Проблемы и перспективы современной электроники

More documents

Recommendations

Info

Структура соединений в чипе M8 M7 M6 M5 M4 M3 M2 M1
MOSFET эквивалентная электрическая схема
Page 1 and 2: Полупроводниковые
Page 3 and 4: Transistors (millions) 1,000 100 10
Page 5: Структура «камня»
Page 9 and 10: Нанотехнологии для
Page 11 and 12: Bitcell Area (m 2 ) Technology Dens
Page 13 and 14: 32 нм фабрики D1D Oregon -
Page 15: Intel: Эволюцию техно
Page 18 and 19: Новая инициатива: 45
Page 20 and 21: Ключевой вопрос • 1
Page 22 and 23: Atom processor Производит
Page 24 and 25: Основные тенденции
Page 26 and 27: Проблемы литографи
Page 28 and 29: Пиксельная фазовая
Page 30: Si (~4.1nm) EUV отражающа
Page 33 and 34: Иммерсионная литог
Page 35 and 36: Двойная экспозиция
Page 37 and 38: SEM of 11nm node SRAM structure (22
Page 40 and 41: Imprint lithography
Page 42 and 43: Проблемы уменьшени
Page 44 and 45: Пути развития поле
Page 46 and 47: In 07Ga 03 As QWFET на кремн
Page 48 and 49: Структура соединен
Page 50 and 51: Масштабирование ме
Page 52 and 53: PVD Cu провода ALD based •
Page 54 and 55: Required Properties of Low-k Dielec
Page 56 and 57:
Выводы • Кремниевы
Page 58 and 59:
Сенсоры единичных
Page 60 and 61:
Какие возможности
Page 62:
Спасибо
show all

Проблемы и перспективы современной электроники

Create successful ePaper yourself

Delete template?

Save as template?