7. Elektronenmikroskopische Abbildung
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hsl 2009 – <strong>Elektronenmikroskopische</strong> <strong>Abbildung</strong><br />
Arbeitsabstand<br />
kleiner Arbeitsabstand großer Arbeitsabstand<br />
Probe<br />
Elektronenstrahl<br />
Tiefenschärfe<br />
Tiefenschärfe<br />
Probe<br />
Beziehung zwischen Arbeitsabstand w<br />
bzw. Durchmesser der OL A und<br />
Tiefenschärfe h<br />
typische Werte<br />
❖ SEM ~ 100 µm<br />
❖ LM ~ 1 µm<br />
[D. Kamber, S. Hau]<br />
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