ASPIRE INVENT ACHIEVE - Imec

hooGTEpuNTEN
IMEC CORE CMOS
HOOGTEPuNTEN - De grenzen van de bestaande chiptechnologie komen steeds dichterbij
en verdere transistorverkleining stelt ons voor grote uitdagingen. Imec onderzoekt de
mogelijkheden van nieuwe materialen, nieuwe transistorarchitecturen
en nieuwe lithografietechnieken.
01
Een geheugencircuit in
22nm-chiptechnologie
met EUV-lithografie
In 2009 is imec er als eerste ter wereld in geslaagd om
met EUV-lithografie een functioneel SRAM-(static
random access memory) circuit te maken in 22-nanometer
chiptechnologie. Het circuit heeft een totale
afmeting van slechts 0,099 vierkante micrometer. Het
werd ontwikkeld door verschillende ultramoderne
technologieën te combineren. Zo werd voor het
eerst EUV-lithografie gebruikt om zowel de contacten
als de metaallaag te printen die de bouwstenen
(transistors) van de chip verbinden, en werd een zeer
geavanceerde 3D-architectuur gebruikt voor de transis
tors nl. FINFET’s. De testresultaten van imec’s nieuwe
22nm-geheugencircuit tonen een goede werking aan
en bevestigen daarmee dat EUV-lithografie een zeer
bruikbare techniek is om op een kosten efficiënte manier
ultrakleine chiptechnologie te ontwikkelen.
24
02
Optimalisatie
van de lichtbron voor
193nm lithografie
In 2009 is imec gestart met een onderzoeksproject naar
de optimalisatie van de vorm van de lichtbron op de
meest geavanceerde immersiescanner die vandaag de
dag beschikbaar is: ASML’s XT:1900i met een numerieke
apertuur van 1,35. De eerste optimalisatie hebben we
gerealiseerd met diffractieve optische elementen
(DOE) waarmee we de vorm van de lichtbron konden
aanpassen. Op die manier hebben we het contact en
de metaallagen van de 22nm-SRAM-layouts kunnen
verbeteren. We zijn ook gestart met het uittesten van
de mogelijkheden van de flexibele lichtbron.
03
Inspectie en reiniging
van maskers
voor EUV-lithografie
Imec is in 2009 gestart met het zoeken naar goede
instrumenten voor de inspectie van EUV-maskers.
Samen met Hamatech hebben we ook een overeenkomst
getekend om het eerste Hamatech Mask Track
Pro reinigingstoestel in onze cleanroom te installeren
en om samen reinigingsprocessen voor EUV-maskers
te ontwikkelen. Behalve contaminatie door stofdeeltjes,
willen we ook de mogelijkheid van lichtgeïnduceerde
organische contaminatie onderzoeken.