit von Anlagen und<br />

über den effizienten Einsatz von Ressourcen. Die Auswahl des passenden Messsystems ist<br />

somit direkt ergebnisrelevant und die Kosten der Anschaffung sind nur ein kleiner Teil der<br />

zu beachtenden Faktoren.<br />

In 9 Schritten zum passenden Prozessmesssystem<br />

1<br />

Welche Funktion hat die Messung im Prozess?<br />

Messungen werden nur erhoben, wenn sie relevant<br />

sind. Eine übergeordnete Überlegung über die<br />

Bedeutung der Messung hilft bei der Spezifikation der Messsysteme.<br />

Ist die Messung relevant für:<br />

••<br />

Anlagensicherheit?<br />

••<br />

Produktqualität?<br />

••<br />

Einsatz von Ressourcen wie Energie oder Einsatzstoffe?<br />

••<br />

Menge, Art des Outputs (Produkt/Emissionen)?<br />

••<br />

Einhaltung von Gesetzen oder Vorschriften?<br />

••<br />

Beurteilung von Versicherungen?<br />

2<br />

Welche Anforderungen ergeben sich für die<br />

von Messsystemen erhobenen Daten?<br />

Aus der Bedeutung der Messung für den Prozess<br />

ergeben sich Anforderungen an das Vorhandensein der Daten<br />

über die zu überwachenden Prozessparameter.<br />

••<br />

Wie oft müssen die Daten erhoben werden?<br />

••<br />

Verfügbarkeit, Zuverlässigkeit, Wiederholbarkeit der Daten?<br />

••<br />

Auswirkungen, wenn Messergebnisse nicht vorliegen?<br />

••<br />

Echtzeitmessung (zulässige Verzögerung)?<br />

3<br />

Wie wirtschaftlich ist die Messung?<br />

Wirtschaftliche Überlegungen spielen bei der Spezifikation<br />

einer Messaufgabe in der Prozessindustrie<br />

eine wichtige Rolle. Aus der Bedeutung der Messungen ergeben<br />

sich wichtige Kosten-Nutzen-Kriterien. Es werden Lebenszykluskosten,<br />

Effizienzsteigerung und/oder Energieeinsparung<br />

gegenübergestellt, die über eine Kapitalwertmethode auf einen<br />

Zeitpunkt hin bewertet werden. Dies sind:<br />

••<br />

Kosten für Planung und Inbetriebnahme<br />

••<br />

Kosten für anfängliche und laufende Schulungen<br />

••<br />

Gesamte Betriebskosten und organisatorischer Aufwand<br />

••<br />

Häufigkeit und Dauer von Kalibrierungen und Justagen<br />

••<br />

Prüf- oder Kalibriergase<br />

••<br />

Energieverbrauch bzw. Verbrauch von Betriebsmitteln wie<br />

z. B. Instrumentenluft<br />

••<br />

Lebensdauer und Entsorgungskosten<br />

16<br />

4<br />

Was gibt der Prozess vor?<br />

Die direkten Anforderungen durch den Prozess<br />

müssen möglichst genau definiert werden. Fehlende<br />

oder unzureichende Informationen können die Auswahl<br />

eines Messsystems in Frage stellen und eine kostenintensive<br />

Doppelbeschaffung nach sich ziehen.<br />

••<br />

Sind die Messparameter, der Messbereich mit der notwendigen<br />

Genauigkeit bekannt?<br />

••<br />

Wie schnell muss diese Messung sein?<br />

••<br />

Prozesstemperatur und -druck (min. – normal – max.)?<br />

••<br />

Ist das Medium einphasig (Tröpfchen, Gasblasen, Partikel)?<br />

••<br />

Anforderungen an die chemische Resistenz der Messsysteme:<br />

Sind Materialverträglichkeiten bekannt?<br />

••<br />

Anforderungen an die mechanische Resistenz: Fließgeschwindigkeit,<br />

Vibrationen?<br />

••<br />

Feuchtegehalt des Mediums?<br />

••<br />

Ist die Mediumzusammensetzung (Matrix) vollständig<br />

bekannt, damit Querempfindlichkeiten umfassend berücksichtigt<br />

werden können?<br />

••<br />

Sind Richtlinien, Gesetze, Normen oder Zulassungen für die<br />

verwendeten Geräte vorgeschrieben (z. B. Explosionsschutz<br />

oder elektrische/funktionale Sicherheit)<br />

5<br />

Welche Bedingungen herrschen am Einsatzort<br />

vor?<br />

Die Umgebungsbedingungen stellen weitere<br />

Anforderungen. Wird die Einbausituation bei der Auswahl nicht<br />

genügend genau spezifiziert, kann es zu einem Ausfall oder<br />

Verlust des Systems kommen.<br />

••<br />

Welche Umgebungsbedingungen (Temperatur, Luftdruck,<br />

Luftfeuchte) herrschen am Einsatzort?<br />

••<br />

Welche Temperaturbereiche (min./max.) sind während Wartungs-<br />

und Anlaufphasen zu erwarten?<br />

••<br />

Anbauort innen oder außen? Anforderungen an Staub- und<br />

Wasserschutz (IP-Schutzart)?<br />

••<br />

Wie wird das System montiert/befestigt: Schrank- oder<br />

Wandmontage? Ist die Messstelle für die Montage oder<br />

Wartung zugänglich?<br />

••<br />

Welche Gewinde bzw. Flanschanschlüsse sind vorhanden?<br />

Können zusätzliche Anschlüsse vorgesehen werden?<br />

••<br />

Energieversorgung, Instrumentenluft, Kalibriergas etc.<br />

vorhanden?<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


 PS_header2_small_blue<br />

Anforderungen an PS_header1_small_blue<br />

Prozessmesssysteme<br />

<br />

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6<br />

Wie ist die Anbindung der Messstelle, wie<br />

wird die Information übertragen?<br />

Die Übertragung von Daten ist bei der Prozessüberwachung<br />

von entscheidender Bedeutung. Gemäß der<br />

Wichtigkeit der Messwerte unterscheiden sich die Sicherheitsansprüche<br />

an die Datenübertragung. Das Messsystem muss<br />

zur Anlage anschlussfähig sein.<br />

••<br />

Wird eine Anzeige vor Ort benötigt? Ist die Messstelle einsehbar?<br />

Ist eine abgesetzte Anzeige notwendig?<br />

••<br />

Welche Ausgangssignale und Alarme werden benötigt?<br />

••<br />

Müssen Alarme geschaltet werden?<br />

••<br />

Soll eine Anbindung an das Prozessleitsystem erfolgen?<br />

••<br />

Redundanz?<br />

7<br />

Auswahl des Messsystems?<br />

Wenn die Bedeutung einer Messung feststeht und<br />

alle prozessseitigen und physischen Anforderungen<br />

definiert sind, muss ein Messsystem gewählt werden. In diesem<br />

Punkt spielen konstruktive und historische Überlegungen<br />

für die Spezifikation der Messgeräte eine Rolle.<br />

••<br />

Ist das geeignete Messprinzip gewählt?<br />

••<br />

Hat sich das Messprinzip bewährt?<br />

••<br />

Liegen Erfahrungswerte zu den Geräten vor?<br />

••<br />

Ist konstruktiv eine hohe Zuverlässigkeit des Messgerätes<br />

sichergestellt?<br />

••<br />

Gibt es Alternativen, die in die Entscheidung mit einbezogen<br />

werden können?<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

8 Lösungskompetenz?<br />

Der dargestellte Entscheidungs prozess folgt nicht<br />

zwangsläufig einem linearen Ablauf. In der Realität<br />

findet man eher einen iterativen Prozess. Eine enge Zusammenarbeit<br />

mit den Herstellern ist ebenso hilfreich wie ein Gesprächspartner,<br />

der über die notwendige Beratungskompetenz<br />

verfügt. Anforderungen sind hier:<br />

••<br />

Ist ausreichende Methodenkompetenz, Wissen und genügend<br />

Applikations erfahrung vorhanden?<br />

••<br />

Steht er für einen zeitnahen Austausch auch vor Ort zur<br />

Verfügung?<br />

••<br />

Ist er bereit auch neue Applikationen mit zu entwickeln?<br />

••<br />

Verfügt er über eine Organisation, die dies abbilden kann?<br />

••<br />

Ist die nötige Infrastruktur z. B. durch Applikationslabore<br />

vorhanden?<br />

9<br />

Wartung und Service?<br />

Nicht nur die Kompetenz, sondern auch die operative<br />

Leistungsfähigkeit eines Messsystemanbieters<br />

ist Im Rahmen der Lebenszyklusbetrachtung von Bedeutung.<br />

Entscheidende Fragen sind:<br />

••<br />

Kann der Lieferant eine Betreuung der Messung über den<br />

gesamten Lebenszyklus aufrecht erhalten?<br />

••<br />

Ist ein Reparaturkonzept für das Messgerät vorhanden?<br />

••<br />

Verfügt der Anbieter über ein schlagkräftiges Servicenetzwerk<br />

– auch international?<br />

••<br />

Wie schnell kann ein Serviceeinsatz im Störfall erfolgen?<br />

••<br />

Wie schnell steht bei Bedarf Ersatz zur Verfügung?<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

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 Konnektivität –<br />

richtig verbunden mit SICK<br />

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PROZESSMESSTECHNIK<br />

Aktuelle Daten durch standardisierte Kommunikation<br />

Damit jederzeit sämtliche Daten, Messwerte und Parameter zur Verfügung stehen und<br />

komfortabel visualisiert und angepasst werden können, steht mit den SICK-Produkten<br />

eine standardisierte Datenkommunikation für digitale Steuerungen zur Verfügung. Und<br />

dies systemübergreifend aus Ihrem Anlagennetzwerk. Somit können Sie auch auf Installationen<br />

in entlegenen Gebieten elegant zugreifen.<br />

Signale, Schnittstellen und Protokolle<br />

••<br />

Analoge und digitale Signale<br />

••<br />

Schnittstellen:<br />

••<br />

Serielle Schnittstellen wie RS-232/RS-485/RS-422<br />

••<br />

Ethernet-Netzwerk<br />

••<br />

OPC<br />

••<br />

Protokolle:<br />

••<br />

Modbus oder Modbus TCP<br />

Ferndiagnose<br />

Ein Fernzugriff auf die Geräte und Systeme kann online erfolgen<br />

über:<br />

••<br />

die SICK-eigene Ferndiagnoseeinheit RDU mittels analogem<br />

Telefon, Mobilfunk oder Ethernet-Netzwerkanbindung<br />

••<br />

das FastViewer-Desktop-Sharing-System mit komfortablem<br />

Fernzugriff für Ferndiagnose, Fernwartung<br />

und Online-Support auf dem Kunden-PC.<br />

Auch über Firewalls hinweg zur effektiven<br />

Hilfe durch schnellen Blick auf Ihren Bildschirminhalt.<br />

18<br />

Bedienung<br />

Die Bedienung der Analysatoren und Systeme erfolgt<br />

••<br />

direkt an der Bedieneinheit des Analysators<br />

••<br />

durch eine Kontrolleinheit, über die mehrere Analysatoren<br />

visualisiert und parametriert werden können<br />

••<br />

ferngesteuert via Ethernet oder Mobilfunknetz<br />

••<br />

mit dem SICK-eigenen Visualisierungs- und Parametrierungsprogramm<br />

SOPAS ET<br />

TCP/IP<br />

Internet<br />

Messstelle/Gerät<br />

Anlagennetzwerk<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Konnektivität – <br />

richtig verbunden mit SICK<br />

Betriebsüberwachung Ferndiagnose Wartung<br />

4 ... 20 mA, Feldbus<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

Betriebsleitebene<br />

Temperatur, Druck<br />

Modbus TCP<br />

OPC Server<br />

Analysencontainer<br />

Sauerstoffkonzentration<br />

Ethernet<br />

Gaskonzentration<br />

OPC Server<br />

SOPAS ET<br />

MCS300P GMS815P/820P MAC800-System<br />

Systembus,<br />

4 ... 20 mA<br />

Wartung<br />

Ethernet<br />

Flow pH, ...<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

Analytik<br />

Anlage<br />

Weitere<br />

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Dienstleistungen und Services<br />

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PROZESSMESSTECHNIK<br />

Service rund um Ihre Anlagen und Messsysteme<br />

Analysatoren und Messsysteme liefern<br />

überwachungs- und steuerungsrelevante<br />

Informationen, steigern Effizienz<br />

und schützen Menschen und Anlagen.<br />

Optimal integriert und gewartet, bieten<br />

diese Komponenten und Systeme einen<br />

Garant für gesicherte Prozesse, konstante<br />

Produktqualität und den Schutz von<br />

Mensch und Umwelt.<br />

Von Anfang an und über viele Jahre<br />

bieten die SICK LifeTime Services die<br />

passende Dienstleistung rund um Ihre<br />

Messsysteme und Anlagen: von der Planung<br />

und Konzeption über die Inbetriebnahme<br />

und den laufenden Betrieb bis<br />

zum Umbau oder Upgrade. Über 60 Jahre<br />

Praxiserfahrung und ein umfassendes<br />

Branchen-Know-how machen uns zum<br />

kompetenten Partner für die spezifischen<br />

Anforderungen unserer Kunden.<br />

20<br />

Beratung und Design<br />

••<br />

Applikationsberatung<br />

••<br />

Planungsleistungen<br />

••<br />

Projektmanagement<br />

••<br />

Projekt- und Kunden-<br />

Dokumentation<br />

Modernisierung und<br />

Nachrüstung<br />

••<br />

Software oder Firmware<br />

••<br />

Anpassung Messbereiche<br />

••<br />

Erweiterung um zusätzliche<br />

Messkomponenten<br />

Produkt- und<br />

System-Support<br />

••<br />

Abnahme vor Auslieferung<br />

••<br />

Vor-Ort-Inbetriebnahme<br />

••<br />

Technischer Support<br />

••<br />

Ersatz-/Verbrauchsteile<br />

••<br />

Wartungs- und Serviceverträge<br />

Training und<br />

Weiterbildung<br />

••<br />

Bedienung und Handhabung<br />

••<br />

Wartungsarbeiten<br />

••<br />

Gerätesoftware<br />

••<br />

Gesetzgebungen, Richtlinien<br />

und Verordnungen<br />

Überprüfung und<br />

Optimierung<br />

••<br />

Vor-Ort-Abnahme<br />

••<br />

Wartung der Systeme<br />

••<br />

Führen eines Logbuchs<br />

••<br />

Anlagenbetreuung<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


<br />

Kompetenzen<br />

<br />

<strong>Prozessmesstechnik</strong> für effiziente Planungen von nachhaltigen Technologien<br />

Mit den Leistungsfaktoren eines umfassenden<br />

Produktspektrums, aller notwendigen Technologien<br />

aus einer Hand steht SICK als zuverlässiger Partner<br />

für kostenoptimierte Lösungen vieler Messaufgaben.<br />

Robust<br />

Sowohl der Prozess als auch die Umgebung stellen direkte<br />

Anforderungen an die Messgeräte mit hohen Anforderungen an<br />

Druck-, Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit sowie<br />

Belastung durch hohe Staubbeladungen. Um diesen Qualitätsanforderungen<br />

gerecht zu werden, bietet SICK eine große<br />

Auswahl an hochwertigen,<br />

korrosionsbeständigen<br />

Materialien. Aufgrund der<br />

langjährigen Erfahrung<br />

haben sich SICK-Analysatoren<br />

sowohl bei Installationen<br />

in Polar regionen als<br />

auch in Wüsten bewährt.<br />

Sicher<br />

Die Anforderungen an den sicheren Betrieb von Anlagen, den<br />

Schutz von Beschäftigten und Umwelt steigen stetig. SICK setzt<br />

dies im Design kompakter Geräte um. Zur Vermeidung von<br />

Explosionen stehen eigensichere, druckfest oder überdruckgekapselte<br />

Messgeräte und Systeme zur Verfügung. Darüber<br />

hinaus bietet SICK Geräte an, die entstehende potenziell<br />

gefährliche Gaskonzentrationen detektieren, um Gegenmaßnahmen<br />

zuverlässig einzuleiten. Zur Vermeidung<br />

von Personenschäden werden bei<br />

Messungen besonders gesundheitsschädlicher<br />

Stoffe wie z. B.<br />

Phosgen (COCl 2<br />

) Konstruktionen<br />

ein gesetzt, die ein Austreten<br />

des Prozessgases unter allen<br />

Umständen verhindern.<br />

Verfügbar<br />

Prozessparameter verändern sich laufend, Informationen über<br />

den Prozess müssen immer und zeitnah verfügbar sein. Um<br />

eine hohe operative Verfügbarkeit der Messergebnisse zu<br />

sichern, verwendet SICK einschwenkbare Filter und minimiert<br />

so den Zeitraum für periodische Abgleiche. Um die<br />

Betriebszeit (Uptime) auch bei unvorhersehbaren Ereignissen<br />

zu erhöhen, verwirklicht SICK ein konsequent modulares Konzept<br />

in seinen Prozessanalysatoren. Alle Informationen über<br />

Kalibrierung und Sensorcharakteristika werden in den Modulen<br />

hinterlegt. Dies gewährleistet das schnelle Erkennen eines Fehlers<br />

und den gezielten Austausch entsprechender Messmodule<br />

– der Prozess bleibt unter Kontrolle.<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

SICK ist somit prädestiniert für die effiziente Planung<br />

der unterschiedlichsten Projekte zur Realisierung<br />

von nachhaltigen Messtechnologien, die sich über<br />

viele Jahre bewähren.<br />

Schnell<br />

Für den Betrieb einer Anlage ist<br />

es entscheidend, relevante Prozessparameter<br />

ständig im Blick zu<br />

haben und ohne Zeitverzögerung<br />

auf etwaige Änderungen reagieren<br />

zu können. SICK entwickelt hierfür<br />

In-situ-Messgeräte, die Prozessveränderungen<br />

sofort und vor Ort<br />

genau messen. Ebenso optimiert<br />

SICK die Ansprechzeit extraktiver<br />

Messsysteme. Durch konsequente Umsetzung dieser Prämisse<br />

können selbst bei Leitungslängen von 30 m Ansprechzeiten von<br />

30 s realisiert werden.<br />

Geringe Betriebskosten<br />

Für eine hohe Produktqualität, den nachhaltigen Ressourceneinsatz<br />

und die Sicherheit der Anlage ergeben sich hohe<br />

Anforderungen an die einzelnen Messaufgaben. SICK bietet<br />

den Einsatz besonders zuverlässiger Messprinzipien und<br />

Auswerteverfahren. So z. B. die Laserspektroskopie, bei der die<br />

Sauerstoffkonzentration direkt gemessen werden kann. Für den<br />

Anwender ergeben sich robuste Messungen – frei von Drift mit<br />

langen Kalibrierabständen von 12 Monaten. Die Messungen<br />

bleiben dadurch über einen langen Zeitraum stabil.<br />

Weltweit<br />

SICK kann seine Analysatoren für den Einsatz in unterschiedlichen<br />

Normenwelten anbieten. Beispielsweise für Messgeräte,<br />

die in explosionsgefährdeten Bereichen eingesetzt werden, mit<br />

Konzepte für amerikanisch geprägte Märkte nach NEC500,<br />

für Europa ATEX oder international IECEx. Ebenso sind die<br />

Geräte für alle wesentlichen nationalen Zulassungen registriert.<br />

Als zuverlässiger Partner bietet SICK mit seiner weltweit<br />

tätigen Serviceorganisation<br />

umfangreiche<br />

Dienstleistungen<br />

rund um die Anlagen<br />

und Systeme.<br />

Subsidiaries<br />

Sales offices<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

21<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T


 Gasanalysatoren<br />

<br />

Produktfamilienübersicht<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T<br />

PROZESSMESSTECHNIK<br />

In-situ-Gasanalysatoren<br />

22<br />

GM32, GM32 Ex<br />

Aggressive Gase direkt und schnell messen<br />

– auch im Ex-Bereich<br />

Technische Daten<br />

Messprinzip<br />

UV-Spektroskopie<br />

Messkomponenten<br />

NH 3<br />

, NO, NO 2<br />

, SO 2<br />

, CH 3<br />

SH, (CH 3<br />

) 2<br />

S, (CH 3<br />

) 2<br />

S 2<br />

, H 2<br />

S, TRS<br />

Max. Anzahl Messgrößen 9<br />

Prozesstemperatur 0 °C ... +550 °C<br />

höhere Temperaturen auf Anfrage<br />

Prozessdruck<br />

60 hPa<br />

relativ<br />

Umgebungstemperatur –20 °C ... +55 °C<br />

Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />

Ex-Bereich<br />

Nicht-Ex-Bereiche<br />

Ex-Bereich: Zone 2 (Zone 1, Class 1 Div2)<br />

Auf einen Blick<br />

Geräteausführungen<br />

Systemkomponenten<br />

Hinweis<br />

Cross-duct-Version, Messlanzen-Version<br />

Sende-Empfangseinheit, Sende-Empfangseinheit in überdruckgekapselter Ausführung, Messlanze oder Reflektoreinheit,<br />

Anschlusseinheit, Anschlusseinheit in überdruckgekapselter Ausführung, Steuereinheit SCU (Option)<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Direkte, schnelle In-situ-Messung<br />

••<br />

Keine Gasentnahme, -transport und -aufbereitung<br />

••<br />

Bis zu 9 Messgrößen gleichzeitig<br />

••<br />

DOAS- und CDE-Auswerteverfahren<br />

••<br />

Mehrere unabhängige Messbereiche bei gleichbleibender Genauigkeit<br />

••<br />

Automatische Selbsttestfunktion (QAL3) ohne Prüfgase<br />

••<br />

Überdruckgekapselte Ausführung für Ex-Zone 1 und 2, FM Class 1 Div 2<br />

Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/GM32<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


Produktfamilienübersicht<br />

Gasanalysatoren <br />

<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

GM700 TRANSIC100LP GM960<br />

Die Prozessanalyse effizient gestalten –<br />

auch unter schwierigen Bedingungen<br />

Laserbasierte Sauerstoffmessung für raue<br />

Industrieanwendungen<br />

Bestimmung von CO-Korrosionsniveau und<br />

-Korrosionslast durch Netzmessung<br />

Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS) Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS) Zirkoniumdioxid (ZrO 2<br />

)<br />

HCl, HF, NH 3<br />

, O 2<br />

O 2<br />

CO, O 2<br />

1 1 2<br />

0 °C ... +430 °C<br />

–20 °C ... +80 °C –<br />

höhere Temperaturen auf Anfrage<br />

250 hPa<br />

800 hPa ... 1.400 hPa 50 hPa ... 100 hPa<br />

abhängig von der Ausführung und der Spülluftversorgung<br />

–40 °C ... +50 °C<br />

vier Bereiche einstellbar<br />

–40 °C ... +60 °C –10 °C ... +45 °C<br />

Nicht-Ex-Bereiche,<br />

Ex-Zone 2<br />

Nicht-Ex-Bereiche,<br />

Zone 1 + 2 (Anbau Zone 0),<br />

Class I Division 2, Anbau Class I Division 1<br />

Nicht-Ex-Bereiche<br />

Messlanzen-Version, Cross-duct-Version Ex-Ausführung –<br />

Sende-Empfangseinheit, Messlanze oder<br />

Reflektoreinheit, Auswerteeinheit AWE<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Hohe Selektivität durch hohe<br />

spektrale Auflösung<br />

••<br />

Kurze Ansprechzeiten<br />

••<br />

Keine Kalibrierung erforderlich<br />

••<br />

Keine bewegten Teile, nahezu verschleißfrei<br />

••<br />

Keine Gasentnahme und -aufbereitung<br />

erforderlich<br />

– Kesselwandsonde mit CO- und O 2<br />

-Sensor,<br />

Anschlussbox, Mastereinheit<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

O 2<br />

-Transmitter basierend auf leistungsfähiger<br />

Laser-Spektroskopie<br />

••<br />

Optimiert für rauen Industrieeinsatz<br />

– explosionsgeschützte Ausführung<br />

••<br />

Messung direkt im Prozess oder<br />

im Nebenstrom mit Messgaszelle<br />

(Option)<br />

••<br />

Beständig gegen aggressive Chemikalien<br />

und hohe Feuchte<br />

••<br />

Stabile Messwerte durch<br />

Driftüberwachung<br />

••<br />

Wartungsarm während der gesamten<br />

Betriebsdauer<br />

••<br />

Beheizte Optiken zur Kondensatvermeidung<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Bis zu 40 Sonden mit je einem COund<br />

O 2<br />

-Sensor zur direkten Montage<br />

an der Kesselwand<br />

••<br />

Bis zu 40 Anschlusseinheiten für<br />

Druckluft, Energieversorgung und<br />

Datenbus<br />

••<br />

Eine Mastereinheit mit Standard-<br />

Netzwerkanschluss an die Anlagenperipherie<br />

••<br />

Software MEPA-GM960 zur grafischen<br />

Darstellung der Messwerte,<br />

Prozesssteuerung, Datenspeicherung<br />

und -kommunikation<br />

--mysick.<strong>com</strong>/de/GM700 --mysick.<strong>com</strong>/de/TRANSIC100LP --mysick.<strong>com</strong>/de/GM960<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

23<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T


 Gasanalysatoren<br />

<br />

Produktfamilienübersicht<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T<br />

PROZESSMESSTECHNIK<br />

Extraktive Gasanalysatoren<br />

Technische Daten<br />

24<br />

Messprinzip<br />

Messkomponenten<br />

GMS810/815P/820P/830<br />

Maßgeschneiderte Gasanalyse für Prozessund<br />

Emissionsüberwachung<br />

NDUV-Fotometrie, NDIR-Fotometrie, Interferenzfilterkorrelation,<br />

paramagnetisches Hantelprinzip, elektrochemische<br />

Zelle, Wärmeleitfähigkeitsmessung,<br />

Flammenionisationsdetektion<br />

Ar, SO 2<br />

, CHClF 2<br />

, CHCl 2<br />

F, CH 2<br />

Cl 2<br />

, CH 4<br />

, CH 3<br />

OH, CO,<br />

COCl 2<br />

, CO 2<br />

, CS 2<br />

, CO+CO 2<br />

, C 2<br />

H 2<br />

, C 2<br />

H 2<br />

F 4<br />

, C 2<br />

H 4<br />

, C 2<br />

H 6<br />

,<br />

SF 6<br />

, C 3<br />

H 6<br />

, (CH 3<br />

) 2<br />

CO, C 3<br />

H 8<br />

, C 4<br />

H 10<br />

, C 4<br />

H 6<br />

, C 6<br />

H 4<br />

Cl 2<br />

, C 5<br />

H 12<br />

,<br />

O 2<br />

, C 6<br />

H 14<br />

, C 7<br />

H 16<br />

, COS, He, H 2<br />

, H 2<br />

O, H 2<br />

S, NH 3<br />

, NO, NO 2<br />

,<br />

N 2<br />

O, Cl 2<br />

, weitere Komponenten auf Anfrage, C org<br />

MCS300P/MCS300P EX<br />

Simultane Prozessüberwachung von<br />

bis zu 6 Messkomponenten<br />

Gasfilterkorrelation, Interferenzfilterkorrelation<br />

Br 2<br />

, (C 2<br />

H 5<br />

) 3<br />

N, (CH 3<br />

) 3<br />

SiCl, C 2<br />

Cl 4<br />

, C 2<br />

H 2<br />

, C 2<br />

H 2<br />

Cl 2<br />

, C 2<br />

H 3<br />

Cl,<br />

C 2<br />

H 4<br />

, C 2<br />

H 4<br />

Cl 2<br />

, C 2<br />

H 5<br />

OH, C 2<br />

H 6<br />

, C 2<br />

HBrClF 3<br />

, C 2<br />

HCl 3<br />

,<br />

C 3<br />

F 5<br />

ClOH, C 3<br />

F 6<br />

, C 3<br />

F 6<br />

O, C 3<br />

H 6<br />

, C 3<br />

H 7<br />

OH, C 4<br />

H 8<br />

, C 4<br />

H 9<br />

NH 3<br />

,<br />

C 6<br />

H 4<br />

Cl 2<br />

, C 6<br />

H 5<br />

CHO, C 6<br />

H 5<br />

NO 2<br />

, CCl 2<br />

F 2<br />

, CCl 4<br />

, CH 2<br />

Cl 2<br />

,<br />

CH 3<br />

CHO, CH 3<br />

COOC 2<br />

H 3<br />

, CH 4<br />

, CHCl 3<br />

, CHClF 2<br />

, Cl 2<br />

, CO,<br />

CO 2<br />

, COCl 2<br />

, COS, CS 2<br />

, H 2<br />

O, HCl, HCN, HF, N 2<br />

O, NH 3<br />

,<br />

SF 6<br />

, SiF 4<br />

, SO 2<br />

, UF 6<br />

, NO, NO 2<br />

, C 3<br />

H 8<br />

, C 4<br />

H 10<br />

, C 6<br />

H 5<br />

Cl<br />

Max. Anzahl Messgrößen 8 6<br />

Prozesstemperatur Eingang Analysator: 0 °C ... +45 °C +50 °C ... +200 °C<br />

Prozessdruck Verschlauchte Gaswege: 200 hPa ... 300 hPa<br />

0,8 bar ... 60 bar<br />

Verrohrte Gaswege: 200 hPa ... 1.000 hPa<br />

Umgebungstemperatur +5 °C ... +45 °C +5 °C ... +40 °C<br />

Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />

Auf einen Blick<br />

Ex-Bereich<br />

Geräteausführungen<br />

Nicht-Ex-Bereiche,<br />

Ex-Zone 2, Ex-Zone 1<br />

19''-Einschub, Wandgehäuse, druckfest gekapseltes<br />

Gehäuse, Systemeinbaumodul<br />

Nicht-Ex-Bereiche,<br />

Ex-Zone 2 + 1<br />

–<br />

Systemkomponenten – Entnahmesonde, Messgasleitung, Messstellenumschaltung,<br />

Probenaufbereitung, Analysator<br />

Hinweis<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

7 verschiedene Analysatormodule:<br />

DEFOR (NDUV, UVRAS), FIDOR (FID),<br />

MULTOR (NDIR), OXOR-E (elektrochemisch<br />

O 2<br />

), OXOR-P (paramagnetische O 2<br />

),<br />

THERMOR (TC) und UNOR (NDIR)<br />

••<br />

4 verschiedene Gehäusevarianten<br />

••<br />

Gasmodul mit Messgaspumpe und/oder<br />

Überwachungssensoren<br />

••<br />

Neue Gehäusevariante zum einfachen und<br />

schnellen Einbau in Analysensysteme<br />

••<br />

Ferndiagnose über Ethernet mit der<br />

Software SOPAS ET<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Simultane Messung von bis zu 6<br />

Komponenten<br />

••<br />

Prozessküvetten bis 60 bar und 200 °C<br />

••<br />

Automatische Messstellenumschaltung<br />

••<br />

Integrierte Justiereinrichtung (optional)<br />

••<br />

Schutzvorrichtungen zur Messung toxischer<br />

oder brennbarer Mischungen<br />

••<br />

Erweitere Bedienung über PC und Software<br />

SOPAS ET<br />

••<br />

Flexibles I/O-Modulsystem<br />

Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/GMS800 --mysick.<strong>com</strong>/de/MCS300P<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


Produktfamilienübersicht<br />

Gasanalysatoren<br />

<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

GME700 EuroFID (UEG) MONOCOLOR 2Ex<br />

Anspruchsvolle Prozessanalyse<br />

auf Linie gebracht<br />

Zuverlässige UEG-Überwachung in Prozessen<br />

Kolorimetrische H 2<br />

S-Analyse über einen<br />

weiten Konzentrationsbereich<br />

Diodenlaser-Spektroskopie (TDLS) Flammenionisationsdetektion Kolorimetrie<br />

HCl, HF, H 2<br />

O, NH 3<br />

, O 2<br />

C org<br />

H 2<br />

S<br />

2 1 1<br />

0 °C ... +210 °C Inline-Version: 0 °C ... +350 °C<br />

Übrige Ausführungen: 0 °C ... +200 °C<br />

600 hPa ... 1.200 hPa 50 hPa<br />

relativ<br />

0 °C ... +55 °C Analysator, Terminalbox: 0 °C ... +55 °C<br />

Bedieneinheit: 0 °C ... +40 °C<br />

Nicht-Ex-Bereiche<br />

Nicht-Ex-Bereiche,<br />

Ex-Zone 1+ 2<br />

+5 °C ... +45 °C<br />

Temperatur am Analysatoreingang<br />

60 hPa ... 120 hPa<br />

relativ<br />

+5 °C ... +40 °C<br />

Nicht-Ex-Bereiche,<br />

Ex-Zone 1 + 2<br />

19''-Einschub Inline-Version, Ausführung für Ex-Zone 1 19''-Einschub, Wandgehäuse für Ex-Zone 1<br />

Analysator Analysator, Bedieneinheit, Terminalbox –<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der<br />

Applikation und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Hohe Selektivität durch hohe<br />

spektrale Auflösung<br />

••<br />

Keine Kalibrierung erforderlich<br />

••<br />

Keine bewegten Teile, nahezu<br />

verschleißfrei<br />

••<br />

Beheizte Langweg-Messzelle<br />

••<br />

Heiß-Messtechnik<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der<br />

Applikation und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Integrierte Verdünnung des<br />

Messgases<br />

••<br />

Keine bewegten Teile<br />

••<br />

Alle Gaswege beheizt<br />

••<br />

Optimale Detektorgeometrie<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der<br />

Applikation und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Messbereiche von ppm bis Vol.-%<br />

••<br />

Sehr spezifische Messmethode<br />

••<br />

19’’-Einschub oder Wandaufbaugehäuse<br />

zum Einsatz in Ex-Zone 1<br />

(ATEX)<br />

••<br />

Kalibrierschieber zur Kalibrierung<br />

ohne Prüfgas<br />

--mysick.<strong>com</strong>/de/GME700 --mysick.<strong>com</strong>/de/EuroFID --mysick.<strong>com</strong>/de/MONOCOLOR<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

25<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T


 Analysensysteme<br />

<br />

Produktfamilienübersicht<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T<br />

PROZESSMESSTECHNIK<br />

Analysensysteme<br />

Technische Daten<br />

26<br />

Messprinzip<br />

MCS300P HW<br />

Simultane Prozessüberwachung von<br />

bis zu 6 Messkomponenten<br />

Gasfilterkorrelation, Interferenzfilterkorrelation, Zirkoniumdioxidsensor<br />

MAC800<br />

Modulares Komplettsystem zur extraktiven<br />

Gasanalyse<br />

Entsprechend den eingebauten GMS800-Analysatormodulen<br />

Messkomponenten CO, CO 2<br />

, HCl, H 2<br />

O, NH 3<br />

, NO, NO 2<br />

, N 2<br />

O, O 2<br />

, SO 2<br />

CO, CO 2<br />

, CH 4<br />

, NO, NO 2<br />

, N 2<br />

O, SO 2<br />

, O 2<br />

Max. Anzahl Messgrößen 6 9<br />

Auf einen Blick<br />

Prozesstemperatur Prozess: ≤ +1.300 °C<br />

Messgaseingang: ≤ +220 °C<br />

Prozess: ≤ +1.000 °C<br />

Eingang Analysensystem: ≤ +200 °C<br />

Prozessdruck 800 hPa ... 1.200 hPa –<br />

Umgebungstemperatur +5 °C ... +35 °C<br />

Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />

Mit Kühlgerät: +5 °C ... +55 °C<br />

Temperaturwechsel max. ±10 °C/h<br />

Standard: +5 °C ... +35 °C<br />

Mit Kühlgerät: +5 °C ... +50 °C<br />

Ex-Bereich Nicht-Ex-Bereiche –<br />

Geräteausführungen Stahlblechschrank Stahlblechschrank, GFK-Schrank<br />

Systemkomponenten<br />

Hinweis<br />

Analysenschrank, Entnahmesonde, beheizte<br />

Messgasleitung, Messstellenumschaltung (max. 8<br />

Messstellen)<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Simultane Messung von bis zu<br />

6 Komponenten plus O 2<br />

••<br />

Messgasflussüberwachung und Messgasdruckerfassung<br />

••<br />

Temperatur der Systemkomponenten<br />

bis 220 °C<br />

••<br />

Automatische Messstellenumschaltung für<br />

bis zu 8 Messstellen (optional)<br />

••<br />

Automatische Justage am Null- und<br />

Referenzpunkt<br />

••<br />

Integrierte Justiereinrichtung ohne Prüfgas<br />

(optional)<br />

••<br />

Erweitere Bedienung über PC und Software<br />

SOPAS ET<br />

••<br />

Flexibles I/O-Modulsystem<br />

••<br />

In Kombination mit dem SCP3000 von SICK:<br />

Gasentnahme unter rauen Bedingungen am<br />

Drehrohrofen-EInlauf<br />

Modulargehäuse GMS830 oder GMS831, Analysenschrank,<br />

Entnahmesonde, Messgasleitung, Messgaskühler,<br />

NO x<br />

-Konverter (Option), Kühlgerät (Option),<br />

Heizung (Option)<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Kalt-extraktives Analysensystem geprüft<br />

nach EN 15267-3<br />

••<br />

Plug-and-play-Analysenmodule mit<br />

24-V- Energieversorgung<br />

••<br />

Bedieneinheit zur Darstellung aller Messwerte<br />

und Statusinformationen auf einem<br />

Touchscreen<br />

••<br />

Externe Sensoren über Schnittstellen anschließbar<br />

••<br />

Anzeige und Kontrolle externer Sensoren<br />

möglich<br />

••<br />

Fernüberwachung des gesamten Systems<br />

über Ethernet, Modbus oder optionales<br />

GPRS-Modem<br />

Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/MCS300P HW --mysick.<strong>com</strong>/de/MAC800<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


Produktfamilienübersicht<br />

Analysensysteme<br />

<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

MKAS<br />

Komplettsystem zur extraktiven Gasanalyse<br />

TOCOR<br />

Organische Wasserverunreinigungen zuverlässig überwachen<br />

Entsprechend den eingebauten S700-Analysatormodulen TOC/TC-Messung durch thermische oder UV-Oxidation von C zu CO 2<br />

mit anschließender CO 2<br />

-Messung mittels NDIR-Fotometrie<br />

CH 4<br />

, CO, CO 2<br />

, NO, NO 2<br />

, N 2<br />

O, O 2<br />

, SO 2<br />

C org<br />

(TOC/TC)<br />

Entsprechend den eingebauten Analysatormodulen 1<br />

Eingang Analysensystem: 0 °C ... +200 °C<br />

+5 °C ... +45 °C<br />

Prozess: 0 °C ... +900 °C<br />

abhängig von der Entnahmesonde<br />

– 900 hPa ... 1.100 hPa<br />

Standard: +5 °C ... +35 °C<br />

ohne direkte Sonneneinstrahlung<br />

Mit Kühlgerät: +5 °C ... +50 °C<br />

–10 °C ... +35 °C<br />

Nicht-Ex-Bereiche Nicht-Ex-Bereiche, Ex-Zone 2, Ex-Zone 1<br />

Stahlblechschrank, GFK-Schrank –<br />

Analysator SIDOR oder S710, Analysenschrank,<br />

Analysator, Analysenschrank, Entnahmefilter<br />

Entnahmesonde, Kühlgerät (Option), Messgaskühler, Messgasleitung,<br />

Messgaspumpe, NO x<br />

-Konverter (Option)<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und<br />

der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Bis zu 3 Analysatoren S710 oder SIDOR oder<br />

NO x<br />

-Konverter<br />

••<br />

Umfasst alle wichtigen Systemkomponenten<br />

••<br />

Prüfgasaufgabe über die Gasentnahmesonde<br />

••<br />

Hochleistungs-Messgaskühler<br />

••<br />

Messgas-Bypass<br />

••<br />

Betriebsfertig verdrahtet und geprüft<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Sehr hohe Messgenauigkeit auch bei kleinen<br />

TOC-Konzentrationen<br />

••<br />

Benötigtes Trägergas wird im System erzeugt<br />

••<br />

Messstellenumschaltung für 4 Messstellen als Option<br />

••<br />

Ausführungen für Einsatz in Ex-Zone 1 oder 2 (ATEX)<br />

••<br />

Ausführung als Standgerät oder Wandgerät<br />

--mysick.<strong>com</strong>/de/MKAS --mysick.<strong>com</strong>/de/TOCOR<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

27<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T


 Gasdurchflussmessgeräte<br />

<br />

Produktfamilienübersicht<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T<br />

PROZESSMESSTECHNIK<br />

Volumenstrommessgeräte<br />

Technische Daten<br />

28<br />

FLOWSIC100 Process<br />

Zuverlässige und exakte Volumenstrommessung<br />

in Prozessen<br />

FLOWSIC100 Process<br />

Messlanzen-Version für explosionsgefährdete<br />

Bereiche Zone 2 (ATEX)<br />

Messprinzip Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung<br />

Messkomponenten<br />

Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Volumenstrom<br />

i.B., Volumenstrom i.N., Schallgeschwindigkeit,<br />

Massestrom<br />

Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Volumenstrom<br />

i.B., Volumenstrom i.N., Schallgeschwindigkeit,<br />

Massestrom<br />

Max. Anzahl Messgrößen 1 1<br />

Auf einen Blick<br />

Prozesstemperatur –40 °C ... +260 °C<br />

tiefere Temperaturen auf Anfrage<br />

–40 °C ... +260 °C<br />

tiefere Temperaturen auf Anfrage<br />

Prozessdruck –0,5 bar ... 16 bar –100 hPa ... 100 hPa<br />

Umgebungstemperatur<br />

Sende-Empfangseinheiten FLSE100, Steuereinheit<br />

MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />

Sende-Empfangseinheiten FLSE100, Steuereinheit<br />

MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />

Schutzart IP 65 IP 65<br />

Geräteausführungen Cross-duct-Version Messlanzen-Version<br />

Hinweis<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation<br />

und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Korrosionsbeständige Wandler aus Edelstahl<br />

oder Titan<br />

••<br />

Bis 16 bar Prozessdruck<br />

••<br />

Hermetisch abgedichtete Ultraschallwandler<br />

••<br />

Integrale Messung über den Kanaldurchmesser<br />

••<br />

Druckverlustfreie Messung ohne<br />

••<br />

Korrosionsbeständige Wandler aus Titan<br />

••<br />

Ausführung mit Messlanze zur Installation<br />

von einer Seite<br />

••<br />

Explosionsgeschützt für Einsatz in Zone 2<br />

(ATEX)<br />

••<br />

Automatische Funktionskontrolle mit Nullund<br />

Referenzpunkttest<br />

Beeinflussung des Prozesses<br />

••<br />

Automatische Funktionskontrolle mit Nullund<br />

Referenzpunkttest<br />

Detailinformationen --mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Process --mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Process<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


Produktfamilienübersicht<br />

Gasdurchflussmessgeräte <br />

<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

FLOWSIC100 Flare<br />

Zuverlässige Gasdurchflussmessung in Fackelgas-Anwendungen<br />

Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung<br />

Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Gasvolumen und -masse, Massestrom,<br />

Volumenstrom i.B., Volumenstrom i.N., Molekulargewicht<br />

FLOWSIC100 Flare<br />

Zuverlässige Gasdurchflussmessung in Fackelgas-Anwendungen<br />

Ultraschall-Laufzeitdifferenzmessung<br />

Gasgeschwindigkeit, Gastemperatur, Gasvolumen und -masse, Massestrom,<br />

Molekulargewicht, Volumenstrom i.B., Volumenstrom i.N.<br />

1 1<br />

Standard: –70 °C ... +180 °C<br />

Hochtemperatur Zone 1: –70 °C ... +280 °C<br />

Hochtemperatur Zone 2: –70 °C ... +260 °C<br />

Niedertemperatur: –196 °C ... +100 °C<br />

auf Anfrage<br />

Standard: –70 °C ... +180 °C<br />

Hochtemperatur Zone 1: –70 °C ... +280 °C<br />

Hochtemperatur Zone 2: –70 °C ... +260 °C<br />

Niedertemperatur: –196 °C ... +100 °C<br />

auf Anfrage<br />

–0,5 barg ... 16 barg –0,5 barg ... 16 barg<br />

Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –40 °C ... +70 °C<br />

Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –50 °C ... +70 °C<br />

Option<br />

Steuereinheit MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />

Sende-Empfangseinheiten FLSE100: IP 65, IP 67<br />

Steuereinheit MCUP: IP 65<br />

Steuereinheit MCUP, Ex d-Gehäuse: IP 66<br />

Cross-duct-Version<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />

Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –40 °C ... +70 °C<br />

Sende-Empfangseinheiten FLSE100: –50 °C ... +70 °C<br />

Option<br />

Steuereinheit MCUP: –40 °C ... +60 °C<br />

Sende-Empfangseinheiten: IP 65, IP 67<br />

Steuereinheit MCU: IP 65<br />

Cross-duct-Version<br />

Der Lieferumfang ist abhängig von der Applikation und der Kundenspezifikation.<br />

••<br />

Innovatives Sensordesign für sehr hohe Gasgeschwindigkeiten<br />

••<br />

Innovatives Sensordesign für sehr hohe Gasgeschwindig-<br />

••<br />

Hohe Wandlerleistung<br />

••<br />

Hochgenaue Zeitauflösung für Messung nahe Nullpunkt keiten<br />

••<br />

Rechtwinkliger Einbau der Sensoren<br />

••<br />

Hochgenaue Zeitauflösung für Messungen nahe Nullpunkt<br />

••<br />

Für Drücke bis 16 bar<br />

••<br />

Für Drücke bis 16 bar<br />

••<br />

Hermetisch abgedichtete Wandler aus Titan oder Edelstahl ••<br />

Hermetisch abgedichtete Wandler aus Titan oder Edelstahl<br />

••<br />

Für explosionsgefährdete Bereiche Zone 1, Zone 2 (ATEX/ ••<br />

Für explosionsgefährdete Bereiche Zone 1, Zone 2<br />

IECEx) und CSA Class I, Div1<br />

(ATEX/IECEx) und CSA CIass I, Div1<br />

••<br />

Optional mit Wechselvorrichtung<br />

••<br />

Optional mit Wechselvorrichtung (Version EX-RE)<br />

••<br />

Automatischer Null- und Referenzpunkttest<br />

••<br />

Automatischer Null- und Referenzpunkttest<br />

--mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Flare --mysick.<strong>com</strong>/de/FLOWSIC100 Flare<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

29<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T


 Glossar<br />

<br />

Produktfamilienübersicht<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

L<br />

M<br />

N<br />

O<br />

P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T<br />

PROZESSMESSTECHNIK<br />

Glossar<br />

A<br />

Analysensystem<br />

Besteht aus Verrohrung, Hardware und Instrumentierung, die<br />

benötigt wird, um eine automatische und dauerhafte Analyse<br />

eines Prozesses oder eines Produktstroms zu erhalten. Dies<br />

schließt das Analysenhaus, die Probenahme und -aufbereitung,<br />

die Analysatoren und Anzeigeeinheiten sowie die Entsorgung<br />

ein (ASTM D 3764).<br />

Ansprechzeit<br />

Das Zeitintervall, das von einer sprunghaften Veränderung an<br />

verschieden Stellen im Prozess verstreicht, bis diese Veränderung<br />

am Analysator angezeigt wird. Sie ist abhängig von Anlagendesign<br />

und der Flussrate (ASTM 3764). Die Ansprechzeit<br />

von Analysesystemen setzt sich zusammen aus der Zeit, die bei<br />

der Probenahme, der -Aufbereitung und der Ansprechzeit des<br />

Analysators.<br />

Auflösung<br />

Angabe zur quantitativen Erfassung des Merkmals eines Messgerätes,<br />

um zwischen nahe beieinanderliegenden Messwerten<br />

eindeutig zu unterscheiden, z. B. durch die kleinste Differenz<br />

zweier Messwerte, die das Messgerät eindeutig unterscheidet<br />

(DIN 1319-1:1995).<br />

B<br />

Bezugsnormal<br />

Material oder Substanz mit Merkmalen, deren Werte für den<br />

Zweck der Kalibrierung, die Beurteilung eines Messverfahrens<br />

oder die quantitative Ermittlung von Materialeigenschaften<br />

ausreichend festliegen, z. B. zertifizierte Prüfgase (DIN 1319-<br />

1:1995).<br />

D<br />

DOAS – Diff. Optische Absorptions-Spektroskopie<br />

Bei der differentiellen optischen Absorptionsspektroskopie wird<br />

ein für die zu bestimmenden Gase charakteristisches Absorptionsspektrum<br />

aufgenommen. Dabei werden die Gaskonzentrationen<br />

aus dem charakteristischen Unterschied der Absorption<br />

direkt bei den Absorptionsstrukturen errechnet. Durch die Auswertung<br />

des charakteristischen Absorptionsspektrums unter<br />

Betrachtung der Differenzen bleibt das Ergebnis unbeeinflusst<br />

von anderen Gaskomponenten, Staub und Feuchte.<br />

Drift<br />

Langsame zeitliche Änderung des Wertes eines messtechnischen<br />

Merkmals eines Messgerätes (DIN 1319-1:1995).<br />

E<br />

Empfindlichkeit<br />

Änderung des Wertes der Ausgangsgröße eines Messgeräts<br />

bezogen auf die verursachende Änderung des Wertes der Eingangsgröße<br />

(DIN 1319-1:1995).<br />

30<br />

F<br />

FID – Flammen-Ionisations-Detektion<br />

Messverfahren zur Bestimmung des Gesamtkohlenwasserstoffs<br />

(TOC oder C org<br />

). Im Detektor wird eine Flamme mit einem<br />

kohlenwasserstofffreien Gasgemisch betrieben und ein elektrisches<br />

Feld angelegt. Eintretende Kohlenwasserstoffe werden<br />

gecracked und gestripped und die CH-Fragmente oxidieren zu<br />

CHO+ Ionen. Der anfallende Ionenstrom wird gemessen.<br />

FTIR – Fourier-Transformations-Infrarot<br />

Messung mit Hilfe eines Michelson-Interferometers. An einem<br />

Strahlenteiler wird der Strahl geteilt. Ein Strahl wird auf einen<br />

festen Spiegel gelenkt, während der andere an einem beweglichen<br />

Spiegel reflektiert wird. Nach der Reflexion werden die<br />

Strahlen wieder zusammengeführt und interferieren miteinander.<br />

Daraus ergibt sich ein Interferogramm, das mit Hilfe einer<br />

Fourrier-Transformation in ein Spektrum verrechnet wird.<br />

G<br />

Gasfilterkorrelation<br />

Siehe Interferenzfilter-Korrelation wobei die Interferenzfilter<br />

durch gasgefüllte Küvetten ersetzt werden.<br />

Genauigkeit<br />

Qualitative Bezeichnung für das Ausmaß der Annäherung von<br />

Ermittlungsergebnissen an den Bezugswert, wobei dieser je<br />

nach Festlegung einer Vereinbarung der wahre, der richtige<br />

oder der Erfahrungswert sein kann.<br />

I<br />

Interferenzfilter-Korrelation<br />

Optische Filter werden abwechselnd in einen Lichtstrahl<br />

geschwenkt. Ein Filter lässt die Strahlung passieren, die vom<br />

zu messenden Gas absorbiert wird, während der andere Filter<br />

Strahlung passieren lässt, die nicht absorbiert wird. Aus der Differenz<br />

der Absorption, die an einem Detektor gemessen wird,<br />

errechnet sich die Gaskonzentration.<br />

K<br />

Kalibrierung<br />

Ermittlung des Zusammenhangs zwischen Messwert oder<br />

Erwartungswert, der Ausgangsgröße und dem zugehörigen<br />

wahren oder richtigen Wert, der als Eingangsgröße vorliegenden<br />

Messgröße für eine betrachtete Messeinrichtung bei<br />

vorgegebenen Bedingungen (DIN 1319-1:1995).<br />

L<br />

Laufzeitdifferenzmessung<br />

Messung der Fließgeschwindigkeit über Ultraschall. Sender und<br />

Empfänger werden dabei schräg zur Fließrichtung angebracht,<br />

wobei aus der Differenz der Laufzeit in und gegen die Fließrichtung<br />

die Fließgeschwindigkeit gemessen wird.<br />

| SICK 8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten


Produktfamilienübersicht<br />

M<br />

Messprinzip<br />

Die physikalische Grundlage der Messung. Das Messprinzip<br />

erlaubt es, anstelle der Messgröße eine andere Größe zu<br />

ermitteln, um aus ihrem Wert eindeutig den der Messgröße zu<br />

ermitteln (DIN 1319-1:1995).<br />

Messunsicherheit<br />

Kennwert, der aus Messungen gewonnen wird und zusammen<br />

mit dem Messergebnis zur Kennzeichnung eines Wertebereiches<br />

für den wahren Wert der Messgröße dient. Die Messunsicherheit<br />

ist ein quantitatives Maß für den nur qualitativ<br />

verwendeten Begriff der Genauigkeit (DIN 1319-1:1995).<br />

N<br />

NDIR – Nicht-Dispersive-Infrarot-Absorption<br />

Infrarotstrahlung eines bestimmten Wellenlängenbereichs wird<br />

über ein Chopper-Rad gepulst abwechselnd in die Messküvette<br />

und die Referenzküvette geleitet. Der Vergleich beider Messungen<br />

am Detektor ergibt die Gaskonzentration.<br />

P<br />

Präzision<br />

Die Übereinstimmung von unabhängigen Messungen, die durch<br />

wiederholtes Messen unter gleichen Bedingungen an derselben<br />

Probe entstehen. Präzision wird in Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit<br />

ausgedrückt.<br />

Probeverfahren<br />

Bei dieser Methode wird eine Probe an der Probenahme<br />

entnommen und nach bestimmten Vorgaben analysiert. Die<br />

Analyseergebnisse werden mit denen des Analysators unter<br />

Berücksichtigung der Ansprechzeit verglichen (ASTM D3764).<br />

Prüfgas<br />

Ein Kalibriergas ist ein Gas oder Gasgemisch, das aufgrund der<br />

bekannten Zusammensetzung für Kalibrierzwecke geeignet ist.<br />

Es ist auch zur Validierung oder Verifizierung einsetzbar.<br />

R<br />

Referenzverfahren<br />

Bei diesem Verfahren wird ein Referenzmaterial in den Analysator<br />

eingebracht und die Messergebnisse mit den Referenzwert<br />

der Referenzprobe verglichen (ASTM D3764). Auch die<br />

Verwendung von optischen Filtern kann als Referenzverfahren<br />

angesehen werden.<br />

Reproduzierbarkeit<br />

Grad der Übereinstimmung von unabhängigen Messungen, die<br />

vom selben Material von unterschiedlichen Personen in unterschiedlichen<br />

Analysatoren und in unterschiedlichen Laboren<br />

gewonnen werden.<br />

8015048/2012-10<br />

Irrtümer und Änderungen vorbehalten<br />

S<br />

PROZESSMESSTECHNIK | SICK<br />

Glossar<br />

<br />

Standardabweichung<br />

Positive Quadratwurzel aus der mittleren quadratischen Abweichung<br />

vom arithmetischen Mittelwert geteilt durch die Anzahl<br />

der Freiheitsgrade.<br />

Systematischer Fehler<br />

Abweichung des Erwartungswertes vom wahren Wert. Setzt<br />

sich zusammen aus bekannten und nicht bekannten systematischen<br />

Abweichungen (DIN 1319-1:1995). Systematische Fehler<br />

beeinflussen die Genauigkeit.<br />

T<br />

TDLS – Tunable Diode Laser Spectroscopy<br />

Ein Laser wird über eine Absorptionslinie des zu messenden<br />

Gases moduliert. Die Absorptionsstärke der spezifischen Linie<br />

wird über einen Detektor gemessen. Es kann alternativ die<br />

Fläche unter einem Absoptionsprofil bestimmt werden oder das<br />

2f-Verfahren angewandt werden und so die Gaskonzentration<br />

gemessen werden.<br />

U<br />

UVRAS – UV-Resonanz-Absorptions-Spektroskopie<br />

NO-spezifische Gasfilterkorrelations-Spektroskopie bei Verwendung<br />

einer NO-spezifischen Plasmaquelle.<br />

V<br />

Verfügbarkeit<br />

Ist das Verhältnis der gesamten Betriebszeit zu der Zeit, in der<br />

der Analysator korrekt funktioniert.<br />

W<br />

Wiederholbarkeit<br />

Der Unterschied zwischen zwei aufeinanderfolgenden Analyseergebnissen,<br />

die nur bei einem von 20 Messungen überschritten<br />

wird (95 % Vertrauensniveau). Der Analysator muss dabei<br />

in normalen Betriebsbedingungen und mit einer Probe gleicher<br />

Zusammensetzung betrieben werden (ASTM D3764). Oft wird<br />

auch die Standardabweichung des Analysators verwendet.<br />

Z<br />

Zeemann-Atom-Absorptions-Spektrospkoie (ZAAS)<br />

Ein um die Entladungslampe angelegtes elektromagnetisches<br />

Feld erzeugt eine zusätzliche Referenzwellenlänge, die außerhalb<br />

des Absorptionsbereichs von Hg-Atomen liegt. Die beiden<br />

Referenzwellenlängen werden abwechselnd am Detektor<br />

gemessen. So werden Querempfindlichkeiten und Verschmutzungen<br />

kompensiert.<br />

Zufällige Fehler<br />

Die zufällige Variation, die in einer Population von Messergebnissen<br />

trotz einer genauen Kontrolle der Variablen gefunden<br />

wird. Zufällige Fehler beeinflussen die Präzision.<br />

31<br />

A<br />

B<br />

C<br />

D<br />

E<br />

F<br />

H<br />

I<br />

J<br />

K<br />

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P<br />

Q<br />

R<br />

S<br />

T


8015048/2012-10 ∙ WB USmod de37<br />

SICK auf einen Blick<br />

Führende Technologien<br />

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••<br />

Berührungsloses Erfassen, Zählen,<br />

Klassifizieren, Positionieren und<br />

Messen von Objekten und Medien<br />

aller Art<br />

••<br />

Unfall- und Personenschutz mit<br />

Sensoren, Sicherheits-Software und<br />

Services<br />

••<br />

Automatische Identifikation durch<br />

Barcode- und RFID-Lesegeräte<br />

••<br />

Lasermesssensoren erfassen Volumen,<br />

Lage und Kontur von Personen<br />

und Objekten<br />

••<br />

Komplette Systemlösungen für die<br />

Analyse und Durchflussmessung von<br />

Gasen und Flüssigkeiten<br />

Umfassende Dienstleistungen<br />

••<br />

SICK LifeTime Services – für Sicherheit<br />

und Produktivität<br />

••<br />

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und Nordamerika – für Systemlösungen<br />

im realen Umfeld des<br />

späteren Produktiveinsatzes<br />

••<br />

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