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Studio di fotodiodi a valanga per il calorimetro CMS al LHC del CERN"

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L'energia <strong>di</strong> attivazione <strong>del</strong>le impurezze. Questa denisce la tem<strong>per</strong>atura minima<br />

<strong>per</strong> poter portare gli elettroni nella banda <strong>di</strong> conduzione, oppure le lacune nella<br />

banda <strong>di</strong> v<strong>al</strong>enza.<br />

Le caratteristiche <strong>di</strong>usive <strong>del</strong> materi<strong>al</strong>e drogante.<br />

Il punto successivo e la v<strong>al</strong>utazione <strong>del</strong> tipo <strong>di</strong> sorgente <strong>di</strong>usiva da ut<strong>il</strong>izzare. Ne<br />

esistono due tipi princip<strong>al</strong>i: solida, gassosa.<br />

Con la procedura legata <strong>al</strong>la sorgente solida esistono tre mod<strong>al</strong>ita <strong>di</strong>erenti, basate<br />

sulla comune ut<strong>il</strong>izzazione <strong>di</strong> una fornace <strong>al</strong> cui interno e contenuta una sorgente <strong>del</strong><br />

materi<strong>al</strong>e da <strong>di</strong>ondere, ed una tavola <strong>di</strong> materi<strong>al</strong>e da drogare. Nella fornace viene fatto<br />

uire un gas inerte, ma carico, con <strong>il</strong> compito <strong>di</strong> eliminare le impurezze residue prima<br />

<strong>di</strong> far iniziare <strong>il</strong> processo. La fornace prevede, in <strong>al</strong>cuni casi, due zone <strong>di</strong> tem<strong>per</strong>atura<br />

<strong>di</strong>erente; una zona tenuta ad una tem<strong>per</strong>atura t<strong>al</strong>e da assicurare la <strong>di</strong>usione <strong>del</strong>la<br />

sorgente solida, ed una a<strong>di</strong>bita <strong>al</strong>la fase <strong>di</strong> <strong>di</strong>usione nel mezzo da drogare. T<strong>al</strong>e tipo<br />

<strong>di</strong> sorgente presenta <strong>il</strong> notevole vantaggio <strong>di</strong> essere molto sicura, ma in compenso ore<br />

problemi nella <strong>di</strong>stribuzione uniforme <strong>del</strong> drogante <strong>al</strong>l'interno <strong>del</strong> materi<strong>al</strong>e. L'uso<br />

<strong>di</strong> una sorgente gassosa consente <strong>di</strong> ottenere un processo piu pulito <strong>di</strong> quello solido;<br />

infatti in questo caso si riesce a regolare <strong>il</strong> drogaggio ad un usso <strong>di</strong> massa controllato.<br />

Il prolo <strong>di</strong> drogaggio ottenuto in questi processi, puo essere sconvolto se <strong>il</strong> materi<strong>al</strong>e<br />

semiconduttore e portato ad <strong>al</strong>ta tem<strong>per</strong>atura.<br />

Il metodo <strong>del</strong>la <strong>di</strong>usione ad <strong>al</strong>ta tem<strong>per</strong>atura presenta numerosi svantaggi:<br />

E un processo <strong>di</strong> equ<strong>il</strong>ibrio, t<strong>al</strong>e che la concentrazione <strong>di</strong> drogante non puo<br />

su<strong>per</strong>are <strong>il</strong> limite <strong>di</strong> solub<strong>il</strong>ita <strong>al</strong>la tem<strong>per</strong>atura <strong>di</strong> <strong>di</strong>usione.<br />

Qu<strong>al</strong>siasi impurezza presente nella fornace durante <strong>il</strong> processo, entrera nel<br />

semiconduttore.<br />

Essendo un processo ad <strong>al</strong>ta tem<strong>per</strong>atura, puo essere introdotto nella struttura<br />

crist<strong>al</strong>lina un qu<strong>al</strong>che <strong>di</strong>fetto non desiderato.<br />

La profon<strong>di</strong>ta <strong>del</strong>la <strong>di</strong>usione ed <strong>il</strong> grado <strong>di</strong> <strong>di</strong>usione later<strong>al</strong>e sotto la maschera<br />

non sono molto controllab<strong>il</strong>i.<br />

I proli <strong>di</strong> concentrazione in funzione <strong>del</strong>la profon<strong>di</strong>ta sono limitati d<strong>al</strong> processo<br />

<strong>di</strong> <strong>di</strong>usione.<br />

La concentrazione <strong>di</strong> drogante tot<strong>al</strong>e, speci<strong>al</strong>mente <strong>per</strong> concentrazioni costanti <strong>di</strong><br />

su<strong>per</strong>cie, non puo essere accuratamente controllata durante <strong>il</strong> processo.<br />

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