20.11.2013 Aufrufe

PDF Download Starten (23 Seiten, 718KB) - IT Wissen.info

PDF Download Starten (23 Seiten, 718KB) - IT Wissen.info

PDF Download Starten (23 Seiten, 718KB) - IT Wissen.info

MEHR ANZEIGEN
WENIGER ANZEIGEN

Erfolgreiche ePaper selbst erstellen

Machen Sie aus Ihren PDF Publikationen ein blätterbares Flipbook mit unserer einzigartigen Google optimierten e-Paper Software.

Leistungselektronik<br />

Glossar<br />

Leistungselektronik<br />

1


Index<br />

Leistungselektronik<br />

Feldeffekttransistor<br />

Galliumnitrid<br />

GTO-Thyristor<br />

HVDC, high voltage direct current<br />

Hochspannungs-IC<br />

IGBT, insulated gate bipolar<br />

transistor<br />

IGCT, integrated gate commutated<br />

thyristor<br />

JFET, junction field-effect<br />

transistor<br />

LASCR, light activated silicon<br />

controlled rectifier<br />

Leistungselektronik<br />

Leistungshalbleiter<br />

Leistungskondensator<br />

MCT, MOS controlled<br />

thyristor<br />

MOSFET, metal oxide<br />

semiconductor field effect<br />

transistor<br />

SCS, silicon controlled switch<br />

Siliziumcarbid<br />

S<strong>IT</strong>, static induction<br />

transistor<br />

SJT, super junction<br />

transistor<br />

Snubberglied<br />

Thyristor<br />

Impressum<br />

2


Leistungselektronik<br />

Feldeffekttransistor<br />

FET, field effect<br />

transistor<br />

Der Feldeffekttransistor (FET) wurde bereits 1947 von den amerikanischen Physikern Bardeen<br />

und Shockley entwickelt. Feldeffekttransistoren unterscheiden sich wesentlich von den<br />

bipolaren Transistoren. Ihre drei Elektroden heißen Source, Drain und Gate. Die Source ist die<br />

Quelle für die Ladungsträger und entspricht dem Emitter eines Transistors, die Drain ist die<br />

Abflusselektrode und entspricht dem Kollektor und das Gate ist die Steuerelektrode und<br />

entspricht der Basis.<br />

Feldeffekttransistoren steuern den Stromfluss zwischen der Source (S) und der Drain (D) mit<br />

dem elektrischen Feld, das vom Gate (G) erzeugt wird. Mit diesem Feld kann das Gate<br />

zwischen Source und Drain einen leitenden Kanal aufbauen. Dabei kann es sich um einen N-<br />

oder P-Kanal handeln.<br />

Bei Anlegen einer Gatespannung breitet sich das elektrische Feld in Abhängigkeit von der<br />

Polarität und der Größe der Steuerspannung in den Kanal aus und beeinflusst die Größe des<br />

Aufbau eines MOSFET<br />

Kanals und damit den Stromfluss. Man<br />

spricht in diesem Zusammenhang auch<br />

von der Sperrschicht oder<br />

Raumladungszone.<br />

Bei einer Gate-Spannung von 0 V fließt<br />

der maximale Strom, der Kanal ist am<br />

breitesten. Bei einem N-Kanal ist die<br />

Steuerspannung negativ und verringert<br />

mit steigendem Potenzial den Stromfluss,<br />

bis kein Strom mehr fließt.<br />

Man unterscheidet zwischen Junction-FET<br />

3


Leistungselektronik<br />

Feldeffekt-Transistor: Kennlinien, Funktion und Schaltzeichen<br />

(JFET), der zwischen dem Gate und dem Source-Drain-Kanal einen sperrenden Übergang hat,<br />

und dem Isolated Gate FET (IGFET), der eine isolierende Schicht zwischen Gate und dem<br />

Source-Drain-Kanal hat. Da diese in MOS-Technologie gefertigt wird, spricht man in diesem<br />

Zusammenhang von MOSFET. Bei dieser Technologie ist das Gate elektrisch über einen<br />

Isolator, nämlich eine Metalloxydschicht angeschlossen und hat eine extrem hohe Impedanz.<br />

4


Leistungselektronik<br />

Über das Gate fließt also kein Strom, die Steuerung erfolgt leistungslos. Neben diesen<br />

Technologien gibt es noch organische Feldeffekttransistoren (OFET), die aus Polymeren<br />

bestehen und das ferroelektrisch arbeitende FeFET, das sich für Speicherzellen eignet.<br />

Mit dem FinFET und dem MuGFET (Multiple Gate FET) gibt es Varianten mit mehreren Gates,<br />

die den Ladungsträgerkanal umschließen, die weniger Energie benötigen, kleiner realisiert<br />

werden können und wesentlich kürzere Schaltzeiten haben. Sie eignen sich für<br />

Mikroprozessoren und SRAMs.<br />

Galliumnitrid<br />

GaN, gallium nitride<br />

Galliumnitrid (GaN) ist ein Halbleitermaterial, das in der Optoelektronik, bei hochintegrierten<br />

Leistungs- und Frequenzbereiche von verschiedenen<br />

Halbleitermaterialien<br />

optischen Speichermedien, in<br />

der Mikrowellentechnik, in<br />

Schaltern, der<br />

Leistungselektronik und bei<br />

Halbleiterlichtquellen<br />

eingesetzt wird. Galliumnitrid<br />

hat diverse Vorteile gegenüber<br />

Galliumarsenid (GaAs) und<br />

Silizium. Es zeichnet sich durch<br />

gute<br />

Hochfrequenzeigenschaften und<br />

einen geringen<br />

Energieverbrauch aus.<br />

Außerdem hat es einen hohen<br />

5


Leistungselektronik<br />

Wirkungsgrad in Bezug auf die benötigte Fläche und die Produktionskosten und kann mit<br />

wesentlich höheren Spannungen arbeiten.<br />

Galliumnitrid hat eine große Bandlücke von 3,4 Elektronenvolt (eV), gegenüber Silizium hat es<br />

ein sehr viel höhere Durchbruchspannung und einen geringeren Durchlasswiderstand und kann<br />

außerdem bei Frequenzen von mehreren hundert Gigahertz (GHz) eingesetzt werden.<br />

Als Verbindungshalbleiter wird Galliumnitrid in blauen, grünen und weißen Leuchtdioden<br />

eingesetzt, aber auch in HEMTs (High Electron Mobility Transistor), den leistungsstarken<br />

Komponenten der Hochfrequenztechnik. Entsprechende GaN-HEMTs zeichnen sich durch einen<br />

hohen Wirkungsgrad von bis zu 70 % und einer hohen Leistungsdichte aus. Sie können in der<br />

hochfrequenten Breitbandtechnik und der Mikrowellentechnik wie in WiMAX oder Long Term<br />

Evolution (LTE) eingesetzt werden.<br />

GTO-Thyristor<br />

GTO, gate turn off<br />

GTO-Thyristoren (Gate Turn Off) sind Leistungs-Schaltthyristoren. Sie sind wie normale<br />

Thyristoren als Vierschicht-Halbleiter aufgebaut, allerdings haben die einzelnen positiv und<br />

negativ dotierten Schichten unterschiedliche Dotierungen.<br />

GOT-Thyristoren können im Gegensatz zu normalen Thyristoren durch Steuerimpulse ein- und<br />

auch ausgeschaltet werden. Während bei konventionellen Thyristoren die Abschaltung durch<br />

Strom- und Spannungsumkehr des Hauptstroms erfolgt, können GTO-Thyristoren wie<br />

konventionelle Thyristoren mit einem positiven Steuerimpuls am Gate eingeschaltet und durch<br />

einen Rückwärts-Steuerimpuls auch ausgeschaltet werden. Der Abschaltstrom ist relativ hoch,<br />

weswegen GTO-Thyristoren aus vielen kleineren Thyristoreinheiten bestehen, die parallel<br />

geschaltet den GTO-Thyristor bilden. Das führt allerdings dazu, dass bei prozesstechnischen<br />

Abweichungen zwischen den einzelnen Thyristor-Einheiten bestimmte Thyristoren bereits<br />

6


Leistungselektronik<br />

abgeschaltet sind, während andere den<br />

Abschaltstrom von diesen übernehmen müssen. Dies<br />

kann zur Überhitzung und Zerstörung von GTO-<br />

Thyristoren führen.<br />

Da der Abschaltstrom relativ hoch ist und wie<br />

erwähnt zur Zerstörung der GTO-Thyristoren führen<br />

kann, ist für die Ansteuerung eine spezielle<br />

Steuerelektronik erforderlich. Durch die<br />

Abschaltmöglichkeiten wird die Löschung, die bei<br />

normalen Thyristoren erfolgt, vermieden.<br />

Eingesetzt werden GTO-Thyristoren in der<br />

Leistungselektronik, speziell in der IGBT-Technik zur<br />

Schaltung von Strömen bis zu 1.000 Ampere. Eine<br />

Weiterentwicklung des GTO-Thyristors ist der<br />

Integrated Gate Communicated Thyristor (IGCT).<br />

Hochspannungs-IC<br />

HVIC, high-voltage<br />

integrated circuit<br />

Aufbau und Schaltzeichen des GTO-<br />

Thyristors<br />

High-Voltage Integrated Circuits (HVIC) sind<br />

monolithische Hochspannungs-ICs für Spannungen<br />

von 500 V und höher.<br />

Diese integrierten Schaltungen werden in der Motorsteuerung, in Treiber-Schaltungen,<br />

Schaltnetzteilen, Schutzschaltungen, in der Überspannungstechnik, sowie der Audio- und<br />

Ultraschalltechnik in industriellen Anwendungen und in der Medizin eingesetzt. Sie werden in<br />

verschiedenen SO-Packages hergestellt und können Treiberströme von einigen Ampere<br />

schalten.<br />

7


Leistungselektronik<br />

IGBT, insulated gate<br />

bipolar transistor<br />

Aufbau eines IGBTs<br />

Insulated Gate Bipolar Transistors (IGBT) sind Leistungshalbleiter, die in der<br />

Leistungselektronik, Energie- und HGÜ-Technik eingesetzt werden. Sie wurden 1979 erstmals<br />

vorgestellt und haben sich zwischenzeitlich, bedingt durch technologische und<br />

verfahrenstechnische Weiterentwicklungen zu elektronischen Hochleistungskomponenten<br />

entwickelt. Der Leistungsbereich der IGBTs ist durch den Spannungsbereich zwischen<br />

mehreren hundert Volt und mehreren Kilovolt gekennzeichnet, der Strombereich übersteigt<br />

einige Kilo-Ampere. Eingesetzt werden sie u.a. als Leistungs-Halbleiterschalter in<br />

Motorantrieben, Zugkraftsteuerungen, USV-Systemen und Schaltnetzteilen.<br />

8


Leistungselektronik<br />

IGBTs zeichnen sich aus durch geringste Leistungsverluste im Durchlass- und Sperrzustand,<br />

sie benötigen nur geringe Ansteuerungsleistungen und haben einen hohen Wirkungsgrad, der<br />

maßgeblich von der Schatfrequenz bestimmt wird. IGBTs werden bei Spannungen zwischen<br />

600 V und 6 kV eingesetzt und arbeiten mit Schaltfrequenzen von 2 kHz bis 50 kHz. Damit sie<br />

eine möglichst geringe Steuerleistung benötigen, werden technologisch MOSFET-Gates<br />

benutzt, was als weiteren Vorteil die hohe Eingangsimpedanz mit sich bringt.<br />

IGBTs sind ähnlich aufgebaut wie MOSFETs, es gibt sie als n-Kanal- oder p-Kanal-Version. Der<br />

wesentliche Unterschied gegenüber MOSFETs liegt darin, dass die p- und n-Zonen doppelt<br />

diffundiert sind und dass für den Kollektor, resp. die Drain, ein p(+)-Substrat-Layer benutzt<br />

wird. Da aus der p(+)-Zone Löcher in die n-dotierte Zone driften, ändert sich das Verhalten<br />

entsprechend wie bei einem bipolaren Bauteil.<br />

Der On/Off-Zustand eines IGBTs wird wie bei einem MOSFET durch die Gatespannung<br />

gesteuert. Ist die Gatespannung niedriger als die Emitterspannung, wird der Übergang<br />

zwischen Emitter und Gate gesperrt und<br />

es fließt kein Strom durch den IGBT, er<br />

ist „Off“. Alle angelegten Spannungen<br />

liegen dann an dem entgegengesetzt<br />

vorgespannten Übergang zwischen dem<br />

Gate und der Drift-Zone. Es fließt<br />

lediglich ein geringer Leckstrom. Die<br />

Vorwärts-Durchbruchspannung wird durch<br />

die Durchbruchspannung dieses<br />

IGBT-Modul von Semikron<br />

Übergangs bestimmt. Dies ist wichtig, da<br />

9


Leistungselektronik<br />

die Halbleiter-Leistungskomponenten mit hohen Spannungen und Strömen arbeiten. Die<br />

Durchbruchspannung des Übergangs hängt von den Dotierungen beider Zonen ab.<br />

Zu den Leistungs-Halbleitern zählen Thyristoren, GTO-Thyristoren, MCT-Thyristoren, IGCT-<br />

Thyristoren, Super Junction Transistors (SJT), LASCR, Silicon Controlled Switches (SCS), Static<br />

Induction Transistors (S<strong>IT</strong>) und Static Induction Thyristors (S<strong>IT</strong>H).<br />

Leistungshalbleiter-Komponenten werden in den verschiedensten TO-Packages wie dem TO-3<br />

oder dem TO-220 oder in Modulform geliefert.<br />

IGCT, integrated gate<br />

commutated thyristor<br />

IGCT-Thyristor<br />

Integrated Gate Communicated Thyristors (IGCT) sind Schaltkomponenten der<br />

Leistungselektronik. Ein IGCT-Thyristor entspricht funktional dem GTO-Thyristor, Gate Turn Off.<br />

Es ist ein steuerbarer Leistungsschalter, der über das Gate ein- und ausgeschaltet werden<br />

kann. IGCTs zeichnen sich durch eine hohe Dynamik zwischen dem Ein- (On) und Aus-Zustand<br />

(Off) aus und unterscheiden sich<br />

gegenüber GTO-Thyristoren durch die<br />

schnellere Schaltgeschwindigkeit.<br />

IGCT-Thyristoren bestehen im<br />

Wesentlichen aus zwei elementaren<br />

Teilen: der GCT-Thyristorstruktur und<br />

der Gate-Einheit, die so nah als<br />

möglich am GCT-Teil angebracht ist.<br />

Daher auch die Bezeichnung<br />

Integrated. Die Integration beider<br />

Teile ist notwendig, um störende<br />

IGCT-Thyristor für 10 kV, Foto: ABB<br />

10


Leistungselektronik<br />

Induktivitäten der Gate-Einheit zu minimieren.<br />

Die Vorteile des IGCT-Thyristors liegen in der Steuerbarkeit des Schaltvorgangs, in der relativ<br />

hohen Überlastbarkeit und dem niedrigen Durchlasswiderstand im geschalteten Zustand.<br />

Eingesetzt werden IGCTs in Leistungstreibern, in Wechselrichtern und Umrichtern und in<br />

leistungsstarken Nieder-Frequenzkonvertern.<br />

JFET, junction fieldeffect<br />

transistor<br />

Aufbau und Schaltzeichen des JFET, oben n-dotiert<br />

Der Junction Field-Effect Transsitor<br />

(JFET) hat einen äußerst einfachen<br />

Aufbau und einen hohen<br />

Eingangswiderstand, der geringer<br />

ist als der des MOSFET. Darin ist<br />

auch der Grund zu sehen, warum<br />

JFETs nur begrenzt in diskreten<br />

Schaltungen eingesetzt werden.<br />

Junction-FET s gibt es in zwei<br />

Ausführungen als p-Kanal- und n-<br />

Kanal-JFET. Bei der n-Kanal-<br />

Ausführung besteht der<br />

stromführende Kanal aus n-<br />

dotiertem Silizium, das von dem p-<br />

dotierten Gate eingeschlossen<br />

wird. Beim JFET wird der pn-<br />

Übergang zwischen Gate und n-<br />

11


Leistungselektronik<br />

Kanal negativ vorgespannt und steuert dadurch den Stromfluss zwischen Source und Drain.<br />

Bei der p-Kanal-Ausführung sind die Halbleitermaterialien entsprechend umgekehrt. Das p-<br />

dotierte Silizium wird für den stromführenden Kanal, das n-dotierte für das Gate benutzt.<br />

Die Strom-Spannungs-Kennlinien von JFETs entsprechen im Wesentlichen denen von MOSFETs<br />

mit der Ausnahme, dass die zulässige Source-Gate-Spannung bei 0 V liegt. Im Schaltbild<br />

werden die beiden Ausführungen durch die Richtung des Pfeils zum oder vom Gate kenntlich<br />

gemacht.<br />

Neben den auf Silizium basierenden JFETs wird zunehmend Siliziumcarbid (SiC) als<br />

Halbleitermaterial eingesetzt, da durch die geringere Verlustleistungen Leistungs-JFETs für die<br />

Leistungselektronik hergestellt werden können.<br />

LASCR, light activated<br />

silicon controlled<br />

rectifier<br />

Light Activated Silicon Controlled Rectifier (LASCR) sind durch Licht aktivierte Thyristoren<br />

(SCR), Light Activated SCRs, die auch als Light Triggered Thyristor (LTT) bezeichnet werden.<br />

Sobald das auf den Gleichtrichter fallende Licht einen bestimmten Schwellwert überschreitet,<br />

lässt der LASCR den Strom in einer Richtung passieren.<br />

Vom Aufbau her bestehen LASCRs aus Anode, Kathode und der Steuerelektrode, dem Gate.<br />

Funktional bleibt der LASCR solange in seinem leitenden Zustand, wie Licht auf ihn fällt. Sinkt<br />

die Helligkeit des einfallenden Lichts unter einen Schwellwert, sperrt der LASCR den<br />

Stromfluss. Die höchste Empfindlichkeit haben LASCRs bei offenem Gate. Außerdem können<br />

LASCRs mit einem Puls auf das Gate getriggert werden und arbeiten dann vergleichbar<br />

konventionellen Thyristoren (SCR). LASCRs werden in lichtgesteuerten Einrichtungen und<br />

Dämmerungsschaltern eingesetzt.<br />

12


Leistungselektronik<br />

Leistungselektronik<br />

Der Begriff Leistungselektronik bezeichnet ein großes Teilgebiet der Elektrotechnik, das sich<br />

mit Hilfe von Halbleiterbauelementen mit Steuern, Umformen und Schalten von elektrischer<br />

Energie befasst. Die Leistungsbereiche sind in der Leistungselektronik nicht fest definiert, sie<br />

reichen aber von einem Spannungsbereich von 5 V bis etwa 400 kV und einem Strombereich<br />

von 500 mA bis 6 kA. In der Leistungsübertragung reicht der Bereich der übertragbaren<br />

Leistung von weniger als einem Watt bei Spannungsreglern, Relais- oder Ventiltreibern bis zu<br />

mehreren Gigawatt bei der Hochspannungs-Gleichstrom-Übertragung (HGÜ).<br />

In der Antriebstechnik spielt die Leistungselektronik eine wichtige Rolle. In vielen Bereichen<br />

werden große Antriebe leistungselektronisch gesteuert oder in der Energieerzeugung werden<br />

Frequenzumrichter zur direkten Netzeinspeisung eingesetzt. Darüber hinaus ist die<br />

Leistungselektronik ein wichtiges Bindeglied zwischen Energieerzeugung und Energieverbrauch<br />

und trägt einen Beitrag dazu, den immer teurer werdenden Rohstoff Energie sparsam<br />

einzusetzen. Sie hat die Aufgabe, die erzeugte Energie effizient und zuverlässig zum<br />

Verbraucher zu bringen. Dazu tragen Stellglieder bei, die die Spannungspegel und -frequenzen<br />

möglichst ohne Verluste an die unterschiedlichen Energienetze anpassen. Der Wirkungsgrad<br />

dieser Spannungsumformer reduziert die übertragene Energie.<br />

Bei Bauelementen der Leistungselektronik handelt es sich um Leistungshalbleiter die Strom<br />

und Spannungen schalten. Häufig verwendet werden: Leistungsdioden, Leistungstransistoren<br />

sowohl bipolare Transistoren als auch Feldeffekttransistoren (FET), Junction Field-Effect<br />

Transistors (JFET), Super Junction Transistors (SJT), Leistungs-MOSFET, GTO-Thyristoren,<br />

Integrated Gate Commutated Thyristor (IGCT), eine Weiterentwicklung des GTO-Thyristors<br />

zur Verringerung des Schaltungsaufwandes, Insulated Gate Bipolar Transistor (IGBT) und<br />

Thyristoren (Diac/Triac).<br />

13


Leistungselektronik<br />

Bipolare Transistoren, MOSFETs und SBR-Dioden werden in Schaltnetzteilen und DC/DC-<br />

Wandlern eingesetzt, GTO-Thyristoren und IGCT-Thyristoren in der Stromrichtertechnik. Die<br />

Anforderungen an leistungselektronische Bauelemente sind hohe Sperrspannungen, niedrige<br />

Schaltverluste und vor allem hohe Schaltströme.<br />

Leistungshalbleiter<br />

Leistungshalbleiter sind Halbleiter-Bauelemente, die speziell für das Schalten von hohen<br />

Strömen und Spannungen entwickelt wurden. Während konventionelle Halbleiter Ströme unter<br />

1 A und Spannungen<br />

von bis zu 100 V<br />

schalten, sind diese<br />

willkürlich gewählten<br />

Werte die unteren<br />

Grenzwerte für<br />

Leistungshalbleiter.<br />

Nach oben hin liegen<br />

die derzeit<br />

realisierbaren<br />

technischen Grenzen<br />

bei Schaltspannungen<br />

von 10 kV und mehr<br />

und bei Schaltströmen<br />

von mehreren Kilo-<br />

Arbeitsbereiche von Leistungshalbleitern<br />

Ampere. Daher<br />

14


Leistungselektronik<br />

werden Leistungshalbleiter ausschließlich in der Energie-, Antriebs- und<br />

Hochspannungstechnik eingesetzt.<br />

Leistungshalbleiter haben sich seit den 50er Jahren parallel zu konventionellen Halbleitern<br />

entwickelt und werden primär durch Vielschicht-Halbleiter gebildet. Die Entwicklung hat vom<br />

bipolaren Transistor über den MOSFET und den Thyristor hin zu den leistungsstarken Insulated<br />

Gate Bipolar Transistors (IGBT), GTO-Thyristoren und IGCT-Thyristoren geführt. Diese<br />

Leistungshalbleiter unterscheiden sich in ihren Schaltspannungen und -strömen, und in ihren<br />

Schaltleistungen und -frequenzen. Erstere können bei Thyristoren weit über 10 Mega-<br />

Voltampere (MVA), auch IGBTs erreichen durchaus bis 5 MVA und MOSFETs etwa 20 kVA. Je<br />

höher die Schaltleistung, desto geringer ist die Schaltfrequenz. Während diese bei Thyristoren<br />

unter 1 kHz liegt, steigt sie bei IGBTs auf ca. 100 kHz und bei MOSFETs auf weit über 100<br />

MHz.<br />

Leistungskondensator<br />

Leistungskondensatoren sind besonders spannungsfeste Kondensatoren, die in der<br />

Hochfrequenz-, Leistungs-, Energie- und HGÜ-Technik eingesetzt werden. Neben der höheren<br />

Spannungsfestigkeit zeichnen sich Leistungskondensatoren in aller Regel auch durch hohe<br />

Kapazitätswerte aus.<br />

Die Bezeichnung Leistungskondensator ist nicht spezifiziert in Bezug auf die genannten<br />

Kennwerte, sie ist vielmehr durch die Einsatzgebiete in der Nieder- und Hochspannungstechnik<br />

geprägt und wird für Kondensatoren benutzt, deren Blindleistung über 200 Var (Voltage-<br />

Ampere Reactive) liegt und durchaus mehrere Kilo-Var erreichen kann.<br />

Waren frühere Leistungskondensatoren wegen ihrer Selbstheilung Metallpapierkondensatoren,<br />

so werden heute thermoplastische Kunststofffolien aus Polyethylenterephthalat (PET),<br />

Polycarbonat (PC), Polyethylennaphthalat (PEN) und Polypropylen (PP) benutzt. Sie haben<br />

15


Leistungselektronik<br />

eine hohe Durchschlagfestigkeit von ca. 600 V/µm, einen hohen Durchgangswiderstand von<br />

10exp17 und höher, und können in einem großen Temperaturbereich zwischen -50 °C und etwa<br />

100 °C eingesetzt werden.<br />

MCT, MOS controlled<br />

thyristor<br />

Wie der GTO-Thyristor ist auch der MCT-Thyristor (MOS Controlled Thyristor) ein Thyristor-<br />

Schalter, der aus dem GTO-Thyristor entwickelt wurde. Der GTO-Thyristor benötigt eine<br />

umfassendere Steuerelektronik für den relativ hohen Steuerstrom bei der Abschaltung. Diesen<br />

Nachteil behebt der MCT-Thyristor, der über MOSFETs an- und abgeschaltet wird. Im Ein-<br />

Zustand haben MCTs geringe Verluste und können hohe Ströme schalten.<br />

MCT-Thyristoren sind vergleichbar den Silicon Controlled Rectifier (SCR) mit isoliertem Gate,<br />

was die Steuerelektronik für die Treiberschaltungen wesentlich vereinfacht. Bedingt durch die<br />

MOSFET-Ansteuerung haben sie eine höhere Schaltgeschwindigkeit als SCRs.<br />

MOSFET, metal oxide<br />

semiconductor field<br />

effect transistor<br />

Aufbau eines MOSFETs<br />

MOSFET beschreibt einen<br />

Feldeffekttransistor in MOS-Technologie.<br />

Mit der MOS-Technologie können<br />

Transistoren hergestellt werden deren<br />

Steuerelektrode durch eine<br />

Metalloxydschicht vom Basismaterial<br />

getrennt ist und den Stromfluss im<br />

Basismaterial über elektrische Felder<br />

steuert. Bedingt durch die strommäßige<br />

Trennung von Basismaterial und<br />

16


Leistungselektronik<br />

Steuerelektrode, dem Gate, erfolgt die Steuerung über das elektrische Feld leistungslos.<br />

Die Elektroden eines MOSFETs sind die Source als emittierende Elektrode, das Gate als<br />

steuernde und die Drain als aufnehmende Elektrode, die dem Kollektor eines Transistors<br />

entspricht. Die in den 60er Jahren entwickelten MOSFETs waren aus Silizium resp.<br />

Siliziumdioxid, später, Mitte der 80er Jahre, wurde das Gate aus polykristallinem Silizium,<br />

Polysilizium, hergestellt.<br />

MOSFETs zeichnen sich durch extrem hohe Impedanzen und geringen Leistungsverbrauch aus,<br />

was eine geringere Wärmeentwicklung mit sich bringt. Eine Stromaufnahme erfolgt nur im<br />

Schaltzustand; im statischen Zustand fließt kein Strom durch die Gatter. Der<br />

Durchschaltwiderstand liegt im einstelligen Milli-Ohm-Bereich. Die Schaltzeiten liegen bei<br />

etwa 10 ns.<br />

Der Vorteil der MOS-Technologie, die es als PMOS-Technologie mit P-Kanal-FETs und als NMOS-<br />

Technologie mit N-Kanal-FETs gibt, liegt darüber hinaus in dem großen<br />

Versorgungsspannungsbereich, der durchaus mehrere hundert Volt betragen kann.<br />

Bedingt durch die hohe Impedanz sind diese Logiken besonders empfindlich gegenüber<br />

statischen Aufladungen. Alle Ein- und Ausgänge sollten daher nicht potentialfrei betrieben<br />

werden.<br />

SCS, silicon controlled<br />

switch<br />

Der Silicon Controlled Switch (SCS) ist ein Vierschicht-Bauelement, vergleichbar einem<br />

Thyristor oder dem GTO-Thyristor. Im Gegensatz zu den genannten hat der SCS-Thyristor zwei<br />

steuerbare Gate-Anschlüsse, das Anoden-Gate und das Kathoden-Gate, und wie die<br />

konventionellen Thyristoren eine Kathode und eine Anode. Über die beiden Gates kann der<br />

SCS-Thyristor ein- und ausgeschaltet werden.<br />

17


Leistungselektronik<br />

Liegt zwischen dem Kathoden-Gate und der Kathode eine positive Spannung, schaltet sich der<br />

SCS-Thyristor ein, ausgeschaltet wird er wenn die Anode und Kathode auf gleiches Potential<br />

gelegt werden.<br />

Siliziumcarbid<br />

SiC, silicon carbide<br />

Siliziumcarbid (SiC) ist ein Halbleitermaterial, das in Leistungshalbleitern eingesetzt wird,<br />

besonders in der Leistungselektronik bei hohen Spannungen, Strömen und Temperaturen.<br />

Siliziumcarbid hat zwischen Leitungsband und Valenzband eine hohe Bandlücke von 3,1<br />

Elektronenvolt (eV) und erlaubt dadurch hohe Sperrschichttemperaturen und -spannungen.<br />

Darüber hinaus ist die Wärmeleitfähigkeit besser als die von Silizium. Siliziumcarbid kann bei<br />

Temperaturen bis 300 °C eingesetzt werden. Der optimale Spannungsbereich liegt zwischen<br />

600 V und 2 kV.<br />

Darüber hinaus zeichnet sich Siliziumcarbid durch eine hohe kritische Feldstärke aus, die<br />

entscheidend ist für die Dicke der Halbleiterschicht und deren Dotierung, damit eine<br />

bestimmte Sperrspannung erreicht wird. Im Unterschied zu Silizium kann die Siliziumcarbid-<br />

Schicht dünner sein, was zu einer wesentlichen Reduzierung des Durchgangswiderstandes im<br />

Schaltzustand und damit zur Verringerung der Verlustleistung beiträgt.<br />

Eingesetzt wird Siliziumcarbid in Leistungshalbleitern in Feldeffekttransistoren (FET), Junction<br />

Field-Effect Transistoren (JFET), Super Junction Transistors (SJT), Schottky-Dioden und IGBTs.<br />

Aus Siliziumcarbid können u.a. SJT-Transistoren für Spannungen von über 10 kV, bei Strömen<br />

von 10 A und Betriebstemperaturen von bis zu 300 °C hergestellt werden. Durch Siliziumcarbid<br />

kann beispielsweise der Wirkungsgrad von Wechselrichtern in Photovoltaikanlagen um über 50<br />

% gesteigert werden. Außerdem kann die Frequenz um den Faktor 4 und höher erhöht und<br />

damit die Größe wesentlich verringert werden, zumal die Baugruppe bei wesentlich höheren<br />

Temperaturen betrieben werden kann.<br />

18


Leistungselektronik<br />

S<strong>IT</strong>, static induction<br />

transistor<br />

Der Static Induction Transistor (S<strong>IT</strong>) ist ein leistungsstarker Transistor. Der S<strong>IT</strong> hat durch<br />

seinen Aufbau eine sehr geringe Gate-Kapazität und einen geringen Gate-Reihenwiderstand<br />

und weist nur einen kleinen thermischen Widerstand aufweist. Es ist ein rauscharmer<br />

Transistor mit geringen Verzerrungen der als Leistungsverstärker im Audio-Bereich eingesetzt<br />

wird. Die Transition-Zeiten liegen unterhalb von einer Mikrosekunde.<br />

SJT, super junction<br />

transistor<br />

SJT-Transistor<br />

Super Junction Transistoren (SJT) sind stromgesteuerte Leistungstransistoren für Spannungen<br />

bis 10 kV und darüber. Bedingt durch ihre geringe Gate-Kapazität haben SJT-Transistoren<br />

extrem kurze Schaltzeiten und eignen sich daher ideal als Leistungsschalter in<br />

Schaltnetzteilen, USV-Systemen, Elektromobilen und anderen Anwendungen in denen hohe<br />

Ströme geschaltet werden müssen.<br />

Super Junction Transistoren sind bipolare Transistoren aus Siliziumcarbid (SiC-BJT). SJTs sind<br />

im Normalzustand OFF, sie haben eine revers vorgespannte Safe Operating Area (SOA) und<br />

einen geringfügig positiven Temperaturkoeffizienten. Die Stromsteuerung arbeitet mit einem<br />

geringen Gate-Strom und die Schaltfrequenz kann weit über 10 MHz betragen. Weitere<br />

Features von SJT-Transistoren sind deren Arbeitstemperaturbereich, der bis 300 °C reicht, der<br />

geringe Innenwiderstand von wenigen hundert Milli-Ohm und die Schaltzeiten von etwa 10 ns.<br />

Sie sind sehr robust und können Kurzschlusszeiten von über 20 µs unbeschadet überstehen.<br />

Snubberglied<br />

snubber<br />

Snubber heißt übersetzt Puffer. Der Snubber-Kondensator ist ein Kondensator, der<br />

unerwünschte Schwingungen, Spannungsspitzen, Überspannungen und hochfrequente<br />

Störungen dämpft, weswegen er auch zur Funkenlöschung benutzt wird. Snubberglieder sind<br />

eine Reihenschaltung aus dem Snubber-Kondensator und einem Widerstand. Als RC-Glied wird<br />

19


Leistungselektronik<br />

es als Entstörglied an Schaltkontakten, in der Kfz-Elektronik, in Audio-Verstärkern sowie in<br />

Umrichtern mit Thyristoren und IGBTs eingesetzt, vor allem dort, wo induktive Lasten<br />

geschaltet werden. Je nach Anforderung kann das Snubberglied auch nur aus einem Snubber-<br />

Kondensator bestehen.<br />

Thyristor<br />

SCR, silicon controlled<br />

rectifier<br />

Der Thyristor (SCR), auch Vierschichtdiode, Thyristordiode oder Silicon Controlled Rectifier<br />

(SCR) genannt, ist ein Halbleiterbauelement, das als elektronischer Schalter eingesetzt wird.<br />

Der Thyristor kennt zwei Zustände: den leitenden und den nichtleitenden, die durch eine<br />

Steuerelektrode ausgelöst werden können.<br />

Der Thyristor ist ähnlich aufgebaut wie eine Reihenschaltung aus mehreren Dioden, bestehend<br />

aus vier Schichten, daher auch die Bezeichnung Vierschichtdiode, mit wechselnder p-n-p-n-<br />

Dotierung. Der Thyristor hat drei Elektroden, neben der Kathode und der Anode noch den<br />

Steueranschluss (G). Der Steueranschluss kann n- oder p-gesteuert sein, d.h. er setzt<br />

funktional an der Anode (n-gesteuert) oder der Kathode (p-gesteuert) an. Bei dem p-<br />

gesteuerten Thyristor ist der Steuerimpuls positiv. Dieser Impuls schaltet den Thyristor in den<br />

niederohmigen, leitenden Zustand, wodurch der Widerstandswert in den Milliohm-Bereich fällt.<br />

Erst wenn der Haltestrom unterschritten wird, werden die Halbleiterstrecken hochohmig und<br />

nichtleitend. Der hochohmige Zustand ist dann gegeben, wenn an der Anode eine negative<br />

Spannung anliegt. Im niederohmigen Zustand liegt an der Anode eine positive Spannung, die<br />

erst bei Überschreiten eines bestimmten Potentials zwischen Anode und Kathode den<br />

Thyristor in den leitenden Zustand schaltet.<br />

Eingesetzt werden Thyristoren als kontaktlose Schalter und steuerbare Gleichrichter in<br />

Schaltnetzteilen, Dimmern und Impulsschaltungen. Die Zündspannung arbeitet mit etwa 3 V,<br />

20


Leistungselektronik<br />

die Schaltströme reichen bis über 1.000 A bei Sperrspannungen von 1.000 V. Leistungs-<br />

Thyristoren können Spannungen von weit über 10 kV und Ströme von mehreren Kilo-Ampere<br />

(kA) schalten.<br />

Es gibt spezielle Thyristor-Schalter, wie die lichtgesteuerten Thyristoren (LTT), die MCT-<br />

Thyristoren, die GTO-Thyristoren, die in der IGBT-Technik eingesetzt werden. Eine<br />

Weiterentwicklung der GTO-Thyristoren sind die IGCT-Thyristoren, die sich durch schnellere<br />

Ersatzschaltbild, Schaltzeichen und Kennlinien des Thyristors<br />

21


Leistungselektronik<br />

Schaltzeiten auszeichnen. Darüber hinaus gibt es mit der Breakover Diode (BOD) eine<br />

Thyristorvariante, die für die Ableitung von Strömen eingesetzt wird und bei Ableitströmen in<br />

den leitenden Zustand übergeht.<br />

22


Impressum Leistungselektronik<br />

Urheber<br />

Klaus Lipinski, Dipl.-Ing.<br />

Datacom-Buchverlag GmbH<br />

84378 Dietersburg<br />

ISBN: 978-3-89<strong>23</strong>8-259-1<br />

Leistungselektronik<br />

E-Book, Copyright 2013<br />

Alle Rechte vorbehalten.<br />

Keine Haftung für die angegebenen Informationen.<br />

Impressum<br />

Creative Commons<br />

Namensnennung- Keine<br />

Kommerzielle Nutzung - Keine<br />

Bearbeitung 3.0 Deutschland<br />

Hinweis — Im Falle einer Verbreitung müssen Sie anderen alle Lizenzbedingungen<br />

mitteilen, die für dieses Werk gelten.<br />

Das E-Book darf nur dann auf fremde Webseiten gestellt werden, wenn ein<br />

Backlink auf www.itwissen.<strong>info</strong> gesetzt ist.<br />

Titelfoto: © Avner Richard - Fotolia.com<br />

Layout & Gestaltung: Sebastian Schreiber<br />

Produktion: www.media-schmid.de<br />

Weitere Informationen unter www.itwissen.<strong>info</strong><br />

<strong>23</strong>

Hurra! Ihre Datei wurde hochgeladen und ist bereit für die Veröffentlichung.

Erfolgreich gespeichert!

Leider ist etwas schief gelaufen!