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Poly de cours

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Le comportement d’un transistor n-MOS est le suivant. Si la grille est mise à une tension <strong>de</strong> 2.9V, lasource et le drain sont connectés. Si au contraire, la grille est mise à une tension <strong>de</strong> 0V, le circuit entrela source et le drain est ouvert. Le fonctionnement d’un transistor p-MOS est l’inverse. Le drain et lasource sont connectés lorsque la tension appliquée à la grille est 0V.4.3.2 CompositionUn transistor est formé <strong>de</strong> <strong>de</strong>ux jonctions np obtenues en intercalant une couche p (respectivement n)entre <strong>de</strong>ux couches n (respectivement p). Le transistor <strong>de</strong> type n correspond aux trois couches n-p-n etle transistor <strong>de</strong> type p aux couches p-n-p. Il y a en outre une grille en métal au début <strong>de</strong> la techniqueMOS mais maintenant faite en polysilicium. Cette grille est séparée <strong>de</strong> la couche intermédiaire par unefine couche d’oxy<strong>de</strong> <strong>de</strong> silicium SiO 2 isolant. Le potentiel appliqué à la grille permet <strong>de</strong> modifierl’état <strong>de</strong> la couche intermédiaire.Transistors n-MOS et p-MOS4.3.3 Principe <strong>de</strong> fonctionnementOn considère un transistor <strong>de</strong> type n. Si aucune tension n’est appliquée à la grille, les <strong>de</strong>ux jonctionsnp et pn se comporte comme <strong>de</strong>s dio<strong>de</strong>s en opposition et aucun courant ne peut passer entre la sourceet le drain. Si au contraire une tension positive est appliquée à la grille, les électrons chargésnégativement s’accumulent dans le substrat dans la zone près <strong>de</strong> la grille. La région du substrat près <strong>de</strong>la grille va alors se comporter comme un semi-conducteur dopé n (cf. figure ci-<strong>de</strong>ssous). Le courantpeut alors passer entre la source et le drain.- 20 -

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