Wachstum und Nanogaps - JuSER - Forschungszentrum Jülich
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STRUKTURIERUNG MIT DIBLOCK- COPOLYMER MIZELL TEMPLATES 62<br />
Es wurden sowohl Si/SiO 2 -Substrate als auch Proben mit TiO 2 -Oberfläche verwendet. Für Proben mit<br />
der Schichtreihenfolge Si/SiO 2 /TiO 2 /Pt/TiO 2 ist eine Temperatur von 180 ◦ C mit einer Dauer von 30min<br />
optimal. Charakterisiert wurden die unterschiedlichen Proben unter dem SEM. Das Zusammenwachsen<br />
der primären Goldnanopartikel ist in Abb. 2.15 b.) deutlich zu sehen. Weiterhin ist auch die im Fall für<br />
Si/SiO 2 /TiO 2 /Pt/TiO 2 vollständige Veraschung der Diblock-Copolymere erkennbar. Dies wird durch den<br />
scharfen Kontrast der TiO 2 -Körner, welche die Unterlage für die Goldpartikel bilden, ersichtlich.<br />
Nachdem die Prozessparameter zur Reduktion <strong>und</strong> Veraschung der beladenen Diblock-Copolymer Mizellen<br />
<strong>und</strong> zum Zusammenwachsen der Goldprimärpartikel ermittelt wurden, können die entstandenen<br />
Goldnanopartikel als Hartmaske verwendet werden.<br />
2.4.4 Herstellen von TiO 2 -Kristallisationskeimen <strong>und</strong><br />
Abscheidung von Bleititanat (PbTiO 3 )<br />
Das Ziel des nächsten Prozessschrittes ist der Abtrag der TiO 2 Schicht an der Substratoberfläche bis zur<br />
unteren Platinelektrode, wobei nur das unterhalb der Goldpartikel befindliche Titanoxid geschützt ist.<br />
Auf diese Weise entstehen kleine Titansäulen, die als Kristallisationskeime für ternäre Oxide fungieren<br />
können. Um TiO 2 mit Hilfe von Goldnanopartikel über ein Ätzverfahren strukturieren zu können, muss<br />
die Differenz in der Ätzrate der beiden verwendeten Materialien groß genug sein. Dies bedeutet, dass<br />
der Materialabtrag von Gold im Plasma geringer sein muss als der entsprechende Abtrag von TiO 2 .<br />
Diese Voraussetzung können über zwei verschiedene Wege realisiert werden. Einerseits kann ein Plasma<br />
eingesetzt werden, bei dem der Materialabtrag für Gold geringer ist als für TiO 2 . Dies ist zum Beispiel<br />
bei fluorhaltigen Gasen wie SF 6 ,CF 4 , CHF 3 möglich, da diese Gassorten materialspezifisch abtragen.<br />
Arbeitet jedoch das Ätzverfahren nicht selektiv <strong>und</strong> ist somit der Materialabtrag bei beiden Materialien<br />
ungefähr gleich, so kann andererseits die fehlende Abtragdifferenz von Beginn an durch unterschiedliche<br />
Schichtdicken ausgeglichen werden. Nach dem Reduzieren <strong>und</strong> Veraschen der Diblock-Copolymer Mizellen<br />
haben die auf der Probenoberfläche verbliebenen Goldpartikel einen Durchmesser von 5nm±1nm.<br />
Im Folgenden werden Si/SiO 2 /TiO 2 /Pt/TiO 2 Substrate mit zwei unterschiedlichen TiO 2 -Dicken, 2nm<br />
<strong>und</strong> 10nm, unter Verwendung eines selektiven Plasmaätzens <strong>und</strong> eines nicht selektiven Materialabtrags<br />
im Plasma eingesetzt.<br />
Zur Ermittlung genauer Ätzparameter an der Ionfab 300Plus, wird zunächst die Ätzrate mit Hilfe eines<br />
Massenspektrometers ermittelt. Dafür wird Titan ausreichend dick (ca. 200nm) auf einem oxidierten<br />
Siliziumwafer aufgedampft <strong>und</strong> solange einem SF 6 Plasma ausgesetzt, bis das jeweils materialspezifische<br />
Maximum detektiert durch das Massenspektrometer nicht mehr vorhanden ist. Die Ätzrate des<br />
Titans beläuft sich bei dieser Versuchsdurchführung auf ungefähr 32nm/min. Diese Angabe für den<br />
Materialabtrag wird ebenfalls als Anhaltspunkt für das Strukturieren der Titanoxidschicht herangezogen.<br />
Das Ermitteln einer Ätzrate für Gold ist aufgr<strong>und</strong> des verwendeten Massenspektrometers, das für die<br />
Massenzahl von 197 ein Minimum besitzt, nicht möglich.<br />
Da für die Deposition von Diblock-Copolymer Mizellen Substrate mit einer Titanoxiddicke von 10nm<br />
eingesetzt werden, ist die hohe Abtragrate, 32nm/min, im SF 6 Plasma sehr kritisch. Es wäre eine