Проблемы и перспективы современной электроники

More documents

Recommendations

Info

Основные тенденции полупроводниковой индустрии • Закон Мура продолжает действовать • Рост стоимости разработки новых технологий и материалов, а также затраты на содержание фабрик растут. • Производительность также растет. Ожидается скачек при переходе на 450 мм пластины Как результат: • Разделение компаний на “fabless” и “foundry” • Outsource основных R&D • Дифференциация за счет развития software
Технологии будущего
Page 1 and 2: Полупроводниковые
Page 3 and 4: Transistors (millions) 1,000 100 10
Page 5 and 6: Структура «камня»
Page 7 and 8: MOSFET эквивалентная
Page 9 and 10: Нанотехнологии для
Page 11 and 12: Bitcell Area (m 2 ) Technology Dens
Page 13 and 14: 32 нм фабрики D1D Oregon -
Page 15: Intel: Эволюцию техно
Page 18 and 19: Новая инициатива: 45
Page 20 and 21: Ключевой вопрос • 1
Page 22 and 23: Atom processor Производит
Page 26 and 27: Проблемы литографи
Page 28 and 29: Пиксельная фазовая
Page 30: Si (~4.1nm) EUV отражающа
Page 33 and 34: Иммерсионная литог
Page 35 and 36: Двойная экспозиция
Page 37 and 38: SEM of 11nm node SRAM structure (22
Page 40 and 41: Imprint lithography
Page 42 and 43: Проблемы уменьшени
Page 44 and 45: Пути развития поле
Page 46 and 47: In 07Ga 03 As QWFET на кремн
Page 48 and 49: Структура соединен
Page 50 and 51: Масштабирование ме
Page 52 and 53: PVD Cu провода ALD based •
Page 54 and 55: Required Properties of Low-k Dielec
Page 56 and 57: Выводы • Кремниевы
Page 58 and 59: Сенсоры единичных
Page 60 and 61: Какие возможности
Page 62: Спасибо

Проблемы и перспективы современной электроники

Create successful ePaper yourself

Delete template?

Save as template?