プラズマエレクトロニクス分科会会報 No.56 - 応用物理学会
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プラズマエレクトロニクス 分 科 会 会 報 <strong>No.56</strong><br />
2012 年 ( 平 成 24 年 )6 月 発 行<br />
市 來 、 市 川 、 向 川 、 池 田<br />
目 次<br />
幹 事 長 就 任 挨 拶 幹 事 長 退 任 にあたって 名 古 屋 大 学 堀 勝 1<br />
幹 事 長 就 任 挨 拶 幹 事 長 就 任 にあたって 東 京 大 学 寺 嶋 和 夫 2<br />
寄 稿<br />
パワーデバイスの 最 新 動 向 (SiC パワーデバイスを 主 に) 三 菱 電 機 ( 株 ) 大 森 達 夫 3<br />
第 10 回 プラズマエレクトロニクス 賞<br />
第 10 回 プラズマエレクトロニクス 賞 について 名 古 屋 大 学 堀 勝 6<br />
プラズマエレクトロニクス 賞 を 受 賞 して 河 南 農 業 大 学 趙 穎 7<br />
研 究 室 紹 介 (その 51) 東 京 工 業 大 学 小 長 井 誠 9<br />
研 究 紹 介 (その 3) 首 都 大 学 東 京 白 井 直 機 13<br />
研 究 紹 介 (その 4) 岩 手 大 学 高 木 浩 一 15<br />
海 外 の 研 究 事 情 (その 33) 九 州 大 学 堤 井 君 元 18<br />
学 生 のためのページ すぐに 役 立 つプラズマエレクトロニクス<br />
反 応 性 イオンエッチング 新 潟 大 学 安 部 隆 21<br />
国 際 会 議 報 告<br />
4th International Symposium on Advanced Plasma Science and its<br />
Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2012)<br />
5th International Conference on Plasma Nanotechnology and<br />
Science (IC-PLANTS 2012)<br />
名 城 大 学 平 松 美 根 男 27<br />
名 古 屋 大 学 石 川 健 治 30<br />
2012 MRS Spring Meeting Symposium WW<br />
Plasma Processing and Diagnostics for Life Sciences<br />
九 州 大 学 白 谷 正 治 31<br />
8th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP2012) 東 北 大 学 寒 川 誠 二 32<br />
国 内 会 議 報 告<br />
2012 年 春 季 第 59 回 応 用 物 理 学 関 係 連 合 講 演 会<br />
第 7 回 分 科 内 招 待 講 演<br />
「 常 識 になっていないプラズマ 現 象 2 題 (シース・ 対 流 )」<br />
「プラズマ 応 用 ナノカーボンナノバイオトロニクス」<br />
京 都 工 芸<br />
繊 維 大 学<br />
比 村 治 彦 33<br />
i
2012 年 春 季 第 59 回 応 用 物 理 学 会 関 連 連 合 講 演 会<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 会 チュートリアル 講 演<br />
「マイクロプラズマの 基 礎 と 応 用 」<br />
2012 年 春 季 応 用 物 理 学 関 係 連 合 講 演 会 シンポジウム<br />
カーボンナノ 材 料 プラズマプロセスの 将 来 展 望<br />
~ 合 成 から 機 能 化 まで~<br />
第 9 回 プラズマ 新 領 域 研 究 会<br />
「 微 粒 子 プラズマ 応 用 の 最 前 線 」<br />
第 10 回 プラズマ 新 領 域 研 究 会<br />
「 大 気 圧 プラズマ 生 成 における 気 相 反 応 シミュレーション」<br />
第 26 回 光 源 物 性 とその 応 用 研 究 会 報 告<br />
東 北 大 学 金 子 俊 郎 34<br />
( 独 ) 産 業 技 術<br />
総 合 研 究 所<br />
山 田 英 明 35<br />
九 州 大 学 内 田 儀 一 郎 37<br />
東 北 大 学 佐 藤 岳 彦 38<br />
室 蘭 工 業 大 学<br />
愛 媛 大 学<br />
佐 藤 孝 紀<br />
神 野 雅 文<br />
39<br />
行 事 案 内<br />
2012 年 秋 季 第 73 回 応 用 物 理 学 会 学 術 講 演 会<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 主 催 シンポジウム<br />
「プラズマのバイオ・ 医 療 への 応 用 - 生 体 支 援 のためのプラズ<br />
マ-」<br />
京 都 工 芸<br />
繊 維 大 学<br />
比 村 治 彦 40<br />
第 6 回 プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール 大 阪 大 学 唐 橋 一 浩 41<br />
第 23 回 プラズマエレクトロニクス 講 習 会 ( 株 ) ソニー 辰 巳 哲 也 43<br />
Gaseous Electronics Conference 2012 九 州 大 学 白 谷 正 治 44<br />
第 34 回 ドライプロセス 国 際 シンポジウム<br />
34th International Symposium on Dry Process (DPS 2012)<br />
11th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology<br />
(APCPST) / 25th Symposium on Plasma Science for Materials<br />
(SPSM)<br />
( 株 ) 富 士 通<br />
セミコンダクター<br />
小 倉 輝 45<br />
名 古 屋 大 学 堀 勝 先 生 47<br />
第 30 回 プラズマプロセシング 研 究 会 (SPP-30) 静 岡 大 学 永 津 雅 章 48<br />
掲 示 板<br />
平 成 24 年 度 プラズマエレクトロニクス 分 科 会 幹 事 名 簿 50<br />
平 成 24 年 度 分 科 会 幹 事 役 割 分 担 52<br />
平 成 24 年 度 分 科 会 関 連 の 各 種 世 話 人 ・ 委 員 53<br />
平 成 23 年 度 後 期 および 平 成 24 年 度 前 記 活 動 報 告 54<br />
第 11 回 プラズマエレクトロニクス 賞 受 賞 候 補 論 文 の 募 集 58<br />
プラズマエレクトロニクス 関 連 会 議 日 程 60<br />
東 日 本 大 震 災 で 被 災 された 方 への 会 費 免 除 のお 知 らせ 64<br />
編 集 後 記 65<br />
ii
幹 事 長 退 任 にあたって<br />
~ 科 学 研 究 費 細 目 「プラズマエレクトロニクス」 創 設 に 期 待 を 込 めて~<br />
名 古 屋 大 学 堀<br />
勝<br />
2 年 間 に 亘 る 幹 事 長 の 任 期 の 間 に、 分 科 会 にと<br />
って 大 きな 出 来 事 が3つありました。この 節 目 に<br />
幹 事 長 として 対 応 できたことは、 大 きな 喜 びであ<br />
ります。 一 つは、2010 年 10 月 4 日 ~8 日 に、<br />
分 科 会 と 米 国 物 理 学 会 が 主 催 する「 反 応 性 プラズ<br />
マ/ 電 離 気 体 国 際 会 議 」を 欧 米 アジアの 合 同 会 議 と<br />
してパリで 開 催 することができたことです。 実 行<br />
委 員 会 は、 現 地 のパリの 方 々が 中 心 となって 運 営<br />
するという 国 際 的 なチームが 活 動 したことは 画 期<br />
な 出 来 事 と 言 えます。また830 件 以 上 の 講 演 発<br />
表 が 集 まり、 世 界 中 の 参 加 者 から 素 晴 らしい 国 際<br />
会 議 であると 称 賛 されたことは、 本 分 野 の 重 要 性<br />
と 分 科 会 の 力 の 大 きさを 示 し、 我 国 が 今 後 のプラ<br />
ズマ 分 野 を 国 際 的 に 牽 引 するスキームを 構 築 する<br />
ことができたと 言 えます。 次 回 は、2014 年 に<br />
福 岡 で 白 谷 正 治 組 織 委 員 長 ( 九 州 大 学 )の 下 で 開<br />
催 されますので、 多 くの 皆 様 方 の 継 続 的 なご 協 力<br />
をお 願 い 申 し 上 げます。<br />
二 つ 目 は、2011 年 10 月 22 日 に、 野 依 記<br />
念 学 術 交 流 館 ( 名 古 屋 大 学 )で 応 用 物 理 学 会 プラ<br />
ズマエレクトロニクス 分 科 会 20 周 年 ( 研 究 会 創<br />
設 25 周 年 ) 記 念 特 別 シンポジウムを 開 催 するこ<br />
とができたことです。147 名 の 参 加 者 があり、<br />
歴 代 の 分 科 会 幹 事 長 および 分 科 会 の 発 展 に 貢 献 さ<br />
れてきた 方 々とともに、 若 手 研 究 者 との 懇 談 の 場<br />
を 設 けることができました。「 温 故 創 新 」を 基 に 次<br />
の30 周 年 に 向 けての 新 しいスタートをきること<br />
ができたのではないかと 思 います。<br />
三 つ 目 は、 長 年 の 念 願 であった 科 学 研 究 費 細 目<br />
に「プラズマエレクトロ 二 クス」を 創 設 すること<br />
ができたことです。 前 幹 事 長 の 白 谷 先 生 と 密 接 に<br />
連 絡 を 取 り 合 って 協 力 することで、プラズマを 取<br />
り 巻 く 他 分 野 の 研 究 者 や 当 時 応 用 物 理 学 会 会 長 で<br />
あった 白 木 靖 寛 先 生 のご 理 解 を 得 て、23000<br />
人 の 会 員 の 総 意 として、 応 用 物 理 学 会 が 支 援 して<br />
いただくことができました。 諸 先 輩 が 培 ってきた<br />
土 壌 の 中 で、 新 しい 科 研 費 細 目 が 発 芽 できたこと<br />
は 万 感 の 思 いでした。これらの3つの 出 来 事 は、<br />
全 て、 会 員 の 方 々のご 努 力 の 賜 物 であり、 心 から<br />
敬 意 を 表 して、ここにお 礼 申 し 上 げます。<br />
さて、 急 速 に 変 化 する 昨 今 の 世 界 情 勢 の 中 で、<br />
プラズマ 科 学 技 術 が、「いつ」、「どこ」へ 行 くのか<br />
プラズマ 研 究 者 にとっては 非 常 に 重 要 な 命 題 にな<br />
ってきました。 過 去 を 振 り 返 れば、 今 日 の 大 規 模<br />
集 積 回 路 の 劇 的 な 衰 退 を 代 表 とする 世 界 の 産 業 情<br />
勢 を 予 想 することができたのかも 知 れません。グ<br />
ローバル 化 の 中 で 急 速 に 変 化 するプラズマの 応 用<br />
分 野 を 洞 察 しながら、 普 遍 的 なプラズマ 基 礎 研 究<br />
を 基 軸 にダイナミックに 応 用 研 究 に 取 り 組 むこと<br />
が 必 要 になっています。<br />
特 に、 企 業 の 衰 退 に 伴 い、プラズマの 応 用 の 動<br />
向 を 読 み 切 れない 場 合 は、 独 創 的 なアイデアを 秘<br />
めていても 研 究 費 の 獲 得 が 非 常 に 困 難 になってい<br />
ます。 未 来 を 見 据 えた 独 創 的 研 究 を 遂 行 する 上 で、<br />
「 科 学 研 究 費 」の 獲 得 は 極 めて 重 要 です。 科 学 研<br />
究 費 細 目 に「プラズマエレクトロニクス」が 創 設<br />
されたことは、プラズマの 多 様 な 観 点 から 真 に 優<br />
れた 研 究 の 申 請 が 正 しく 評 価 され、 採 択 される 可<br />
能 性 が 高 くなることに 大 きな 意 味 を 有 していると<br />
思 います。プラズマエレクトロニクスがアプロー<br />
チする 基 礎 科 学 の 深 化 と 体 系 化 は、 応 用 が 如 何 に<br />
変 化 しても 普 遍 であり、 多 くの 研 究 者 がリマイン<br />
ドして 永 続 的 に 研 究 していくことが 不 可 欠 であり、<br />
科 学 研 究 費 が 有 効 活 用 されることを 期 待 していま<br />
す。さらに、 産 業 や 医 療 社 会 が 激 動 する 中 で、 各 々<br />
の 研 究 者 が 今 後 の 応 用 プラズマを 開 拓 し、 先 導 し<br />
ていくことが 重 要 です。 現 在 脚 光 を 浴 びているグ<br />
リーンやライフイノベーションの 行 く 先 を 極 めて、<br />
独 創 的 なアイデアでバラ 色 のプラズマの 未 来 を 開<br />
拓 して 欲 しいと 思 います。<br />
1
幹 事 長 就 任 にあたって<br />
東 京 大 学 寺 嶋 和 夫<br />
この 4 月 より 2 年 間 、プラズマエレクトロニク<br />
ス 分 科 会 幹 事 長 を 務 めさせていただきます 東 京 大<br />
学 の 寺 嶋 和 夫 です。 分 科 会 会 員 のみなさまが 分 科<br />
会 に 入 会 されて 本 当 に 良 かったと 満 足 されるよう<br />
精 一 杯 努 めさせていただきます。どうぞよろしく<br />
お 願 い 申 し 上 げます。<br />
昨 年 10 月 に 本 分 科 会 の 発 足 20 周 年 を 祝 う 記 念<br />
講 演 会 が 名 古 屋 大 学 にて 前 幹 事 長 の 堀 先 生 ( 名 古<br />
屋 大 学 )の 強 力 なご 尽 力 ・リーダーシップの 下 に<br />
盛 大 に 開 催 されました。 本 分 科 会 の 前 身 であるプ<br />
ラズマエレクトロニクス 研 究 会 の 発 足 25 周 年 も<br />
祝 うこの 記 念 講 演 会 には、 本 分 科 会 、 研 究 会 の 立<br />
ち 上 げに 多 大 な 貢 献 をされてこられた 会 員 のみな<br />
さま、 幹 事 会 の 幹 事 のみなさまをはじめとして、<br />
次 代 の 分 科 会 を 担 う 学 生 会 員 のみなさま、 若 手 の<br />
研 究 者 、 技 術 者 の 会 員 のみなさまなど 多 岐 にわた<br />
るみなさまにお 集 りいただき、 現 在 520 名 を 超 え<br />
る 大 きな 集 団 にまで 発 展 した 本 会 の 活 況 をみなさ<br />
まと 祝 うことができました。このような 分 科 会 の<br />
隆 盛 は、 長 年 に 渡 る 会 員 のみなさまの 分 科 会 活 動<br />
への 積 極 的 なご 参 加 ・ご 協 力 ・ご 教 授 、そして、<br />
幹 事 会 の 幹 事 のみなさまの 会 の 運 営 へのご 尽 力 な<br />
くして 達 成 できなかったことは 言 を 待 ちません。<br />
この 学 会 活 動 への 積 極 的 な 参 加 という 良 き 文 化 ・<br />
伝 統 、そして 応 用 物 理 学 会 の 多 くの 分 科 会 の 中 で<br />
も 1,2 を 争 う 高 い 学 会 活 動 のアクテイビテイーこ<br />
そが 時 代 を 超 えて 受 け 継 いでいくべき 本 分 科 会 の<br />
最 大 の 財 産 だと 確 信 しております。さらにまた、<br />
受 け 継 ぐべきものを 守 るためには、 継 続 的 な 変 革<br />
が 必 要 とされ、 本 分 科 会 の 活 動 においてもこの 点<br />
を 肝 に 銘 じて 進 めてまいります。 春 ・ 秋 の 学 術 講<br />
演 会 においては 学 術 技 術 の 国 際 化 の 流 れを 迅 速 に<br />
取 り 入 れ 応 用 物 理 学 会 内 でも 一 番 早 くの 英 語 のセ<br />
ッションを 設 置 するとともに、この 4 月 のアメリ<br />
カ MRS(Materials Research Society) 学 術 講 演 会 に<br />
おける 合 同 シンポジウム(プラズマバイオ 応 用 )<br />
の 開 催 など 国 際 化 への 対 応 を 進 めており 今 後 益 々<br />
加 速 してまいります。また、 分 科 会 活 動 の 中 心 で<br />
あります 各 種 の 講 習 会 ・ 研 究 会 、 例 えば、 学 生 会<br />
員 のみなさんを 主 な 対 象 とさせていただいていま<br />
すインキュベーションホール、 会 社 にお 勤 めの 会<br />
員 のみなさまを 主 な 対 象 としておりますプラズマ<br />
エレクトロニクス 講 習 会 、プラズマ 領 域 の 新 しい<br />
研 究 領 域 を 拡 げる 野 心 的 な 研 究 者 ・ 技 術 者 の 会 員<br />
のみなさまの 発 表 、 研 鑽 の 場 となる 新 領 域 研 究 会 、<br />
などの 開 催 におきましても、 会 の 趣 旨 ・ 内 容 ・ 形<br />
式 の 継 続 的 な 検 討 を 行 い、 会 員 のみなさまにとっ<br />
て 十 二 分 の 満 足 をいただけることを 肝 に 銘 じ 担 当<br />
幹 事 が 日 夜 議 論 し 常 にフレッシュな 会 になるよう<br />
努 めております。 半 導 体 デバイスプロセス、 光 源<br />
応 用 を 中 心 に 発 展 してきましたプラズマ 応 用 も 現<br />
在 、 環 境 分 野 、 生 命 分 野 、エネルギー 分 野 などそ<br />
の 応 用 分 野 はたいへん 多 岐 にわたるものになって<br />
おります。このような 時 代 のニーズに 沿 った 内 容 、<br />
また、モバイル IT 時 代 にマッチした 形 式 へのたゆ<br />
まぬ 講 習 会 ・ 研 究 会 の 変 革 を 進 めております。<br />
さて、 元 幹 事 長 の 白 谷 先 生 ( 九 州 大 学 )、 堀 先 生<br />
のご 尽 力 によりこの 秋 の 文 部 科 学 省 の 科 学 研 究 費<br />
の 申 請 分 野 の 中 の 応 用 物 理 の 分 科 の 細 目 の 一 つと<br />
して“プラズマエレクトロニクス”が 設 定 される<br />
ことになりました。このことは 単 に 科 学 研 究 費 の<br />
カテゴリーについての 話 にとどまらず、 他 の 細 目 、<br />
すなわち、 応 用 物 性 、 結 晶 工 学 、 薄 膜 ・ 表 面 界 面<br />
物 性 、 光 工 学 ・ 光 量 子 科 学 、 応 用 物 理 学 一 般 、と<br />
並 んで 応 用 物 理 の 中 で6つの 大 きな 分 野 のうちの<br />
一 つとしてプラズマエレクトロニクス 分 野 が 広 く<br />
国 民 のみなさまにも 認 知 されたことを 意 味 します。<br />
このような 時 期 に 幹 事 長 の 重 責 をになえることに、<br />
会 員 のみなさまに 心 より 感 謝 いたします。 今 後 、<br />
分 科 会 の 発 展 に 全 力 で 取 り 組 みますので、 会 員 の<br />
みなさま、 幹 事 会 のみなさまには、ご 協 力 、ご 指<br />
導 を 賜 りますようよろしくお 願 いいたします。<br />
2
寄 稿<br />
パワーデバイスの 最 新 動 向 (SiC パワーデバイスを 主 に)<br />
三 菱 電 機 株 式 会 社 パワーデバイス 製 作 所 、 大 森 達 夫<br />
1. はじめに<br />
プラズマエッチングの 研 究 ・ 開 発 を 始 めて 30<br />
年 近 くになり、 徐 々にプロセスからデバイス 開<br />
発 に 力 点 が 移 動 して、 最 近 は 次 世 代 のパワーデ<br />
バイスである SiC パワーデバイス<br />
開 発 と 製 品 化 が 中 心 になってきています。パ<br />
ワーデバイスは 元 々 電 力 半 導 体 と 言 われ 10 年<br />
程 前 までは 限 られた 研 究 者 、 技 術 者 が 中 心 の 課<br />
題 でしたが、 最 近 の 持 続 可 能 な 社 会 の 実 現 が 緊<br />
急 の 課 題 と 考 えられる 今 日 、 省 エネ、 省 資 源 に<br />
貢 献 する 環 境 関 連 技 術 への 関 心 の 高 まりと、<br />
SiC や GaN などの 新 材 料 を 用 いたパワーデバイ<br />
スの 実 現 が 可 能 になり、 注 目 を 集 めている 分 野<br />
です。 本 寄 稿 では、SiC パワーデバイスを 主 に<br />
して、パワーデバイスの 最 新 動 向 について 紹 介<br />
させていただきます。<br />
2. パワーデバイス 概 要<br />
電 力 制 御 のキーパーツ( 一 種 の 電 子 的 スイッ<br />
チング 素 子 )としてパワーデバイスが 広 く 用 い<br />
られ、 電 力 機 器 の 省 エネルギー 化 や 高 性 能 化 に<br />
貢 献 している。 図 1 にパワーデバイスの 応 用 さ<br />
れる 電 力 機 器 を 出 力 容 量 と 動 作 周 波 数 で 分 類 し<br />
て 応 用 分 野 を 示 す。100VA 以 下 の PC 電 源 等 の<br />
小 容 量 から、100MVA を 超 える 直 流 送 電 などの<br />
電 力 機 器 を 機 器 に 適 した 数 Hz から 数 MHz の 動<br />
作 周 波 数 で 駆 動 して、 直 流 から 直 流 、 直 流 から<br />
交 流 、 交 流 から 交 流 、 交 流 から 直 流 の 電 力 制 御<br />
を 行 って 機 器 の 最 適 動 作 を 実 現 している。これ<br />
らの 製 品 に 適 用 されるパワーデバイスは、 小 容<br />
量 のパワーMOSFET・バイポーラトランジスタ<br />
から 中 ・ 大 容 量 の IGBT(Insulated Gate Bipolar<br />
Transistor)、 大 容 量 のサイリスタ 等 があり、 図 2<br />
に 示 すように 2011 年 で 約 170 億 ドルの 市 場 で 年<br />
率 10% 程 度 の 拡 大 基 調 にある。 特 に 中 ・ 大 容 量<br />
の IGBT は、 産 業 、 自 動 車 、 新 エネルギー、 電<br />
車 や 家 電 製 品 に 広 く 使 われ、 今 後 も 大 きな 成 長<br />
が 期 待 され、 国 内 メーカの 製 品 力 も 強 い 分 野 で<br />
GCT/GTOサイリスタ<br />
電 力<br />
100M<br />
・ 電 力 機 器<br />
・ 電 車<br />
電<br />
10M<br />
力<br />
HV-IGBT/IPM/Di<br />
・ 風 力 発 電<br />
応 ・ 電 力<br />
1M<br />
・ 自 動 車<br />
用 機 器<br />
・モータ ・ 無 停 電 電 源<br />
直 流 送 電 装<br />
100K<br />
制 御<br />
置 サイリスタ<br />
IGBT/IP<br />
の 産<br />
・ロボット<br />
・ 溶 接 機 M<br />
出<br />
10K<br />
・ 溶 接 機<br />
業 ・ 製 鉄 DIPIPM<br />
力<br />
・ 汎 用 ・ 太 陽 光 発 電<br />
容<br />
1K<br />
インバータ ・エアコン<br />
量 民 ・ 電 子 レンジ<br />
・ 冷 蔵 庫<br />
100<br />
生 ・ 洗 濯 機<br />
・ 洗 濯 機<br />
(VA) トライアック<br />
・ 電 磁 調 理 器<br />
鉄 鋼<br />
10<br />
MOSFET<br />
100<br />
1K<br />
10K<br />
100K<br />
PC 用 電 源<br />
動 作 周 波 数 (Hz)<br />
電 車<br />
1M<br />
家 電<br />
自 動 車<br />
産 業<br />
モータ<br />
制 御<br />
新 エネルギー<br />
太 陽 光 発 電<br />
洗 濯 機<br />
エアコン<br />
汎 用 インバーター<br />
冷 蔵 庫<br />
将 来 予 測<br />
現 状<br />
無 停 電<br />
電 源<br />
風 力 発 電<br />
図 1. パワーデバイスの 応 用 分 野<br />
3
B $<br />
20<br />
15<br />
10<br />
5<br />
ある。<br />
パワーデバイス 世 界 市 場 規 模<br />
IGBTのマーケットシェア<br />
(CY2010 世 界 )<br />
F 社 ( 米 ) その 他<br />
S 社<br />
H 社<br />
S( 独 )<br />
0<br />
CY 2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013 2014<br />
MOSFET IGBT バイポーラTr レクチファイア<br />
出 典 :IMS research 社<br />
サイリスタ “World Market for Power Semiconductor<br />
出 典 :WSTS 2011 年 秋 季 予 測 をベースにまとめ<br />
Discretes & Modules- 2011 Edition”<br />
IGBT は 電 圧 制 御 型 の MOSFET の 欠 点 である<br />
高 耐 圧 に 伴 って 高 くなるオン 抵 抗 と、バイポー<br />
ラトランジスタの 低 いスイッチング 速 度 という<br />
欠 点 を、それぞれ 補 う 高 性 能 なパワーデバイス<br />
として 入 力 段 に MOSFET を 出 力 段 にバイポー<br />
ラトランジスタを 1 つの 半 導 体 素 子 上 に 構 成 す<br />
るデバイスとして 研 究 が 始 まり、1980 年 代 半 ば<br />
に 実 用 的 なデバイスとして 実 現 した。その 後 、<br />
図 3 に 示 すように IGBT の 電 力 損 失 ( 通 電 損 失<br />
とスイッチング 損 失 の 総 和 )の 低 減 とパワー 密<br />
度 ( 通 電 電 流 密 度 )の 向 上 の 両 面 で 開 発 が 進 め<br />
られ、DRAM などの 他 の Si デバイスのプロセ<br />
ス・デバイス 技 術 を 適 用 して、プレーナ 構 造 で<br />
の 微 細 化 (μm サイズですが) 以 降 は、トレン<br />
チ 構 造 ,キャリア 蓄 積 層 導 入 、 薄 ウェハ 技 術 等<br />
により, 通 電 損 失 ・スイッチング 損 失 の 低 減 ,<br />
高 電 流 密 度 化 を 実 現 してデバイスの 世 代 をすす<br />
めてきた。しかしながら,Si-IGBT での 低 損 失<br />
化 が 限 界 に 近 付 きつつある 今 日 ,SiC(Silicon<br />
Carbide) 等 の 新 材 料 によるパワーデバイスへの<br />
期 待 が 大 きくなっている。<br />
3. SiC パワーデバイス<br />
SiC は Si に 比 較 して 約 3 倍 のバンドギャップ,<br />
約 10 倍 の 絶 縁 破 壊 電 界 強 度 等 の 物 性 値 を 持 つ<br />
ことから、 図 4 に 示 すように、Si と 同 じデバイ<br />
ス 構 造 であってもより 高 耐 圧 で 低 抵 抗 な 特 性 実<br />
現 が 可 能 になる。 特 に Si では 耐 圧 を 上 げるとオ<br />
ン 抵 抗 が 増 加 して 低 電 圧 領 域 でしか 利 用 できて<br />
F 社<br />
図 2. パワーデバイスの 世 界 市 場<br />
M 社<br />
I 社 ( 独 )<br />
’80<br />
’85 ’90 ’95 ’00 ’05 ’08 ’10<br />
High hfe<br />
Bipolar Tr<br />
1 st Gen 2 nd Gen 3 rd Gen 4 th Gen<br />
E (Emitter)<br />
5 th Gen 6 th Gen 7 th Gen<br />
第 4 世 代 Trench IGBT 第 5 世 代 CSTBT<br />
第 6 世 代 CSTBT<br />
1μm/PT 型<br />
0.8μm/LPT 型<br />
0.4μm/LPT 型<br />
n+ buffer<br />
layer(エピ)<br />
n+ p+<br />
p+<br />
n+<br />
n+ buffer layer(エピ)<br />
E (Emitter) G (Gate)<br />
p<br />
E<br />
G<br />
p<br />
n- layer (エピ)<br />
p+ substrate<br />
第 3 世 代 Planar IGBT<br />
3μm/PT 型<br />
C<br />
p+ substrate<br />
n+ p+<br />
p<br />
n- layer(エピ)<br />
C (collector)<br />
p<br />
n<br />
n+ buffer layer<br />
キャリア n- layer<br />
蓄 積 層 (エピレス)<br />
p+<br />
C<br />
いないがスイッチング 損 失 の 少 ないユニポーラ<br />
デバイスを 600V- 3300kV 以 上 の 耐 圧 を 持 って<br />
低 損 失 で 高 温 動 作 が 実 現 できる。ユニポーラ 素<br />
子 として、SiC-MOSFET と SiC-SBD(Schottky<br />
Barrier Diode)が 挙 げられる。 特 に SBD に 関 して<br />
は 複 数 のメーカから 市 販 されており[1]、 電 力 機<br />
器 に 適 用 されスイッチング 損 失 の 低 減 (バイポ<br />
ーラ 起 因 の 逆 回 復 電 流 の 抑 制 )が 実 証 され 製 品<br />
化 されている 状 況 にある。 更 に,SBD ではエピ<br />
膜 / 基 板 品 質 の 向 上 やプロセス 改 善 等 により, 電<br />
流 容 量 の 増 大 化 等 進 められている。<br />
SiC-MOSFET においても,MOS 界 面 とゲート 絶<br />
縁 膜 の 高 品 質 化 等 の 技 術 革 新 により,1.2kV の<br />
耐 圧 特 性 を 維 持 しつつ 5mΩcm 2 以 下 の 低 いオン<br />
抵 抗 率 が 得 られている[2]。<br />
Si-MOSFET<br />
ソース<br />
n p<br />
+<br />
ゲート<br />
n -<br />
Si 基 板<br />
ドレイン 電 極<br />
ソース<br />
n +<br />
p<br />
E<br />
ス<br />
イ<br />
ッ<br />
チ<br />
ン<br />
損<br />
失 グ<br />
G<br />
薄 層 化<br />
高 電 子 濃 度 化<br />
材 料<br />
Si<br />
SiC<br />
通 電 損 失<br />
図 3. IGBT 開 発 ロードマップ<br />
E<br />
G<br />
p<br />
n<br />
n- layer<br />
(エピレス)<br />
p+<br />
SiC-MOSFET<br />
ソース<br />
n p<br />
+<br />
禁 制 帯 幅<br />
(eV)<br />
1.1<br />
3.25<br />
ゲート<br />
n -<br />
SiC 基 板<br />
ドレイン 電 極<br />
絶 縁 破 壊 強 度<br />
(MV/cm)<br />
0.3<br />
3<br />
図 4. Si-MOSFETとSiC-MOSFETの 構 造 比 較<br />
ソース<br />
n +<br />
p<br />
4
n- epilayer<br />
p+ p+<br />
n+ substrate<br />
(1) Drift epilayer growth (2) p-well implantation (3) p-contact implantation<br />
High temperature growth<br />
Hot implantation for high dose<br />
(~1500℃)<br />
n+ n+ Gate oxide<br />
n+ n+<br />
(4) n-source implantation<br />
Gate electrode<br />
(5) Activation annealing<br />
High temperature annealing<br />
(>1700℃)<br />
Source electrode<br />
Drain electrode<br />
(7) Gate electrode formation (8) Metallization<br />
デバイス 構 造 構 築 には、 各 種 接 合 を 制 御 して<br />
作 成 する 必 要 があるが、SiC は Si のように 不 純<br />
物 の 拡 散 速 度 が 小 さいので 熱 拡 散 で 接 合 を 形 成<br />
することが 困 難 であり、イオン 注 入 、エピ 成 長<br />
技 術 等 のプロセス 技 術 を 駆 使 してデバイス 構 造<br />
を 作 り 上 げている。SiC-MOSFET の 代 表 的 なプ<br />
ロセスフローを 図 5 に 示 す。SiC 基 板 上 (n+)に 耐<br />
圧 を 維 持 するための 1500℃ 程 度 の 高 温 で SiC エ<br />
ピ 層 (n- 層 、10μm 程 度 @1.2kV 耐 圧 )を 成 長<br />
させる(ドリフトエピ 成 長 )。イオン 注 入 により<br />
pウエル 形 成 後 、オーミックコンタクトのため<br />
p++になるように 高 温 基 板 状 態 で 高 濃 度 のイオ<br />
ン 注 入 を 行 う。 次 に MOSFET の n チャネル 形 成<br />
のためイオン 注 入 を 行 い、 活 性 化 のため 1700℃<br />
以 上 の 高 温 で 活 性 化 アニールを 行 うが、このと<br />
きのイオン 注 入 、 活 性 化 アニールの 工 程 で MOS<br />
界 面 の 欠 陥 を 低 減 して 平 坦 ・ 清 浄 な 界 面 を 形 成<br />
する SiC 特 有 のプロセスを 適 用 する。その 後 ゲ<br />
ート 酸 化 膜 形 成 、 電 極 形 成 を 行 って<br />
SiC-MOSFET を 形 成 する。デバイス 構 造 やプロ<br />
セスの 工 夫 、 改 善 により 現 在 オン 抵 抗 率<br />
1mΩcm 2 以 下 の SiC-MOSFET が 報 告 されている。<br />
SiC-SBD と SiC-MOSFET で 構 成 される SiC イ<br />
ンバータでは、Si-IGBT,Si-PiN-Diode で 構 成 さ<br />
れる Si インバータに 比 較 して、 低 損 失 , 高 パワ<br />
ー 密 度 の 実 現 が 可 能 となる。IGBT/PiN-Diode で<br />
は、バイポーラ 起 因 の 蓄 積 電 荷 によるスイッチ<br />
p++<br />
p++<br />
(6) Gate oxide formation<br />
図 5. SiC-MOSFETのプロセスフロー<br />
ング 損 失 の 低 減 に 限 界 があるためである。 大 容<br />
量 の SiC-SBD と SiC-MOSFET を 適 用 した SiC<br />
インバータを 試 作 し、Si-IGBT を 用 いた Si イン<br />
バータに 比 べて,11kW 出 力 時 の 電 力 損 失 の<br />
70% 低 減 を 実 証 し, 低 損 失 効 果 によりインバー<br />
タの 体 積 を 1/4 に 小 型 化 でき,パワー 密 度<br />
10W/cm 3 を 実 現 している[3]。SiC デバイスの 特<br />
性 にあったインバータを 開 発 することによる 電<br />
力 損 失 の 低 減 の 実 証 は 進 み、90%の 削 減 まで 実<br />
証 されている( 図 6)。<br />
◆ 大 幅 な 低 損 失 化 、 小 型 化 ( 高 パワー 密 度 化 )が 可 能<br />
◆ 環 境 ・エネルギー 機 器 の 圧 倒 的 省 エネ 化 が 可 能<br />
電<br />
力<br />
損<br />
失<br />
(<br />
相<br />
対<br />
値<br />
)<br />
450<br />
Siインバータ<br />
300<br />
Si<br />
現 状<br />
100<br />
次 世 代<br />
Siの 限 界 値<br />
(80)<br />
材 料<br />
Si<br />
SiC<br />
07 年 度<br />
実 証 値<br />
50<br />
禁 制 帯 幅<br />
絶 縁 破 壊 強 度<br />
(eV)<br />
(MV/cm)<br />
1.1<br />
0.3<br />
3.25<br />
3<br />
08 年 度<br />
実 証 値 09 年 度<br />
30 実 証 値<br />
10<br />
SiC<br />
図 6. SiCデバイスの 開 発 状 況<br />
2009 年 11 月 11 日 三 菱 電 機 ( 株 ) 広 報 発 表 資 料 より 一 部 引 用<br />
4. おわりに<br />
最 近 注 目 されているパワーデバイスの 最<br />
新 状 況 を 概 説 した。 材 料 の 変 革 (Si→SiC)によ<br />
りデバイス 特 性 が 大 幅 に 向 上 し、 今 後 の 拡 大 が<br />
期 待 されている。<br />
[1] http://www.infineon.com<br />
[2] N. Miura et al., “Successful development of<br />
1.2 kV 4H-SiC MOSFETs with the very low<br />
on-resistance of 5mΩ·cm 2 ”, IEEE ISPSD 2006.<br />
pp261-264.<br />
[3] S.Nakata et al, “Substantial Reduction<br />
of Power Loss in a 14kVA SiC-Inverter”,<br />
Proceedings of Solid State Devices and<br />
Materials, (SSDM2009, Sendai, Japan)<br />
pp.820-821.<br />
5
第 10 回 プラズマエレクトロニクス 賞<br />
第 10 回 プラズマエレクトロニクス 賞 について<br />
名 古 屋 大 学<br />
堀 勝<br />
多 数 の 応 募 の 中 から、 本 年 度 の 受 賞 として 次 の<br />
優 れた1 件 を 選 考 しましたので、 報 告 いたします。<br />
受 賞 論 文<br />
論 文 名 Effects of N2–O2 Gas Mixture Ratio on<br />
Microorganism Inactivation in Low-<br />
Pressure Surface Wave Plasma<br />
著 者 名 Ying Zhao, Akihisa Ogino, and<br />
Masaaki Nagatsu<br />
雑 誌 名 Japanese Journal of Applied Physics<br />
50 (2011) 08JF05.<br />
受 賞 者 ( 現 所 属 )<br />
趙 穎 ( 河 南 農 業 大 学 、 中 国 )<br />
荻 野 明 久 ( 静 岡 大 学 )<br />
永 津 雅 章 ( 静 岡 大 学 )<br />
受 賞 理 由<br />
従 来 、プラズマ 滅 菌 の 分 野 においては、プラズ<br />
マを 照 射 して 効 果 を 見 るなどの 現 象 論 的 なアプロ<br />
ーチしかされていなかった。 申 請 者 である 永 津 教<br />
授 を 中 心 とする 本 論 文 著 者 グループは、 励 起 酸 素<br />
原 子 による 芽 胞 菌 のエッチング 現 象 が 確 かに 起 こ<br />
っていることを、 副 産 物 である H2O と CO2 の 四<br />
重 極 質 量 分 析 器 による 直 接 観 測 で 明 らかにした。<br />
また、 酸 素 と 窒 素 のガス 混 合 比 を 変 化 させること<br />
で、 酸 素 ラジカルによるエッチングと、 窒 素 分 子<br />
からの 紫 外 線 照 射 による DNA 損 傷 の 効 果 を 区 別<br />
して 詳 細 に 調 べ、これらの 相 乗 効 果 が 重 要 である<br />
ことも 明 らかにした。プラズマ 滅 菌 ・ 殺 菌 のメカ<br />
ニズムを 詳 細 に 検 証 した 点 が 高 く 評 価 でき、 実 際<br />
の 医 療 関 係 や 食 品 関 係 の 産 業 応 用 の 観 点 からも 極<br />
めて 有 用 な 論 文 である。また、その 他 の 関 連 論 文<br />
もプラズマ 医 療 ・バイオ 分 野 への 貢 献 が 大 きい。<br />
さらに、 本 論 文 の 著 者 らは、 新 しい 分 野 である<br />
プラズマ 医 療 の 研 究 を 日 本 国 内 において 牽 引 する<br />
役 割 を 果 たしており、プラズマエレクトロニクス<br />
分 科 会 がこの 分 野 の 発 展 のイニシアチブを 取 り、<br />
研 究 者 人 口 の 増 加 を 推 進 できる 原 動 力 にもなり、<br />
先 駆 者 としてのリーダーシップを 発 揮 されている<br />
と 考 えられ、その 意 図 を 明 示 する 観 点 からも、 本<br />
論 文 はプラズマエレクトロニクス 賞 に 相 応 しいと<br />
考 えられる。<br />
第 10 回 プラズマエレクトロニクス 賞 選 考 委 員 会<br />
関 根 誠 ( 委 員 長 、 名 古 屋 大 学 )<br />
金 子 俊 郎 ( 東 北 大 学 )<br />
白 谷 正 治 ( 九 州 大 学 )<br />
白 藤 立 ( 大 阪 市 立 大 学 )<br />
藤 原 伸 夫 ( 三 菱 電 機 )<br />
藤 山 寛 ( 長 崎 大 学 )<br />
毎 年 、12 月 25 日 にプラズマエレクトロニク<br />
ス 賞 への 応 募 の 締 め 切 りがございます。 本 分 野 で<br />
は、 大 学 および 企 業 から 多 数 の 優 れたご 発 表 がな<br />
されていますので、 皆 様 方 の 奮 っての 応 募 をお 願<br />
いいたします。 賞 の 応 募 規 約 については、 本 会 報<br />
の 掲 示 板 、および 分 科 会 のホームページに 記 載 し<br />
ていますので、 熟 読 して 頂 きますようお 願 い 致 し<br />
ます。<br />
6
プラズマエレクトロニクス 賞 を 受 賞 して<br />
河 南 農 業 大 学 (Henan Agricultural University, China) 趙 穎 (Ying Zhao)<br />
( 静 岡 大 学 荻 野 明 久 , 永 津 雅 章 )<br />
1. Introduction<br />
First, I am very surprised that we could receive the<br />
Plasma Electronics Award in the 2011 fiscal year, we<br />
are all proud of that. Taking this opportunity, I would<br />
like to express my sincere gratitude to my supervisor<br />
Professor Masaaki Nagatsu for continuous support<br />
during my study. His guidance, encouragement and<br />
suggestion helped me all the way during my research<br />
and up to writing of this paper. Second, I am very<br />
grateful to all the members of our laboratory for our<br />
collaboration, but most of all, to associate professor<br />
Akihisa Ogino for his help in experiments, and his<br />
technical support throughout my experiments. Third,<br />
during my study I have to collaborate with many<br />
colleagues for whom I have great regard, and I wish to<br />
extend my warmest thanks to all those who have<br />
helped me with my work. I would like to make a<br />
special reference to Dr. Changlun Chen, Dr. Liang Bo<br />
Liang, Dr. Qiang Ma, Dr. I. Motrescu(Ami) and Dr. J.<br />
Watanabe. Our discussions helped me in many ways<br />
such as to solve problems in experiments, analyze<br />
complex data, write and publish papers, and make<br />
wonderful presentations. I am also grateful to<br />
Mr.Tomoda for the SEM analysis.<br />
I have graduated from Shizuoka University in<br />
March 2011 and I am now working in Henan<br />
Agricultural University of China as an associate<br />
professor now. The experience of my PhD study in<br />
Japan will be never forgotten. I am very proud of that I<br />
can participate in this professional group and make my<br />
dream come true.<br />
2. Research<br />
Our research efforts were motivated by both a desire<br />
to understand the mechanisms whereby plasma affects<br />
the cells of microorganisms and by exciting prospects<br />
of using plasma in the biomedical field[1,2]. In my<br />
PhD work, we used the surface-wave plasma (Fig. 2)<br />
to measure the by-products which came from through<br />
plasma-microorganism interaction during plasma<br />
irradiation process using the multiple ion detection<br />
(MID) system of QMS and vacuum shutter system.<br />
Fig. 2 Schematic view of experimental setup of the<br />
surface-wave plasma device[3].<br />
Fig. 1 Group photo of Nagatsu lab members<br />
We investigated the germicidal efficiency of<br />
biological indicator to clarify the mechanisms of<br />
plasma etching effect. Analyses of SWPs with<br />
different gas species for sterilization were carried out<br />
to make clear the relation between N 2 /O 2 plasma<br />
7
characterization and bacteria destruction as the aspect<br />
of inactivation mechanism via the synergetic effect<br />
due to radicals and VUV/UV photons in N 2 /O 2<br />
plasma[4]. The main results of the works mentioned<br />
above are summarized as follow:<br />
・In air-simulated plasma, the lethal damage is caused<br />
by both effects, etching effect due to radical species<br />
and VUV/UV photons, with highest efficacy.<br />
・The MID (multiple ion detection) measurement of<br />
QMS and shutter control system proved useful for<br />
monitoring the bacteria degradation process, the<br />
signals of H 2 O and CO 2 as main by-products<br />
expressed a well defined corresponding to erosion of<br />
bacteria by oxygen radicals, as shown in Fig.3.<br />
Fig. 3 Time evolution of QMS signals for H 2 O and<br />
CO 2 components during plasma irradiation[3].<br />
・The higher input power was used, the more rapid<br />
inactivation of the spores was observed.<br />
・In N 2 /O 2 plasma, the best etching efficiency was in<br />
the case of 90% O 2 /10% N 2 plasma, and etching<br />
efficiency in rich oxygen mixture plasma were better<br />
than pure O 2 plasma.<br />
・As for the efficient inactivation of spores, we found<br />
that the optimum gas mixture ratio was between 30<br />
and 80%, as shown in Fig. 4. This result apparently<br />
shows that the spores are inactivated by the synergetic<br />
effect due to etching and VUV/UV photons.<br />
3. Future Scope<br />
Although much work has been done, there are still<br />
many tasks needed to do. The understanding of the<br />
interaction of plasma with living cells in general, and<br />
with bacterial cell in particular, requires a careful<br />
investigation which probes the effects on the cellular<br />
and sub-cellular levels. So, an in-depth or systematic<br />
study on the specific effects of the plasma on<br />
sub-cellular components such as nucleoid, cytoplasm,<br />
ribosome, etc. has yet to emerge. A lot of careful work<br />
requiring collaborative efforts between plasma<br />
physicists, microbiologists, and biochemists remains<br />
to be done. Our goal in the study of low-temperature<br />
plasma sterilization is to develop a commercial plasma<br />
sterilizer for medical application.<br />
Fig.4 Survival curves for G. stearothermophilus<br />
samples exposed to N 2 /O 2 plasma 20s and 60s,<br />
respectively, as a function of oxygen mixture ratio [3].<br />
References<br />
[1] M. Nagatsu, F. Terashita, and Y. Koide: Jpn. J.<br />
Appl. Phys. 42 (2003) 856.<br />
[2] M. Nagatsu, F. Terashita, H. Nonaka, L. Xu, T.<br />
Nagata, and Y. Koide: Appl. Phys. Lett. 86 (2005)<br />
211502.<br />
[3] Y. Zhao, A. Ogino, M. Nagatsu, Jpn. J. Appl. Phys.<br />
50 (2011) 08JF05.<br />
[4] Y. Zhao, A. Ogino, M. Nagatsu, Appl. Phys. Lett.,<br />
98 (2011) 191501.<br />
8
研 究 室 紹 介 (その47)<br />
東 京 工 業 大 学 大 学 院 理 工 学 研 究 科<br />
小 長 井 ・ 宮 島 研 究 室 、 教 授 小 長 井 誠 *<br />
1. 太 陽 電 池 研 究 の 事 はじめ<br />
わたしの 恩 師 は、 高 橋 清 先 生 ( 東 工 大 名 誉 教 授 )<br />
です。 昭 和 47 年 、 私 が 学 部 を 卒 業 して、 修 士 課 程<br />
に 進 学 したある 日 のこと、 高 橋 先 生 が 私 を 呼 び 止<br />
められ、“ 小 長 井 君 、 太 陽 電 池 の 研 究 をやってみな<br />
いか”と 言 われました。わたしは、すでに<br />
AlGaAs/GaAs ヘテロ 接 合 トランジスタのテーマで<br />
研 究 を 行 っておりましたが、3 端 子 素 子 のトラン<br />
ジスタより、2 端 子 素 子 の 太 陽 電 池 の 方 が 簡 単 だ<br />
から、すぐに 成 果 は 出 るだろうと 思 い、 両 方 のデ<br />
バイスを 研 究 対 象 としました。ところが、 実 際 に<br />
は、トランジスタの 研 究 は、その 後 、10 年 程 度 で<br />
終 了 し、 太 陽 電 池 がライフワークとなりました。<br />
太 陽 電 池 は、 基 本 的 には 半 導 体 pn 接 合 であり 動 作<br />
を 理 解 することは 難 しくないのですが、 太 陽 電 池<br />
開 発 は、 大 面 積 で 高 性 能 、しかも 低 コスト 化 が 必<br />
須 という 非 常 に 挑 戦 的 な 課 題 だったのです。<br />
これまでに、GaAs をはじめとして、アモルファ<br />
ス Si、 微 結 晶 Si、Cu(InGa)Se 2 、CdTe、 結 晶 Si 系 、<br />
量 子 ドット 太 陽 電 池 と、ほとんどすべての 太 陽 電<br />
池 材 料 系 において、 変 換 効 率 を 高 めるための 研 究<br />
開 発 を 展 開 してきました。<br />
2. 太 陽 電 池 産 業 の 現 状 と 研 究 開 発 課 題<br />
現 在 、 化 石 燃 料 ならびに 原 子 力 に 替 わる 新 エネ<br />
ルギー 源 として 太 陽 光 発 電 が 注 目 されており、 期<br />
待 度 は 非 常 に 高 いのですが、いま、わが 国 の 太 陽<br />
電 池 産 業 はタイヘン 苦 しい 状 況 に 置 かれています。<br />
一 番 の 理 由 は、 中 国 企 業 による 安 価 なシリコン 太<br />
陽 電 池 の 大 量 生 産 とその 世 界 戦 略 です。また、 欧<br />
州 を 中 心 とした 経 済 危 機 から、 欧 州 のマーケット<br />
の 成 長 率 をこれまでのように 高 水 準 に 維 持 するの<br />
が 難 しい 状 況 となっていることも 原 因 の 一 つです。<br />
そこで、 小 長 井 ・ 宮 島 研 究 室 では、 太 陽 電 池 製<br />
造 企 業 と 直 結 する near-term の 研 究 課 題 と、ター<br />
ンキー 装 置 では、すぐに 真 似 できないような<br />
long-term の 革 新 技 術 開 発 を 行 っています。<br />
さらに、この 4 月 末 より、 福 島 復 興 プロジェク<br />
トの 一 つとして 文 部 省 「 革 新 的 エネルギー 研 究 開<br />
発 拠 点 形 成 事 業 -ナノワイヤー 太 陽 電 池 」の 研<br />
究 総 括 を 務 めることになりました。<br />
これらの 次 世 代 、あるいは 革 新 的 太 陽 電 池 製 造<br />
技 術 の 根 幹 となるものがプラズマプロセスです。<br />
「プラズマ」 分 野 には、 応 用 物 理 学 会 の 中 でも 特<br />
に 先 進 的 でしかも 活 発 な(ラジカルな) 研 究 者 が<br />
多 く 集 まっておられます。 最 近 、プラズマ CVD に<br />
よるアモルファス Si あるいは、 微 結 晶 Si に 係 わ<br />
っている 会 員 数 は、 技 術 の 成 熟 とともに 減 少 傾 向<br />
にありますが、 太 陽 電 池 を 世 界 に 負 けない 真 に 強<br />
い 分 野 に 育 てていくには、プラズマ 分 野 における<br />
革 新 技 術 開 発 こそが 必 要 不 可 欠 なのです。 日 本 の<br />
太 陽 電 池 技 術 のいっそうの 向 上 のため、 多 くの 会<br />
員 が 革 新 的 太 陽 電 池 研 究 開 発 に 加 わっていただけ<br />
れば 幸 いです。<br />
3. 太 陽 電 池 技 術 開 発 のポイント<br />
太 陽 光 発 電 技 術 開 発 の 目 標 は、 発 電 コストを 7<br />
円 /kWh レベルまで 下 げることです。 発 電 コストを<br />
下 げるには、 製 造 コストが 安 いことは 言 うまでも<br />
ありませんが、 太 陽 電 池 のエネルギー 変 換 効 率 が<br />
非 常 に 高 いことが 必 要 不 可 欠 です。 詳 しくは、 文<br />
献 の(1)を 参 照 してください。また、 遠 い 将 来 のこ<br />
とを 考 えると、2050 年 には、 世 界 中 で 10~20TW<br />
(テラ W。10~20 兆 W) 規 模 の 太 陽 光 発 電 システ<br />
ムの 導 入 が 必 要 となるでしょう。これだけの 量 の<br />
太 陽 電 池 を 導 入 するには、 従 来 のシリコン 太 陽 電<br />
池 に 比 べ、 使 用 する 材 料 が 1/1000 と 少 なく、しか<br />
も 変 換 効 率 の 高 い 薄 膜 太 陽 電 池 の 開 発 が 必 要 不 可<br />
欠 です。 高 効 率 化 研 究 は、 材 料 開 発 ・ 評 価 、デバ<br />
イス 物 理 、プロセス 研 究 など、 多 くの 基 盤 的 な 学<br />
* 現 在 、 応 用 物 理 学 会 会 長<br />
9
図 1 東 工 大 小 長 井 研 究 室 における 太 陽 電 池 研 究 開 発 の 流 れ<br />
問 分 野 を 含 む 領 域 でもあります。 以 下 で、 簡 単 に<br />
これまでのシリコン 系 薄 膜 太 陽 電 池 に 関 する 当 研<br />
究 室 の 取 り 組 みを 紹 介 いたします。<br />
4.Si 薄 膜 太 陽 電 池<br />
一 般 に Si 太 陽 電 池 と 言 えば、 厚 さが 200m 程<br />
度 の 結 晶 シリコン 太 陽 電 池 を 指 しています。 一 方 、<br />
薄 膜 太 陽 電 池 は、 従 来 技 術 によるシリコン 太 陽 電<br />
池 とは 異 なり、 必 要 とする 発 電 層 が 非 常 に 薄 くな<br />
っています。 例 えばシリコン 薄 膜 では、その 必 要<br />
とする 厚 さは、 従 来 型 の 1/1000 の 0.3m 程 度 と<br />
なっています。またプラズマ CVD 法 により 200℃<br />
付 近 の 非 常 に 低 温 で、しかも 数 平 方 メートルサイ<br />
ズの 大 面 積 ガラス 基 板 の 上 に 製 造 できるため、 本<br />
質 的 に 低 コスト 化 が 可 能 で、しかも 量 産 性 に 優 れ<br />
ています。しかし、 薄 膜 系 の 変 換 効 率 は、 従 来 型<br />
に 比 べると 半 分 以 下 と 低 い 状 況 にありました。そ<br />
こで、 長 年 に 亘 り、Si 薄 膜 太 陽 電 池 の 変 換 効 率 を<br />
アップさせる 研 究 に 取 り 組 んできました。 特 に、<br />
界 面 制 御 に 関 する 新 技 術 開 発 、 凹 凸 を 有 する 光 閉<br />
じ 込 め 効 果 を 有 する 新 しい 透 明 導 電 膜 の 開 発 など<br />
をとおして、 薄 膜 太 陽 電 池 の 高 効 率 化 に 大 きく 貢<br />
献 しました。<br />
実 際 には、 図 1 に 示 すように 1980 年 からアモル<br />
ファス Si 太 陽 電 池 開 発 に 着 手 しました。1983 年 、<br />
アモルファス 太 陽 電 池 の 変 換 効 率 が p/i 界 面 で 制<br />
限 されていることを 見 出 し、その 解 決 法 として、<br />
界 面 に 傾 斜 組 成 を 有 するバッファ 層 を 挿 入 するこ<br />
とを 提 案 しました。アモルファス 太 陽 電 池 におけ<br />
るバッファ 層 技 術 は、すでに 広 く 実 用 化 されてい<br />
ます。 現 在 では、アモルファス Si と 微 結 晶 Si の<br />
タンデム 太 陽 電 池 で 13%の 変 換 効 率 を 得 るに 至<br />
っています。 高 速 堆 積 が 必 要 な 微 結 晶 Si は、 周 波<br />
数 60MHz の VHF-PCVD 法 で 製 膜 しています。<br />
10
一 方 、ナローバンドギャップとしてアモルファ<br />
ス SiGe へ 寄 せる 期 待 が 高 まっていましたが、 欠 陥<br />
密 度 が 多 く、 高 品 質 化 が 大 きな 課 題 となっていま<br />
した。このような 状 況 の 中 で、 水 素 希 釈 をすると<br />
高 品 質 化 が 可 能 なことを 見 出 し、a-Si/a-SiGe タ<br />
ンデムセルでその 有 効 性 を 実 証 しました(1987<br />
年 )。<br />
現 在 、 当 研 究 室 には、シリコン 薄 膜 を 製 膜 する<br />
ためのマルチチャンバープラズマ CVD 装 置 が4 台<br />
あります。 図 2 は、アモルファス Si/ 微 結 晶 Si タ<br />
ンデム 太 陽 電 池 を 製 膜 しているプラズマ CVD 装 置<br />
です。 現 在 の 悩 みは、こうしたプラズマ CVD 装 置<br />
が 非 常 に 高 価 なことです。これは 製 造 現 場 でも 課<br />
題 となっています。 真 空 装 置 メーカーには、 低 価<br />
格 化 の 努 力 をお 願 いしたいところです。<br />
集 光 型 薄 膜 フルスペクトル 太 陽 電 池 の 研 究 開 発 」<br />
を 受 託 しており、 産 学 連 携 のコンソーシアムで 変<br />
換 効 率 40%を 目 指 した 薄 膜 フルスペクトル 太 陽<br />
電 池 開 発 を 展 開 中 です。 現 在 、7 年 計 画 の 5 年 目<br />
にあたります。 薄 膜 系 5 接 合 タンデム 構 造 のイメ<br />
ージを 図 3 に 示 します。<br />
ガラス 基 板<br />
透 明 導 電 膜 (フルスペクトル 対 応 )<br />
第 1セル 禁 制 帯 幅 2.2eV<br />
第 2セル 禁 制 帯 幅 1.7eV<br />
第 3セル 禁 制 帯 幅 1.4eV<br />
オプティカルカップリング<br />
第 4セル 禁 制 帯 幅 1.1eV<br />
第 5セル 禁 制 帯 幅 0.6eV<br />
図 3 薄 膜 で 40% 以 上 の 変 換 効 率 を 狙 う 5 接 合 構<br />
造 の 例 。 第 1 セル:a-Si 1-x O x , a-Si 1-x C x , a-Si 1-x<br />
N x , Ag(InGa)Se 2 など。 第 2 セル:a-Si, SiGe<br />
など。 第 3 セル:a-SiGe, Si 量 子 ドット,<br />
Cu(InGa)Se 2 など。 第 4 セル: 微 結 晶 Si,<br />
Cu(InGa)Se 2 など。 第 5 セル: 微 結 晶 SiGe, Ge,<br />
CuInTe 2 など。<br />
図 2 アモルファス Si/ 微 結 晶 Si タンデム 太 陽 電<br />
池 用 マルチチャンバープラズマ CVD 装 置 。<br />
5. 超 高 効 率 を 目 指 す 薄 膜 フルスペクトル<br />
太 陽 電 池<br />
薄 膜 太 陽 電 池 の 変 換 効 率 は、どこまで 向 上 させ<br />
ることが 可 能 でしょうか。 原 理 的 には、 禁 制 帯 幅<br />
の 大 きい 方 (2.2eV)から、 小 さい 方 (0.6eV)まで<br />
高 品 質 の 光 吸 収 層 が 作 製 可 能 であれば、5 接 合 太<br />
陽 電 池 で 40% 以 上 の 変 換 効 率 の 達 成 が 可 能 とな<br />
ります。 現 在 、 当 研 究 室 では、NEDO「 新 エネルギ<br />
ー 技 術 研 究 開 発 革 新 的 太 陽 光 発 電 技 術 研 究 開 発<br />
( 革 新 型 太 陽 電 池 国 際 研 究 拠 点 整 備 事 業 ) 低 倍 率<br />
5 接 合 をすべて 薄 膜 シリコン 系 で 構 成 しようと<br />
すると、 第 1 層 目 は 禁 制 帯 幅 が 2 eV 以 上 の<br />
a-Si 1-x O x 、a-Si 1-x C x あるいは a-Si 1-x N x などが 開 発<br />
の 対 象 となります。 第 2 層 目 の 光 吸 収 層 材 料 とし<br />
ては a-Si が 有 力 です。 禁 制 帯 幅 1.4 eV 付 近 の 第<br />
3 層 目 の 材 料 として Si 系 量 子 ドットの 開 発 を 精 力<br />
的 に 進 めています。 第 4 層 目 には、 微 結 晶 Si が 有<br />
望 です。 最 下 層 となる 第 5 層 目 としては Ge 薄 膜 や<br />
カルコパイライト 系 薄 膜 を 考 えています。これま<br />
でに、アモルファス Si をトップセル、Cu(InGa)Se 2<br />
をボトムセルに 用 いた 波 長 スプリッティングセル<br />
で 18%を 超 す 変 換 効 率 が 得 られています。<br />
11
6. 福 島 復 興 プロジェクトと 革 新 的 太 陽 電 池 開 発<br />
いま 早 急 なる 立 ち 上 げを 行 っているのは、 福 島<br />
復 興 プロジェクト、「 革 新 的 エネルギー 研 究 開 発 拠<br />
点 形 成 事 業 -ナノワイヤー 太 陽 電 池 」です。ま<br />
だ 詳 しくは 公 表 できないのですが、 概 要 は 以 下 の<br />
通 りです。<br />
現 在 、25% 程 度 の Si 太 陽 電 池 の 変 換 効 率 を 30%<br />
以 上 まで 向 上 させるための 革 新 的 太 陽 電 池 として、<br />
シリコンナノワイヤー 太 陽 電 池 の 研 究 を 行 う、と<br />
いう 内 容 です。 現 在 のシリコン 太 陽 電 池 の 性 能 は、<br />
シリコンの 禁 制 帯 幅 1.1eV で 制 限 されており、<br />
30% 以 上 の 変 換 効 率 領 域 を 目 指 すには、ナノテク<br />
ノロジーを 用 いた 禁 制 帯 幅 制 御 が 必 要 不 可 欠 です。<br />
本 事 業 では、ナノメートルサイズの 径 を 有 するシ<br />
リコンワイヤーを 形 成 するための 革 新 技 術 を 確 立<br />
し、バンドギャップ 制 御 されたナノワイヤー 太 陽<br />
電 池 と、 高 効 率 ヘテロ 接 合 型 シリコン 太 陽 電 池 と<br />
をタンデム 化 することにより、シリコン 系 太 陽 電<br />
池 では 未 踏 の 30% 以 上 のエネルギー 変 換 効 率 達<br />
成 を 目 指 すものです。 具 体 的 な 構 造 を 図 4 に 示 し<br />
ます。このプロジェクトは 5 年 間 の 予 定 ですので、<br />
興 味 のある 方 は、 小 長 井 宛 、 直 接 、ご 連 絡 いただ<br />
ければ 幸 いです。<br />
7.おわりに<br />
本 稿 では、 小 長 井 ・ 宮 島 研 究 室 で 実 施 している<br />
Si 薄 膜 太 陽 電 池 と 革 新 型 太 陽 電 池 の 研 究 内 容 を<br />
中 心 に 紹 介 いたしましたが、このほか 直 近 の 課 題<br />
としてヘテロ 接 合 型 バルク Si 太 陽 電 池 の 研 究 開<br />
発 を 行 っております。プラズマ CVD 法 による SiO<br />
や 3C-SiC を 用 いた 新 型 ヘテロ 接 合 太 陽 電 池 で<br />
700mV を 超 す 開 放 電 圧 を 得 るに 至 っています。ヘ<br />
テロ 接 合 太 陽 電 池 は、わが 国 が 誇 る 強 い 太 陽 電 池<br />
の 一 つですが、これもまた 1980 年 以 降 、 産 官 学 共<br />
同 で 展 開 してきたプラズマ CVD に 関 する 基 礎 研 究 、<br />
応 用 研 究 の 大 きな 成 果 の 一 つであります。<br />
最 後 になりますが、 当 研 究 室 は、7 月 末 までに<br />
は、 図 5 に 示 す 新 棟 ( 環 境 エネルギーイノベーシ<br />
ョン 棟 )に 引 っ 越 し 予 定 です。EEI 棟 は、 約 600kW<br />
の 太 陽 電 池 で 覆 われており、100kW の 燃 料 電 池<br />
も 備 えるなど、 最 新 の 創 エネ、 省 エネ 技 術 を 取 り<br />
入 れた 建 物 となっています。<br />
図 5 約 600kW の 太 陽 電 池 が 取 り 付 けられた 環<br />
境 エネルギーイノベーション 棟<br />
図 4 変 換 効 率 30% 以 上 を 狙 う Si ナノワイヤー<br />
太 陽 電 池 と 結 晶 Si 太 陽 電 池 のタンデム 構 造<br />
の 例 。<br />
参 考 文 献<br />
(1) 小 長 井 誠 、“ 薄 膜 シリコン 太 陽 電 池 の 高 効 率 化<br />
技 術 ”、 応 用 物 理 第 79 巻 、 第 5 号<br />
(2010)pps.393 -403<br />
(2)http://www.mext.go.jp/b_menu/boshu/detail/<br />
1320247.htm<br />
12
研 究 紹 介 (その3)<br />
首 都 大 学 東 京 プラズマ 応 用 研 究 室<br />
理 工 学 研 究 科 電 気 電 子 工 学 専 攻 白 井 直 機<br />
はじめに<br />
本 研 究 室 は、 杤 久 保 文 嘉 教 授 の 下 、 修 士 課 程 学<br />
生 6 名 、 学 部 学 生 3 名 、 助 教 の 白 井 で 構 成 されて<br />
います。 詳 しい 研 究 室 の 紹 介 についてはプラズマ<br />
エレクトロニクス 分 科 会 会 報 No. 51にて 紹 介 され<br />
ています。 私 自 身 は、 学 生 時 代 を 東 京 工 業 大 学 で<br />
過 ごし、2009 年 より 首 都 大 学 東 京 の 助 教 として 採<br />
用 して 頂 きました。 学 生 時 代 は、 大 学 院 修 士 課 程<br />
から 博 士 課 程 までの 5 年 間 、 指 導 教 員 であった 石<br />
井 彰 三 教 授 が 特 定 領 域 研 究 「マイクロプラズマ」<br />
に 参 画 していたため、そのプロジェクトの 中 で 研<br />
究 を 進 めることができました。そこでは 拡 大 レン<br />
ズを 接 続 したカメラで 微 小 な 空 間 に 生 成 される<br />
様 々なマイクロプラズマの 観 測 を 行 ってきました。<br />
肉 眼 で 見 ると 光 の 点 にしか 見 えないプラズマが 拡<br />
大 レンズを 通 してみると 様 々な 構 造 をもつことが<br />
観 測 されることに 大 変 興 味 を 持 ちました。そうい<br />
った 実 験 を 続 ける 中 で 観 測 されたのが、 今 回 紹 介<br />
させて 頂 く 自 己 組 織 化 模 様 でした。<br />
研 究 内 容<br />
大 気 圧 プラズマの 中 でも 特 に 液 体 を 利 用 したプ<br />
ラズマの 研 究 を 行 っています。 液 体 を 利 用 する 方<br />
法 は 色 々ありますが、 我 々は 液 体 を 電 極 として 水<br />
液 体 を 電 極 とした 放 電 の 歴 史 は 古 く、100 年 以 上<br />
前 に 既 に 手 法 は 提 案 されていますが[1]、 近 年 の 大<br />
気 圧 プラズマ 生 成 法 の 進 歩 により、 様 々な 応 用 へ<br />
の 展 開 が 期 待 されています。<br />
我 々は 大 気 圧 空 気 中 で 安 定 に 放 電 を 形 成 するた<br />
めに 穴 径 500m 程 度 の 微 細 な 穴 をもつ 金 属 ノズ<br />
ル 電 極 よりヘリウムを 電 極 間 に 導 入 して、 液 体 電<br />
極 と 金 属 電 極 間 に 直 流 電 圧 を 印 加 することで 放 電<br />
を 形 成 します。これまでに NaCl 水 溶 液 を 陰 極 と<br />
して 用 いた 時 に 放 電 電 流 を 増 加 させると 水 面 から<br />
黄 色 い Na の 発 光 が 観 測 されることを 見 出 し、こ<br />
ういった 液 中 からの 発 光 は 放 電 の 極 性 、 水 温 に 影<br />
響 することを 明 らかにしてきました[2]。<br />
液 体 を 陽 極 として 放 電 を 生 成 すると、 電 極 間 距<br />
離 を 10 mm 程 度 まで 広 げた 状 態 で、 電 流 を 増 加<br />
させていくと、 図 1 に 示 すように 陽 極 上 に 自 己 組<br />
織 化 された 発 光 が 形 成 されます。 放 電 の 自 己 組 織<br />
化 は 液 体 の 導 電 率 によって 様 々な 模 様 になります。<br />
陽 極 として 濃 度 1%の NaCl ( 導 電 率 :12 mS/cm)を<br />
用 いた 場 合 、20 mA の 電 流 では 液 体 陽 極 表 面 にリ<br />
ング 状 の 発 光 が 形 成 されます。 電 流 を 増 加 すると<br />
リングは 2 重 構 造 となり、その 外 側 には 複 数 の 微<br />
小 スポットが 現 われ、さらに 電 流 を 増 加 すると 多<br />
数 の 微 小 スポットが 動 き 回 るような 模 様 になりま<br />
す。 図 2 に 液 体 陽 極 放 電 の 電 流 電 圧 特 性 に 自 己 組<br />
織 化 が 観 測 される 条 件 を 示 します。 図 からわかる<br />
金 属 陰 極<br />
液 体 陽 極<br />
図 1 液 体 陽 極 放 電 において 水 面 に 形 成 される 自 己 組 織 化 模 様 の 発 光<br />
13
(a) 水 道 水 (b) NaCl 溶 液 1%<br />
図 2. 電 流 電 圧 特 性 と 自 己 組 織 化 現 象 の 発 生 条 件<br />
ように 自 己 組 織 化 模 様 は 電 極 間 距 離 が 広 く、 電 流<br />
が 高 いときほど 観 測 され 易 いです。また、ヘリウ<br />
ム 流 量 を 大 きくすると、 模 様 は 現 れ 難 くなります。<br />
これらのことから 自 己 組 織 化 の 形 成 される 条 件 は<br />
電 極 間 のヘリウムの 割 合 が 影 響 していると 推 定 さ<br />
れます。また、 図 3 に 示 すように 液 体 の 濃 度 を 変<br />
化 させたり、 液 体 の 代 わりに 金 属 平 板 を 用 いた 際<br />
にも 様 々な 模 様 が 観 測 されました。 液 体 表 面 上 に<br />
様 々な 模 様 が 形 成 される 現 象 についてはいくつか<br />
の 報 告 があります[3]。また 非 平 衡 プラズマの 自 己<br />
組 織 化 現 象 は、ホローアノード 型 直 流 放 電 [4]や、<br />
交 流 電 圧 駆 動 の 誘 電 体 バリア 放 電 [5]でも 報 告 さ<br />
れていますが、 本 研 究 の 事 例 を 含 め、 自 己 組 織 化<br />
が 起 こる 原 理 は 完 全 には 理 解 されていません。<br />
しかしながら、 数 学 の 分 野 では 反 応 拡 散 方 程 式<br />
を 解 くことで 様 々なパターン 形 成 が 現 れることが<br />
知 られています[6]。 実 際 に 我 々の 研 究 室 でも、 方<br />
程 式 を 解 いたところ、 様 々なパターンが 現 れるこ<br />
とは 確 認 しました。また 20 年 ほど 前 の 文 献 を 見 る<br />
と、 金 属 電 極 表 面 にパターンが 現 れることを 示 し<br />
た 文 献 もあります[7]。 現 在 、 我 々は 他 分 野 や 過 去<br />
の 研 究 について 十 分 調 査 したのちに、 我 々が 示 し<br />
た 水 面 に 現 れるパターン 形 成 メカニズムの 解 明 や<br />
応 用 法 について 検 討 しているところです。<br />
最 後 に<br />
この 10 年 で 携 帯 電 話 やパソコン 等 、あらゆる 電<br />
化 製 品 が 目 覚 ましい 勢 いで 進 化 してきました。プ<br />
ラズマエレクトロニクスの 分 野 でも、 私 が 学 部 4<br />
年 生 の 頃 初 めてプラズマの 研 究 に 触 れた 頃 と 比 べ<br />
ると、 当 時 は 考 えもしなかったプラズマの 生 成 法 、<br />
応 用 が 見 られます。そういった 目 覚 ましい 発 展 を<br />
牽 引 しているのが、プラズマエレクトロニクス 分<br />
科 会 であることは 間 違 いありません。 私 自 身 は、<br />
学 生 時 代 は 特 定 領 域 研 究 「マイクロプラズマ」に<br />
関 わることができ、 助 教 として 着 任 した 現 在 は、<br />
杤 久 保 教 授 の 下 、 新 学 術 領 域 研 究 「ナノ 界 面 プラ<br />
ズマ」のプロジェクトにも 参 加 させて 頂 いていま<br />
す。こういった 非 常 に 恵 まれた 環 境 下 で 研 究 でき<br />
ることに 感 謝 しながら、 今 まで 進 めてきた 気 液 界<br />
面 での 大 気 圧 プラズマの 諸 現 象 について 更 に 解 明<br />
を 進 めるとともに、 新 たな 研 究 についても 模 索 し<br />
ながら 日 々 精 進 してまいりたいと 思 います。プラ<br />
ズマエレクトロニクス 分 科 会 の 皆 様 には 今 後 とも<br />
ご 指 導 、 御 鞭 撻 を 賜 りますようにお 願 い 申 し 上 げ<br />
ます。<br />
参 考 文 献<br />
[1] J. Gubkin, Ann. Phys. Chem. N. F. 32 (1887) 114<br />
[2] N. Shirai et al., Plasma Sources Sci. Technol. 20<br />
(2011) 2652.<br />
[3] T. Verreycken et al., J. Appl. Phys. 105 (2009)<br />
083312.<br />
(a) NaCl 溶 液 2% (b) 金 属 陽 極<br />
図 3. 陽 極 材 料 による 自 己 組 織 化 模 様 の 違 い<br />
( 放 電 電 流 は 全 て 50 mA)<br />
[4] K. Schoenbach et al., Plasma Sources Sci. Technol. 13<br />
(2004) 177.<br />
[5] T. Shirafuji et al., Appl. Phys. Lett. 83 (2003) 2309.<br />
[6] 栄 伸 一 郎 他 , パターン 形 成 の 数 理 , 講 談 社<br />
[7] K. G. Müller, Phys. Lev. 37 (1988) 4836,<br />
14
研 究 紹 介 (その4)<br />
電 気 で 農 業 ・ 食 品 産 業 をより 強 く ~かみなりキノコなど~<br />
岩 手 大 学 工 学 部 高 木 浩 一<br />
1.なぜ, 電 気 を 農 業 へ 利 用 するの<br />
日 本 の 農 業 は 国 内 生 産 額 が 約 8 兆 円 で, 中 国 ,<br />
アメリカ,インド,ブラジルに 次 ぐ5 位 ( 先 進 国<br />
中 2 位 )の 生 産 を 誇 る.ここ 40 年 で 基 幹 的 農 業 従<br />
事 者 は 約 1/5 になったものの,1 人 当 たりの 生 産<br />
量 は5 倍 に 増 加 している. 加 えて,キノコや 果 樹 ,<br />
酪 農 など 付 加 価 値 の 高 い 農 産 物 への 展 開 も, 生 産<br />
高 を 上 げる 一 因 となっている.<br />
日 本 の 高 い 農 業 生 産 性 を 支 えているのが 科 学 技<br />
術 になる.これらは 肥 料 や 土 壌 改 良 剤 , 農 業 機 械 ,<br />
近 年 では 野 菜 工 場 システムなどの 開 発 につながっ<br />
ていて, 生 産 性 の 向 上 に 貢 献 している. 加 えて 近<br />
年 では, 光 や 電 気 を 農 業 に 活 用 する 技 術 開 発 が 注<br />
目 されている. 岩 手 大 学 で 進 める 人 工 かみなりを<br />
活 用 したキノコ 栽 培 も, 農 業 への 電 気 高 度 活 用 の<br />
1つとなる.ここでは,かみなりキノコを 中 心 に,<br />
電 気 の 農 業 や 食 品 業 界 への 利 用 について 述 べる.<br />
2. 電 気 刺 激 でのキノコ 増 産<br />
図 1に, 電 圧 印 加 前 後 の,きのこ 菌 糸 の 変 化 の<br />
様 子 を 示 す. 菌 糸 に 電 界 が 加 わると, 菌 糸 の 内 部<br />
が 負 電 位 を 持 つためクーロン 力 や, 誘 電 分 極 等 に<br />
よる 力 がかかる.このため, 菌 糸 が 動 き,その 一<br />
部 は 木 の 繊 維 との 間 のせん 断 応 力 等 により, 断 裂<br />
など 損 傷 を 受 ける( 矢 印 部 ).これらはキノコへの<br />
刺 激 として 働 き, 膜 状 菌 糸 やキノコ 原 基 の 形 成 な<br />
どを 引 き 起 こす.このメカニズムについては, 菌<br />
糸 が 分 泌 する 疎 水 性 たんぱく 質 (ハイドロホビン)<br />
を,ポリメラーゼ 連 鎖 反 応 (PCR)を 用 いた 解 析<br />
などで 確 認 できる.<br />
キノコ 菌 糸 が 十 分 に 成 長 したホダ 木 や 菌 床 (お<br />
が 粉 を 固 めたもの)にパルス 電 圧 を 印 加 すること<br />
で, 上 記 のメカニズムで 子 実 体 (キノコのかさ)<br />
形 成 を 促 進 できる. 図 2に,シイタケのホダ 木 に<br />
パルス 高 電 圧 を 加 え, 子 実 体 形 成 の 違 いを 観 察 し<br />
た 結 果 を 示 す. 写 真 より, 電 気 刺 激 を 施 したホダ<br />
10 m<br />
10 m<br />
図 1 電 圧 印 加 前 後 の 菌 糸 の 電 子 顕 微 鏡 写 真<br />
( 上 : 電 圧 印 加 なし, 下 :あり)<br />
図 2 電 気 刺 激 の 有 無 によるシイタケ 生 育 の 比 較<br />
( 上 : 電 圧 印 加 なし, 下 :あり)<br />
木 に, 数 多 くのシイタケが 確 認 できる. 図 3に,<br />
ホダ 木 一 本 当 たりのシイタケの 収 穫 量 の 比 較 を 示<br />
す.パルス 電 圧 の 印 加 条 件 は, 電 圧 印 加 なし( 図<br />
中 control と 表 示 ),50,90,125 kV×1 回 ,50kV<br />
×50 回 印 加 とした. 縦 軸 は 各 条 件 におけるホダ 木<br />
15
図 5 放 電 の 有 無 によるコマツナの 生 育 の 比 較 ( 左 :<br />
比 較 区 , 中 央 :バブリングのみ, 右 : 放 電 あり)<br />
図 3 印 加 電 圧 の 条 件 によるシイタケの 収 量 変 化<br />
一 本 あたりの 収 穫 量 を 表 し,4シーズン 分 の 収 量<br />
の 合 計 である. 全 体 をみると 50 kV×50 回 印 加 条<br />
件 において 最 も 収 穫 量 が 多 く, 印 加 なしの 条 件 の<br />
約 1.9 倍 の 収 穫 となる. 電 圧 印 加 の 条 件 中 では 125<br />
kV で 収 穫 量 が 最 も 少 なく, 電 気 刺 激 に 適 した 電 圧<br />
の 大 きさがあることがわかる.<br />
3. 植 物 の 成 長 促 進<br />
高 電 圧 で 植 物 の 発 芽 を 早 めることができる. 発<br />
芽 した 植 物 の 成 長 には, 窒 化 イオンなどの 栄 養 分<br />
が 欠 かせない. 逆 に 病 気 を 引 き 起 こす 雑 菌 は 不 活<br />
性 化 させることが 望 ましい. 高 電 圧 電 源 として 短<br />
パルス 電 圧 を 用 いると, 図 4に 示 すように, 水 や<br />
土 の 中 でも 安 定 して 放 電 させることができる.こ<br />
の 放 電 により, 窒 素 イオンが 生 成 され,これは 水<br />
に 溶 けて 植 物 の 栄 養 になり,また 雑 菌 は 減 る.<br />
図 5に,コマツナ 栽 培 で 散 布 する 蒸 留 水 に,30<br />
分 ほど 放 電 をあて,コマツナの 生 育 を 比 較 したも<br />
のを 示 す. 図 より, 水 中 放 電 により, 生 育 が 促 進<br />
されていることがわかる. 乾 燥 重 量 の 比 較 では,<br />
比 較 区 の 0.146 g に 対 して,0.934 g と 6.4 倍 の 収 量<br />
増 加 になっている. 放 電 で 水 中 に 発 生 するイオン<br />
は,NO - 2 で 0.68 ppm,NO - 3 で 7.17 ppm であった.<br />
図 4 水 中 放 電 の 様 子<br />
このとき, 水 中 の 一 般 生 菌 数 も, 対 数 値 で 5.72 か<br />
ら,1.85 CFU/mL と 大 きく 減 少 した.<br />
4. 食 品 保 存 や 成 分 抽 出 への 利 用<br />
青 果 物 や 食 品 を 長 時 間 放 置 すると, 腐 敗 細 菌 ,<br />
真 菌 , 酵 母 など 微 生 物 によって, 有 機 物 が 分 解 さ<br />
れる, 腐 敗 が 起 こる.このため, 青 果 物 や 食 品 の<br />
鮮 度 を 長 時 間 にわたり 保 つためには, 腐 敗 菌 の 不<br />
活 性 化 および 殺 菌 が 必 要 になる. 高 電 圧 を 用 いた<br />
腐 敗 菌 の 不 活 性 化 や 殺 菌 の 場 合 , 一 般 には,パル<br />
ス 高 電 界 により, 腐 食 菌 の 細 胞 膜 に 穴 をあける( 電<br />
気 穿 孔 法 )などを 利 用 する. 図 6に, 食 品 保 管 庫<br />
のもみ 殻 (ダスト)を 静 電 捕 集 機 に 通 過 させ, 印<br />
加 電 圧 を 変 えた 時 の, 捕 集 もみ 殻 の 菌 数 を,PCA<br />
培 地 での 一 般 生 菌 数 ,PDA 培 地 でのカビ・ 酵 母 数<br />
として 評 価 した 結 果 を 示 す. 一 般 生 菌 数 で 比 較 し<br />
ても,またカビ 数 で 比 較 した 場 合 でも, 電 圧 印 加<br />
により, 減 少 していることがわかる.なおこの 際<br />
の 放 電 部 の 消 費 電 力 は 1mW 以 下 ,またオゾンの<br />
発 生 は 0.1ppm 以 下 であり, 実 用 に 耐 えうる 数 値<br />
になっている.このほか,エチレンガスのように<br />
果 物 の 成 熟 を 早 めるガスの 分 解 を 行 い, 混 載 輸 送<br />
Log CFU/mL<br />
6 Total aerobic bacterial counts<br />
Molds and yeast counts<br />
5<br />
Molds counts<br />
ND : Not detected<br />
4<br />
Detection limit : 10 CFU/mL<br />
3<br />
2<br />
1<br />
ND ND<br />
0<br />
0 1.5 3.0 4.5 6.0<br />
Input voltage -V S [kV]<br />
図 6 放 電 の 有 無 によるコマツナの 生 育 の 比 較<br />
( 左 : 比 較 区 , 中 央 :バブリングのみ, 右 : 放 電 あり)<br />
16
を 可 能 にする 装 置 にも,コロナ 放 電 などは 有 効 に<br />
働 く.これは 農 水 省 のプロジェクトの 一 環 として<br />
委 託 研 究 を 進 めている.<br />
食 品 加 工 においても 果 汁 抽 出 効 率 の 改 善 や, 抽<br />
出 時 の 成 分 の 制 御 にも,パルス 電 圧 が 利 用 できる.<br />
図 7に,ワイン 醸 造 前 処 理 としてブドウ 表 皮 にパ<br />
ルス 電 界 をかけた 場 合 のポリフェノール 抽 出 量 の<br />
変 化 を 示 す. 印 加 電 界 は 40, 50, 60 kV/cm であり,<br />
パルス 幅 は 約 140 ns であり,これを 繰 り 返 し 20<br />
pps(pulses per second)で,30 分 間 印 加 している.<br />
いずれの 条 件 においても, 電 圧 を 印 加 することで,<br />
ポリフェノールの 抽 出 量 は 約 20% 増 加 している<br />
ことがわかる. 図 8に, 出 力 電 圧 の 最 大 値 が 60 kV<br />
時 のコントロール 区 と 実 験 区 のブドウの 皮 の 細 胞<br />
内 写 真 を 示 す.Control 区 に 対 し, 実 験 区 の 細 胞 内<br />
は,ポリフェノールを 含 む 色 素 が 外 へ 流 出 してい<br />
るのが 確 認 できる.メカニズムは 電 気 穿 孔 となる.<br />
5. 今 後 の 展 開 ;どう 技 術 を 普 及 させる<br />
これらの 技 術 を 生 産 現 場 に 普 及 させるためには,<br />
1) 操 作 など 簡 便 で 安 価 な 装 置 の 開 発 ,2) 導 入<br />
事 例 を 増 やしつつ 効 果 検 証 ,3) 経 済 的 メリット<br />
( 費 用 対 効 果 )の 改 善 ,などが 必 要 になる.キノ<br />
コ 増 産 用 電 源 は, 現 在 2 社 から 販 売 されている.<br />
一 例 を 図 9に 示 す.20 機 ほどがキノコ 生 産 現 場 で<br />
用 いられている. 生 産 現 場 のデータも 増 え, 収 穫<br />
の 時 期 が 早 まること, 平 均 的 に 1.4 倍 ( 現 場 によ<br />
っては2 倍 以 上 )の 増 収 などが 確 認 されている.<br />
高 価 なキノコについても, 霊 芝 を 用 いた 実 験 では,<br />
すでに2 倍 弱 の 収 量 増 加 を 確 認 している.<br />
かみなりキノコは, 学 術 や 農 業 生 産 への 利 用 以<br />
外 に, 科 学 教 育 の 教 材 としての 利 用 価 値 も 高 い.<br />
例 えば,“ 言 い 伝 えに 潜 む 科 学 ”といった 切 り 口<br />
(2010 年 サイエンスアゴラ)や, 生 物 や 科 学 の 不<br />
思 議 といった 切 り 口 が 可 能 である.このような 切<br />
り 口 で, 現 在 , 全 国 で5 校 程 度 の 農 業 ・ 工 業 高 校<br />
で, 課 題 研 究 などに 利 用 されている.また, 岩 手<br />
や 近 隣 県 でのサイエンス 教 室 や, 小 中 高 校 への 出<br />
前 授 業 ( 今 年 度 は 20 回 程 度 実 施 )でも 好 評 で,そ<br />
の 様 子 はテレビ 放 映 もされている.イベントの 様<br />
子 を 図 10 に 示 す.<br />
最 後 に, 本 研 究 は, 多 くの 教 育 ・ 研 究 機 関 , 企<br />
業 や NPO の 方 々と,いっしょに 取 り 組 んでいま<br />
す. 本 研 究 を 支 えてくださっている 多 くの 方 々に,<br />
この 場 をお 借 りして, 深 く 謝 意 を 表 します.<br />
40 50 60<br />
Electric field [kV/cm]<br />
図 7 印 加 電 界 に 対 する 未 処 理 溶 液 (Control)と<br />
電 界 印 加 溶 液 (PEF)のポリフェノール 抽 出 量 の 比 較<br />
図 9 友 信 工 機 ( 株 ) 製 のキノコ 刺 激 用 電 源<br />
盛 岡 市 こども 科 学 館<br />
図 8 パルス 電 界 の 印 加 の 有 無 によるブドウ 皮 の 細 胞 の 光<br />
学 顕 微 鏡 画 の 比 較 ( 左 : 印 加 なし, 右 :60kV 印 加 )<br />
図 10 盛 岡 市 こども 科 学 館 でのサイエンスショー<br />
17
海 外 の 研 究 事 情 (その33)<br />
連 合 王 国 ケンブリッジ 滞 在 記<br />
九 州 大 学 堤 井 君 元<br />
はじめに<br />
2006 年 6 月 から 2007 年 3 月 まで、イギリスの<br />
ケンブリッジ 大 学 (University of Cambridge)に 留<br />
学 しました。 今 頃 になってその 滞 在 記 を 書 く 機 会<br />
を 頂 戴 しましたが、 記 憶 が 薄 れていること、 当 時<br />
とはだいぶヨーロッパの 経 済 事 情 が 異 なることを<br />
ご 了 承 下 さい。<br />
元 来 、 文 科 省 の 在 外 研 究 員 制 度 へ 応 募 するつも<br />
りでしたが、その 制 度 自 体 が 廃 止 されたため、そ<br />
れに 替 わる 文 科 省 「 海 外 先 進 研 究 実 践 支 援 」に 応<br />
募 し、 採 択 されました。 採 択 通 知 が 4 月 、 開 始 年<br />
度 の 3 月 末 までに 帰 国 することが 条 件 でした。 担<br />
当 講 義 をキャンセルできなかったので、 約 10 ヶ 月<br />
の 間 、Visiting Researcher として 短 期 留 学 をしまし<br />
た。<br />
住 居 探 し<br />
大 学 関 係 者 の 退 去 シーズンは 通 常 7 月 ですが、<br />
その 少 し 前 の 5 月 末 にケンブリッジへ 到 着 したた<br />
め、 住 居 探 しは 困 難 を 極 めました。 一 方 7 月 以 降<br />
の 家 探 しは 容 易 です。それまでの 二 ヶ 月 は 転 々と<br />
移 り 住 みました。<br />
最 初 に、あるカレッジのゲストハウスに 滞 在 し<br />
ました。 寝 室 とシャワーのみで、 食 事 もほぼ 外 食<br />
となりましたが、 花 々に 囲 まれた 美 しい 寮 舎 で 学<br />
寮 生 活 を 間 近 にして 過 ごせました。ケンブリッジ<br />
の 学 生 生 活 は 独 特 なスタイルなので、これは 得 が<br />
たい 体 験 でした。<br />
続 いて、やや 郊 外 にある 瀟 洒 なアパートの 一 室<br />
を 間 借 りしました。 簡 素 で 経 済 的 で、 英 語 も 上 達<br />
する 環 境 でしたが、 生 活 のすべてのものを 家 主 に<br />
貸 してもらう 状 況 に 気 疲 れしてしまい、 早 々に 次<br />
へ 移 りました。<br />
その 後 、 別 のカレッジのゲストハウスに 滞 在 し、<br />
キッチン・ 洗 濯 機 が 共 同 の 生 活 を 経 て、7 月 下 旬<br />
にようやくケンブリッジ 大 学 教 職 員 住 宅 に 入 居 す<br />
ることが 出 来 ました。ここは 6 月 末 から 徐 々に 空<br />
きがでます。それ 以 外 にも 不 動 産 屋 を 介 して 郊 外<br />
のアパートを 見 に 行 ったり、 日 本 人 のキレイ 好 き<br />
を 当 てこんで、 年 代 物 のお 宅 を 留 守 番 代 わりに 貸<br />
すという 話 があったりで、 様 々な 物 件 がありまし<br />
たが、 教 職 員 住 宅 は 管 理 人 が 常 駐 していること、<br />
担 当 職 員 がいること、 広 さに 対 して 家 賃 が 安 いこ<br />
とが 決 め 手 でした。ケンブリッジの 家 賃 は 一 般 に<br />
高 いです。イギリスでは、 家 賃 の 他 に 住 民 税 のよ<br />
うなもの(Council Tax)が 発 生 するので、その<br />
確 認 も 必 要 です。<br />
Accommodation Service が 大 学 の 事 務 局 にあり、<br />
住 居 の 斡 旋 を 受 けられます。 大 学 所 有 の 複 数 の 住<br />
宅 のほか、 民 間 のアパートや 一 戸 建 ても 紹 介 して<br />
もらえます。 日 本 出 発 前 にEメールで 手 続 きを 進<br />
められますが、 私 の 場 合 、 時 期 的 に 良 い 物 件 がな<br />
く、 到 着 後 に 粘 り 強 くスタッフと 交 渉 することに<br />
なりました。 大 学 を 通 して 物 件 のオーナーと 連 絡<br />
を 取 り、 契 約 を 進 めるには 携 帯 電 話 が 必 須 です。<br />
契 約 に 際 しては、 大 抵 当 地 の 銀 行 口 座 を 求 められ<br />
ます。 私 は 速 やかに 口 座 を 開 くために、 大 学 から<br />
紹 介 状 を 用 意 してもらいました。 民 間 の 不 動 産 屋<br />
の 利 用 は、 一 般 に 高 くつくうえ、 交 渉 や 契 約 手 続<br />
きが 難 解 でした。インターネット 上 のクチコミも<br />
役 立 ちました。<br />
日 常 生 活<br />
当 時 は1ポンド= 約 240 円 でしたので、 物 価 は<br />
とても 高 く 感 じました。 現 地 では1ポンド=1 米<br />
ドルの 感 覚 のようです。 日 常 生 活 全 般 は 住 居 探 し<br />
に 比 べれば 楽 でした。 物 品 は 急 いで 買 わず、 日 本<br />
からさほど 持 って 行 かなくても 事 足 りました。ケ<br />
ンブリッジは 歩 くか、 自 転 車 で 用 の 済 む 街 です。<br />
入 居 した 教 職 員 住 宅 は 街 の 北 西 部 に 位 置 し、 路 線<br />
バスも 本 数 が 少 なかったですが、 日 ごろはすぐ 隣<br />
の 敷 地 にある 大 学 の 研 究 室 に 通 うので 不 便 とは 思<br />
18
図 1 ケンブリッジ 市 街 の 風 景<br />
図 2 ケム 川 の 風 景<br />
いませんでした。 週 末 は 自 転 車 で 郊 外 のスーパー<br />
へ 買 い 物 に 行 きました。7 月 頃 には 退 去 者 の 不 用<br />
品 のセールが 教 職 員 住 宅 の 掲 示 板 に 載 りますので、<br />
自 転 車 や 電 化 製 品 を 安 値 で 譲 ってもらいました。<br />
食 品 については、 米 、 和 風 調 味 料 、 薄 切 り 肉 、<br />
豆 腐 などを 韓 国 系 の 店 で 購 入 していました。Mill<br />
Road という 通 りの「ソウルプラザ」という 店 でし<br />
たが、 現 在 も 営 業 しているようです。 街 中 には 大<br />
きなショッピングモールが 二 つもありましたが、<br />
品 物 を 増 やせない 身 としては、ウィンドウショッ<br />
ピングに 時 間 を 費 やす 程 度 でした。ロンドンへ 日<br />
帰 りが 可 能 なので、 買 出 しや 米 飯 の 外 食 がしたい<br />
ときは、 日 本 食 料 品 店 やチャイナタウンへ 足 を 延<br />
ばしました。<br />
ケンブリッジの 水 道 水 は 石 灰 質 を 多 く 含 む 水 で、<br />
そのままでは 飲 みにくいため、 飲 料 水 を 買 ってい<br />
ました。またお 湯 は、 給 湯 器 のタンク 容 量 が 風 呂<br />
好 きの 日 本 人 にはやや 小 さいです。 夜 間 電 力 をタ<br />
イマーで 管 理 して 使 うよう 勧 められましたが、 手<br />
動 スイッチで 必 要 な 都 度 使 って 不 便 を 感 じません<br />
でした。 共 同 生 活 の 場 合 は、 他 の 人 より 湯 を 多 く<br />
使 いがちなので 配 慮 が 必 要 です。<br />
研 究 生 活<br />
ケンブリッジ 大 学 には、アモルファスカーボン<br />
とダイヤモンドの 分 野 で 著 名 な 三 名 の 研 究 者 、す<br />
なわち Prof. Bill Milne、Prof. Gehan Amaratunga、<br />
Prof. John Robertson がいます。 以 前 から 三 名 がト<br />
ロイカ 体 制 でグループ 運 営 をしていましたが、 私<br />
の 留 学 の 少 し 前 に、ラマン 分 光 で 有 名 な Dr.<br />
Andrea Ferrari が 加 わりました。 私 は Robertson 教<br />
授 に、 持 参 できる 研 究 費 は 無 いことを 伝 えたうえ<br />
で、ホストを 依 頼 し、 快 諾 していただきました。<br />
ちなみにケンブリッジ 大 学 からは、 授 業 料 相 当 分<br />
の 支 払 いを 要 求 されましたが、Robertson 教 授 の 取<br />
り 計 らいで 免 除 してもらいました。<br />
Robertson 教 授 の 所 属 する Electronic Devices and<br />
Materials Group, Electrical Engineering Division,<br />
Department of Engineering は、 当 初 ケンブリッジ 大<br />
学 中 心 部 Trumpington Street の 古 い 校 舎 にあると<br />
聞 いていたのですが、 訪 問 してみるとその 校 舎 は<br />
もぬけの 殻 となっており、 街 外 れの JJ Thomson<br />
Avenue の 新 しい 校 舎 “Center for Advanced<br />
Photonics and Electronics(CAPE)”に 移 転 したばか<br />
りでした。CAPE にはいくつかの 研 究 グループが<br />
入 居 しており、 共 同 でクリーンルームを 運 営 し、<br />
セミナー 等 を 開 催 していました。 校 舎 内 にはクリ<br />
ーンルームを 管 理 する 技 術 スタッフが 五 名 ほどお<br />
り、 安 全 管 理 や 機 器 管 理 を 一 括 して 行 っていまし<br />
た。 教 員 自 らが 機 器 の 組 み 立 てや 修 理 をする 大 半<br />
の 日 本 の 大 学 とは 大 違 いです。CAPE に 学 生 は 150<br />
人 ほどいましたが、 半 分 強 は Ph.D. 候 補 生 です。<br />
出 身 別 では、 中 国 が 約 4 割 、イタリアが 約 2 割 、<br />
東 欧 ・ 中 欧 が 約 1 割 、インドが 約 1 割 、 残 りはイ<br />
ギリス(いわゆるアングロサクソン 人 など)、ロシ<br />
ア、 韓 国 など、 日 本 は 私 一 人 でした。なお CAPE<br />
の 隣 には 情 報 系 研 究 グループの 校 舎 があり(うち<br />
ひとつは Bill Gates Building)、イギリスや 北 欧 の<br />
19
を 無 事 発 表 することが 出 来 ました。この 場 を 借 り<br />
て 両 先 生 に 改 めてお 礼 申 し 上 げます。<br />
図 3 CAPE の 前 に 佇 む 筆 者<br />
学 生 が 多 く、 女 子 学 生 の 比 率 も 高 いことが 特 徴 的<br />
でした。<br />
Roberson 教 授 のグループは、 長 らくアモルファ<br />
スカーボンやシリコン 膜 に 関 する 研 究 を 行 ってい<br />
ましたが、2000 年 代 以 降 はカーボンやシリコンの<br />
ナノ 構 造 体 の 研 究 にシフトしていました。 私 はプ<br />
ラズマを 利 用 したナノ 構 造 体 の 形 成 に 取 り 組 みま<br />
したが、 諸 々の 事 情 で 期 待 したような 結 果 成 果 が<br />
得 られませんでした。 時 間 がないので 途 中 から 方<br />
針 を 転 換 し、 物 性 評 価 にも 取 り 組 みました。 一 つ<br />
は 電 界 放 出 です。 丁 度 イギリスに 来 る 前 、 品 質 の<br />
良 い 立 方 晶 窒 化 ホウ 素 の 形 成 に 成 功 していたので、<br />
その 電 界 放 出 特 性 について 調 べました。もう 一 つ<br />
は 紫 外 線 ラマン 分 光 です。Ferrari 講 師 ( 当 時 )に<br />
依 頼 し、リーズ 大 学 にてナノダイヤモンドの 紫 外<br />
線 ラマン 分 光 を 測 定 させてもらいました。その 後 、<br />
両 先 生 の 支 援 を 受 けることで、それらの 研 究 成 果<br />
むすび<br />
約 10 ヶ 月 の 短 期 間 でしたが、 日 本 の 大 学 の 職 務<br />
を 離 れて、 研 究 に 打 ち 込 めるのは 大 変 貴 重 な 体 験<br />
でした。とは 言 うものの、 日 本 に 数 名 の 指 導 学 生<br />
を 残 していたので、トラブルが 気 がかりで 完 全 に<br />
離 れることはできませんでしたが。 朝 から 夜 まで、<br />
月 曜 日 から 週 末 まで、 時 間 があっという 間 に 過 ぎ<br />
ました。サッカーのワールドカップを、CAPE 内<br />
の 大 型 テレビで 大 騒 ぎしながら 観 たのはいい 思 い<br />
出 です。 指 導 学 生 がいない 若 いうちに 行 くのも 良<br />
いですが、ある 程 度 将 来 の 研 究 方 向 が 定 まってか<br />
ら 行 くのも 良 いと 思 います。<br />
ケンブリッジ 大 学 は、 世 界 中 から 学 生 や 研 究 者 、<br />
そしてその 家 族 も 含 めて 大 勢 受 け 入 れていますの<br />
で、 多 くの 催 しがあり、 好 奇 心 さえあれば 交 流 に<br />
事 欠 かないと 思 います。また、 大 学 以 外 にも、 教<br />
会 、 日 本 人 会 などの 交 流 会 も 多 く、 各 所 の 掲 示 板<br />
などで 催 しが 告 知 されていました。 家 族 連 れでも<br />
安 心 して 暮 らせる 街 です。<br />
ケム 川 を 挟 んで、 由 緒 あるカレッジとチャペル<br />
が 立 ち 並 ぶ 石 畳 の 街 は、 荘 厳 で 美 しいです。 多 く<br />
の 緑 に 囲 まれ、 騒 がしい 車 も 少 ないです。 生 活 は<br />
日 本 よりも 少 し 不 便 ですが、 静 かで、その 簡 素 さ<br />
が 心 地 良 いです。 日 常 の 雑 事 から 少 し 逃 れて、 研<br />
究 や 自 分 に 向 き 合 うことができます。 静 かな 古 い<br />
街 並 に、 若 い 学 生 と、 世 界 中 から 来 た 研 究 者 が 醸<br />
す 不 思 議 な 活 気 が 流 れます。 素 晴 らしい 経 験 がで<br />
きるでしょう。<br />
20
学 生 のためのページ<br />
すぐに 役 立 つプラズマエレクトロニクス<br />
反 応 性 イオンエッチング<br />
新 潟 大 学 安 部 隆<br />
反 応 性 イオンエッチング(Reactive Ion<br />
Etching : RIE) 法 は、 大 規 模 集 積 回 路 (Large<br />
Scale Integration : LSI) 分 野 や 微 小 電 気 機 械<br />
システム(Micro Electro Mechanical Systems :<br />
MEMS) 分 野 などの 微 細 加 工 において 特 に 正 確 に<br />
凹 凸 を 作 る 必 要 性 があるプロセスに 採 用 されてい<br />
る。この RIE 法 の 本 質 を 理 解 しうまく 使 いこなせ<br />
ることは、 卒 業 研 究 において RIE を 利 用 して、こ<br />
れらの 分 野 のセンサ・デバイスの 研 究 をするため<br />
だけでなく、 将 来 、 会 社 で 生 産 やプロセス 装 置 の<br />
開 発 の 現 場 に 従 事 する 上 でもとても 重 要 である。<br />
本 稿 では, 上 記 の 分 野 の 学 生 だけでなく 本 法 を 利<br />
用 して 微 細 加 工 を 行 っている 幅 広 い 分 野 の 学 生 を<br />
対 象 に、 数 式 や 専 門 的 な 用 語 を 用 いずに 初 等 力 学<br />
レベルの 知 識 で 理 解 できるようにその 原 理 と 利 用<br />
例 についての 解 説 を 試 みる。<br />
1. RIE の 基 本 的 構 成<br />
1.1 RIE 装 置<br />
RIE 法 1)は、ガスをプラズマ( 電 離 気 体 )、 光 あ<br />
るいはイオンビームで 活 性 化 ( 励 起 )させエッチ<br />
ングを 行 う 種 々のドライエッチング 法 の 中 でプラ<br />
ズマエッチング 法 として 大 別 されている。 特 に、<br />
このプラズマエッチング 法 において、ウェハ( 被<br />
加 工 材 )を 負 の 電 位 とし、プラズマ 中 に 含 まれる<br />
ハロゲン 化 物 イオンなどのイオンをウェハに 垂 直<br />
に 入 射 させて 行 うエッチング 法 のことを RIE と<br />
定 義 している。 本 法 は、プラズマ 中 で 発 生 したラ<br />
ジカルの 被 加 工 材 への 吸 着 による 表 面 での 化 学 的<br />
なエッチング 作 用 と 負 電 位 で 加 速 されたイオンに<br />
よる 物 理 的 なエッチング 作 用 が 相 乗 した 効 果 を 特<br />
徴 として 持 つ( 図 1)。ゆえに、 正 確 に 希 望 の 凹 凸<br />
形 状 に 制 御 するためには、これらの 効 果 のバラン<br />
スを 科 学 する 視 点 が 不 可 欠 である。 図 2 に 代 表 的<br />
な RIE 装 置 の 構 成 図 を 示 す。 反 応 容 器 の 中 に 一 対<br />
の 平 行 電 極 を 配 置 し、 片 方 を 接 地 し、 他 方 の 電 極<br />
にコンデンサーを 介 して 高 周 波 電 圧 を 印 加 できる<br />
構 成 である。 図 に 示 すように 接 地 された 反 応 容 器<br />
自 体 が 電 極 の 場 合 もある。 減 圧 した 反 応 容 器 中 に<br />
ガスを 導 入 し 高 周 波 を 印 加 させて 放 電 すると、コ<br />
ンデンサー 部 では 高 周 波 の 周 波 数 に 対 応 した 電 界<br />
方 向 の 変 化 によりコンデンサー 中 の 電 子 が 充 放 電<br />
を 繰 り 返 すことになる。ここで、コンデンサーの<br />
放 電 時 間 及 びイオンの 応 答 速 度 ( 詳 しくは 1.2 節<br />
参 照 )よりも 早 いサイクルの 高 周 波 電 源 ( 例 えば、<br />
13.56 MHz)を 使 用 するとコンデンサーは 常 に 負<br />
電 位 の 状 態 になる。つまり、このコンデンサーと<br />
直 結 した 陰 極 には 正 電 荷 を 有 するイオンが 加 速 し<br />
衝 突 し 電 極 上 にあるウェハのエッチングが 進 行 す<br />
ることになる。アース 電 位 に 対 して 直 流 成 分 の 電<br />
位 差 のことを 自 己 バイアス 電 位 と 呼 んでいる。こ<br />
の 自 己 バイアス 電 位 は 前 述 のエッチングの 物 理 的<br />
効 果 と 化 学 的 な 効 果 を 制 御 する 重 要 な 因 子 の 一 つ<br />
である。<br />
図 1 RIE の 基 本 的 機 構<br />
21
図 2 典 型 的 な RIE 装 置 の 構 成 図<br />
1.2 RIE の 代 表 的 なプラズマ 源<br />
前 節 でご 紹 介 した 装 置 構 成 は、 平 行 平 板 型 RIE<br />
装 置 と 呼 ばれており、 最 も 代 表 的 なエッチング 装<br />
置 である。 図 3 に 反 応 性 イオンエッチングに 採 用<br />
されているその 他 の 代 表 的 なプラズマ 源 を 示 す。<br />
平 行 平 板 プラズマ(Capacitively Coupled<br />
Plasma : CCP) 1) に 加 えて、マグネトロンプラズマ<br />
(Magnetron Plasma) 2) 、 電 子 サイクロトロン 共 鳴<br />
(Electron-Cyclotron- Resonance : ECR)プラズマ<br />
3) 、 誘 導 結 合 プラズマ(Inductively Coupled<br />
Plasma : ICP) 4) が 代 表 的 なプラズマ 源 として 有<br />
名 である。その 他 にはヘリコン 波 プラズマや 表 面<br />
波 プラズマなどが 知 られている。<br />
図 3 代 表 的 なプラズマ 源 (a) マグネトロン<br />
(b) ECR (c) ICP<br />
マグネトロンプラズマの 基 本 構 成 は 平 行 平 板 型 が<br />
ベースである 場 合 が 多 い。 磁 力 線 により 荷 電 粒 子<br />
を 閉 じ 込 める 効 果 によりプラズマが 高 密 度 化 し<br />
CCP よりも 低 圧 力 下 ( 数 十 mtorr)でも 放 電 が 安 定<br />
になる 特 徴 がある。これは、 低 圧 力 下 ではガスの<br />
平 均 自 由 行 程 が 長 くなるために 衝 突 確 率 が 低 下 し<br />
電 離 し 難 くなるが、 荷 電 粒 子 は、 磁 力 線 の 周 りを<br />
回 転 運 動 するために 衝 突 確 率 が 高 くなり 放 電 しや<br />
すくなるためである。マグネトロン RIE は 簡 単 な<br />
装 置 構 成 で 中 程 度 の 高 密 度 なプラズマ(10 10 cm -3<br />
程 度 )を 実 現 できる。ECR プラズマは、 磁 界 の 存<br />
在 下 で 電 子 のサイクロトロン 周 波 数 に 相 当 する<br />
GHz 帯 のマイクロ 波 を 照 射 し 電 子 を 円 運 動 させ<br />
てイオンに 衝 突 させて 生 成 させるプラズマである。<br />
プラズマ 中 のイオンと 電 子 ( 陽 子 の 約 1836 分 の 1<br />
の 質 量 )は、その 質 量 が 少 なくとも 三 桁 、イオン 種<br />
によっては 四 桁 以 上 異 なる。 高 周 波 中 の 荷 電 粒 子<br />
の 運 動 エネルギーは 周 波 数 の 自 乗 と 質 量 に 反 比 例<br />
するため、イオンと 電 子 では 加 速 され 追 従 できる<br />
周 波 数 帯 が 大 きく 異 なる。 追 従 できる 周 波 数 の 限<br />
界 は、イオンは 数 MHz ( 当 然 ながらイオン 種 に 依<br />
存 )であるが、 電 子 は 約 GHz( 磁 場 が 0.875T では<br />
2.45 GHz)で 大 きな 違 いがある。このような 特 徴<br />
を 利 用 すれば、 異 なる 周 波 数 帯 の 高 周 波 を 印 加 す<br />
る 箇 所 を 空 間 的 に 分 離 することでイオンと 電 子 を<br />
別 々に 選 択 しそのエネルギーを 制 御 することがで<br />
きる。なお、 使 用 する 電 源 の 周 波 数 は 電 波 法 で 制<br />
限 があるために 何 でも 使 用 してよい 訳 ではなく、<br />
ISM(Industry-Science-Medical)バンドと 言 われ<br />
る 産 業 ・ 科 学 ・ 医 療 分 野 で 汎 用 的 に 割 り 当 てられ<br />
た 周 波 数 の 電 源 を 使 用 することが 多 い。<br />
ECR プラズマでは、イオンを 引 き 込 む 部 分 (セル<br />
フバイアスを 制 御 する 部 分 )とプラズマを 生 成 す<br />
る 部 分 が 空 間 的 に 分 離 しているために 制 御 性 に 優<br />
れている。しかし、 大 きな 電 磁 石 と 冷 却 機 器 を 使<br />
用 するなど 装 置 が 大 型 化 する 問 題 がある。 最 近 は、<br />
永 久 磁 石 を 用 いた 小 型 の 装 置 も 市 販 されている。<br />
ICP は、プラズマ 生 成 部 に、 誘 導 コイルを 使 用 し<br />
ており、コイルの 周 期 的 な 電 界 の 変 化 に 対 応 した<br />
電 磁 誘 導 によりプラズマ 中 の 電 子 が 加 速 されて 放<br />
電 するプラズマである。ICP を 用 いた RIE も、イ<br />
オンを 引 き 込 む 部 分 が 独 立 であり 制 御 性 に 優 れて<br />
いる。 本 プラズマは、 誘 導 コイルを 設 置 するだけ<br />
22
で、 小 型 でかつ 高 密 度 なプラズマ(10 11 cm -3 )が 発 生<br />
できるために、 新 分 野 の MEMS などでも 高 速 エ<br />
ッチング 加 工 に 多 用 されている(2 章 参 照 )。<br />
1.3 RIE を 制 御 する 因 子 とその 効 果<br />
RIE を 制 御 する 因 子 とその 効 果 を 理 解 すること<br />
は 生 産 の 現 場 で 特 に 重 要 である。センサ・デバイ<br />
スの 性 能 を 左 右 するエッチング 不 良 は 量 産 中 に 発<br />
生 することもあり 迅 速 な 対 応 が 求 められるためで<br />
ある。また、 新 規 材 料 のプロセスの 開 発 において<br />
も 研 究 指 針 を 決 定 する 上 で 重 要 である。この 場 合<br />
は、 被 加 工 材 に 対 して 揮 発 性 の 反 応 生 成 物 を 生 成<br />
するか 否 かが 重 要 である。RIE を 制 御 するための<br />
代 表 的 な 因 子 は、 真 空 度 、セルフバイアス 電 圧 (イ<br />
オンを 引 き 込 む 電 極 の 電 源 パワー)、 温 度 ( 反 応 生<br />
成 物 の 蒸 気 圧 と 関 連 )、プラズマ 密 度 ( 生 成 部 電 源<br />
のパワー)、ガス 流 量 および 排 気 特 性 である。それ<br />
ぞれの 効 果 は、 装 置 定 数 に 依 存 するために 定 量 的<br />
な 議 論 が 不 可 能 である。ここでは、 定 性 的 にその<br />
効 果 について 解 説 する。<br />
真 空 度 は、 平 均 自 由 工 程 と 物 理 的 なエッチング 効<br />
果 により、 加 工 断 面 形 状 の 垂 直 性 や 被 加 工 面 粗 さ、<br />
マスク 材 料 との 選 択 比 とそれに 伴 う 形 状 変 化 など<br />
と 関 連 してくる 因 子 である。エッチング 速 度 につ<br />
いては、 酸 化 物 のような 物 理 的 な 効 果 が 重 要 な 材<br />
料 の 場 合 は、バイアスがなくても 自 発 的 にエッチ<br />
ングが 進 むシリコンのような 材 料 と 比 較 し、 低 圧<br />
側 でエッチング 速 度 のピークがある。<br />
セルフバイアス 電 圧 は、イオンのエネルギーを 高<br />
め、 化 学 的 なエッチング 効 果 との 相 乗 作 用 により<br />
エッチング 速 度 および 選 択 比 の 向 上 とつながる 因<br />
子 である。しかし、 高 すぎる 場 合 は、エッチング<br />
速 度 は 高 くなるが、 物 理 的 なエッチング 効 果 によ<br />
り、 選 択 比 低 下 とそれによるマスク 材 の 端 面 の 後<br />
退 により 加 工 断 面 形 状 がテーパ 形 状 になるなどの<br />
課 題 が 発 生 する。また、 急 激 な 温 度 上 昇 により、<br />
ウェハと 熱 膨 張 係 数 の 大 きく 違 うマスク 材 料 を 用<br />
いた 場 合 には 亀 裂 が 入 ることもある。このような<br />
課 題 に 加 えて、ウェハの 冷 却 能 を 考 慮 して 印 加 す<br />
る 高 周 波 電 圧 の 上 限 を 決 定 しないと 陰 極 周 辺 を 構<br />
成 する 材 料 の 熱 膨 張 係 数 の 違 いにより 部 品 が 破 損<br />
する 場 合 もあるので 注 意 すべきである。<br />
温 度 は、 被 加 工 材 の 反 応 生 成 物 の 蒸 気 圧 によって<br />
は 特 に 重 要 な 因 子 である。LSI や MEMS のウェ<br />
ハプロセスでは、Si や SiO2 が 代 表 的 な 被 加 工 材<br />
であるために、これらと 揮 発 性 のガスを 生 成 する<br />
ハロゲン 化 合 物 が 使 用 される。CF4 や SF6 のよう<br />
なエッチングガスを 用 いたフッ 素 プラズマによる<br />
Si のエッチングでは、-90℃ 以 下 まで 冷 却 しない<br />
限 り 等 方 的 なエッチング 効 果 によりマスク 下 のア<br />
ンダーエッチが 入 る 5) 。これを 防 ぐには、 例 えば、<br />
C4F8, C3F8, CHF3 ガスのような 反 応 生 成 物 とし<br />
てテフロン 系 の 高 分 子 が 発 生 するガスを 単 独 ある<br />
いは 添 加 することで 側 面 を 保 護 し 方 向 性 ( 異 方 性 )<br />
のある 加 工 を 行 うことができる。 当 然 ながら、 側<br />
面 保 護 膜 が 形 成 される 場 合 は、 加 工 断 面 のテーパ<br />
形 状 が 温 度 に 依 存 する。<br />
プラズマ 密 度 は、プラズマ 源 の 選 定 で 大 きく 左 右<br />
される 因 子 である。しかし、 同 じプラズマ 源 を 使<br />
用 しても 条 件 や 使 い 方 によっては 効 果 的 に 放 電 さ<br />
れていない 場 合 もある。ICP や ECR プラズマを<br />
使 用 するとプラズマ 密 度 が 平 行 平 板 と 比 較 し 二 桁<br />
程 度 高 い 値 (10 11 cm -3 )となることが 知 られている。<br />
これらのプラズマを 有 効 に 扱 うには 圧 力 の 最 適 化<br />
も 重 要 である。 数 mtorr 程 度 の 低 圧 下 でも 安 定 に<br />
放 電 できるために MEMS 分 野 で 重 要 な 高 アスペ<br />
クト 比 を 持 つパターンや LSI 分 野 で 重 要 な 1μm<br />
以 下 の 微 細 なパターンの 加 工 に 適 している。ICP<br />
では、 誘 導 コイルに 流 す 高 周 波 電 源 と 自 己 バイア<br />
ス 電 圧 を 制 御 可 能 とするウェハに 印 加 する 高 周 波<br />
電 源 の 周 波 数 が 同 一 の 場 合 は 位 相 整 合 が 放 電 の 安<br />
定 性 で 重 要 である。これは、 一 方 の 電 源 周 波 数 自<br />
体 を 他 方 と 変 えることでも 解 決 できる。 本 プラズ<br />
マでは、 誘 導 コイルに 流 す 電 力 を 調 整 することで<br />
自 己 バイアス 電 圧 とは 独 立 に 制 御 可 能 な 高 密 度 プ<br />
ラズマを 実 現 できる。<br />
ガス 流 量 は、 排 気 特 性 とも 密 接 に 関 係 した 因 子 で<br />
ある。プラズマ 中 には、 電 離 で 発 生 したラジカル、<br />
イオン 以 外 に 電 離 していないガスも 存 在 する。ガ<br />
ス 流 量 の 増 加 は、ラジカル、イオンの 増 加 により<br />
高 エッチング 速 度 となるが、 希 釈 する 効 果 もあり<br />
最 適 値 が 存 在 する。また、 排 気 特 性 の 悪 い 装 置 で<br />
は、 同 じガス 流 量 でも、 反 応 生 成 物 の 滞 留 時 間 が<br />
長 くなり、ウェハへの 再 付 着 により、マイクログ<br />
ラス 生 成 による 表 面 粗 さの 増 加 、エッチング 速 度<br />
の 低 下 などの 現 象 が 発 生 する。 壁 面 や 被 加 工 材 に<br />
23
残 留 した 水 分 子 などの 吸 着 ガスの 影 響 も 無 視 でき<br />
ない。 以 上 に 述 べたように、ガス 流 量 だけの 因 子<br />
で 説 明 できない 現 象 が 発 生 する。エッチング 量 が<br />
数 百 μm も 必 要 とする 場 合 もある MEMS 分 野 で<br />
は、 排 気 特 性 はデバイス 加 工 時 間 、 加 工 形 状 の 再<br />
現 性 に 関 わる 重 要 な 因 子 である。<br />
2. RIE の 利 用 例<br />
2.1 半 導 体 プロセスへの 利 用<br />
半 導 体 プロセスでの 基 本 的 な 被 加 工 材 料 は、 半 導<br />
体 材 料 (Si、Poly-Si)、 絶 縁 膜 材 料 (SiO2、Si3N4<br />
など)および 配 線 用 金 属 材 料 (Al、Cu など)であ<br />
る。これらの 材 料 の 直 接 加 工 あるいは 化 学 機 械 研<br />
磨 (CMP)などの 工 程 で 埋 め 込 むトレンチ 形 成 な<br />
どの 間 接 加 工 において RIE の 原 子 レベルでの 制<br />
御 性 が 活 躍 している。 半 導 体 材 料 の 加 工 において<br />
は、これらの 材 料 と 揮 発 性 の 生 成 物 を 発 生 する<br />
CF4 などが 使 用 されている。 絶 縁 膜 材 料 では、<br />
CHF3などの Si 上 で 堆 積 膜 を 形 成 するガスが 使 用<br />
される 場 合 が 多 い。これは、 下 地 Si やマスク 材 料<br />
との 選 択 性 が 要 求 されることが 多 いためである。<br />
CHF3 プラズマは、H を 含 み C-C 結 合 を 形 成 しや<br />
すいために 高 分 子 を 形 成 し 被 加 工 材 上 に 堆 積 する。<br />
この 堆 積 物 は SiO2 上 では 酸 化 され 保 護 膜 となら<br />
ないが Si 上 では 保 護 膜 となり 高 い 選 択 性 が 得 ら<br />
は 単 独 ガスだけが 使 用 される 場 合 もあるが 反 応 系<br />
をより 精 密 に 制 御 するために Ar や H2などを 添 加<br />
することも 多 い。 特 に、PZT、ZnO などの 難 加 工<br />
性 の 機 能 性 材 料 の 加 工 や 特 に 選 択 比 を 高 くする 必<br />
要 がある 加 工 では、 多 成 分 のガスを 使 用 しその 割<br />
合 調 整 で 最 適 化 する 取 り 組 みが 数 多 く 行 われてい<br />
る。<br />
2.2 Si-MEMS プロセスへの 利 用<br />
MEMS プロセスは、 表 面 マイクロマシニング<br />
とバルクマイクロマシニングの 二 つに 大 別 されて<br />
いる( 図 4) 8) 。 表 面 マイクロマシニングは、 加 速 度<br />
センサや 振 動 ジャイロに 代 表 される 構 造 体 の 厚 さ<br />
が 数 μm 程 度 の 機 械 要 素 からなるデバイス 作 製<br />
の 代 表 的 手 法 であり、LSI プロセスと 共 通 なプロ<br />
セスが 多 く、 制 御 要 素 である LSI との 集 積 化 の 点<br />
でも 優 れている。 基 本 的 な 材 料 として Si が 入 手 性 、<br />
機 械 特 性 及 び LSI の 加 工 技 術 を 転 用 できるなどの<br />
観 点 から 使 用 されている。 本 手 法 の 作 製 プロセス<br />
は、 高 温 で 熱 処 理 し 応 力 緩 和 した 絶 縁 膜 上 のシリ<br />
コンを 微 細 加 工 し、 絶 縁 膜 を 部 分 的 に 除 去 ( 犠 牲<br />
層 エッチング)することで、 可 動 構 造 、 振 動 子 な<br />
どからなる 機 械 的 要 素 のマイクロ 構 造 体 を 形 成 す<br />
ることができる。Texas Instruments 社 のデジタ<br />
ルミラーデバイスや Analog Devices 社 の 加 速 度<br />
センサなどの 成 功 例 が 知 られている。<br />
れる 6) 。 同 様 の 効 果 は、CF4 などにおいても H2<br />
を 添 加 することによって 得 られる。H が 存 在 しな<br />
くても F/C の 比 が 低 く 高 分 子 となりやすい C3F6<br />
や C4F8 を 利 用 しても 選 択 性 が 向 上 することが 知<br />
られている 7) 。なお、 絶 縁 膜 上 の Si を 選 択 的 に 加<br />
工 する 場 合 は、ある 程 度 の 選 択 性 は 容 易 に 得 られ<br />
るが 特 に 高 選 択 性 が 要 求 される 場 合 は HBr など<br />
を 使 用 する。 金 属 材 料 では、SiCl4、Cl2、BCl3 や<br />
HBr などが 使 用 される。これらのエッチングガス<br />
を 使 用 しても 反 応 生 成 物 の 揮 発 性 が 低 いためにエ<br />
ッチング 時 の 温 度 を 高 温 にする 場 合 が 多 い。なお、<br />
RIE での 配 線 加 工 において 塩 素 系 ガスの 使 用 はそ<br />
の 加 工 性 の 面 、 安 全 面 や 装 置 負 荷 の 面 で 望 ましく<br />
ないために 下 地 材 料 をフッ 素 系 エッチングガスに<br />
よる RIE で 加 工 し、 金 属 材 料 を 堆 積 し、CMP で<br />
仕 上 げる 方 法 が 開 発 されている。エッチングガス<br />
図 4 表 面 マイクロマシニング(a)とバルクマイ<br />
クロマシニング(b)<br />
バルクマイクロマシニングは、 十 μm から 時 に<br />
は 数 百 μm のウェハを 貫 通 加 工 したバルク 構 造<br />
24
体 を 作 製 する 技 術 であり、 比 較 的 に 加 工 性 の 優 れ<br />
た Si でも 通 常 の RIE 技 術 では 加 工 が 困 難 である。<br />
従 って、 従 来 は、 湿 式 の 結 晶 異 方 性 エッチング 技<br />
術 が 使 用 されてきた。 近 年 、MEMS 特 有 の RIE<br />
プロセスとそれに 対 応 した 装 置 が 開 発 され 使 用 さ<br />
れるようになってきた。この 特 有 の 技 術 が、 深 掘<br />
り 反 応 性 イオンエッチング(Deep Reactive Ion<br />
Etching : DRIE) 法 と 呼 ばれる 手 法 であり、バル<br />
ク 加 工 に 必 要 な 高 速 エッチング、 高 選 択 比 そして<br />
高 アスペクト 形 状 を 実 現 する 手 法 である。DRIE<br />
で 採 用 されている 手 法 は 大 きく 分 けて3つある。<br />
最 も 代 表 的 な 手 法 が Boschプロセスと 呼 ばれる 手<br />
法 であり、 保 護 膜 堆 積 用 (C4F8)とエッチング 用<br />
(SF6)のガスを 時 間 的 に 交 互 に 切 り 替 えて 反 応 容<br />
器 に 導 入 しプラズマを 発 生 する 技 術 である 9) 。 図<br />
5 にそのエッチングのプロセスを 示 す。1.3 節 で<br />
述 べたように Si との 反 応 生 成 物 は 揮 発 性 が 高 く<br />
常 温 では 等 方 的 なエッチングを 示 す。このままで<br />
は、 方 向 性 ( 被 加 工 面 に 対 して 法 線 方 向 )のある<br />
加 工 は 不 可 能 であるが、まず、 次 のサイクルで 保<br />
護 膜 となるフルオロカーボン 膜 を 堆 積 させる 工 程<br />
を 導 入 することで 被 加 工 材 全 面 に 保 護 膜 を 形 成 し、<br />
さらにその 次 のプロセスで 下 面 の 保 護 膜 だけが 選<br />
択 的 に 除 去 されることで 方 向 性 のある 加 工 が 実 現<br />
できる。 本 エッチングでは、 低 圧 でプロセスが 行<br />
われているので、イオンビームは 側 面 でなく 電 界<br />
方 向 が 法 線 となる 底 面 に 選 択 的 に 照 射 されイオン<br />
アシストによるエッチングが 進 行 する。<br />
図 5 Bosch プロセスの 概 略 図 ( 文 献 10より)<br />
その 他 の 手 法 として、エッチング 用 ガスである<br />
SF6だけを 使 用 し Si ウェハを 冷 却 して DRIE を 実<br />
現 する 手 法 、 保 護 膜 形 成 用 ガスと 混 合 してその 割<br />
合 を 調 整 することで 垂 直 形 状 を 実 現 する 手 法 が 知<br />
られている。 冷 却 する 手 法 は、Si との 反 応 生 成 物<br />
の 蒸 気 圧 に 着 目 した 技 術 で LSI プロセスの 研 究 に<br />
おいて 既 知 の 技 術 である。この 方 法 では、ウェハ<br />
の 温 度 を-90℃ 以 下 まで 冷 却 する 必 要 があり、 冷 却<br />
機 構 やウェハの 出 し 入 れに 時 間 を 要 するなど 実 用<br />
面 で 不 都 合 が 多 い。<br />
DRIE で 作 製 する 形 状 には、アスペクトが 50<br />
を 超 えるような 場 合 もあり、さらには 同 一 ウェハ<br />
内 で 多 様 なサイズのパターンの 同 時 形 成 が 求 めら<br />
れる 場 合 もあることから DRIE プロセスの 再 現 性<br />
の 維 持 はとても 難 しい。 特 に、 加 工 プロセスのメ<br />
カニズムに 密 接 に 関 与 している 有 機 材 料 のフルオ<br />
ロカーボンの 形 成 とそのエッチング 耐 性 は、 無 機<br />
材 料 と 比 較 し 反 応 性 が 高 く 温 度 に 敏 感 であるため、<br />
ウェハの 冷 却 ( 貼 付 けの 良 否 も 含 む)や 反 応 容 器<br />
の 温 度 制 御 がとても 重 要 になる。また、 高 アスペ<br />
クト 比 を 持 つことから 予 想 されるように 小 さな 孔<br />
を 加 工 する 場 合 に 見 られるマイクロローディング<br />
効 果 も DRIE でもよく 見 られ 大 きな 問 題 になる。<br />
この 対 策 として、プロセスレシピをエッチングの<br />
進 行 とともに 変 えていくなどの 方 法 が 開 発 されて<br />
いる。<br />
2.3 その 他 材 料 の MEMS プロセスへの 利 用 10)<br />
半 導 体 プロセスと 大 部 分 の MEMS プロセスは、<br />
基 本 的 に 半 導 体 材 料 (Si、Poly-Si)、 絶 縁 膜 材 料<br />
(SiO2、Si3N4 など)を 被 加 工 材 として 想 定 したプロ<br />
セスである。 一 方 、これらの 分 野 以 外 の 研 究 者 に<br />
とっては、Si にこだわる 理 由 がない 場 合 もあり、<br />
ガラス、セラミックスやポリマーといった 材 料 の<br />
加 工 が 必 要 な 場 合 も 多 い。 半 導 体 装 置 としての<br />
RIE 装 置 は 汚 染 防 止 とプロセスの 再 現 性 維 持 のた<br />
めにこのような 材 料 の 導 入 は 考 えられないし、 比<br />
較 的 高 価 である 本 装 置 を 別 の 材 料 専 用 で 導 入 する<br />
ことも 経 済 的 に 考 え 難 い。そのような 中 で、 各 種<br />
ガラス 材 料 は、 光 学 機 器 やバイオ・ 化 学 系 機 器 の<br />
開 発 などの 産 業 上 の 需 要 に 加 えて、 種 々の 化 学 組<br />
成 を 有 する 材 料 への RIE 法 の 適 用 の 可 能 性 を 検<br />
討 するモデルとして 興 味 深 い 材 料 である。 加 工 プ<br />
25
ロセスの 最 適 化 は、 基 本 的 には 1 章 で 学 んだ RIE<br />
の 原 理 を 元 に 以 下 に 述 べるように 絞 っていくこと<br />
ができる。まず、 主 成 分 である SiO2 の 酸 素 との<br />
結 合 を 切 り 反 応 を 進 めさせるためには 物 理 的 なエ<br />
ッチング 効 果 を 強 める 必 要 がある。SF6 あるいは<br />
C4F8 ガスをエッチングガスとして 用 いて、Si と 比<br />
較 してかなり 高 い 自 己 バイアス 下 ( 数 百 V)でかつ<br />
低 圧 下 ( 数 m から 数 十 mtorr)でエッチングを 行<br />
う。 組 成 中 に 上 記 ガスと 沸 点 が 高 い 不 揮 発 性 の 反<br />
応 生 成 物 が 生 成 する 元 素 の 割 合 が 多 い 場 合 は、 上<br />
記 の 物 理 的 なエッチング 効 果 が 重 要 なのはもちろ<br />
んであるが、さらに、 表 面 粗 さの 改 善 、エッチン<br />
グ 速 度 の 向 上 のために 排 気 特 性 の 優 れた 装 置 を 使<br />
用 する 必 要 がある。このように 最 適 化 をしたとし<br />
ても、 図 6 に 示 すようにガラスの 種 類 ( 組 成 の 違<br />
い)に 対 応 した 各 々のガラスに 特 有 の 加 工 形 状 と<br />
なる。 反 応 生 成 物 の 蒸 気 圧 の 低 さが 本 質 な 課 題 で<br />
あり、 極 端 な 高 温 度 でのプロセス、 揮 発 性 を 可 能<br />
な 限 り 高 くできるエッチングガスの 採 用 が 重 要 で<br />
ある。 未 知 の 材 料 の 加 工 の 研 究 に 際 しても 基 本 的<br />
には1 章 に 記 した 原 理 を 元 に 微 視 的 な 視 点 で 検 討<br />
していくと 最 適 化 がうまくいくことが 多 いのでそ<br />
のような 機 会 があればぜひ 試 してみていただきた<br />
い。<br />
ソーダライム<br />
石 英<br />
パイレックス<br />
20μm<br />
20μm<br />
図 6 SF6 ガスを 用 いた DRIE による 各 種 ガラス<br />
のエッチング 結 果 の 違 い( 文 献 10 より)<br />
3. まとめ<br />
本 稿 では、 数 式 を 使 わずに 微 視 的 な 視 点 を 与 え<br />
て RIE 技 術 の 勘 所 を 理 解 できるように 努 めたつ<br />
もりであるが、やはり、 現 象 の 背 景 にある 理 論 を<br />
学 んでおくと 未 知 の 現 象 の 解 釈 と 課 題 解 決 をする<br />
上 で 盤 石 となることは 間 違 いない。RIE は 数 多 く<br />
ある 道 具 の 一 つでしかないと 考 える 学 生 さんにと<br />
っては 本 稿 の 内 容 だけで 十 分 な 可 能 性 もあるが<br />
所 々にある 専 門 用 語 や 数 値 の 本 質 的 意 味 を 学 び、<br />
本 技 術 の 巧 みさを 知 っていただくためにさらに 深<br />
く 学 んでほしいと 思 う。<br />
参 考 文 献<br />
1) N. Hosokawa et al., Jpn.J.Appl.Phys., 13<br />
(1974)435.<br />
2) Y. Horiike et al., Jpn.J.Appl.Phys., 20<br />
(1981)L817.<br />
3) S. Matuo et al., Jpn.J.Appl.Phys., 21<br />
(1982)L4.<br />
4) 菅 井 、 応 用 物 理 、63(1994) 559.<br />
5) 田 地 、 応 用 物 理 、59(1990)1428.<br />
6) K.Nojiri et al,Extnded Abstracts of the 21st<br />
Conference on Solid State Devices and<br />
Materials (1989) 153.<br />
7) Y. Iriyama et al, J. Polym.Sci., A,<br />
Polym.Chem., 30(1992)1731.<br />
8) M.エルベンスポーク 他 、シリコン 加 工 の 基 礎 、<br />
Springer 社 (2001).<br />
9) 式 田 他 監 修 、「マイクロ・ナノデバイスのエ<br />
ッチング 技 術 」シーエムシー 出 版 (2009).<br />
10) 安 部 、MEMS におけるプラズマエッチングの<br />
展 開 、 第 22 回 プラズマエレクトロニクス 講 習<br />
会 、63.<br />
26
国 際 会 議 報 告<br />
4th International Symposium on Advanced Plasma Science<br />
and its Applications for Nitrides and Nanomaterials<br />
(ISPlasma2012)<br />
名 城 大 学 平 松 美 根 男<br />
ISPlasma は、 文 部 科 学 省 の 支 援 を 受 け、 東 海 広 域<br />
ナノテクものづくりクラスター 事 業 の 一 環 として、 当<br />
地 域 に 国 際 競 争 力 を 有 する 先 進 プラズマナノ 科 学 研 究<br />
拠 点 を 形 成 するために 2009 年 から 毎 年 開 催 されてい<br />
る 国 際 会 議 である。 今 回 はその 4 回 目 として、2012<br />
年 3 月 4 日 から 5 日 間 にわたり 中 部 大 学 にて 開 催 され<br />
た。プラズマ 分 野 で 長 い 歴 史 と 研 究 実 績 を 有 する 東 海<br />
地 域 に 国 内 外 から 優 れた 研 究 者 が 集 い、 先 進 プラズマ<br />
科 学 、 窒 化 物 半 導 体 とナノ 材 料 への 応 用 、 産 業 界 への<br />
技 術 移 転 の 仕 組 み 作 りについて 広 く 議 論 するとともに、<br />
最 新 の 研 究 成 果 を 発 表 して 分 野 を 超 えて 活 発 に 情 報 交<br />
換 を 行 った。<br />
プラズマを 中 心 としてその 応 用 分 野 の 窒 化 物 半 導 体<br />
やナノ 材 料 分 野 を1つの 学 会 で 議 論 できることから、<br />
数 多 く 国 際 会 議 がある 中 で、プラズマを 中 心 とする 異<br />
分 野 交 流 の 国 際 会 議 として 認 知 されつつある。 会 議 全<br />
体 の 参 加 者 数 は 年 々 増 加 しており、 今 回 は 800 名 を 超<br />
えた。この 参 加 者 数 はプラズマ 関 連 の 国 際 会 議 として<br />
はかなり 大 きな 部 類 に 入 るものと 考 えられる。また 発<br />
表 件 数 は 全 体 で 464 件 であり、 その 内 訳 は、 基 調 講<br />
演 ・ 招 待 講 演 ・チュートリアル 等 43 件 、 一 般 口 頭 発<br />
表 46 件 ( 含 レイトニュース)、ポスター 発 表 375 件<br />
であった。またそれらの 内 、 海 外 からの 発 表 は、 全 体<br />
のおよそ 半 分 にあたる 218 件 であり、 韓 国 ・ 台 湾 ・ 中<br />
国 などのアジアを 中 心 に、 海 外 における 本 会 議 の 知 名<br />
度 が 徐 々に 高 まりつつある。<br />
関 連 する 主 な 分 野 は 以 下 の 通 りである。<br />
(1) プラズマ 科 学 :プラズマ 源 、 先 進 プラズマ 計 測 技<br />
術 、モデリングとシミュレーション、エッチング<br />
プロセス、 薄 膜 成 膜 プロセス、フレキシブルエレ<br />
クトロニクス、バイオ/ 医 療 用 プラズマ、クリー<br />
ンエネルギー 用 プラズマ、ナノ 材 料 用 プラズマ<br />
(2) 窒 化 物 半 導 体 :GaN および 関 連 材 料 の 結 晶 成 長 、<br />
窒 化 物 MBE 成 長 、 評 価 技 術 、デバイスプロセス、<br />
光 デバイス、 電 子 デバイス<br />
(3) ナノ 材 料 :ナノカーボン 材 料 、ポーラス 材 料 、 表<br />
面 改 質 / 表 面 機 能 化 、コンポジット/ 傾 斜 機 能 材<br />
料 、ナノパーティクル/ナノワイア/ナノロッド、<br />
エネルギー 応 用 向 けナノ 材 料<br />
(4) 産 学 官 連 携<br />
今 回 、 新 たな 試 みとして、 本 会 議 の 前 日 をチュート<br />
リアルに 充 てた。 若 手 への 基 礎 知 識 の 供 与 というより<br />
も、 異 分 野 の 理 解 を 深 め、 分 野 間 融 合 による 新 たな 価<br />
値 創 造 を 目 的 としており、プラズマ 科 学 ・ 窒 化 物 半 導<br />
体 ・ナノ 材 料 の 各 々の 分 野 で 活 躍 する 研 究 者 やベテラ<br />
ンにも 有 意 義 となるよう、 基 礎 から 最 先 端 の 動 向 を 含<br />
んだ 講 義 が 行 われた。 海 外 からの 参 加 者 ・ 第 一 線 で 活<br />
躍 する 研 究 者 が 多 く 聴 講 していたのは 特 徴 的 であった。<br />
チュートリアル 講 演 者 は 以 下 の 通 りである。プラズマ<br />
科 学 :ルール 大 学 ボッフム 校 ・Czarnetzki 教 授 (ドイ<br />
ツ)および 名 古 屋 大 学 ・ 河 野 教 授 、 窒 化 物 半 導 体 : 名<br />
古 屋 大 学 ・ 天 野 教 授 およびサウスカロライナ 大 学 ・<br />
Khan 教 授 (アメリカ)、ナノ 材 料 : 成 均 館 大 学 ・Han<br />
教 授 ( 韓 国 )および 名 城 大 学 ・ 平 松 。<br />
初 日 午 前 は、 三 浦 幸 平 メモリアルホールにて、 初 回<br />
からの 組 織 委 員 長 である 名 古 屋 大 学 ・ 堀 教 授 よる 先 進<br />
プラズマナノ 基 盤 技 術 に 基 づく 東 海 広 域 知 的 クラスタ<br />
ー 創 成 事 業 の 成 果 と 展 望 について 講 演 が 行 われた。 引<br />
き 続 き 中 部 大 学 ・ 飯 吉 総 長 による 特 別 講 演 " How to<br />
Bring the Power of the Sun down to the Earth<br />
~Fusion Plasma and Solar Energy Research~"、 立 命<br />
館 大 学 ・SNU・ 名 西 教 授 による 基 調 講 演 "Importance<br />
of Advanced Plasma for Frontier Nitride<br />
27
Semiconductor Technologies"、ノートルダム 大 学 ・<br />
Kamat 教 授 による 基 調 講 演 "Light Energy<br />
Conversion with Nanostructure Assemblies" が 行 わ<br />
れた。<br />
午 後 からは、3 つの 会 場 にわかれて、プラズマ 科 学 、<br />
窒 化 物 半 導 体 およびナノ 材 料 のそれぞれのセッション<br />
で、 招 待 講 演 と 一 般 講 演 による 最 新 の 話 題 に 対 して 専<br />
門 性 の 高 い 活 発 な 議 論 が 繰 り 広 げられた。パラレルセ<br />
ッション 方 式 の 発 表 は 3 日 目 まで 行 われ、 午 後 の 初 め<br />
にポスター 発 表 が 組 み 込 まれていた。<br />
本 会 議 の 特 徴 は、 分 野 間 融 合 セッションである。こ<br />
れまで 続 けて 実 施 してきたパネルディスカッションに<br />
繋 がる2つの 融 合 セッション( 産 学 官 連 携 と 窒 化 物 半<br />
導 体 セッション: 後 述 )に 加 え、「プラズマ 援 用 結 晶 成<br />
長 」、「カーボン 先 端 材 料 」、および「グリーンイノベー<br />
ション」の 融 合 セッションが 企 画 された。「プラズマ 援<br />
用 結 晶 成 長 」セッションでは、カリフォルニア 大 学 サ<br />
ンタバーバラ 校 ・Speck 教 授 による 基 調 講 演 、また「カ<br />
ーボン 先 端 材 料 」セッションでは、NASA Ames・<br />
Meyyappan 氏 による 基 調 講 演 および 産 総 研 ・ 長 谷 川<br />
氏 による 招 待 講 演 が 行 われ、 最 終 日 にもかかわらず 活<br />
発 な 議 論 が 交 わされた。<br />
異 分 野 融 合 の 目 玉 として 行 われた3つのパネルディ<br />
スカッションは 以 下 の 通 りである。 第 1 は、 産 学 官 連<br />
携 に 焦 点 をあてたもので、「 持 続 的 発 展 を 目 指 した 国 際<br />
研 究 拠 点 形 成 」をテーマに、VTT Finland・Koljonen<br />
氏 、YRP 国 際 連 携 研 究 所 ・ 大 森 氏 、ITRI・Tai 氏 、テ<br />
クノ・インテグレーション・ 出 川 氏 、 産 業 タイムズ・ 泉<br />
谷 氏 による 講 演 のあと、5 氏 に 名 古 屋 大 学 ・ 堀 教 授 を<br />
パネリストに 加 え、 名 古 屋 工 業 大 学 ・ 小 竹 教 授 をモデ<br />
レータとしてパネルディスカッションが 行 われた。 一<br />
般 の 人 にも 幅 広 く 聴 講 できるよう、 関 連 する 講 演 も 含<br />
めた 産 学 官 連 携 セッション 全 体 を 参 加 費 無 料 とすると<br />
ともに、 同 時 通 訳 をつけることでより 深 く 内 容 を 理 解<br />
できるよう 配 慮 がなされた。Tai 氏 により 紹 介 された<br />
台 湾 の ITRI (Industrial Technology Research<br />
Institute) の 例 が 印 象 的 であった。ITRI は 市 場 ニー<br />
ズの 調 査 を 非 常 に 重 視 しており、ニーズ 先 行 で 国 際 競<br />
争 できるように、 国 内 企 業 群 と 大 学 で 共 同 開 発 および<br />
ビジネス 協 力 するためのプラットフォームの 形 成 、そ<br />
れらを 使 ったプロジェクトの 遂 行 まで 手 掛 けている。<br />
ITRI はスピンアウトしてベンチャー 企 業 をかなり 創<br />
出 しており、 台 湾 の 勢 いと 熱 意 を 感 じた。ITRI は、フ<br />
ィンランドの VTT や 昨 年 度 の IMEC のオープンイノ<br />
ベーションの 仕 組 みとは 大 きく 戦 略 が 異 なり、 一 時 代<br />
前 の 元 気 があった 日 本 の 戦 略 にも 似 ている 点 もあるが,<br />
拠 点 形 成 には 市 場 ニーズの 徹 底 調 査 と 迅 速 に 意 思 決 定<br />
できる 仕 組 みの 必 要 性 も 示 唆 された。この 他 にも、 行<br />
政 の 役 割 、ジャーナリストの 目 、 人 材 教 育 など、 様 々<br />
な 観 点 から 拠 点 のあり 方 について 議 論 され、 充 実 した<br />
討 論 が 行 われた。 大 学 などの 研 究 機 関 のほかに、 企 業 、<br />
行 政 等 からも 多 くの 参 加 者 があり、その 意 味 で 本 パネ<br />
ルディスカッションは 大 変 有 意 義 であった。<br />
第 2のパネルディスカッションは「プラズマ 科 学 と<br />
窒 化 物 半 導 体 」である。 異 分 野 融 合 セッションの1つ<br />
である「 先 端 窒 化 物 半 導 体 デバイス」において、<br />
CEA-Grenoble・Daudin 教 授 、 北 海 道 大 学 ・ 橋 詰 教<br />
授 、 東 芝 ・ 齋 藤 氏 らによる 講 演 が 行 われ、 続 いて、 窒<br />
化 物 半 導 体 デバイスとプラズマプロセスとの 関 わりに<br />
焦 点 を 当 て、 名 古 屋 大 学 ・ 天 野 教 授 をモデレータに、<br />
「プラズマ 科 学 と 窒 化 物 半 導 体 III 窒 化 物 半 導 体 デ<br />
バイスにおけるプラズマプロセスの 重 要 性 と 課 題 」に<br />
ついてパネルディスカッションが 行 われた。 窒 化 物 半<br />
導 体 電 子 デバイスの 特 徴 (サウスカロライナ 大 学 ・<br />
Khan 教 授 )、SiC との 比 較 ( 京 都 大 学 ・ 須 田 教 授 )、<br />
MOS 構 造 の 可 能 性 ( 北 海 道 大 学 ・ 橋 詰 教 授 )など 基<br />
礎 的 な 物 性 に 関 する 議 論 、および 同 材 料 を 用 いた 横 型<br />
および 縦 型 デバイスの 優 位 性 を 示 す 例 ( 名 古 屋 工 業 大<br />
学 ・Selvaraj 氏 、 東 芝 ・ 齋 藤 氏 、 豊 田 中 研 ・ 加 地 氏 )<br />
について 詳 しい 議 論 がなされた。また 最 後 に 同 材 料 を<br />
用 いたデバイスの 将 来 展 望 の 議 論 ( 立 命 館 大 学 ・<br />
SNU・ 名 西 教 授 )が 熱 心 に 行 われた。 今 回 のディスカ<br />
ッションでは、 窒 化 物 関 係 者 にとって 極 めて 有 意 義 な<br />
議 論 であったばかりでなく、 他 の 分 野 の 関 係 者 にとっ<br />
ても、 窒 化 物 デバイスのプロセス 技 術 における 現 状 と<br />
課 題 が 明 らかになり、 分 野 を 超 えた 融 合 の 第 一 歩 とな<br />
った。<br />
最 終 日 には、「 先 進 プラズマナノテクノロジーが 拓 く<br />
グリーンイノベーション」というテーマでパネルディ<br />
スカッションが 行 われた。 前 半 は、アリゾナ 州 立 大 学 ・<br />
Nemanich 教 授 、 千 葉 大 学 ・ 吉 川 教 授 、 産 総 研 ・Svrcek<br />
28
博 士 、 東 京 工 業 大 学 ・ 野 崎 准 教 授 による 講 演 が 行 われ<br />
た。 続 いて、 野 崎 准 教 授 をモデレータとし、パネリス<br />
トとして 東 京 大 学 ・ 神 原 准 教 授 ,NASA・Meyyappan<br />
博 士 、Nemanich 教 授 、Svrcek 博 士 の4 名 を 迎 えて 討<br />
論 が 行 われた。 最 初 に 神 原 准 教 授 より、プラズマ 技 術<br />
を 応 用 した 二 次 電 池 開 発 に 関 するショートプレゼンテ<br />
ーションがあった。パネリストや 会 場 から 活 発 な 質 疑<br />
応 答 の 後 、パネルディスカッションへと 移 行 した。パ<br />
ネルディスカッションではモデレータの 野 崎 准 教 授 が<br />
用 意 したプラズマ 技 術 とグリーンケミストリーの 融 合<br />
に 関 する 幾 つかのテーマに 沿 って、 各 パネリストの 専<br />
門 的 見 地 からコメントを 頂 き、パネリスト 間 及 び 会 場<br />
からの 質 疑 応 答 を 行 った。セッションを 通 して 活 発 な<br />
質 疑 応 答 ・コメントが 寄 せられた。 今 回 のディスカッ<br />
ションは、グリーンケミストリーへのプラズマ 技 術 応<br />
用 にとって 極 めて 有 意 義 な 議 論 となった。<br />
今 回 よりプラズマ 科 学 、 窒 化 物 半 導 体 ならびにナノ<br />
材 料 のそれぞれの 分 野 における 最 優 秀 発 表 賞 を 選 定 す<br />
ることになり、 最 後 に 表 彰 式 が 行 われた。 選 考 の 結 果 、<br />
首 都 大 学 東 京 ・ 杤 久 保 教 授 がプラズマ 科 学 分 野 の 最 優<br />
秀 発 表 賞 ( 口 頭 発 表 部 門 )の 最 初 の 受 賞 者 となった。<br />
受 賞 者 は 以 下 の 通 りである。<br />
Best Presentation Award (Oral)<br />
・Plasma Science<br />
F. Tochikubo, Tokyo Metropolitan University<br />
・Nitride Semiconductors<br />
F. Fukuyo, Mie University<br />
・Nanomaterials<br />
A. Al-Zubaidi, Nagoya Institute of Technology<br />
Best Presentation Award (Poster)<br />
・Plasma Science<br />
K. Kamataki, Kyushu University<br />
・Nitride Semiconductors<br />
T. Takimoto, Tokyo Metropolitan University<br />
・Nanomaterials<br />
K. Makihara, Nagoya University<br />
次 回 の ISPlasma2013 は、 名 古 屋 大 学 において 開 催<br />
され、 例 年 よりも1ヶ 月 早 く、2013 年 1 月 28 日 ~2<br />
月 1 日 の 予 定 である。<br />
29
国 際 会 議 報 告<br />
5th International Conference on Plasma Nanotechnology and<br />
Science (IC-PLANTS 2012) 報 告<br />
名 古 屋 大 学 プラズマナノ 工 学 研 究 センター(PLANT) 石 川 健 治<br />
本 国 際 会 議 は「プラズマナノテクノロジー」,「 大<br />
気 圧 プラズマとバイオテクノロジー」をトピック<br />
スとして,2012 年 3 月 9 日 ( 金 )から 10 日 ( 土 )まで<br />
の 2 日 間 にわたり,98 件 の 発 表 (うちポスター79<br />
件 ),125 名 ( 外 国 より 18 名 , 日 本 107 名 )の 参<br />
加 者 が 集 まり 盛 会 となりました.<br />
今 回 チュートリアルを 含 めて 基 礎 的 な 部 分 から<br />
説 明 していただき, 出 席 者 の 方 々は 低 温 プロセス<br />
プラズマを 再 度 理 解 し 直 す 機 会 が 得 られました.<br />
プラズマの 生 成 について Chabert 教 授 (Ecole 理<br />
工 科 大 )から 低 圧 高 周 波 放 電 の 物 理 ,Graham 教 授<br />
(Queen’s 大 )より 液 体 ・ 気 体 の 大 気 圧 プラズマ,<br />
Brinkmann 教 授 (Ruhr 大 )より 容 量 性 結 合 プラズ<br />
マの 加 熱 機 構 について 講 演 いただきました.やや<br />
もすれば 複 雑 なプラズマ 生 成 について, 再 考 する<br />
機 会 と 平 易 な 説 明 を 受 けられたと 思 います.<br />
また,プラズマ 診 断 について 河 野 教 授 ( 名 古 屋<br />
大 )よりレーザートムソン 散 乱 ,Czarnetzki 教 授<br />
(Ruhr 大 )よりプラズマ 診 断 ,Goeckner 教 授 (テ<br />
キサス 大 )より 電 子 ビーム 励 起 発 光 分 光 によるプ<br />
ロセスモニタについて 講 演 いただきました.まだ<br />
まだ 新 しい 診 断 技 術 を 開 発 して 所 望 のパラメータ<br />
を 研 究 者 自 身 が 得 るさらなる 努 力 の 必 要 性 をます<br />
ます 痛 感 します.<br />
プラズマ 分 野 の 広 がりとしては, 大 野 教 授 ( 名<br />
古 屋 大 )より 核 融 合 プラズマからプラズマプロセ<br />
スへの 道 筋 , 白 谷 教 授 ( 九 州 大 )よりプラズマの<br />
揺 らぎとプラズマナノ 工 学 といった 内 容 の 講 演 を<br />
いただきました.プラズマ 研 究 の 学 術 的 に 深 化 さ<br />
せていく 興 味 深 い 試 みです.<br />
プラズマナノ 工 学 として, 殊 に 材 料 面 で 梅 原 教<br />
授 ( 名 古 屋 大 学 )より 窒 化 炭 素 膜 による 低 摩 擦 表<br />
面 ,Yoo 博 士 (NFRI)より 中 性 ビームによる 低 温<br />
GaN 成 長 , 渡 辺 教 授 ( 東 工 大 )より 熱 プラズマに<br />
よるナノ 微 粒 子 形 成 , 白 藤 教 授 ( 大 阪 市 大 )より<br />
μ 溶 液 プラズマについて 講 演 いただきました.プ<br />
ラズマのもつ 非 平 衡 反 応 場 の 有 効 性 を 議 論 できた<br />
と 思 います.<br />
さらに, 昨 今 注 目 しているプラズマの 生 体 への<br />
応 用 について,Kim 教 授 (Clemson 大 )より 大 気<br />
圧 μプラズマの 癌 治 療 への 応 用 ,Gans 教 授 (York<br />
大 )より 大 気 圧 プラズマの 健 康 器 具 への 応 用 ,<br />
Favia 教 授 (Bari 大 )よりプラズマ 処 理 表 面 の 細 胞<br />
接 着 について 講 演 いただきました.この 分 野 の 今<br />
後 の 発 展 に 向 けて,ますます 学 際 融 合 領 域 にわた<br />
り 有 益 な 議 論 と 情 報 交 換 が 必 要 で 有 り,その 一 端<br />
がなされました.<br />
若 手 から 白 井 助 教 ( 首 都 大 )より 大 気 圧 放 電 で<br />
の 気 液 界 面 に 表 れる 自 己 組 織 化 放 電 パターンにつ<br />
いて, 光 木 助 教 ( 熊 本 大 )より 光 音 響 波 診 断 , 津<br />
田 君 ( 京 都 大 )より 斜 入 射 イオンによるシリコン<br />
凹 凸 形 成 のシミュレーション, 北 崎 君 ( 九 州 大 )<br />
より 乾 燥 酵 母 へのプラズマ 照 射 による 増 進 効 果 に<br />
ついて 講 演 がありました.<br />
ますますプラズマの 学 術 的 ・ 工 学 的 な 発 展 は,<br />
やはり 世 界 の 研 究 者 との 交 流 ・ 協 力 が 欠 かせなく,<br />
その 応 用 範 囲 の 広 がりを 模 索 しつつ, 総 合 的 プラ<br />
ズマ 研 究 へ 総 力 を 挙 げた 取 り 組 みが 期 待 されます.<br />
本 会 議 の 様 子 はホームページ(*)も 参 考 にし<br />
てください. 次 回 の 2013 年 の 開 催 も 予 定 されてい<br />
ますので,プラエレ 分 科 会 会 員 の 皆 様 の 参 加 を 心<br />
よりお 待 ちしております.<br />
*http://www.plasma.engg.nagoya-u.ac.jp/IC-2012/h<br />
ighlight.html<br />
30
国 際 会 議 報 告<br />
2012 MRS Spring Meeting<br />
Symposium WW<br />
Plasma Processing and Diagnostics for Life Sciences<br />
九 州 大 学 白 谷 正 治<br />
応 用 物 理 学 会 と MRS の 合 同 シンポジウム<br />
Symposium WW: Plasma Processing and Diagnostics<br />
for Life Sciences が,2012 年 4 月 9 日 〜4 月 12 日<br />
に San Francisco のマリオットホテルで 開 催 されま<br />
した.プラズマのバイオ 応 用 に 関 する 研 究 が, 従<br />
来 の 細 胞 等 にプラズマ 照 射 を 行 い,その 結 果 を 調<br />
べるという 時 代 から,バイオアッセイ,ESR,ラジ<br />
カル 計 測 等 から 得 られる 知 見 をもとに,プラズマ<br />
と 生 体 物 質 の 相 互 作 用 の 詳 細 を 議 論 する 時 代 に 移<br />
り 変 わったことを 明 瞭 に 示 したシンポジウムとな<br />
りました. 特 に,プラズマ, 材 料 分 析 ,バイオ 研<br />
究 者 , 医 療 関 係 者 等 の 異 分 野 の 研 究 者 が, 適 度 の<br />
割 合 で 参 加 して, 深 い 議 論 が 行 えたところに 特 長<br />
があります.また, 日 本 からの 講 演 内 容 は, 極 め<br />
て 高 いレベルであると 感 じました.このように,<br />
今 回 の 新 しい 試 みは 成 功 であったといえます.<br />
初 日 に Tutoral 講 演 3 件 ,2−4 日 目 に 招 待 講 演<br />
19 件 , 一 般 口 頭 講 演 27 件 ,ポスター 講 演 13<br />
件 の 発 表 がありました(http://mrs.org/s12-<br />
program-ww/).プログラムとアブストラクトは,<br />
ホームページ 上 で 誰 でも 無 料 で 閲 覧 できます.ま<br />
た,e-proceedings が 発 行 されます.e-proceedings<br />
は,MRS 会 員 は 無 料 で 閲 覧 できます. 複 数 のシン<br />
ポジウムを 横 断 したパネルディスカッション”<br />
The Future of Biomaterials Research: The Next 10<br />
Years”が4 月 9 日 に 開 催 されました(http://mrs.org/<br />
s12-biomedical -research/).<br />
Tutoral 講 演 では,Fridman (Drexel Univeristy),<br />
Favia ,(University of Bari) 榊 田 (AIST)の3 名 がプ<br />
ラズマのバイオ 応 用 について 現 在 までの 知 見 をま<br />
とめて 報 告 しました.Fridman は,バイオ 応 用 の<br />
プラズマ 源 ,プラズマ 医 療 に 関 して,Favia はバイ<br />
オ 応 用 のための 表 面 コーティングに 関 して, 榊 田<br />
はプラズマ 止 血 に 関 して 力 点 を 置 いて 解 説 を 行 い<br />
ました.<br />
以 下 には, 特 に 印 象 的 な 点 のみ 述 べさせて 頂 き<br />
ます. 先 ず,バイオフィルムとプラズマとの 相 互<br />
作 用 について 活 発 な 議 論 がなされたのが 印 象 的 で<br />
した.バイオフィルムは, 微 生 物 により 形 成 され<br />
る 構 造 体 ”コロニー”であり, 様 々な 微 生 物 がその<br />
中 で 様 々な 情 報 伝 達 を 行 いながらコミュニティを<br />
形 成 している. 人 間 の 作 る 町 と 同 様 に,バイオフ<br />
ィルムにも, 発 生 ・ 発 展 ・ 衰 退 の 変 遷 がある.そ<br />
の 変 遷 にプラズマ 照 射 が 及 ぼす 影 響 については 未<br />
解 明 の 点 が 多 く, 今 後 の 重 要 な 研 究 テーマの 一 つ<br />
であると 思 われます.<br />
また,MRSA やプリオン 等 の 除 去 が 難 しい 生 体<br />
物 質 にプラズマが 有 効 であることも 示 されつつあ<br />
ります. 外 科 医 からは,プラズマ 止 血 やプラズマ<br />
メスが, 他 の 方 法 に 比 べて 低 侵 襲 性 であり 術 後 の<br />
問 題 点 が 極 めて 少 ない 点 が 強 調 されました. 米 国<br />
では, 実 際 に 人 間 の 医 療 に 適 用 されており, 日 本<br />
でも 早 急 に 各 種 の 制 約 をクリアして, 実 用 に 供 す<br />
ことが 出 来 れば 良 いと 強 く 思 いました.<br />
プラズマ, 材 料 分 析 ,バイオ 研 究 者 , 医 療 関 係<br />
者 等 の 異 分 野 の 研 究 者 との 共 同 研 究 が 非 常 に 多 く,<br />
単 独 で 研 究 を 進 めるのには, 限 界 が 有 ると 思 われ<br />
ます. 異 分 野 の 研 究 者 と 上 手 く 協 調 しスピード 感<br />
を 持 って 研 究 を 進 めることが 重 要 だと 思 われます.<br />
次 回 は, 応 用 物 理 学 会 と MRS の 合 同 シンポジ<br />
ウムとして 2013 年 9 月 16 日 〜9 月 20 日 に 同 志 社<br />
大 学 での 応 用 物 理 学 会 で 開 催 する 準 備 を 進 めてお<br />
ります. 積 極 的 な 投 稿 と 御 支 援 をお 願 い 申 し 上 げ<br />
ます.<br />
31
国 際 会 議 報 告<br />
8th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing<br />
(JSPP2012) 報 告<br />
東 北 大 学 寒 川 誠 二<br />
本 国 際 会 議 は、EU における 電 子 衝 突 などの 基<br />
礎 研 究 と 日 本 の 応 用 研 究 の 融 合 およびプラズマプ<br />
ロセスのデータベースの 構 築 を 目 指 して 慶 應 義 塾<br />
大 学 ・ 真 壁 教 授 により 企 画 されてスタートし、2<br />
年 に 一 度 EU と 日 本 で 交 互 に 開 催 されてきた。 今<br />
回 で 第 8 回 目 となり、 大 阪 大 学 ・ 浜 口 教 授 が 実 行<br />
委 員 長 として 2012 年 1 月 16 日 から 18 日 の 3 日<br />
間 にわたり、 奈 良 の 東 大 寺 総 合 文 化 センターで 開<br />
催 された。 今 回 のテーマは「プラズマと 表 面 のた<br />
めの 原 子 分 子 データベース」とし、74 件 の 講 演 ( 特<br />
別 講 演 1 件 、 招 待 講 演 30 件 、 一 般 口 頭 講 演 8 件 、<br />
ポスター 発 表 35 件 )と 77 名 の 参 加 者 ( 一 般 62<br />
名 、 学 生 15 名 )が 集 まり、プラズマ 固 体 相 互 作<br />
用 に 関 する 議 論 を 深 めた。<br />
Bowden 教 授 ( 英 Open 大 )から、 多 結 晶 ダイ<br />
ヤモンドからのマイクロ 放 電 に 関 する 講 演 があっ<br />
た。Hsu 教 授 ( 国 立 台 湾 大 )からは、 大 気 圧 プラ<br />
ズマジェットに 関 する 講 演 があった。リチウムイ<br />
オン 電 池 に 使 う Li4Ti5O12 の 合 成 を、 大 気 圧 プラ<br />
ズマジェットを 用 いて 行 うというものである。<br />
Czarnetzki 教 授 ( 独 Ruhr 大 )からは、アフター<br />
グローにおける 電 子 温 度 緩 和 過 程 に 関 する 講 演 が<br />
あった。 電 子 - 中 性 粒 子 衝 突 過 程 より 電 子 -イオン<br />
衝 突 過 程 のほうが 重 要 になるとする 内 容 である。<br />
また、Mason 教 授 ( 英 Open 大 )から 特 別 講 演 と<br />
して、プラズマプロセスのためのデータベースの<br />
現 状 についての 講 演 があった。US National<br />
Research Council Board の 報 告 (1996)による<br />
と、プラズマプロセスは 未 だに 初 歩 的 なレベルに<br />
とどまっており、 試 行 錯 誤 に 頼 っており、プラズ<br />
マの 物 理 ・ 化 学 に 関 する 理 解 が 重 要 であると 指 摘<br />
されている。また、この 課 題 に 対 してデータベー<br />
スが 構 築 されてきたが、いったん 構 築 されるとメ<br />
ンテナンスされなくなり 古 くなってしまう 問 題 が<br />
指 摘 されており、その 解 決 策 として、ネット 上 で<br />
ブログなどを 用 いてコミュニティによって 常 にメ<br />
ンテナンスされるデータベースの 可 能 性 について<br />
議 論 された。また、 韓 国 National Fusion<br />
Research Institute の DCPP (Data Center for<br />
Plasma Properties)、 日 本 の 核 融 合 科 学 研 究 所 の<br />
データベースについても 報 告 があった。その 他 、<br />
京 都 大 、 東 北 大 、 大 阪 大 および 九 州 大 から 最 先 端<br />
のプラズマプロセスに 関 する 講 演 もあり、 将 来 の<br />
ナノテクノロジーおよびバイオテクノロジーに 関<br />
するプラズマプロセスの 役 割 に 関 して 活 発 な 議 論<br />
が 交 わされました。<br />
現 在 、ナノテクノロジー、バイオテクノロジー<br />
の 発 展 は 目 覚 しいのもがあり、その 中 でのプラズ<br />
マプロセスの 重 要 性 は 益 々 大 きくなっている。し<br />
かし、プラズマプロセスが 産 業 に 大 きく 貢 献 して<br />
いくためには、そのデータベース 化 が 必 要 不 可 欠<br />
であり、 世 界 的 な 連 携 の 中 で 実 行 していくことが<br />
極 めて 重 要 であることを 本 会 議 を 通 して 感 じた。<br />
本 国 際 会 議 を 一 つのきっかけにして、そのような<br />
流 れが 加 速 することが 期 待 される。<br />
次 回 は 2014 年 の 初 め 頃 にスロベニアで 開 催 さ<br />
れる 予 定 となっている。ふるってのご 参 加 を 期 待<br />
する。<br />
( 写 真 ) 会 議 後 、 奈 良 東 大 寺 の 前 で、<br />
慶 応 大 学 ・ 真 壁 教 授 と 招 待 講 演 者<br />
32
国 内 会 議 報 告<br />
2012 年 春 季 第 59 回 応 用 物 理 学 関 係 連 合 講 演 会<br />
第 7 回 分 科 内 招 待 講 演 報 告<br />
京 都 工 芸 繊 維 大 学 比 村 治 彦<br />
2008 年 より 企 画 ・ 実 施 されてきているプラズマエ<br />
レクトロニクス 分 科 内 招 待 講 演 の 第 7 回 目 が、2012<br />
年 春 季 第 59 回 応 用 物 理 学 会 学 術 講 演 会 にて 行 われ<br />
ました。 今 回 は 定 年 でご 退 職 されるお 二 人 の 先 生 か<br />
ら、 学 会 2 日 目 の 午 前 後 半 の 時 間 帯 に30 分 ずつご 講<br />
演 頂 きました。<br />
河 野 明 廣 先 生 ( 名 大 )<br />
「 常 識 になっていないプラズマ 現 象 2 題 (シース・<br />
対 流 )」11:15 ~ 11:45<br />
河 野 先 生 は「シース」から 話 されました。 流 体 モ<br />
デルの 支 配 方 程 式 からスタートされており、これを<br />
磁 場 なし 下 での 無 衝 突 条 件 で 解 かれています。 一 般<br />
に、 考 えている 系 においての 偏 微 分 方 程 式 の 解 を 得<br />
るためには、 準 中 性 条 件 などを 境 界 にて 決 める、つ<br />
まり 境 界 条 件 が 必 要 です。 先 生 は、このときシース<br />
端 での 電 場 の 値 の 与 え 方 でシースの 厚 みが 変 わる<br />
シースエッジ(プレシースの 端 )をプラズマエッジ<br />
(ボーム 速 度 に 達 するところ.ここからイオン 密 度<br />
と 電 子 密 度 がずれ 始 める)と 定 義 し、 一 方 、イオン<br />
シースの 端 をシースエッジ( 電 子 密 度 はない.イオ<br />
ン 速 度 はボーム 速 度 の1.7 倍 )と 呼 んだらいいこと<br />
を 提 案 されてこられましたが、 先 生 曰 く、この 考 え<br />
方 は 学 会 では 受 け 入 れられていないとのことです。<br />
この 点 に 対 する 思 いが、 本 講 演 の 表 題 に 表 れている<br />
感 じがします。 講 演 には 衝 突 性 シースの 話 もありま<br />
したが、ここでは 省 略 させて 頂 きます。<br />
つづいて、プラズマ 中 での 対 流 生 成 の 可 能 性 につ<br />
いて 議 論 なされました。 例 えばマイクロ 波 によるプ<br />
畠 山 力 三 先 生 ( 東 北 大 )<br />
「プラズマ 応 用 ナノカーボンナノバイオトロニク<br />
ス」11:45 ~ 12:15<br />
続 きまして、 畠 山 先 生 がいつものようにエネルギ<br />
ッシュにお 話 を 始 められました。 微 細 化 の 限 界 を 突<br />
破 するためにナノカーボン、 特 にフラーレンやカー<br />
ボンチューブが 盛 んに 研 究 されていますが、それら<br />
をプラズマ 屋 がプラズマテクノロジーを 用 いて 実<br />
現 するという、まさに 職 人 と 思 わずうなるような 畠<br />
山 ワールドに 引 き 込 まれました。<br />
ご 講 演 は、これまで 畠 山 先 生 が 最 前 線 に 立 って 切<br />
り 開 いてこられたと 言 っていい 多 種 多 様 な 研 究 開<br />
発 内 容 が 盛 り 込 まれていました。しかもそれらほぼ<br />
全 ての 研 究 に 対 しまして、 現 在 の 国 家 戦 略 として 掲<br />
げられているグリーンイノベーションとライフイ<br />
ノベーションに 密 接 に 関 係 づき、しかも 極 めてイン<br />
パクトの 強 い 標 題 が 与 えられていました。この 点 に<br />
おきましても、 畠 山 先 生 が 研 究 力 だけを 持 たれてい<br />
るのではなく、プロデューサーとしての 手 腕 をもっ<br />
て、 学 術 分 野 におけるプラズマ 科 学 の 位 置 づけに 心<br />
血 を 注 いでこられてきた 事 を 感 じ 取 れました。<br />
いくつか 列 挙 させていただきますと、「 新 規 プラ<br />
ズマ 生 成 ・ 制 御 法 の 開 発 による 進 化 高 品 質 ナノカー<br />
ボンの 創 生 、 電 子 内 包 プラーレンベースのナノエレ<br />
クトロニクス・ナノバイオメディカル 技 術 の 開 発 、<br />
グリーン・ライフ 双 機 能 創 出 の 新 しいナノ・バイオ<br />
融 合 科 学 、プラズマナノバイオトロニクス、ナノエ<br />
コプラズトロニクス」などです。 畠 山 先 生 のご 講 演<br />
ラズマでは、 局 所 的 に 加 熱 される 領 域 がある 一 方 で, は30 分 ではなく、チュートリアルと 同 じく 講 義 2コ<br />
壁 は 冷 却 されています.このように 大 きな 温 度 勾 配 マ 分 の3 時 間 でお 伺 いしたい 大 変 豊 富 な 内 容 でした。<br />
のある 場 ですが、シミュレーションによるとプラン 最 後 に、 定 年 退 職 前 の 非 常 にご 多 忙 な 中 を 早 稲 田<br />
ドル 数 が1/16より 小 さいと 定 常 流 れができること 大 まで 足 をお 運 びくださり、ご 講 演 下 さりました 両<br />
になり、この 値 が 非 現 実 的 であることから 定 常 対 流 先 生 に 深 く 御 礼 申 し 上 げると 共 に、 講 演 会 場 にお 集<br />
はおこらないと 予 想 されることを 述 べられていま まり 頂 き、 熱 心 にご 聴 講 頂 きました 会 員 各 位 に 感 謝<br />
した。<br />
いたします。<br />
33
国 内 会 議 報 告<br />
2012 年 春 季 第 59 回 応 用 物 理 学 会 関 連 連 合 講 演 会<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 会 チュートリアル 講 演 報 告<br />
東 北 大 学 金 子 俊 郎<br />
応 物 学 会 では,2011 年 秋 季 講 演 会 からチュート<br />
リアル 講 演 を 実 施 しております. 内 容 は 大 学 の 講<br />
義 のスタイルで, 最 近 のトピックスに 繋 がる 基 礎<br />
的 内 容 をこれから 新 たに 学 ぼうとする 学 生 や 企 業<br />
人 を 対 象 として 講 義 を 行 っていただくことが,チ<br />
ュートリアル 講 演 の 趣 旨 となっています.<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 会 では, 今 回 の<br />
2012 年 春 季 講 演 会 から 実 施 することになり,その<br />
第 1 回 目 のチュートリアル 講 演 として,マイクロ<br />
プラズマの 新 領 域 を 立 ち 上 げられ,プラズマ 計 測<br />
の 基 礎 から 最 先 端 のマイクロプラズマや 液 中 プラ<br />
ズマの 応 用 まで 展 開 されている 橘 邦 英 先 生 ( 大 阪<br />
電 気 通 信 大 学 )にお 願 いいたしました.チュート<br />
リアル 講 演 は, 下 記 の 開 催 案 内 にありますように,<br />
学 会 初 日 の 午 前 中 に 設 定 しておりまして,ここで<br />
勉 強 することによって, 午 後 のプラズマエレクト<br />
ロニクス 分 科 会 企 画 のシンポジウム,および 翌 日<br />
以 降 の 一 般 講 演 での 理 解 が 深 まることを 意 図 して<br />
おります.<br />
日 時 :2012 年 3 月 15 日 ( 木 )9:00~12:00<br />
題 目 :マイクロプラズマの 基 礎 と 応 用<br />
講 師 : 橘 邦 英 ( 大 阪 電 気 通 信 大 学 )<br />
概 要 : 大 気 圧 下 の 気 体 や 液 体 中 で 生 成 される mm<br />
以 下 の 大 きさのマイクロプラズマは, 従 来 の 低 圧<br />
気 体 中 で 生 成 されるマクロスケールのプラズマと<br />
は 違 ったプラズマパラメータや, 微 小 空 間 に 起 因<br />
する 外 部 パラメータで 特 徴 づけられる.そのよう<br />
な 特 性 をプラズマ 本 来 の 反 応 性 , 発 光 性 , 導 電 ・<br />
誘 電 性 と 組 み 合 わせることによって,ナノ 材 料 の<br />
合 成 , 微 量 化 学 分 析 ,フォトニックデバイス,さ<br />
らには 環 境 ・バイオ・ 医 療 技 術 等 の 新 しい 応 用 技<br />
術 への 展 開 が 進 められている. 本 講 義 では,マイ<br />
クロプラズマの 特 性 を 分 析 した 上 で, 現 在 の 各 種<br />
マイクロプラズマ 源 とその 応 用 技 術 の 基 礎 につい<br />
て 解 説 し, 将 来 への 発 展 性 について 展 望 する.<br />
当 日 は, 講 演 開 始 30 分 前 から 受 講 者 が 集 まり,<br />
事 前 予 約 と 当 日 参 加 を 含 めて, 定 員 の 70 名 を 上 回<br />
る 約 80 人 の 受 講 者 がおり,チュートリアル 講 演 へ<br />
の 期 待 が 大 きいことを 実 感 いたしました.<br />
講 義 では, 放 電 の 基 礎 から 分 かりやすく 説 明 さ<br />
れ, 特 に 電 子 衝 突 による 励 起 ・ 電 離 における 電 離<br />
係 数 αの 意 味 ,エネルギー 分 布 関 数 の 計 算 例 ,プ<br />
ラズマ 周 波 数 と 分 散 関 係 など, 知 っているつもり<br />
でも 意 外 と 分 かっていない 部 分 もあり, 学 生 はも<br />
ちろんのこと, 教 員 の 立 場 でも 大 変 勉 強 になりま<br />
した.また, 水 中 放 電 プラズマやマイクロプラズ<br />
マの 生 成 法 ・ 測 定 法 について 説 明 されるとともに,<br />
その 応 用 例 についても, 薄 膜 形 成 , 表 面 処 理 , 水<br />
浄 化 処 理 ,さらには 医 療 応 用 で 細 胞 に 対 するプラ<br />
ズマ 照 射 の 効 果 等 , 大 変 興 味 深 い 内 容 で 講 義 して<br />
いただきました.<br />
将 来 展 望 として, 今 後 の 発 展 が 期 待 できる 分 野<br />
を 挙 げていただき, 環 境 応 用 ,バイオ・ 医 療 応 用 ,<br />
新 規 デバイス(メタマテリアル) 開 発 等 がその 候<br />
補 であり, 従 来 の 低 圧 ・ 大 容 量 プラズマで 実 現 で<br />
きないパラメータ 領 域 での 特 性 を 活 用 し,できる<br />
だけ 単 純 化 した 系 での 実 験 を 行 い(モデルとの 比<br />
較 ), 異 なった 系 でも 類 似 性 を 見 出 すことで 物 理 法<br />
則 を 明 らかにする(サイエンスを 構 築 )ことが 重<br />
要 であることを 強 調 されました. 最 後 に,『 新 しい<br />
プラズマ・サイエンスの 領 域 は 創 製 できるか』<br />
との,いまプラズマ 研 究 者 が 直 面 している 極 めて<br />
重 要 な 課 題 を 提 起 していただき, 講 義 を 締 めくく<br />
られました.<br />
3 時 間 という 非 常 に 長 い 時 間 ではありましたが,<br />
その 時 間 を 感 じさせない, 分 かりやすい, 興 味 深<br />
い 講 義 でありました.また, 講 義 で 使 用 するテキ<br />
ストも 大 変 丁 寧 に 作 成 していただきまして, 橘 先<br />
生 の 本 講 義 に 対 する 熱 意 が 伝 わって 参 りました.<br />
あらためまして,ご 講 演 いただきました 橘 先 生<br />
と, 会 場 にお 集 まり 頂 きました 方 々に 感 謝 申 し 上<br />
げます.<br />
講 演 される 橘 先 生 ( 左 )と 受 講 者 ( 右 )<br />
34
国 内 会 議 報 告<br />
2012 年 春 季 応 用 物 理 学 関 係 連 合 講 演 会 シンポジウム<br />
カーボンナノ 材 料 プラズマプロセスの 将 来 展 望<br />
~ 合 成 から 機 能 化 まで~<br />
( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所 山 田 英 明<br />
当 分 科 会 企 画 で、 表 記 シンポジウムが 3 月 15<br />
日 に 早 稲 田 大 学 に 於 いて 開 催 された。カーボン 系<br />
材 料 は、グラフェンやナノチューブ(CNT)など<br />
比 較 的 新 規 な 材 料 から、ダイヤモンド、 特 にダイ<br />
ヤモンド・ライク・カーボン(DLC)など、より<br />
実 用 に 近 い 材 料 まで 多 種 多 様 だが、 全 てプラズマ<br />
を 用 いて 合 成 可 能 な 点 が 共 通 している。 本 シンポ<br />
ジウムでは、プラズマと 結 びつきの 深 いこれらの<br />
カーボン 系 材 料 の 合 成 技 術 及 びその 機 能 化 に 関 し<br />
て 第 一 線 で 活 躍 する 研 究 者 による 講 演 が 行 われた。<br />
講 演 会 場 は 300 人 程 度 収 容 可 能 だったが、 立 ち 見<br />
が 出 る 程 盛 況 で、 質 疑 応 答 も 活 発 であった。 関 心<br />
の 高 さに 加 え、 複 数 領 域 からの 参 加 があったこと<br />
が 要 因 の 一 つと 思 われる。 本 シンポジウムでは、6<br />
件 の 招 待 講 演 者 に 加 え、 一 般 講 演 投 稿 者 の 中 から<br />
希 望 があった1 件 の 講 演 が 行 われた。 以 下 に、そ<br />
れぞれの 講 演 の 概 要 をまとめる。<br />
斎 藤 氏 ( 産 総 研 )から、e-DIPS 法 と 呼 ばれる<br />
気 相 ( 流 動 ) 法 による CNT の 高 速 ・ 大 量 合 成 技<br />
術 、 及 び、その 半 導 体 としての 機 能 特 性 を 確 認 し<br />
た 研 究 結 果 が 紹 介 された。 実 際 に 合 成 されていく<br />
様 子 が 動 画 で 示 され、およそ 5 cm 径 の CNT 凝 集<br />
体 が 180 m/hr 程 度 の 速 度 で 成 長 する、 大 量 合 成<br />
技 術 として 極 めて 高 いポテンシャルを 見 せ 付 けた。<br />
作 製 方 法 としては、スプレーで 噴 射 された 原 料 液<br />
( 触 媒 =フェロセンを 含 むトルエンなどの 液 体 炭<br />
化 水 素 )とキャリアガス 中 のエチレンの 2 種 類 の<br />
炭 素 源 を 加 熱 し、CNT が 気 相 で 析 出 する。 長 さと<br />
直 径 とが CNT の 機 能 を 左 右 する 重 要 な 制 御 パラ<br />
メータであるとし、 講 演 では、ガスの 種 類 やその<br />
分 解 する 領 域 の 制 御 、 及 び、エチレンガスの 流 量<br />
の 制 御 による、 直 径 及 びカイラリティの 制 御 が 達<br />
成 した 結 果 が 紹 介 された。 直 径 の 違 いはバンドギ<br />
ャップの 違 いに 影 響 し、トランジスタのオフ 電 流<br />
の 大 きさの 違 いとして 現 れることを 示 した。 一 方 、<br />
光 吸 収 スペクトルを 用 いて、CNT の 直 径 を 比 較 的<br />
簡 易 に 同 定 する 技 術 が 既 に ISO にて 技 術 仕 様 と<br />
して 採 用 されているとのことであった。 大 竹 教 授<br />
( 東 工 大 )からは、カーボン 系 材 料 の 中 で 最 も 実<br />
用 技 術 に 近 い、DLC コーティング 技 術 及 びそのト<br />
ライボロジー 特 性 について 紹 介 された。「 硬 い」 一<br />
方 で、 相 手 も 自 分 も 傷 が 付 き 難 い 点 が DLC だけ<br />
が 持 つ 特 長 である 点 や、グラフェンや CNT、 単 結<br />
晶 ダイヤモンド 合 成 と 異 なり、イオンビームプロ<br />
セス(イオン 衝 撃 が 必 須 )である 特 徴 などが 紹 介<br />
された。 後 者 については DLC 業 界 では 広 く 知 ら<br />
れた 点 とのことだが、Sp2(グラフェン・CNT)<br />
や Sp3(ダイヤモンド) 構 造 作 製 が 必 要 としない<br />
イオン 衝 撃 を DLC が 何 故 必 要 とするのかは 未 解<br />
明 とのことであった。タングステンメッシュによ<br />
るマスクを 用 いて DLC を 賽 の 目 上 に 合 成 するこ<br />
とで 磨 耗 特 性 を 飛 躍 的 に 改 善 した。 更 に、メッシ<br />
ュサイズや 表 面 の 機 能 化 などにより 更 なる 改 善 が<br />
可 能 ということであった。DLC は、 製 法 ・ 膜 質 な<br />
ど、 定 義 に 依 っては 極 めて 広 い 範 疇 のカーボン 材<br />
料 を 含 む。 実 用 が 近 いこともあり、ニューダイヤ<br />
モンドフォーラム(http://www.jndf.org/、 後 述 の<br />
川 原 田 教 授 が 会 長 )により 標 準 化 へ 向 けての 活 動<br />
中 とのことであった。 金 氏 ( 産 総 研 )からは、 表 面<br />
波 プラズマを 用 いたグラフェンの 大 面 積 合 成 技 術<br />
が 紹 介 された。 熱 CVD と 比 して 低 温 で 合 成 可 能<br />
であり、 且 つ 高 い 電 子 温 度 ・ 密 度 を 達 成 できる 点<br />
から、 表 面 波 プラズマの 優 位 であるとして、 既 に<br />
A3 サイズのグラフェンシートを Roll-to-Roll で 作<br />
製 できる 装 置 の 開 発 を 紹 介 した。また、 作 製 した<br />
グラフェンシートを 透 明 タッチパネルとして 実 際<br />
に 利 用 できる 試 作 機 を 示 し、 材 料 合 成 からアウト<br />
プットとなる 製 品 にまで 幅 広 いアクティビティが<br />
35
紹 介 された。グラフェン 量 産 機 としての 難 点 とし<br />
て、Roll-to-Roll 機 構 を 真 空 チャンバ 中 に 格 納 する<br />
などを 挙 げた。CNT と 並 び 大 量 合 成 技 術 が 確 立 さ<br />
れつつあるので、 今 後 は、コスト 低 減 と 品 質 向 上<br />
などが 課 題 となると 思 われる。 堀 教 授 ( 名 大 )か<br />
らは、カーボンナノウォールの 合 成 とその 機 能 化<br />
について 紹 介 された。グラフェンが 基 材 に 対 して<br />
垂 直 に 配 向 しており、 各 々のグラフェンシートの<br />
エッジが 密 集 して 露 出 している 点 から、エッジが<br />
使 用 可 能 な 点 などが 特 長 とした。 同 教 授 らは、ノ<br />
ーベル 賞 受 賞 へと 繋 がるグラフェンシート 作 製 と<br />
電 気 的 特 性 に 関 する 英 国 研 究 者 による 発 表 と 同 時<br />
期 である 2004 年 に、 既 に 触 媒 を 使 用 せずにグラ<br />
フェン 合 成 に 成 功 していたという。カーボンナノ<br />
ウォールの 形 態 (シートの 直 線 性 など)や、 密 集<br />
度 (ウォール 同 士 の 間 隔 )、に 加 え 電 気 的 特 性 など<br />
を 合 成 条 件 に 依 ってある 程 度 自 由 に 制 御 できるこ<br />
とを 示 した。 表 面 積 の 高 さを 利 用 して 燃 料 電 池 へ<br />
の 応 用 が 紹 介 され、 超 臨 界 状 態 を 用 いることで、<br />
作 成 後 のナノウォール 表 面 に TiO2 を 高 い 分 散 性<br />
で 付 着 させることが 可 能 であることが 紹 介 された。<br />
この TiO2 はルチル 型 ではなく、アナターゼ 型 と<br />
して 選 択 的 に 形 成 されているとのことであった。<br />
「 第 2 のノーベル 賞 」に 期 待 したい。 川 原 田 教 授<br />
( 早 大 )からは、 同 教 授 が 20 年 余 かけて 取 り 組<br />
んできた、プラズマ CVD を 用 いたダイヤモンド<br />
合 成 技 術 、 及 び、CNT 合 成 技 術 、また、これらの<br />
電 子 デバイス 応 用 について 紹 介 された。ECR プラ<br />
ズマを 用 いた 合 成 装 置 や、マイクロ 波 を 導 入 する<br />
同 軸 アンテナの 先 端 で 放 電 する( 先 端 放 電 型 ) 合<br />
成 装 置 などの 開 発 を 行 ってきた。また、その 折 の<br />
プラズマ 診 断 について 触 れ、エチレンの 光 吸 収 強<br />
度 が 合 成 速 度 と 良 く 対 応 しているとした。SiC や<br />
Ir 上 のダイヤモンドのヘテロエピタキシャル 成 長<br />
についても 触 れ、やはり 核 生 成 のためにはバイア<br />
スが 必 要 とした。 先 に 述 べた 先 端 放 電 型 合 成 装 置<br />
を 用 いたリモートプラズマにより、CNT の 合 成 も<br />
可 能 とした。 同 位 体 制 御 ガスを 用 いて、CNT の 成<br />
長 は 先 端 ではなく 触 媒 金 属 側 から 持 ち 上 がる 様 に<br />
して 進 行 していること 示 す 結 果 を 示 した。 電 子 デ<br />
バイス 応 用 研 究 例 としては、ダイヤモンドに 関 し<br />
ては 表 面 伝 導 層 を 利 用 した 高 周 波 デバイスやバイ<br />
オセンサへの 応 用 、CNT については、 微 細 配 線 へ<br />
の 応 用 などが 紹 介 された。 酒 井 氏 ( 東 芝 、LEAP)<br />
からは、 次 世 代 超 低 消 費 電 力 デバイスを 達 成 する<br />
ための、CNT を 用 いた 3 次 元 配 線 技 術 の 確 立 を<br />
目 指 した 研 究 開 発 の 現 状 について 紹 介 された。こ<br />
れは 2010 年 から METI プロジェクトとして 開 始<br />
され、 昨 年 より NEDO プロジェクト(100 億 円 /<br />
年 規 模 )として 継 続 実 施 されており、 早 期 の 実 用<br />
化 を 目 指 している。TIA-nano(つくば)にあるΦ<br />
300 mm ラインを 用 いて 実 施 されている。 次 々 世<br />
代 の 不 揮 発 性 メモリの 高 集 積 化 において、 線 幅 の<br />
縮 小 に 伴 う 高 抵 抗 化 を 抑 制 するため、Cu と 比 較<br />
すると、 微 細 化 に 伴 う 抵 抗 の 上 昇 が 少 ない CNT/<br />
グラフェンに 期 待 し、その 制 御 されたプロセスに<br />
取 り 組 んでいるという。サブミクロン 径 のトレン<br />
チ 内 に CNT を 成 長 させる 技 術 や、 段 差 を 起 点 と<br />
してグラフェンシートを 選 択 的 に 成 長 する 技 術 な<br />
どが 紹 介 された。 加 藤 助 教 ( 東 北 大 )は、 合 成 時<br />
間 や 触 媒 金 属 組 成 の 選 択 から、カイラリティ 制 御<br />
を 試 みた 結 果 が 紹 介 された。 上 記 した 手 法 により、<br />
熱 力 学 的 に 安 定 な(6,5)のカイラリティを 持 った<br />
CNT を 選 択 的 に 成 長 させられることを 示 した。し<br />
かしながら、 成 長 時 間 が 限 定 されることから、<br />
CNT 長 さの 制 御 が 難 点 で、 今 後 の 課 題 とした。 更<br />
に、 合 成 条 件 の 最 適 化 による、SiO2 上 への 高 品 質<br />
グラフェンシートへ 直 接 合 成 した 例 が 紹 介 された。<br />
SiO2 上 へ Ni 薄 膜 を 塗 布 し、プラズマ 相 で 生 成 さ<br />
れたカーボン 源 がこの 薄 膜 内 を 拡 散 した 後 に<br />
SiO2 上 へグラフェンシートとして 析 出 するとい<br />
う“マイルド”な 合 成 条 件 が 重 要 とした。 作 製 し<br />
たリボン 状 のグラフェンシートのエッジのみへ、<br />
室 温 下 で 選 択 的 に 化 学 修 飾 することに 成 功 した 様<br />
子 を 示 した。これにより、 電 気 的 特 性 の 制 御 にも<br />
成 功 したとした。<br />
追 記 : 本 シンポジウムは、 金 子 先 生 ( 東 北 大 )<br />
を 中 心 に、 栗 原 先 生 ( 東 芝 )、 佐 藤 先 生 ( 東 北 大 )、<br />
安 部 先 生 ( 新 潟 大 )、 坪 井 先 生 (アルバック)、 比<br />
村 先 生 ( 京 都 工 繊 大 )、 平 松 先 生 ( 名 城 大 )、 及 び、<br />
小 職 を 含 む 担 当 幹 事 間 での 議 論 を 元 に 企 画 ・ 実 施<br />
されたことを 付 記 致 します。また、 開 催 に 当 り、<br />
金 子 先 生 と 共 に 司 会 のご 協 力 頂 いた 須 田 先 生 ( 豊<br />
橋 技 科 大 )と、ご 参 加 頂 いた 皆 様 に 御 礼 申 し 上 げ<br />
ます。<br />
36
国 内 会 議 報 告<br />
第 9 回 プラズマ 新 領 域 研 究 会 「 微 粒 子 プラズマ 応 用 の 最 前 線 」<br />
九 州 大 学 内 田 儀 一 郎<br />
第 9 回 プラズマ 新 領 域 研 究 会 「 微 粒 子 プラズマ<br />
応 用 の 最 前 線 」を 平 成 22 年 度 11 月 19、20 日 の 両<br />
日 、 核 融 合 科 学 研 究 所 ( 岐 阜 県 土 岐 市 )で 開 催 し<br />
ました。 第 12 回 微 粒 子 プラズマ 研 究 会 に 応 用 セッ<br />
ションを 設 けさせて 頂 き、 共 同 開 催 とさせて 頂 き<br />
ました。 土 日 の 休 日 にもかかわらず 32 名 ( 国 内<br />
28 名 、 外 国 4 名 )が 参 加 し、 最 新 の 微 粒 子 プラズ<br />
マに 関 する 研 究 発 表 、 並 びに 活 発 な 討 論 を 行 うこ<br />
とができました。 研 究 会 では 5 名 の 講 師 の 先 生 方<br />
に 英 語 でご 講 演 をお 願 い 致 しました。カーボン 微<br />
粒 子 生 成 ( 静 岡 大 三 重 野 先 生 )に 関 しては、ア<br />
ーク 放 電 プラズマ 中 で 発 生 するカーボン 微 粒 子 の<br />
レーザー 散 乱 その 場 計 測 についてご 紹 介 頂 き、 気<br />
相 中 微 粒 子 の 密 度 と 粒 径 計 測 についての 実 験 結 果<br />
をご 発 表 頂 きました。ポリマー 微 粒 子 生 成 ( 金 沢<br />
大 田 中 先 生 )においては、アーク 放 電 プラズマ<br />
とポリマー 材 料 表 面 との 相 互 作 用 に 関 する 研 究 を<br />
ご 紹 介 頂 き、ポリマー 基 板 からポリマー 微 粒 子 が<br />
気 相 中 にダイナミックに 放 出 される 最 新 の 実 験 ・<br />
解 析 結 果 をご 発 表 頂 きました。 微 粒 子 の 基 板 配 置<br />
技 術 ( 京 都 工 芸 繊 維 大 高 橋 先 生 )に 関 しては、<br />
100 ミクロンオーダーのマスクを 気 相 中 に 設 置 し、<br />
プラズマ 中 浮 遊 微 粒 子 群 をマスク 形 状 に 合 わせて<br />
基 板 に 配 置 する 最 新 パターニング 技 術 をご 紹 介 頂<br />
きました。バイオ 応 用 (( 株 )アイエスアイ 竹 田<br />
先 生 )に 関 しては、 微 粒 子 の 化 粧 品 への 応 用 とそ<br />
の 最 新 動 向 をご 紹 介 頂 きました。 微 粒 子 の 気 相 中<br />
構 造 形 成 ( 横 浜 国 立 大 石 原 先 生 )に 関 しては、<br />
微 粒 子 プラズマの 最 も 有 名 な 物 理 現 象 であるクー<br />
ロン 結 晶 構 造 形 成 について、 最 新 の 研 究 成 果 をご<br />
紹 介 頂 きました。プラズマを 利 用 した 微 粒 子 生 成<br />
には、 微 粒 子 の 凝 集 を 制 御 できる 等 のプラズマプ<br />
プロセス 特 有 の 大 きな 利 点 があります。 本 研 究 会<br />
ではプラズマ 微 粒 子 の 産 業 応 用 に 向 けた 活 発 な 議<br />
論 を 行 うことができ、 大 変 有 意 義 な 研 究 会 となり<br />
ました。ご 多 忙 の 中 ご 講 演 頂 いた 先 生 方 に、この<br />
場 を 借 りて 改 めて 御 礼 申 し 上 げます。<br />
プログラム<br />
26 日 ( 土 )<br />
16:20-17:00 静 岡 大 学 三 重 野 哲<br />
Shizuoka Univ., T. Mieno<br />
“Production and coagulation of carbon<br />
clusters by plasma”<br />
17:00-17:40 ( 有 ) アイエスアイ 竹 田 篤<br />
ISI Inc., A. Takeda<br />
“Plasma application and processing of<br />
nanobio particles for bio protection”<br />
27 日 ( 日 )<br />
9:30-10:10 金 沢 大 学 田 中 康 規<br />
Kanazawa Univ., Y. Tanaka<br />
“Dynamic behaviors of spallation particles<br />
from polymers during irradiation of Ar<br />
thermal plasmas with different molecular<br />
gases”<br />
10:10-10:50 京 都 工 芸 繊 維 大 学 高 橋 和 生<br />
Kyoto Instisute of Technology, K. Takahashi<br />
“Trapping and Pattering of dust particles in<br />
13.56 MHz RF plasmas”<br />
11:00-11:40 横 浜 国 立 大 学 石 原 修<br />
Yokohama National Univ., O. Ishihara<br />
“Low dimensional structure in complex<br />
plasma”<br />
37
国 内 会 議 報 告<br />
第 10 回 プラズマ 新 領 域 研 究 会<br />
( 於 東 京 工 業 大 学 すずかけ 台 キャンパスすずかけホール)<br />
東 北 大 学 流 体 科 学 研 究 所 佐 藤 岳 彦<br />
第 10 回 応 用 物 理 学 会 プラズマエレクトロニク<br />
ス 分 科 会 プラズマ 新 領 域 研 究 会 「 大 気 圧 プラズマ<br />
生 成 における 気 相 反 応 シミュレーション」が,2011<br />
年 12 月 15 日 に 東 京 工 業 大 学 すずかけ 台 キャンパ<br />
スにて 開 催 された. 本 研 究 会 は, 電 気 学 会 プラズ<br />
マ 技 術 委 員 会 プラズマ 研 究 会 ( 岐 阜 大 学 , 神 原 信<br />
志 先 生 ご 担 当 )の 協 力 を 頂 き 共 催 とした.<br />
大 気 圧 プラズマは, 低 温 で 化 学 的 活 性 種 を 簡 便<br />
に 生 成 できることから, 材 料 プロセスから 医 療 ま<br />
で 幅 広 く 研 究 が 進 められている. 大 気 圧 プラズマ<br />
は,マルチスケールな 時 空 間 軸 を 包 含 する 現 象 だ<br />
けでなく, 熱 流 動 場 , 化 学 反 応 場 , 電 磁 場 などを<br />
重 畳 する 複 雑 な 物 理 現 象 を 形 成 している. 近 年 ,<br />
これらの 現 象 を 数 値 解 析 により 解 明 できるように<br />
なってきたため, 大 気 圧 プラズマの 生 成 や 化 学 反<br />
応 に 関 する 最 新 の 数 値 解 析 による 研 究 について 講<br />
演 を 頂 いた.<br />
本 研 究 会 は, 招 待 講 演 5 件 からなり, 講 演 者 と<br />
講 演 内 容 は 下 記 の 通 りである. 神 原 信 志 先 生 ( 岐<br />
阜 大 学 )は,「 大 気 圧 プラズマ 生 成 における 気 相 反<br />
応 シミュレーション」の 演 題 で, 低 温 水 素 酸 化 処<br />
理 プロセスの 化 学 反 応 モデルの 構 築 と 解 析 につい<br />
て, 小 野 亮 先 生 ・ 小 室 淳 史 氏 ( 東 京 大 学 )は,「 大<br />
気 圧 ストリーマ 放 電 シミュレーション- 活 性 種 計<br />
測 結 果 の 再 現 を 目 指 して」の 演 題 で, 空 気 中 の1<br />
次 ・2 次 ストリーマの 数 値 モデル 構 築 と 解 析 に 加<br />
え, 実 験 結 果 との 比 較 を 通 したモデルの 妥 当 性 の<br />
検 証 について, 高 奈 秀 匡 先 生 ( 東 北 大 学 )は,「 高<br />
温 . 高 圧 下 における 空 気 ・メタン 混 合 気 中 のスト<br />
リーマ 進 展 過 程 とラジカル 生 成 特 性 」の 演 題 で,<br />
CH 3 や 酸 素 ラジカルの 生 成 量 の 圧 力 ・ 温 度 依 存 特<br />
性 について, 大 西 直 文 先 生 ( 東 北 大 学 )は,「 大 気<br />
圧 プラズマによる 流 れ 場 生 成 過 程 の 粒 子 シミュレ<br />
ーション」の 演 題 で,PIC-MCC 法 による DBD プ<br />
ラズマアクチュエータの 放 電 過 程 について, 野 崎<br />
智 洋 先 生 ( 東 京 工 業 大 学 )は,「 大 気 圧 プラズマ・<br />
触 媒 の 複 合 反 応 系 のシミュレーション」の 演 題 で,<br />
マイクロプラズマを 利 用 してメタンからメタノー<br />
ルを 直 接 合 成 する 手 法 とその 反 応 シミュレーショ<br />
ンについて,ご 講 演 頂 いた.<br />
大 気 圧 プラズマの 放 電 ・ 熱 流 動 ・ 反 応 モデルの<br />
構 築 や 数 値 解 析 法 の 開 発 では,より 実 際 の 現 象 に<br />
近 づける 工 夫 や 計 算 時 間 の 短 縮 の 工 夫 などが 紹 介<br />
されるだけでなく, 実 験 解 析 の 結 果 との 違 いにつ<br />
いての 考 察 など, 深 く 討 論 を 進 めることができた.<br />
講 演 者 は, 電 気 , 化 学 , 機 械 などを 基 盤 とする 研<br />
究 者 であり, 異 分 野 を 横 断 する 内 容 で, 大 気 圧 プ<br />
ラズマの 数 値 解 析 の 発 展 を 大 いに 期 待 できる 研 究<br />
会 となった.<br />
最 後 に, 本 研 究 会 の 招 待 講 演 者 ならびに 参 加 者 ,<br />
プラズマ 研 究 会 ,プラズマエレクトロニクス 分 科<br />
会 , 応 用 物 理 学 会 事 務 局 の 皆 様 に 謝 意 を 表 します.<br />
プラズマ 研 究 会 各 位 におかれましては, 会 場 の 準<br />
備 も 頂 きました. 重 ねて 謝 意 を 表 します.<br />
38
国 内 会 議 報 告<br />
第 26 回 光 源 物 性 とその 応 用 研 究 会 報 告<br />
室 蘭 工 業 大 学 佐 藤 孝 紀 、 愛 媛 大 学 神 野 雅 文<br />
第 26 回 光 源 物 性 とその 応 用 研 究 会 は、 平 成<br />
24 年 3 月 2 日 ( 金 ) 午 後 、 社 団 法 人 照 明 学 会 光<br />
源 ・ 照 明 システム 分 科 会 、 公 益 社 団 法 人 応 用 物 理<br />
学 会 プラズマエレクトロニクス 分 科 会 および 千<br />
葉 工 業 大 学 先 端 放 電 プラズマ 研 究 センターの 共 催<br />
で 開 催 された。 開 催 場 所 は 昨 年 に 引 き 続 き 千 葉 工<br />
業 大 学 津 田 沼 キャンパス 新 1 号 館 2 階 会 議 室 であ<br />
った。 発 表 件 数 は5 件 であり、 昨 年 よりも1 件 少 な<br />
かったが、 大 気 圧 放 電 特 性 の 解 析 、 液 晶 バックラ<br />
イト 光 源 や 無 水 銀 HIDランプの 始 動 特 性 、 蛍 光 ラ<br />
ンプの 高 効 率 化 の 検 討 など、バラエティーに 富 ん<br />
だ 発 表 内 容 であった。<br />
ヘリウムガス 直 流 グロー 放 電 構 造 のガス 圧 力 依<br />
存 性 に 関 する 報 告 では、 荷 電 粒 子 密 度 、 電 界 強 度 、<br />
ガス 温 度 に 対 する 圧 力 変 化 の 影 響 が 検 討 され、ガ<br />
ス 圧 増 加 に 伴 ってHe + イオンとHeの 三 体 衝 突 で<br />
生 成 されるHe2 + イオン 密 度 が 急 激 に 増 加 するこ<br />
となどが 示 された。<br />
DBDの 二 次 電 子 放 出 係 数 に 関 する 報 告 では、イ<br />
オンおよび 準 安 定 励 起 原 子 による 誘 電 体 からの 二<br />
次 電 子 放 出 が 放 電 特 性 に 与 える 影 響 が 検 討 され、<br />
これらが 放 電 開 始 電 圧 を 低 下 させる 一 つのモデル<br />
を 示 した。<br />
液 晶 バックライト 用 の 細 管 冷 陰 極 ランプに 関 す<br />
る 発 表 では、 正 弦 波 交 流 励 起 周 波 数 を100Hz 以 上<br />
にすると 再 点 弧 電 圧 が 急 激 に 低 下 すること、 直 流<br />
パルス 励 起 放 電 の 周 波 数 特 性 からNe 準 安 定 励 起<br />
励 起 原 子 寿 命 を 求 めることが 可 能 であること、が<br />
報 告 された。<br />
無 水 銀 HIDランプに 関 する 報 告 では、 一 般 に<br />
23kV 程 度 のランプ 始 動 電 圧 を 低 減 させるため、 始<br />
動 特 性 を 調 査 した 結 果 が 示 された。 発 光 管 と 外 管<br />
の 間 に 封 入 されるシュラウドガスガスをArガス<br />
にすること、および 発 光 管 近 傍 に 導 体 を 設 置 する<br />
ことにより、 始 動 電 圧 を 低 減 できることが 明 らか<br />
になった。<br />
蛍 光 ランプの 効 率 化 に 関 する 報 告 では、キセノ<br />
ン 傾 向 ランプの 駆 動 電 圧 をバーストパルスにする<br />
ことでキセノンの 電 離 と 共 鳴 電 子 や 準 安 定 原 子 生<br />
成 に 寄 与 するパルスを 分 離 する 方 法 が 検 討 された。<br />
補 助 波 形 を 三 角 波 にすると 主 パルスと 分 散 して 電<br />
力 を 注 入 でき、 最 大 投 入 電 力 の 向 上 が 可 能 となる<br />
こと、および 補 助 波 にパルス 波 を 用 いると 高 効 率<br />
点 灯 が 可 能 であることが 示 された。<br />
最 後 になるが、 今 回 の 研 究 会 実 施 に 当 って、 会<br />
場 提 供 ・ 準 備 等 で 多 大 なるご 協 力 をいただいた 千<br />
葉 工 業 大 学 の 伊 藤 晴 雄 先 生 、 鈴 木 進 先 生 、 小 田 昭<br />
紀 先 生 と 同 研 究 室 の 学 生 諸 氏 、 照 明 学 会 光 源 ・ 照<br />
明 システム 分 科 会 明 石 治 朗 先 生 、ならびに 電 気 学<br />
会 事 業 サービス 課 に 謹 んで 御 礼 申 し 上 げたい。<br />
第 26 回 光 源 物 性 とその 応 用 研 究 会 プログラム<br />
LS-11-03・PE-11-01:ヘリウムガス 直 流 グロー 放<br />
電 構 造 のガス 圧 力 依 存 性 に 関 する 計 算 機 解 析<br />
小 田 昭 紀 ( 千 葉 工 業 大 学 )<br />
LS-11-04・PE-11-02:Ar DBDの 二 次 電 子 放 出 係<br />
数 に 関 する 一 次 元 流 体 モデル 計 算<br />
吉 永 智 一 、 明 石 治 朗 ( 防 衛 大 学 校 )<br />
LS-11-05・PE-11-03: 細 管 冷 陰 極 Ne 放 電 中 の 放<br />
電 開 始 電 圧 と 準 安 定 原 子 の 寿 命 計 測<br />
後 藤 みき 荒 井 俊 彦 ( 神 奈 川 工 科 大 )<br />
LS-11-06・PE-11-04: 自 動 車 用 無 水 銀 HIDラン<br />
プの 始 動 電 圧 の 低 減 の 可 能 性 検 討<br />
植 月 唯 夫 * 大 田 貴 史 ( 津 山 工 業 高 等 専 門 学 校 )<br />
志 藤 雅 也 津 田 俊 明 小 野 田 幸 央<br />
( 株 式 会 社 小 糸 製 作 所 )<br />
LS-11-07・PE-11-05:バーストパルス 駆 動 による<br />
蛍 光 ランプの 高 効 率 化 の 試 み<br />
本 村 英 樹 * 山 田 真 也 山 本 雄 大 神 野 雅 文<br />
( 愛 媛 大 )<br />
39
行 事 案 内<br />
2012 年 秋 季 第 73 回 応 用 物 理 学 会 学 術 講 演 会<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 主 催 シンポジウム<br />
「プラズマのバイオ・ 医 療 への 応 用 - 生 体 支 援 のためのプラズマ-」<br />
京 都 工 芸 繊 維 大 学 比 村 治 彦<br />
松 山 市 において 開 催 されます 今 秋 の 応 物 学 会 に<br />
おきまして、 表 題 のような 分 科 主 催 のシンポジウ<br />
ムを 開 催 いたします。 以 下 では、その 概 要 等 を 会<br />
員 各 位 にお 知 らせいたします。<br />
開 催 日 時<br />
この 行 事 案 内 を 執 筆 している 段 階 では、 学 会 2<br />
日 目 (9/12)の 午 後 に 開 催 させていただく 予 定 と<br />
なっておりますが、 未 定 です。 正 式 な 日 時 は、 応<br />
物 学 会 から 公 開 されます 学 会 プログラムにてご 確<br />
認 いただきますよう、よろしくお 願 いいたします。<br />
趣 旨<br />
近 年 、 低 温 で 小 型 かつ 比 較 的 高 気 圧 下 でのプラ<br />
ズマ 生 成 が 安 定 に 行 えるようになってきた 事 に 伴<br />
い、その 応 用 分 野 の 裾 野 は 他 分 野 との 境 界 領 域 を<br />
超 えた 奥 底 へと 急 速 な 広 がりを 見 せています。そ<br />
の 領 域 の 一 つに「 医 療 ・バイオ」があります。 本<br />
シンポジウムでは、 医 療 や 農 業 へのプラズマ 応 用<br />
に 関 する 研 究 開 発 を 幅 広 い 分 野 の 方 々から 紹 介 し<br />
ていただき、 現 在 の 研 究 開 発 の 状 況 から 残 されて<br />
いる 未 解 決 研 究 開 発 課 題 まで、 新 たな 研 究 者 がこ<br />
の 分 野 へと 入 って 仕 事 を 始 めるのに 有 益 な 情 報 を<br />
開 示 していただきます。また、すでに 欧 米 におい<br />
ても 複 数 のプラズマ 研 究 者 がそれぞれのオリジナ<br />
リティーをもって「 医 療 ・バイオ」 分 野 へとアプ<br />
ローチを 開 始 しています。このような 諸 外 国 での<br />
動 向 も 本 シンポジウムでご 紹 介 いただき、 今 後 日<br />
本 のプラズマ 研 究 者 がどのような 手 段 や 組 織 で<br />
「 医 療 ・バイオ」 分 野 へのプラズマ 応 用 研 究 に 取<br />
り 組 むのが 効 率 的 か 全 体 討 論 します。<br />
トピックス 性<br />
本 シンポジウムは、 一 昨 年 の 六 月 に 閣 議 決 定 さ<br />
れた 新 成 長 戦 略 において 掲 げられました「ライフ<br />
イノベーションによる 健 康 大 国 戦 略 」を 受 けて 設<br />
定 されたものです。 現 在 、 科 学 技 術 全 分 野 を 貫 い<br />
ているタイムリーなホットトピックスのプラズマ<br />
科 学 分 野 版 という 位 置 づけになります。<br />
講 演 予 定 者 ・ 講 演 題 目 一 覧<br />
以 下 のように、 研 究 所 、 企 業 、 大 学 から 幅 広 く<br />
ご 講 演 いただきます。<br />
○ 榊 田 創 ( 産 総 研 )<br />
「プラズマ 物 理 ・ 技 術 とその 展 開<br />
(~ 医 療 への 道 ~)」<br />
○ 板 橋 直 志 ( 日 立 )<br />
「 半 導 体 技 術 を 用 いた 医 療 バイオ 向 け<br />
アレイデバイスの 製 造 と 評 価 」<br />
○ 山 内 俊 之 (パナソニック)<br />
「 静 電 霧 化 技 術 による 室 内 有 害 物 質 の 浄 化 」<br />
○ 林 信 哉 ・ 三 沢 達 也 ( 佐 賀 大 )<br />
「プラズマの 農 産 物 への 応 用<br />
- 殺 菌 から 成 長 促 進 まで-」<br />
○ 秋 山 秀 典 ( 熊 本 大 )<br />
「プラズマ・パルスパワーの<br />
細 胞 への 作 用 と 利 活 用 」<br />
○ 堀 勝 ( 名 大 )<br />
「 大 気 圧 プラズマによるがん 及 び<br />
細 胞 の 不 活 性 化 と 未 来 医 療 への 展 開 」<br />
○(プラス) 一 般 講 演 より 2~3 名 の 方<br />
「・・・・・・・・・・・・」<br />
会 員 各 位 におかれましては 本 シンポジウムにて 当<br />
該 研 究 領 域 に 関 する 理 解 を 深 めて 頂 きますととも<br />
に、 今 後 の 研 究 の 展 開 につきましてもご 議 論 いた<br />
だきたく、よろしくお 願 いいたします。<br />
40
行 事 案 内<br />
第 6 回 プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール 案 内<br />
大 阪 大 学 唐 橋 一 浩<br />
このたび、ションホールを 企 画 致 しましたので 会<br />
員 の 皆 様 に 御 案 内 申 し 上 げます。 学 生 の 皆 様 を 初 め<br />
若 手 研 究 者 および 技 術 者 の 皆 様 お 誘 い 合 わせのうえ<br />
多 数 参 加 頂 けますよう、 会 員 の 皆 様 からお 勧 め 下 さ<br />
いますようお 願 い 申 し 上 げます。<br />
開 催 日 時 :<br />
2012 年 9 月 19 日 ( 水 )13:00 ~ 21 日 ( 金 )13:00<br />
開 催 場 所 :<br />
国 立 中 央 青 少 年 交 流 の 家<br />
〒412-0006 静 岡 県 御 殿 場 市 中 畑 2092-5<br />
内 容 :<br />
プラズマエレクトロニクス 研 究 を 始 めたばかりの<br />
初 学 者 ( 学 生 ・ 若 手 研 究 者 ・ 社 会 人 技 術 者 )を 対 象<br />
として、 一 流 の 講 師 陣 を 招 きプラズマエレクトロニ<br />
クスへの 理 解 を 深 めて 頂 くための 講 習 会 です。<br />
プラズマ 生 成 ・ 制 御 ,プラズマ 診 断 計 測 等 の 基 礎<br />
分 野 から、プラズマ CVD およびエッチングに 加 えて、<br />
進 展 著 しい 大 気 圧 プラズマ 等 の 応 用 分 野 に 関 する 専<br />
門 講 座 を 開 講 し, 初 学 者 が 基 礎 プラズマ 工 学 の 知 識<br />
が 一 通 り 習 得 できます.この 専 門 講 座 では、 従 来 形 式<br />
の 単 なる 受 身 の 講 義 ではなくディベート 的 要 素 ( 問<br />
答 )をも 加 味 し 受 講 者 参 加 型 の 人 材 育 成 プログラム<br />
の 構 築 を 目 指 しています。 講 述 内 容 そのものは、 初<br />
学 者 が 基 礎 学 理 をしっかりと 理 解 したうえで、 当 該<br />
分 野 における 最 新 科 学 の 話 題 にも 触 れられるように<br />
構 成 されています。そのうえで、 海 外 経 験 , 企 業 経<br />
験 , 産 学 連 携 経 験 などの 豊 富 な 講 師 陣 からは、 留 学 ・<br />
在 外 研 究 経 験 , 企 業 で 必 要 とされる 資 質 , 産 学 連 携<br />
のエピソードなどを 適 時 交 えた 講 義 を 頂 き、 受 講 生<br />
のプラズマプロセス 研 究 への 興 味 を 喚 起 します。さ<br />
らに、 特 別 講 義 では、 新 たな 研 究 分 野 を 切 り 拓 いて<br />
きた 一 流 研 究 “ 指 導 者 ”を 招 き、 当 該 分 野 の 最 新 動<br />
向 や 指 導 者 に 必 要 とされる 資 質 について、 加 えて 理<br />
科 系 の 英 語 力 向 上 に 関 して 多 数 の 著 書 をもつ 講 師 招<br />
き 英 語 力 の 強 化 について 学 ぶ 機 会 を 提 供 します。ポ<br />
スターセッションやレクレーションでは、 受 講 者 と<br />
講 師 の 全 員 がお 互 いの 垣 根 なく 議 論 することで、 参<br />
加 者 間 の 人 脈 形 成 が 促 されます。<br />
【 専 門 講 座 】<br />
1 「プラズマの 生 成 ・ 制 御 」<br />
中 村 圭 二 先 生 ( 中 部 大 学 )<br />
2 「プラズマ 診 断 計 測 」<br />
山 形 幸 彦 先 生 ( 九 州 大 学 )<br />
3 「プラズマCVD」<br />
白 藤 立 ( 大 阪 市 立 大 )<br />
4 「プラズマエッチング」<br />
伊 澤 勝 先 生 ( 日 立 ハイテクノロジ)<br />
5 「 大 気 圧 プラズマの 基 礎 」<br />
酒 井 道 先 生 ( 京 都 大 学 )<br />
【 英 語 講 座 】<br />
「 理 科 系 のための 英 語 力 強 化 法 ( 仮 題 )」<br />
志 村 史 夫 先 生 ( 静 岡 理 工 科 大 学 )<br />
【 特 別 講 座 】<br />
「リーディング 学 際 プラズマを 目 指 して」<br />
畠 山 力 三 先 生 ( 東 北 大 学 名 誉 教 授 )<br />
【ポスターセッション】<br />
参 加 者 間 の 交 流 が 深 まるよう、ポスターセッション<br />
を 中 心 とする 談 話 会 を 行 います。 参 加 者 自 身 のバッ<br />
クグランドに 関 連 したもの、 例 えば、<br />
‣ 学 生 の 場 合 : 現 在 の 研 究 テーマにまつわるも<br />
の、 学 部 での 卒 業 研 究 など(4 年 生 の 場 合 これ<br />
から 行 う 研 究 など)<br />
‣ 社 会 人 の 場 合 : 仕 事 まつわるもの、 企 業 ・ 自<br />
社 製 品 の PR, 入 社 前 の 大 学 での 研 究 など<br />
であれば、 内 容 ・ 分 量 は 一 切 問 いません。 幅 0.9m×<br />
高 さ1m 程 度 のボードが 用 意 されますので、あらか<br />
じめポスターのご 準 備 をお 願 いします。また、 参 加<br />
申 込 書 にポスター 内 容 を 示 すキーワードを3つ 程 度<br />
ご 記 入 下 さい。キーワードを 元 にポスター 掲 示 場 所<br />
をアレンジ 致 します。 本 ポスターセッションは 全 員<br />
の 方 の 発 表 を 原 則 としますが、 発 表 に 支 障 がある 場<br />
合 は 事 前 参 加 申 申 込 書 のポスターセッションキーワ<br />
ード 欄 にその 旨 をご 記 入 下 さい。なお、 優 秀 なポス<br />
ター 発 表 者 には 表 彰 を 行 います。<br />
41
【その 他 】 懇 親 会 ,レクレーションを 予 定 していま<br />
す。 本 企 画 HP に 当 日 の 詳 細 スケジュールを 記 載 して<br />
おりますので 参 考 にして 下 さい。<br />
参 加 申 込 :<br />
【 申 込 方 法 】<br />
本 企 画 ホームページから 参 加 申 込 書 をダウンロー<br />
ドいただき,e-mail,FAX あるいは 郵 送 の 何 れかの<br />
方 法 で 唐 橋 までお 申 し 込 みください. 申 込 を 受 け 次<br />
第 , 参 加 登 録 確 認 を 通 知 します.その 後 に 参 加 費 を<br />
振 り 込 んでください.なお, 参 加 費 の 振 り 込 みには<br />
必 ず 個 人 名 と「PEIH」という 4 文 字 のアルファベッ<br />
トを 記 載 してください( 例 : 木 村 さんの 場 合 “キム<br />
ラ PEIH”)。 一 旦 振 り 込 まれた 参 加 費 は, 原 則 として<br />
返 却 いたしません。<br />
【 定 員 】 60 名<br />
【 申 込 締 切 】 8 月 30 日 ( 水 )<br />
【 振 込 先 】 三 井 住 友 銀 行 本 店 営 業 部 ( 本 店 でも 可 )<br />
口 座 ( 普 通 )3339808 ( 社 ) 応 用 物 理 学 会 プラズマエ<br />
レクトロニクス 分 科 会 ( 入 金 締 め 切 り 8 月 31 日 )<br />
【 問 合 せ・ 申 込 先 】<br />
〒565-0871 大 阪 府 吹 田 市 山 田 丘 2-1 大 阪 大 学 大 学<br />
院 工 学 研 究 科 原 子 分 子 イオン 制 御 理 工 学 センター<br />
唐 橋 一 浩 TEL: 06-6878-6411,FAX: 06-6879-7916<br />
e-mail: karahashi@ppl.eng.osaka-u.ac.jp<br />
学 生 会 員 への 交 通 費 補 助 :<br />
下 記 の 交 通 費 補 助 の 条 件 をみたした 場 合 、 補 助<br />
金 をインキュベーションホール 終 了 後 に 振 り 込 み<br />
ます。 補 助 希 望 される 方 は、 参 加 申 込 書 に 必 要 事<br />
項 を 記 入 のうえ、 領 収 書 のコピーを 持 参 下 さい。<br />
< 交 通 費 補 助 の 条 件 ><br />
在 学 する 大 学 の 最 寄 り 駅 から 御 殿 場 駅 まで 片 道<br />
13,000 円 以 上 の 交 通 費 がかかる 学 生 会 員 若 しくは<br />
今 回 学 生 会 員 ( 大 学 院 を 含 む)になられた 方 を 対 象<br />
とします。ただし、 大 学 院 生 についてはポスターセ<br />
ッションでの 発 表 を 必 須 条 件 とします。<br />
本 企 画 の 詳 細 情 報 :<br />
Homepage: http://annex.jsap.or.jp/plasma/PE_files<br />
/PE_SS_2012/index.html<br />
担 当 幹 事 :<br />
校 長 : 豊 田 浩 孝 ( 名 古 屋 大 学 )<br />
幹 事 : 佐 藤 孝 紀 ( 室 蘭 工 業 大 学 )<br />
榊 田 創 ( 産 業 技 術 総 合 研 究 所 )<br />
平 松 美 根 夫 ( 名 城 大 学 )<br />
坪 井 秀 夫 (アルバック)<br />
吉 木 宏 之 ( 鶴 岡 高 専 )<br />
前 田 賢 治 ( 日 立 製 作 所 )<br />
三 沢 達 也 ( 佐 賀 大 学 )<br />
石 川 善 恵 ( 香 川 大 学 )<br />
唐 橋 一 浩 ( 大 阪 大 学 )<br />
交 通 案 内 :<br />
東 海 道 新 幹 線 を 利 用 する 場 合 :<br />
三 島 駅 …[ 東 海 道 線 ]… 沼 津 駅 …[ 御 殿 場 線 ]…<br />
御 殿 場 駅 (40 分 ),JR 御 殿 場 駅 から 御 殿 場 駅 富 士 山<br />
口 1 番 のりば 富 士 急 行 「 青 少 年 交 流 の 家 行 き」 路<br />
線 バス( 約 20 分 )<br />
本 企 画 HP に 詳 細 な 交 通 案 内 を 記 載 しておりますの<br />
で 参 考 にしてください。<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科<br />
会 と 応 用 物 理 学 会 の 個 人 会 員<br />
参 加 費<br />
応 用 物 理 学 会<br />
個 人 会 員<br />
協 賛 学 協 会 の 個 人 会 員 とプラズ<br />
マエレクトロニクス 分 科 会 の 個<br />
人 会 員<br />
その 他<br />
一 般 40,000 円 43,000 円 48,000 円 53,000 円<br />
学 生 14,000 円 17,000 円 22,000 円 27,000 円<br />
* 応 用 物 理 学 会 賛 助 会 社 およびプラズマエレクトロニクス 分 科 会 賛 助 会 社 所 属 の 方 はそれぞれの 個 人 会 員 扱 いとさ<br />
せて 頂 きます.** 遠 方 からの 会 員 学 生 ( 含 大 学 院 生 )に 対 して 交 通 費 の 一 部 を 補 助 する 予 定 . 詳 細 はHPをご 覧 下 さ<br />
い.*** 本 分 科 会 会 員 ( 年 会 費 3000 円 )に 同 時 入 会 頂 くと, 今 回 から 会 員 価 格 で 参 加 出 来 ます. 会 員 には, 年 2 回 の<br />
会 報 ( 非 売 品 ), 過 去 26 回 の 研 究 会 プロシーディングス Web 閲 覧 , 各 種 スクールへの 会 員 料 金 での 参 加 などのメリッ<br />
トがあります. 入 会 手 続 きは https://www.jsap.or.jp/jsapweb/system/do/signInSelect より 行 って 下 さい.<br />
【 協 賛 団 体 】 日 本 物 理 学 会 , 電 気 学 会 ,プラズマ・ 核 融 合 学 会 , 日 本 化 学 会 , 電 子 情 報 通 信 学 会 , 高 分 子 学<br />
会 , 日 本 セラミックス 協 会 , 放 電 学 会 , 日 本 真 空 協 会 , 日 本 学 術 振 興 会 プラズマ 材 料 科 学 第 153 委 員 会 , 静<br />
電 気 学 会 , 日 本 金 属 学 会 , 表 面 技 術 協 会 , 日 本 鉄 鋼 協 会 , 日 本 オゾン 協 会 、 電 気 化 学 会 , 日 本 表 面 科 学 会 , 原<br />
子 衝 突 研 究 協 会<br />
42
行 事 案 内<br />
第 23 回 プラズマエレクトロニクス 講 習 会<br />
~プラズマプロセスの 基 礎 と 新 しい 応 用 に 向 けて~<br />
主 催 : 応 用 物 理 学 会 プラズマエレクトロニクス 分 科 会<br />
協 賛 : ドライプロセスシンポジウム、AEC/APC シンポジウ<br />
ム、 日 本 物 理 学 会 、 電 気 学 会 、プラズマ・ 核 融 合 学 会 、 日<br />
本 化 学 会 、 電 子 情 報 通 信 学 会 、 放 電 学 会 、 日 本 真 空 協<br />
会 ( 一 部 打 診 中 )<br />
日 時 : 2012 年 11 月 14 日 ( 水 ) 9:30~18:00<br />
場 所 : 東 京 大 学 本 郷 ( 浅 野 )キャンパス 武 田 先 端 知 ビル<br />
東 京 都 文 京 区 弥 生 2-11-16<br />
千 代 田 線 根 津 駅 或 いは 南 北 線 東 大 前 駅 下 車<br />
http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_16_j.html<br />
内 容 /プログラム:<br />
プラズマプロセスは、エレクトロニクス 分 野 の 先 進 デ<br />
バイス 開 発 の 基 幹 技 術 であると 共 に、 医 療 やエネルギ<br />
ー・ 環 境 応 用 を 始 めとする 幅 広 い 分 野 でも 欠 くことのでき<br />
ない 基 盤 技 術 となりつつあります。この 背 景 を 踏 まえ、<br />
本 講 習 会 では 開 発 ・ 製 造 の 現 場 で 必 要 とされるプラズマ<br />
の 生 成 、 制 御 、モニタリング 技 術 の 基 本 を、 各 分 野 にて<br />
第 一 線 でご 活 躍 の 先 生 方 よりご 講 義 頂 きます。<br />
また 今 回 は 11/15( 本 講 習 会 翌 日 )より 開 催 されるプロ<br />
セス 関 連 の 国 際 学 会 である 第 34 回 ドライプロセスシン<br />
ポジウム http://www.dry-process.org/2012/index.html<br />
との 連 携 も 行 い、 基 礎 から 応 用 まで 最 先 端 の 技 術 動 向<br />
にも 触 れつつご 紹 介 致 します。 初 学 者 から 先 端 の 研 究<br />
者 まで 幅 広 い 皆 様 のご 参 加 をお 待 ち 申 し 上 げます。<br />
■ 第 1 部 :プラズマプロセスの 基 礎 9:30~12:30 ■<br />
1. 『プラズマの 生 成 と 制 御 ・ 装 置 』<br />
名 古 屋 大 学 掘 勝 先 生<br />
2. 『 表 面 反 応 の 制 御 とドライエッチング 技 術 』<br />
ラムリサーチ( 株 ) 野 尻 一 男 先 生<br />
3. 『プラズマ 計 測 /モニタリング 技 術 』<br />
名 古 屋 大 学 豊 田 浩 孝 先 生<br />
■ 第 2 部 :プラズマ 技 術 の 最 前 線 13:30~18:00 ■<br />
4. 『シミュレーション 技 術 』<br />
慶 應 義 塾 大 学 八 木 澤 卓 先 生<br />
5. 『 大 気 圧 プラズマとその 応 用 』<br />
東 京 工 業 大 学 野 崎 智 洋 先 生<br />
6. 『 設 備 管 理 (EES/FDC 等 ) 技 術 』<br />
ルネサスエレクトロニクス( 株 ) 土 山 洋 史 先 生<br />
7. 『DPS2011 に 見 るプラズマ 技 術 の 新 展 開 』<br />
東 北 大 学 木 下 啓 藏 先 生<br />
※ 各 講 義 は 日 本 語 で 行 います<br />
参 加 費 : (テキスト 代 を 含 む。かっこ 内 は 学 生 )<br />
• 応 物 ・PE 分 科 会 個 人 会 員 18000 円 (4000 円 )<br />
• 応 物 個 人 会 員 ※ 21000 円 (5000 円 )<br />
• 分 科 会 のみの 個 人 会 員 22000 円 (6000 円 )<br />
• 協 賛 学 協 会 ・ 応 物 法 人 賛 助 会 員 22000 円 (6000 円 )<br />
• その 他 24000 円 (8000 円 )<br />
※ 参 加 申 込 時 に PE 分 科 会 ( 年 会 費 3,000 円 )に 御 入 会<br />
頂 ければ、 分 科 会 個 人 会 員 扱 いとさせて 頂 きます。<br />
定 員 : 100 名<br />
お 申 込 み: プラズマエレクトロニクス 分 科 会 ホームページ<br />
http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma/ より<br />
お 申 し 込 みの 上 、 下 記 指 定 口 座 へ 振 込 み 願 います。<br />
-----------------------------------------------<br />
三 井 住 友 銀 行 本 店 営 業 部 普 通 預 金 3339808<br />
( 公 社 ) 応 用 物 理 学 会 プラズマエレクトロニクス 分 科 会<br />
-----------------------------------------------<br />
※Web 申 し 込 み 期 限 10/30。 参 加 費 入 金 (11/7 まで)の<br />
確 認 をもって 申 し 込 み 完 了 といたします。<br />
お 問 合 せ:<br />
上 村 さつき ( 応 物 事 務 局 )<br />
TEL 03-5802-0863 FAX 03-5802-6250<br />
e-mail: kamimura@jsap.or.jp<br />
・・・ 申 し 込 み 手 続 き 関 連<br />
辰 巳 哲 也 (ソニー、 担 当 幹 事 代 表 ) ・・・ 開 催 内 容 関 連<br />
e-mail: Tetsuya.Tatsumi@jp.sony.com<br />
・ 担 当 幹 事<br />
安 部 隆 ( 新 潟 大 学 )、 池 田 太 郎 ( 東 京 エレクトロン)、<br />
池 田 知 弘 ( 三 菱 電 機 )、 市 川 尚 志 ( 東 芝 )、<br />
坪 井 秀 夫 (アルバック)、 西 澤 厚 (ルネサスエレ)、<br />
前 田 賢 治 ( 日 立 )<br />
43
行 事 案 内<br />
Gaseous Electronics Conference 2012<br />
GEC Executive Committee Member 白 谷 正 治<br />
GEC は, 電 子 ・イオン 衝 突 などの 放 電 基 礎 過<br />
程 ,プラズマ 生 成 と 診 断 に 関 する 基 礎 物 理 ,プラ<br />
ズマ 応 用 を3 本 柱 とする65 回 の 伝 統 を 誇 る 米 国 物<br />
理 学 会 が 主 催 する 学 会 ですが, 米 国 だけでなくヨ<br />
ーロッパやアジアからも 多 数 参 加 しているインタ<br />
ーナショナルな 会 議 となっています GEC の 国 際<br />
会 議 としての 拡 がりを 示 すイベントとして,1997<br />
年 には 第 3 回 反 応 性 プラズマ 国 際 会 議 (ICRP-3)<br />
と 合 同 でハワイのマウイ 島 で,そして 2010 年 10<br />
月 に,フランスパリ 市 内 で 第 7 回 反 応 性 プラズマ<br />
国 際 会 議 (ICRP-7)と 合 同 で 盛 況 のうちに 開 催 され<br />
たのは 記 憶 に 新 しいところです.さて, 今 年 の<br />
GEC2012 です,2011 年 10 月 22 日 〜26 日 に ア メ<br />
リ カ テキサス 州 の The University of Texas at<br />
Austin campus 内 の AT&T Conference Center で 開<br />
催 されます.<br />
今 年 の GEC では4つの Workshop が 下 記 のよう<br />
に 計 画 されています.<br />
(http://www.gec.org/gec2012/specialevents.php)<br />
* Title: Workshop on Plasma Biomedicine<br />
Organizer: David Graves, University of California,<br />
Berkeley (graves@berkeley.edu)<br />
Date: Monday, October 22 (all day)<br />
*Title: Workshop on Plasma Cross Field Diffusion<br />
Organizers: Rod Boswell, Australian National<br />
University, Australia (rod.boswell@anu.edu.au) and<br />
Igor Kaganovich, Princeton Plasma Physics<br />
Laboratory (ikaganov@pppl.gov)<br />
Date: Monday, October 22 (all day)<br />
*Title: Workshop on Verification and Validation of<br />
Computer Simulations in Low Temperature Plasma<br />
Physics<br />
Organizers: Miles Turner, Dublin City University,<br />
Ireland (miles.turner@dcu.ie) and Mirko Vukovic,<br />
Tokyo Electron (mirko.vukovic@us.tel.com)<br />
Date: Monday, October 22 (evening)<br />
*Title: Workshop on Plasma Data Exchange<br />
Organizers: Leanne Pitchford, University Paul<br />
Sabatier, France (pitchford@laplace.univ-tlse.fr) and<br />
Annarita Laricchuita, CNR IMIP Bari, Italy<br />
(GEC_PDEPworkshop@ba.imip.cnr.it)<br />
Date: Tuesday, October 23 (evening)<br />
一 般 講 演 の 申 し 込 みは,6 月 15 日 までに 米 国 物<br />
理 学 会 のサイト the American Physical Society<br />
online web submission process (http://abs.aps.org/)<br />
から 投 稿 してください.<br />
Key Dates:<br />
• The deadline for receipt of abstracts: June 15,<br />
2012<br />
• GEC Student Award for Excellence<br />
Nominations: June 15, 2012<br />
• Early Registration Deadline: 未 定<br />
• Deadline for hotel reservations (at conference<br />
rate): September 21, 2012<br />
その 他 の 詳 細 情 報 については website<br />
(http://www.gec.org/gec2012/) をご 覧 く<br />
ださい.なお,GEC Excom の 日 本 人 メンバーは<br />
伝 統 的 に 応 用 物 理 学 会 プラズマエレクトロニクス<br />
分 科 会 関 係 者 が 就 任 しております. 今 後 も,GEC<br />
との 良 好 な 関 係 を 続 けるために, 一 人 でも 多 くの<br />
日 本 人 参 加 者 の 御 講 演 ・ 御 出 席 をお 願 いする 次 第<br />
です.<br />
44
行 事 案 内<br />
第 34 回 ドライプロセス 国 際 シンポジウム( 略 称 : DPS 2012)<br />
34th International Symposium on Dry Process (DPS 2012)<br />
( 株 ) 富 士 通 セミコンダクター 小 倉 輝<br />
高 度 情 報 化 社 会 を 担 うマイクロエレクトロニ<br />
クス 技 術 の 高 度 化 が 進 むなかで、 ドライプロセ<br />
スの 役 割 はますます 大 きくなってきている。ドラ<br />
イプロセスにおける 様 々な 物 理 的 ・ 化 学 的 現 象 の<br />
解 明 は、 今 後 のマイクロエレクトロニクス、マイ<br />
クロマシンやナノテクノロジー 分 野 を 中 心 とし<br />
た 電 気 ・ 電 子 、 半 導 体 工 学 のみならず、 医 療 やバ<br />
イオを 含 めた 先 端 技 術 産 業 の 発 展 と 新 たなる 応<br />
用 の 開 拓 に 大 きく 寄 与 すると 期 待 される。<br />
特 に、 半 導 体 技 術 を 中 心 とするドライプロセス<br />
の 基 礎 および 応 用 に 関 して、 日 本 は 世 界 のトップ<br />
レベルにあり、 研 究 者 ・ 技 術 者 の 数 も 多 い。この<br />
ような 背 景 のもと、ドライプロセスの 基 礎 から 応<br />
用 に 携 わる 世 界 の 研 究 者 が 一 堂 に 会 して、 先 端 的<br />
成 果 を 発 表 ・ 討 論 し、 相 互 の 理 解 を 深 める 本 国 際<br />
会 議 を 開 催 することは、 電 気 分 野 の 基 礎 ・ 材 料 の<br />
発 展 のみならず 情 報 システム、マイクロエレクト<br />
ロニクス、ディスプレイ、 半 導 体 デバイス、バイ<br />
オテクノロジー、マイクロマシン、 機 能 性 材 料 を<br />
基 盤 とする 電 気 ・ 電 子 ・ 情 報 ・バイオ 分 野 および<br />
ナノテクノロジー 分 野 における 次 世 代 のブレー<br />
クスルー 的 技 術 の 創 製 が 期 待 される。 詳 細 は 以 下<br />
のURLをご 覧 ください。<br />
URL: http://www.dry-process.org/2012<br />
【 主 催 】 応 用 物 理 学 会<br />
【 協 賛 】 電 気 学 会 、 電 子 情 報 通 信 学 会 , 放 電 学 会 ,<br />
日 本 真 空 協 会 ( 依 頼 中 を 含 む)<br />
【 開 催 期 間 】<br />
2012 年 11 月 15 日 ( 木 )~16 日 ( 金 )<br />
【 開 催 場 所 】<br />
東 京 大 学 武 田 先 端 知 ビル 武 田 ホール<br />
〒113-8656 東 京 都 文 京 区 弥 生 2-11-16<br />
TEL: 03-5841-1180<br />
【 招 待 講 演 】<br />
Norikatsu Takaura (LEAP),<br />
“Non-volatile memory device”<br />
Koukou Suu (Ulvac),<br />
“The development of etching technology for<br />
non-volatile memory”<br />
Tetsuji Shimizu (Max Planck Institut),<br />
“Non-thermal atmospheric plasma for use<br />
in medical application”<br />
Toshiya Hirai (Sony),<br />
“Quality control for dry process through<br />
APC/EES”<br />
Toshiaki Kato (Tohoku University),<br />
“Controllable graphene growth using novel<br />
plasma catalytic deposition”<br />
【トピックス・スコープ】<br />
一 般 講 演 分 野 :<br />
・ドライエッチング 技 術<br />
・プラズマプロセスを 用 いた 製 造 サイエンス<br />
・ 表 面 反 応 およびプラズマ 誘 起 ダメージ<br />
・プラズマおよび 表 面 のモニタリングと 診 断 技 術<br />
・モデリングとシミュレーション<br />
・プラズマ 生 成 技 術<br />
・ 製 膜 (PVD/CVD/ALD) 技 術<br />
・3 次 元 デバイス,フラットパネルディスプレイ,<br />
太 陽 電 池 へのプラズマ 応 用<br />
・ 新 デバイス 材 料 (メモリ、パワー、ロジック<br />
45
デバイス)へのプラズマ 応 用<br />
・ 医 療 、 薬 理 作 用 、マイクロメカニカル<br />
エレクトロシステム(MEMS)、ナノ 科 学<br />
・ 大 気 圧 、 液 体 プラズマプロセス<br />
・ 新 規 のプラズマ 応 用 技 術<br />
アレンジセッション:<br />
・ 不 揮 発 性 メモリのプロセス 技 術<br />
・プラズマの 医 療 薬 理 アプリケーション<br />
【 会 議 使 用 言 語 】<br />
英 語<br />
(http://jjap.jsap.jp/special/)から 投 稿 してくださ<br />
い。 特 集 号 の 特 別 編 集 委 員 会 により 通 常 の JJAP<br />
審 査 手 順 を 経 て 掲 載 を 判 断 します。<br />
【 参 加 費 】<br />
主 催 協 賛 学 会 会 員 30,000(35,000) 円<br />
非 会 員 35,000(40,000) 円<br />
学 生 8,000(10,000) 円<br />
(カッコ 内 は、2012 年 10 月 17 日 以 降 )<br />
※プロシーディングス 代 含 む、<br />
懇 親 会 費 は 含 まない<br />
【 会 議 関 連 スケジュール】<br />
講 演 申 込 締 切<br />
2012 年 7 月 29 日<br />
講 演 採 択 通 知<br />
2012 年 9 月 初 旬<br />
事 前 参 加 申 込 締 切 2012 年 10 月 16 日<br />
JJAP 特 集 号 投 稿 締 切 2012 年 11 月 15 日<br />
【 講 演 申 込 に 関 して】<br />
申 込 みの 際 には 所 定 の 書 式 に 従 った A4 版 2 頁<br />
の 英 文 プロシーディングスを 下 記 の URL から 投<br />
稿 してください。その 後 の 審 査 の 結 果 、 口 頭 発 表 、<br />
ポスター 発 表 、 不 採 択 に 分 類 します。 採 択 された<br />
場 合 は 提 出 された 原 稿 がそのままプロシーディ<br />
ングスとして 発 刊 されます。 詳 細 は HP 参 照 。<br />
http://www.dry-process.org/2012<br />
【JJAP 特 集 号 に 関 して】<br />
2012 年 11 月 15 日 までに JJAP の Website<br />
【 懇 親 会 】<br />
日 時 :2012 年 11 月 15 日 18 時 30 分 ~<br />
開 催 場 所 : 武 田 先 端 知 ビル ホワイエ<br />
【 関 連 委 員 】<br />
[ 組 織 委 員 長 ]: 伊 澤 勝 ( 日 立 ハイテク)<br />
[ 実 行 委 員 長 ]: 一 木 隆 範 ( 東 京 大 )<br />
[ 論 文 委 員 長 ]: 小 倉 輝 ( 富 士 通 )<br />
[ 出 版 委 員 長 ]: 東 清 一 郎 ( 広 島 大 )<br />
【 問 合 せ 先 】<br />
DPS2012 事 務 局 一 木 隆 範<br />
〒113-8656 東 京 都 文 京 区 弥 生 2-11-16<br />
東 京 大 学 大 学 院 工 学 系 研 究 科<br />
バイオエンジニアリング 専 攻<br />
TEL/FAX : 03-5841-1180<br />
E-Mail: dps2012@bionano.t.u-tokyo.ac.jp<br />
46
行 事 案 内<br />
『 企 業 Oriented』を 基 軸 とする 初 めての 国 際 会 議<br />
第 11 回 Asia Pacific Conference on Plasma Science and<br />
Technology(APCPST) / 第 25 回 Symposium on Plasma<br />
Science for Materials(SPSM)<br />
~ Plasma Science and Technology towards Innovation and<br />
Business ~<br />
名 古 屋 大 学<br />
堀 勝<br />
平 成 24 年 10 月 2 日 ~5 日 、 京 都 大 学 ローム<br />
記 念 館 において、 独 立 行 政 法 人 日 本 学 術 振 興 会<br />
プラズマ 材 料 科 学 第 153 委 員 会 主 催 、 応 用 物 理<br />
学 会 プラズマエレクトロニクス 分 科 会 後 援 で<br />
APCPST/SPSM が 開 催 する 運 びとなりました。<br />
詳 細 は(http://www.apcpst2012.org/)をご 高 覧 く<br />
ださい。<br />
この 合 同 会 議 は、プラズマに 関 与 する 物 理 化<br />
学 的 な 現 象 やプラズマプロセスを 利 用 した 材 料<br />
創 製 に 関 して 発 表 ・ 議 論 ・ 情 報 交 換 をする 会 議<br />
であり、 関 係 する 分 野 は、プラズマ・ 物 理 ・ 化<br />
学 ・ 材 料 ・バイオ・ 環 境 といった 分 野 を 横 断 的<br />
に 網 羅 した 複 合 領 域 です。<br />
1992 年 から 開 催 され、アジア 太 平 洋 地 域 の<br />
日 ・ 中 ・ 韓 ・ 豪 で 隔 年 開 催 されます。アジア 太<br />
平 洋 各 国 企 業 のプラズマ 技 術 に 関 する 取 り 組 み<br />
を 本 交 流 の 場 を 通 して 知 ることにより、 我 が 国<br />
の 産 業 活 性 化 を 促 進 し、 一 国 で 実 現 することが<br />
困 難 な 課 題 に 取 り 組 むきっかけにつながるかと<br />
考 えます。<br />
特 に 今 回 の 開 催 にあたっては、「 企 業 への 貢 献<br />
を 基 軸 に、アカデミックの 活 性 化 と 若 者 の 育 成<br />
を 図 る」ことを 目 指 し、 以 下 を 基 軸 に 開 催 する<br />
予 定 です。<br />
・ 企 業 の 皆 様 が 参 加 しやすい 会 議<br />
・ 役 に 立 つサイエンス<br />
・ 役 に 立 つ 情 報 交 換 と 企 業 現 場 等 の 課 題 への<br />
ソリューションの 提 示<br />
・ 教 育 ( 企 業 人 、 大 学 、 若 手 : 学 生 )の 重 視<br />
・ アカデミック、インダストリーとの 出 会 い。<br />
企 業 と 学 生 、 大 学 人 の 出 会 いの 場 を 意 図 的<br />
に 作 り、 国 際 共 同 研 究 ・ 開 発 、 事 業 連 携 、<br />
ビジネスの 促 進<br />
・ 企 業 レポートセッション(Non Scientist<br />
Report)を 設 定<br />
従 来 の 国 際 会 議 での 発 表 では、 学 術 的 な 議 論<br />
に 主 眼 が 置 かれていることから、 各 社 の 製 品 紹<br />
介 やビジネスに 直 結 する 話 題 については、 学 術<br />
的 な 内 容 を 除 いて 忌 避 するようにとの 制 約 があ<br />
り、 単 に 企 業 展 示 での 紹 介 のみに 制 限 されてい<br />
ることが 通 例 です。<br />
一 方 、 今 回 の APCPST 国 際 会 議 は、 各 社 の 製<br />
品 ・ 技 術 ・ 優 位 性 をはじめとする 多 様 な 御 発 表<br />
を 通 じたビジネス 指 向 の 議 論 こそが、イノベー<br />
ションへの 源 泉 であるとの 信 念 のもと、『 企 業<br />
Oriented』を 基 軸 とする 初 めての 国 際 会 議 であり、<br />
古 今 無 双 の 果 敢 な 企 画 といえます。これらによ<br />
り、 企 業 ・ 大 学 間 の 情 報 交 換 、 産 業 における 課<br />
題 の 理 解 とアカデミアからの 提 案 、( 国 際 ) 共 同<br />
研 究 等 が 促 進 されることを 期 待 しております。<br />
すでに、400 件 に 近 い 論 文 投 稿 があり、プラ<br />
ズマの 基 礎 科 学 からビジネスに 関 する 貴 重 な 情<br />
報 交 換 やコミュニケーションを 図 ることができ<br />
る 舞 台 が 整 っております。ぜひ 多 くの 皆 様 にご<br />
参 加 を 検 討 いただきたく、よろしくお 願 い 申 し<br />
上 げます。<br />
47
行 事 案 内<br />
第 30 回 プラズマプロセシング 研 究 会 (SPP-30) 案 内<br />
静 岡 大 学 永 津 雅 章 ( 現 地 実 行 委 員 会 委 員 長 )<br />
第 30 回 プラズマプロセシング 研 究 会 を 下 記<br />
の 要 領 にて 開 催 致 します。 会 場 は JR 浜 松 駅 の<br />
すぐ 近 くにあり、 交 通 の 便 も 良 く、 気 候 も 温 暖<br />
な 地 域 であるため 学 術 会 合 の 開 催 に 適 していま<br />
す。 皆 様 のご 参 加 を 心 よりお 待 ち 申 しておりま<br />
す。 懇 親 会 へのご 参 加 も 是 非 よろしくお 願 い 申<br />
し 上 げます。<br />
いるナノテクノロジー 分 野 (ナノ 粒 子 、ナノ 構<br />
造 物 質 、ナノ 加 工 )、プラズマ 医 療 ・バイオ 応 用<br />
分 野 、 環 境 ・エネルギー 応 用 分 野 もスコープに<br />
加 え、 総 合 的 な 議 論 ができるように 配 慮 されて<br />
います。また、 次 世 代 を 担 う 大 学 院 生 等 の 人 材<br />
育 成 の 観 点 より、 第 一 線 で 活 躍 する 著 名 な 研 究<br />
者 を 招 待 して、「 特 別 講 演 」や「 指 定 テーマ 講 演 」<br />
を 企 画 しています。<br />
記<br />
[1] 特 別 講 演 (2 件 を 予 定 しております)<br />
【 会 期 】2013 年 1 月 21 日 ( 月 )〜1 月 23 日 ( 水 )<br />
[2] 指 定 テーマ 講 演 (2 件 を 予 定 しております)<br />
【 会 場 】アクトシティ 浜 松 ・ 研 修 交 流 センター<br />
〒430-7790 静 岡 県 浜 松 市 中 区 中 央 3-9-1<br />
(JR 浜 松 駅 から 徒 歩 約 5 分 )<br />
【 会 議 の 概 要 】<br />
プラズマプロセシング 研 究 会 は、( 社 ) 応 用 物<br />
理 学 会 プラズマエレクトロニクス 分 科 会 主 催 で、<br />
毎 年 1 月 下 旬 から 2 月 初 旬 にかけて 開 催 され、<br />
今 回 で 第 30 回 目 を 迎 えます。プロセシングプラ<br />
ズマの 物 理 的 ・ 化 学 的 基 礎 科 学 の 解 明 およびそ<br />
の 制 御 と 応 用 技 術 の 開 発 をテーマに 掲 げ、プラ<br />
ズマ 物 理 ・プラズマ 化 学 の 研 究 者 をはじめとし<br />
て、 原 子 ・ 分 子 物 理 、 薄 膜 ・ 表 面 の 物 理 ・ 化 学 、<br />
電 子 工 学 など 多 分 野 の 研 究 者 が 一 堂 に 会 して、<br />
プラズマを 接 点 とする 境 界 分 野 の 成 果 発 表 ・ 討<br />
論 を 行 うと 共 に、 新 たな 問 題 点 の 発 掘 や、 新 し<br />
いプロセシングの 可 能 性 を 追 求 することが 目 的<br />
です。<br />
ここで、プラズマ 応 用 技 術 に 関 わる 基 礎 的 研<br />
究 は 勿 論 のこと、 次 世 代 の 応 用 技 術 と 目 されて<br />
[3] 一 般 講 演<br />
1) プロセシングプラズマの 発 生 ・ 制 御<br />
2) プロセシングプラズマの 診 断 ・ 計 測 ・モニ<br />
タリング<br />
3) プロセシングプラズマにおける 素 過 程 ・モ<br />
デリング<br />
4) プラズマによるエッチング<br />
5) プラズマによる 薄 膜 形 成<br />
6) プラズマによる 表 面 改 質<br />
7) 大 気 圧 ・マイクロプラズマの 基 礎 と 応 用<br />
8) 液 相 及 び 気 液 界 面 プラズマの 基 礎 と 応 用<br />
9) プラズマ 応 用 技 術<br />
9-1)ナノテクノロジー<br />
9-2)プラズマ 医 療 ・バイオ 応 用<br />
9-3) 環 境 ・エネルギー 応 用<br />
9-4) 光 応 用 ・ 発 光 デバイス 用 プラズマ<br />
9-5) 上 記 以 外 のプラズマ 応 用<br />
10) 上 記 以 外 のプラズマプロセシング<br />
48
【 参 加 費 】( 事 前 参 加 申 込 み 期 限 :2012 年 11 月 19 日 ( 月 ) プロシーディングス 代 含 む)<br />
応 物 ・PE 会 員 PE 会 員 応 物 ・ 協 賛 学 協 会 会 員 その 他<br />
一 般 12,000 円 15,000 円 15,000 円 18,000 円<br />
学 生 3,000 円 5,000 円 5,000 円 8,000 円<br />
※ 事 前 参 加 申 込 み 期 限 後 は、 一 般 2,000 円 増 、 学 生 1,000 円 増 となります。<br />
【 懇 親 会 】<br />
日 時 :2013 年 1 月 21 日 ( 月 ) 18:30 ~ 20:30<br />
会 場 :ホテルクラウンパレス 浜 松<br />
(SPP-30 会 場 から 約 300 m)<br />
会 費 :5,000 円<br />
【 締 切 】<br />
・ 講 演 申 込 み:2012 年 10 月 15 日 ( 月 )<br />
・ 事 前 参 加 申 込 み:2012 年 11 月 19 日 ( 月 )<br />
・プロシーディングス 原 稿 ( 英 文 、A4 版 2 ペー<br />
ジ) 提 出 :2012 年 12 月 3 日 ( 月 )<br />
【 主 催 ・ 共 催 ・ 協 賛 】 ( 依 頼 中 含 む)<br />
主 催 : 応 用 物 理 学 会 プラズマエレクトロニクス<br />
分 科 会<br />
共 催 : 静 岡 大 学 ( 予 定 )<br />
協 賛 : 日 本 物 理 学 会 、プラズマ・ 核 融 合 学 会 、<br />
電 気 学 会 、 電 子 情 報 通 信 学 会 、 日 本 化 学<br />
会 、 電 気 化 学 会 、 高 分 子 学 会 、 日 本 真 空<br />
協 会 、 日 本 セラミックス 協 会 、 表 面 技 術<br />
協 会 、 静 電 気 学 会<br />
【 問 い 合 せ 先 】<br />
第 30 回 プラズマプロセシング 研 究 会 (SPP-30)<br />
現 地 実 行 委 員 会 委 員 長 永 津 雅 章<br />
( 静 岡 大 学 創 造 科 学 技 術 大 学 院 )<br />
TEL / FAX: 053-478-1081<br />
E-mail: spp30@ipc.shizuoka.ac.jp<br />
Web: http://annex.jsap.or.jp/plasma/ に 学 会 情 報 を<br />
掲 載 予 定<br />
以 上<br />
49
2012( 平 成 24) 年 度 プラズマエレクトロニクス 分 科 会 幹 事 名 簿<br />
幹 事 長<br />
副 幹 事 長 豊 田 浩 孝<br />
副 幹 事 長 辰 巳 哲 也<br />
副 幹 事 長 野 崎 智 洋<br />
幹 事<br />
任 期 安 部 隆<br />
2013 年 3 月<br />
〃<br />
〃<br />
〃<br />
〃<br />
〃<br />
〃<br />
〃<br />
〃<br />
〃<br />
池 田 知 弘<br />
市 來 龍 大<br />
唐 橋 一 浩<br />
榊 田 創<br />
佐 藤 孝 紀<br />
坪 井 秀 夫<br />
西 澤 厚<br />
比 村 治 彦<br />
名 古 屋 大 学<br />
工 学 研 究 科<br />
電 子 情 報 システム 専 攻<br />
ソニー( 株 )<br />
R&DPF コアデバイス 開 発 本 部<br />
セミコンダクタテクノロジー 開 発 部 門<br />
プロセス 設 計 部<br />
東 京 工 業 大 学<br />
大 学 院 理 工 学 研 究 科<br />
機 械 制 御 システム 専 攻<br />
新 潟 大 学<br />
大 学 院 自 然 科 学 研 究 科<br />
材 料 生 産 システム 専 攻<br />
三 菱 電 機 ( 株 )<br />
先 端 技 術 総 合 研 究 所<br />
大 分 大 学<br />
工 学 部<br />
電 気 電 子 工 学 科<br />
大 阪 大 学<br />
大 学 院 工 学 研 究 科<br />
原 子 分 子 イオン 制 御 理 工 学 センター<br />
産 業 技 術 総 合 研 究 所<br />
エネルギー 技 術 研 究 部 門<br />
先 進 プラズマ 技 術 グループ<br />
室 蘭 工 業 大 学<br />
大 学 院 工 学 研 究 科<br />
情 報 電 子 工 学 系 専 攻<br />
( 株 ) アルバック<br />
生 産 技 術 開 発 センター<br />
ルネサスエレクトロニクス 株 式 会 社<br />
生 産 本 部<br />
プロセス 技 術 統 括 部<br />
プロセス 加 工 技 術 部<br />
京 都 工 芸 繊 維 大 学<br />
工 芸 科 学 研 究 科<br />
電 子 システム 工 学 専 攻<br />
名 城 大 学<br />
平 松 美 根 男 理 工 学 部<br />
電 気 電 子 工 学 科<br />
〒464-8603<br />
名 古 屋 市 千 種 区 不 老 町<br />
TEL: 052-789-4698<br />
FAX: 052-789-3150<br />
〒253-0014<br />
厚 木 市 旭 町 4-14-1<br />
TEL: 046-202-4793<br />
FAX: 046-202-6374<br />
〒152-8550<br />
目 黒 区 大 岡 山 2-12-1(I1-23)<br />
TEL: 03-5734-2681<br />
FAX: 03-5734-2681<br />
〒950-2181<br />
新 潟 市 西 区 五 十 嵐 2の 町 8050<br />
TEL: 025-262-6795<br />
FAX: 025-262-6795<br />
〒661-8661<br />
兵 庫 県 尼 崎 市 塚 口 本 町 8-1-1<br />
TEL: 06-6497-7524<br />
FAX: 06-6497-7285<br />
〒870-1192<br />
大 分 市 旦 野 原 700<br />
TEL: 097-554-7826<br />
FAX: 097-554-7820<br />
〒565-0871<br />
大 阪 府 吹 田 市 山 田 丘 2-1A12 棟<br />
TEL: 06-6878-6411<br />
FAX: 06-6879-7916<br />
〒305-8568<br />
茨 城 県 つくば 市 梅 園 1-1-1 つくば 中 央 第 2<br />
TEL: 029-861-5775<br />
FAX: 029-861-5754<br />
〒050-8585<br />
室 蘭 市 水 元 町 27-1<br />
TEL: 0143-46-5506<br />
FAX: 0143-46-5501<br />
〒253-8543<br />
神 奈 川 県 茅 ヶ 崎 市 萩 園 2500<br />
TEL: 0467-89-2424<br />
FAX: 0467-58-5773<br />
〒252-5298<br />
神 奈 川 県 相 模 原 市 中 央 区 下 九 沢 1120<br />
TEL: 042-779-9925<br />
FAX: 042-771-0329<br />
〒606-8585<br />
京 都 市 左 京 区 松 ヶ 崎 御 所 海 道 町 5 号 館 405<br />
TEL: 075-724-7437<br />
FAX: 075-724-7437<br />
〒468-8502<br />
名 古 屋 市 天 白 区 塩 釜 口 1-501<br />
TEL: 052-838-2298<br />
FAX: 052-832-1298<br />
toyoda@nuee.nagoya-u.ac.jp<br />
Tetsuya.Tatsumi@jp.sony.co<br />
m<br />
tnozaki@mech.titech.ac.jp<br />
Ikeda.Tomohiro@ab.Mitsubis<br />
hiElectric.co.jp<br />
ryu-ichiki@oita-u.ac.jp<br />
h.sakakita@aist.go.jp<br />
氏 名 所 属 住 所 ・ 電 話 E-mail<br />
〒277-0882<br />
東 京 大 学<br />
柏 市 柏 の 葉 5-1-5 基 盤 系 研 究 棟 504 kazuo@plasma.k.utokyo.ac.jp<br />
寺 嶋 和 夫 新 領 域 創 成 科 学 研 究 科<br />
TEL: 04-7136-3799<br />
物 質 系 専 攻<br />
FAX: 04-7136-3799<br />
memsabe@eng.niigatau.ac.jp<br />
karahashi@ppl.eng.osakau.ac.jp<br />
ksatoh@mmm.muroranit.ac.jp<br />
hideo_tsuboi@ulvac.com<br />
atsushi.nishizawa.kc@renesa<br />
s.com<br />
himura@kit.ac.jp<br />
mnhrmt@meijo-u.ac.jp<br />
50
幹 事<br />
任 期 池 田 太 郎<br />
2014 年 3 月<br />
氏 名 所 属 住 所 ・ 電 話 E-mail<br />
東 京 エレクトロン 山 梨 株 式 会 社<br />
技 術 開 発 センター<br />
MiPSグループ<br />
〒407-0192<br />
山 梨 県 韮 崎 市 穂 坂 町 三 ツ 沢 650<br />
TEL: 0551-23-2327<br />
FAX: 0551-23-4260<br />
taro.ikeda@tel.com<br />
〃<br />
石 川 善 恵<br />
香 川 大 学<br />
工 学 部<br />
材 料 創 造 工 学 科<br />
〒761-0396<br />
香 川 県 高 松 市 林 町 2217-20<br />
TEL: 087-864-2400<br />
FAX: 087-864-2438<br />
y05595@eng.kagawa-u.ac.jp<br />
〃<br />
市 川 尚 志<br />
( 株 ) 東 芝<br />
デバイスプロセス 開 発 センター<br />
インテグレーション・キャラクタリゼー<br />
ション 技 術 開 発 部<br />
〒235-8522<br />
横 浜 市 磯 子 区 新 杉 田 8 番 地<br />
TEL: 045-776-4673<br />
FAX: 045-776-4104<br />
takashi2.ichikawa@toshiba.c<br />
o.jp<br />
〃<br />
北 野 勝 久<br />
大 阪 大 学<br />
大 学 院 工 学 研 究 科<br />
原 子 分 子 イオン 制 御 理 工 学 センター<br />
〒565-0871<br />
大 阪 府 吹 田 市 山 田 丘 2-1<br />
TEL: 06-6878-6412<br />
FAX: 06-6879-7916<br />
kitano@ppl.eng.osaka-u.ac.jp<br />
〃<br />
金 載 浩<br />
産 業 総 合 技 術 研 究 所<br />
エネルギー 技 術 研 究 部 門<br />
先 進 プラズマ 技 術 グループ<br />
〒305-8568<br />
茨 城 県 つくば 市 梅 園 1-1-1 中 央 第 2<br />
TEL: 029-861-4889<br />
FAX: 029-861-5754<br />
jaeho.kim@aist.go.jp<br />
〃<br />
堤 井 君 元<br />
九 州 大 学<br />
総 合 理 工 学 研 究 院<br />
融 合 創 造 理 工 学 部 門<br />
〒816-8580<br />
福 岡 県 春 日 市 春 日 公 園 6-1(D 棟 304 号 室 )<br />
TEL: 092-583-7097<br />
FAX: 092-583-7097<br />
teii@asem.kyushu-u.ac.jp<br />
〃<br />
首 都 大 学 東 京<br />
杤 久 保 文 嘉 理 工 学 研 究 科<br />
電 気 電 子 工 学 専 攻<br />
〒192-0397<br />
八 王 子 市 南 大 沢 1-1<br />
TEL: 042-677-2744<br />
FAX: 042-677-2756<br />
tochi@tmu.ac.jp<br />
〃<br />
前 田 賢 治<br />
( 株 ) 日 立 製 作 所<br />
中 央 研 究 所<br />
ナノプロセス 研 究 部<br />
〒185-8601<br />
東 京 都 国 分 寺 市 東 恋 ヶ 窪 1-280<br />
TEL: 042-323-1111 (ext. 2142)<br />
FAX: 042-327-7708<br />
kenji.maeda.tj@hitachi.com<br />
〃<br />
三 重 野 哲<br />
静 岡 大 学<br />
理 学 部<br />
物 理 学 科<br />
〒422-8529<br />
静 岡 市 駿 河 区 大 谷 836<br />
TEL: 054-238-4750<br />
FAX: 054-238-4750<br />
piero@sannet.ne.jp<br />
〃<br />
三 沢 達 也<br />
佐 賀 大 学<br />
大 学 院 工 学 系 研 究 科<br />
電 気 電 子 工 学 専 攻<br />
〒840-0027<br />
佐 賀 県 佐 賀 市 本 庄 町 1<br />
TEL: 0952-28-8639<br />
FAX: 0952-28-8651<br />
misawa@ep.ee.saga-u.ac.jp<br />
〃<br />
向 川 政 治<br />
岩 手 大 学<br />
工 学 部<br />
電 気 電 子 ・ 情 報 システム 工 学 科<br />
〒020-8554<br />
岩 手 県 盛 岡 市 上 田 4-3-5<br />
TEL: 019-621-6877<br />
FAX: 019-621-6877<br />
mukaigaw@iwate-u.ac.jp<br />
〃<br />
吉 木 宏 之<br />
鶴 岡 工 業 高 等 専 門 学 校<br />
電 気 電 子 工 学 科<br />
〒997-8511<br />
山 形 県 鶴 岡 市 井 岡 字 沢 田 104<br />
TEL: 0235-25-9146<br />
FAX: 0235-24-1840<br />
yoshiki@tsuruoka-nct.ac.jp<br />
51
2012( 平 成 24) 年 度 分 科 会 幹 事 役 割 分 担<br />
役 割 分 担 新 任 留 任<br />
幹 事 長 寺 嶋 和 夫 東 京 大 学<br />
豊 田 浩 孝 名 古 屋 大 学<br />
副 幹 事 長<br />
辰 巳 哲 也 ( 株 ) ソニー<br />
野 崎 智 洋 東 京 工 業 大 学<br />
1. 分 科 会 ミーティング 三 沢 達 也 佐 賀 大 学 平 松 美 根 男 名 城 大 学<br />
野 崎 智 洋 東 京 工 業 大 学 安 部 隆 新 潟 大 学<br />
2. シンポジウム 総 合 講 演 北 野 勝 久 大 阪 大 学 比 村 治 彦 京 都 工 芸 繊 維 大 学<br />
合 同 セッション<br />
金 載 浩 ( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所 坪 井 秀 夫 ( 株 ) アルバック<br />
3. プラズマプロセシング<br />
研 究 会<br />
4. 光 源 物 性 と<br />
その 応 用 研 究 会<br />
5. プラズマ 新 領 域 研 究 会<br />
6. インキュベーション<br />
ホール<br />
7. プラズマエレクトロニクス<br />
講 習 会<br />
市 川 尚 志 ( 株 ) 東 芝 平 松 美 根 男 名 城 大 学<br />
豊 田 浩 孝 名 古 屋 大 学 榊 田 創 ( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所<br />
三 重 野 哲 静 岡 大 学 池 田 知 弘 三 菱 電 機 ( 株 )<br />
堤 井 君 元 九 州 大 学 安 部 隆 新 潟 大 学<br />
金 載 浩 ( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所 比 村 治 彦 京 都 工 芸 繊 維 大 学<br />
池 田 太 郎 東 京 エレクトロン 山 梨 ( 株 ) 西 澤 厚 ルネサスエレクトロニクス<br />
市 來 龍 大 大 分 大 学<br />
佐 藤 孝 紀 室 蘭 工 業 大 学<br />
向 川 政 治 岩 手 大 学 佐 藤 孝 紀 室 蘭 工 業 大 学<br />
豊 田 浩 孝 名 古 屋 大 学 市 來 龍 大 大 分 大 学<br />
栃 久 保 文 嘉 首 都 大 学 東 京 西 澤 厚 ルネサスエレクトロニクス<br />
石 川 善 恵 香 川 大 学 榊 田 創 ( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所<br />
堤 井 君 元 九 州 大 学<br />
吉 木 宏 之 鶴 岡 工 業 高 等 専 門 学 校<br />
豊 田 浩 孝 名 古 屋 大 学 佐 藤 孝 紀 室 蘭 工 業 大 学<br />
前 田 賢 治 ( 株 ) 日 立 製 作 所 榊 田 創 ( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所<br />
三 沢 達 也 佐 賀 大 学 唐 橋 一 浩 大 阪 大 学<br />
石 川 善 恵 香 川 大 学 坪 井 秀 夫 ( 株 ) アルバック<br />
吉 木 宏 之 鶴 岡 工 業 高 等 専 門 学 校 平 松 美 根 男 名 城 大 学<br />
辰 巳 哲 也 ( 株 ) ソニー 坪 井 秀 夫 ( 株 ) アルバック<br />
池 田 太 郎 東 京 エレクトロン 山 梨 ( 株 ) 池 田 知 弘 三 菱 電 機 ( 株 )<br />
前 田 賢 治 ( 株 ) 日 立 製 作 所 西 澤 厚 ルネサスエレクトロニクス<br />
市 川 尚 志 ( 株 ) 東 芝 安 部 隆 新 潟 大 学<br />
市 川 尚 志 ( 株 ) 東 芝 市 來 龍 大 大 分 大 学<br />
8. 会 誌 編 集 ・ 書 記<br />
向 川 政 治 岩 手 大 学 池 田 知 弘 三 菱 電 機 ( 株 )<br />
9. ホームページ 北 野 勝 久 大 阪 大 学 唐 橋 一 浩 大 阪 大 学<br />
10. 会 員 名 簿 佐 藤 孝 紀 室 蘭 工 業 大 学<br />
11. 庶 務 三 沢 達 也 佐 賀 大 学 市 來 龍 大 大 分 大 学<br />
12. 会 計 北 野 勝 久 大 阪 大 学 平 松 美 根 男 名 城 大 学<br />
13. プラズマエレクトロニクス 賞 寺 嶋 和 夫 東 京 大 学<br />
14. アカデミックロードマップ 野 崎 智 洋 東 京 工 業 大 学 榊 田 創 ( 独 ) 産 業 技 術 総 合 研 究 所<br />
( 戦 略 企 画 室 ) 寺 嶋 和 夫 東 京 大 学<br />
15. PE 懇 親 会<br />
秋 : 愛 媛 大 学<br />
安 部 隆 新 潟 大 学<br />
16. PE 懇 親 会<br />
春 : 神 奈 川 工 科 大 学<br />
比 村 治 彦 京 都 工 芸 繊 維 大 学<br />
GEC 委 員 白 谷 正 治 九 州 大 学<br />
太 字 : 取 りまとめ 役<br />
52
2012( 平 成 24) 年 度 分 科 会 関 連 の 各 種 世 話 人 ・ 委 員<br />
1. 応 用 物 理 学 会 講 演 分 科 の 世 話 人<br />
8.1 プラズマ 生 成 ・ 制 御 林 信 哉 ( 佐 賀 大 )<br />
中 村 圭 二 ( 中 部 大 )<br />
8.2 プラズマ 診 断 ・ 計 測 山 形 幸 彦 ( 九 州 大 )<br />
8.3 プラズマ 成 膜 ・ 表 面 処 理 野 崎 智 洋 ( 東 工 大 )<br />
8.4 プラズマエッチング 林 久 貴 ( 東 芝 )<br />
8.5 プラズマナノテクノロジー 佐 藤 孝 紀 ( 室 蘭 工 大 )<br />
8.6 プラズマ 現 象 ・ 新 応 用 ・ 融 合 分 野 明 石 治 朗 ( 防 衛 大 )<br />
2. 応 用 物 理 ・ 編 集 委 員 野 崎 智 洋 ( 東 工 大 )<br />
3. 応 用 物 理 学 会 代 議 員 豊 田 浩 孝 ( 名 古 屋 大 )<br />
金 子 俊 郎 ( 東 北 大 )<br />
林 信 哉 ( 佐 賀 大 )<br />
4.GEC 組 織 委 員 会 委 員 白 谷 正 治 ( 九 州 大 )<br />
5.その 他 : 本 部 理 事 斧 高 一 ( 京 都 大 )<br />
6. 評 議 員 河 野 明 廣 ( 名 古 屋 大 )<br />
白 谷 正 治 ( 九 州 大 )<br />
中 山 喜 萬 ( 大 阪 大 )<br />
畠 山 力 三 ( 東 北 大 )<br />
藤 山 寬 ( 長 崎 大 )<br />
堀 勝 ( 名 古 屋 大 )<br />
真 壁 利 明 ( 慶 應 大 )<br />
宮 崎 誠 一 ( 名 古 屋 大 )<br />
7.フェロー 岡 本 幸 雄 ( 東 洋 大 )<br />
寒 川 誠 二 ( 東 北 大 )<br />
菅 井 秀 郎 ( 中 部 大 )<br />
高 井 治 ( 名 古 屋 大 )<br />
橘 邦 英 ( 愛 媛 大 )<br />
中 山 喜 萬 ( 大 阪 大 )<br />
藤 山 寬 ( 長 崎 大 )<br />
真 壁 利 明 ( 慶 應 大 )<br />
渡 辺 征 夫 ( 九 州 電 気 専 門 学 校 )<br />
8. 名 誉 会 員 後 藤 俊 夫 ( 中 部 大 )<br />
53
平 成 23 年 度 後 期 および 平 成 24 年 度 前 記 活 動 報 告<br />
第 62 回 プラズマエレクトロニクス 分 科 会 ミーテ<br />
ィング/ 平 成 23 年 度 第 4 回 幹 事 会 議 事 録 ( 応 用<br />
物 理 学 会 インフォーマルミーティング 内 )<br />
日 時 : 平 成 24 年 3 月 15 日 ( 木 )12:00-13:15<br />
場 所 : 早 稲 田 大 学 10 号 館 207 教 室<br />
1.「8.プラズマエレクトロニクス」 大 分 類 分 科 意<br />
見 交 換 会<br />
学 会 の 講 演 会 企 画 運 営 委 員 会 の 議 論 を 経 て、 大<br />
分 類 ミーティングをインフォーマルミーティング<br />
の 冒 頭 に 並 列 開 催 することにした。<br />
宮 崎 講 演 会 企 画 運 営 委 員 ( 名 大 )から、 講 演 会<br />
の 活 性 化 のための 改 革 について 説 明 があった 後 、<br />
堀 幹 事 長 ( 名 大 )、 中 村 教 授 ( 中 部 大 )を 中 心 に 大<br />
分 類 8 の 現 状 について 意 見 交 換 がなされた。 概 略<br />
は 以 下 の 通 り。<br />
・ 今 後 の 学 会 の 継 続 的 な 会 員 の 増 加 を 図 るために<br />
は、 今 後 アジアを 中 心 とする 国 際 化 に 対 応 する 必<br />
要 がある。 今 後 、 秋 の 学 会 を 中 心 に 英 語 セッショ<br />
ン、 海 外 招 待 講 演 を 増 やす。 本 年 秋 には 分 光 関 係<br />
の 会 議 との 合 同 セッションが 予 定 されている。<br />
大 分 類 8 では、MRS とのジョイントを 進 めて<br />
いるが、 英 語 セッションは 中 分 類 8.6 に 集 中 して<br />
いる。 今 後 中 分 類 を 基 礎 ・ 計 測 と 材 料 ・ 応 用 のグ<br />
ループに 分 類 し 講 演 会 ごとに 英 語 セッションを 持<br />
ち 回 りとする。 会 場 からは、 持 ち 回 りにこだわら<br />
ず 重 要 テーマは 海 外 招 待 講 演 などを 招 くべきとい<br />
う 意 見 、 募 集 や 予 稿 なども 英 文 化 するのかという<br />
質 問 があった。<br />
・ 講 演 会 の 規 模 は 順 調 に 拡 大 してきたが、 講 演 会<br />
場 の 数 や 収 容 人 数 の 確 保 が 困 難 となっている。 講<br />
演 形 式 を 講 演 者 に 選 択 してもらいポスター 講 演 を<br />
積 極 的 に 活 用 する。そのため、プログラム 委 員 に<br />
は 講 演 の 査 読 権 限 も 持 たせる 代 わりに 選 出 法 も<br />
明 確 にする 必 要 がある。<br />
大 分 類 8 ではプログラム 委 員 や 企 画 委 員 は 幹 事<br />
会 で 推 薦 されており 現 状 で 選 出 の 問 題 は 無 い。<br />
さらに 今 回 、 選 出 のアドバイスのためレーティン<br />
グ 担 当 委 員 を 新 たにお 願 いし、 口 頭 とポスターの<br />
振 り 分 けの 評 価 基 準 には 奨 励 賞 の 基 準 を 用 いる 事<br />
とした。 選 出 された 委 員 は 理 事 会 など 分 科 会 外 で<br />
認 めることも 必 要 との 意 見 が 出 た。 新 しいものと<br />
悪 いものの 見 分 けは 困 難 であるので 基 本 的 には 講<br />
演 者 の 希 望 を 受 け 入 れる 他 、ポスター 発 表 をもっ<br />
と 重 視 する 必 要 があるとの 意 見 が 出 た。<br />
・ 大 分 類 の 中 には 硬 直 化 し、 分 類 のねじれがある<br />
ものや、 時 代 の 変 化 に 弾 力 的 でないものもある。<br />
大 分 類 8 は 常 に 中 分 類 の 見 直 しを 進 めており、<br />
合 同 セッションも 企 画 しており 問 題 はない。<br />
・シンポジウムは 一 般 投 稿 を 受 けつけ、 申 し 込 み<br />
などのスケジュールは 前 倒 しになった。 会 場 から<br />
応 募 型 シンポジウムは 初 日 に 集 約 され 講 演 時 間 も<br />
短 いのは 魅 力 をなくすとの 指 摘 があった。 分 科 企<br />
画 のシンポジウムの 開 催 はプログラム 委 員 の 裁 量<br />
でどこにも 置 けるとのこと。<br />
・ 会 場 から 一 般 会 員 への 目 に 見 える 周 知 をお 願 い<br />
したいとの 希 望 が 出 た。<br />
3. 科 研 費 の 新 細 目 について<br />
堀 幹 事 長 からプラズマエレクトロニクス 細 目 の 新<br />
設 のアナウンスがあった。<br />
4. 平 成 24-25 年 度 、 幹 事 選 挙 結 果 報 告 、 新 幹 事<br />
紹 介<br />
堀 幹 事 長 から 寺 嶋 新 幹 事 長 ( 東 大 )と 次 期 幹 事<br />
の 紹 介 があった。 副 幹 事 長 は、 豊 田 先 生 ( 名 大 )、<br />
野 崎 先 生 ( 東 工 大 )、 辰 巳 様 (ソニー)が 選 出 され<br />
た 事 が 報 告 された。また、 新 設 の 諮 問 委 員 として<br />
現 役 教 授 の 幹 事 長 経 験 者 と 企 業 選 出 の 副 幹 事 長 経<br />
験 者 に 就 任 をお 願 いした。<br />
5. 平 成 23 年 度 収 支 決 算 報 告<br />
平 松 幹 事 ( 名 城 大 )より 収 支 決 算 報 告 がなされ<br />
54
た。2011 年 度 収 支 差 額 は-30 万 であった。 前 年 度<br />
との 違 いとして SPP29 がプラズマカンファレン<br />
スと 共 催 のため 収 入 がなく 赤 字 の 原 因 になった。<br />
会 場 から、 課 税 対 策 として ICRP の 積 立 金 の 扱 い<br />
について 質 問 があったが、 法 人 化 後 は 学 会 が 対 応<br />
するためそのような 問 題 はないとの 回 答 があった。<br />
6. 会 員 数 について<br />
堀 幹 事 長 から 会 員 数 が 520 名 を 越 えたが、 学 生<br />
の 入 会 をさらに 薦 めて 欲 しいとの 依 頼 があった。<br />
7.プラズマエレクトロニクス 分 科 会 会 報<br />
(<strong>No.56</strong>)について<br />
池 田 幹 事 ( 三 菱 電 機 )から 概 要 案 が 示 され、 研<br />
究 室 紹 介 や 研 究 紹 介 について 議 論 がなされた。<br />
8.プラズマ 新 領 域 研 究 会 について<br />
松 浦 幹 事 ( 大 阪 府 大 )から 研 究 活 性 化 支 援 金 申<br />
請 についての 報 告 がされ、3 月 開 催 予 定 の 研 究 会<br />
の 延 期 がアナウンスされた。<br />
9.GEC について<br />
白 谷 GEC 委 員 ( 九 大 )から、テキサス 州 オー<br />
スチンで 開 催 の 本 年 会 議 の 締 め 切 りが 5 月 に 早 ま<br />
るので 注 意 するようにアナウンスがあった。<br />
10.ICRP-8 について<br />
白 谷 実 行 委 員 長 から、2014 年 2 月 4~7 日 に 福<br />
岡 国 際 会 議 場 で 開 催 されること、 実 行 委 員 の 打 診<br />
中 であることが 報 告 され、 協 力 が 依 頼 された。<br />
11.MRS 合 同 セッションについて<br />
白 谷 教 授 から 4 月 9~13 日 サンフランシスコの<br />
MRS の WW セッションへの 参 加 が 呼 びかけられ<br />
た。2013 年 9 月 16~20 日 の 学 会 ( 同 志 社 )でも<br />
MRS とのジョイントを 申 請 中 。 今 後 、 秋 の MRS<br />
の 秋 のホールミーティングにも 参 加 したいとのこ<br />
とであった。<br />
12. 第 30 回 プラズマプロセシング 研 究 会 につ<br />
いて<br />
永 津 教 授 ( 静 大 )から、アクトシティ 浜 松 ・ 研<br />
修 交 流 センターで 2013 年 1 月 21~23 日 開 催 さ<br />
れる SPP30 について 準 備 状 況 が 報 告 された。 会<br />
場 の 確 保 、 助 成 金 の 申 請 、 予 算 案 が 示 された。30<br />
回 記 念 の 何 らかの 行 事 も 用 意 してはとの 意 見 が 出<br />
た。<br />
13.プラズマカンファレンスについて<br />
栗 原 幹 事 ( 東 芝 )から 金 沢 のプラズマカンファ<br />
レンスに 1000 人 を 越 える 参 加 者 があり、3 学 会<br />
以 外 からの 参 加 も 多 かったことが 報 告 された。<br />
14.その 他<br />
堀 幹 事 長 からプラズマエレクトロニクス 賞 の 表<br />
彰 式 と 分 科 会 シンポジウムの 案 内 があった。<br />
55
第 63 回 プラズマエレクトロニクス 分 科 会 ミーテ<br />
ィング/ 平 成 24 度 第 1 回 幹 事 会 議 事 録<br />
日 時 : 平 成 24 年 3 月 31 日 ( 土 )12:30~16:30<br />
場 所 : 東 京 工 業 大 学 田 町 キャンパス・キャンパス<br />
イノベーションセンター2 階 ( 多 目 的 室 1)<br />
1. 幹 事 紹 介 ( 退 任 ・ 留 任 ・ 新 任 )<br />
・ 寺 嶋 幹 事 長 ( 東 大 ) 及 び、 出 席 した 各 幹 事 より<br />
自 己 紹 介 がなされた。<br />
2. 幹 事 役 割 確 認<br />
・ 寺 嶋 幹 事 長 ( 東 大 )より、 各 担 当 幹 事 の 職 務 内<br />
容 について 説 明 及 び、 新 年 度 の 役 割 分 担 案 が 紹 介<br />
され 承 認 された。<br />
がなされた。<br />
4/9~4/13:MRS(San Francisco, CA)<br />
9/11~9/14: 秋 季 応 物 ( 愛 媛 大 ・ 松 山 大 )<br />
10/22~26:65th GEC(Austin, TX)<br />
10/28~11/2:59th AVS(Tampa, FL)<br />
10/29~11/2:54th DPP(Providence, RI)<br />
1/28~2/1:5th ISPlasma( 名 大 )<br />
3/27~3/30: 春 季 応 物 ( 神 奈 工 大 )<br />
また、2013/7/14~19 の APPC12( 幕 張 メッセ)、<br />
2013/9/16~20 の JSAP-MRS Joint Symposia( 同<br />
志 社 大 )、2014/2/4~7 の ICRP-8/SPP-31( 福 岡<br />
国 際 会 議 場 )についても 報 告 された。<br />
・ 池 田 幹 事 ( 三 菱 電 機 )より、プラズマエレクト<br />
ロニクス 分 科 会 会 報 (<strong>No.56</strong>)の 目 次 案 及 び、 編<br />
集 進 捗 状 況 について 報 告 された。<br />
3.2012 年 度 活 動 進 捗 報 告 ・ 審 議 事 項<br />
・ 寺 嶋 幹 事 長 ( 東 大 )より、 年 間 スケジュール 案<br />
が 紹 介 された。 幹 事 会 については 9、1、3 月 に 開<br />
催 予 定 。<br />
・ 比 村 幹 事 ( 京 工 繊 大 )より、 秋 季 シンポジウム<br />
招 待 講 演 の 講 演 者 と 題 目 の 申 請 内 容 が 紹 介 された。<br />
また、 分 科 内 招 待 講 演 の 講 演 者 の 選 定 について 議<br />
論 され、シンポジウム 担 当 幹 事 で 候 補 者 を 挙 げて<br />
頂 くことになった。チュートリアルが 実 施 される<br />
場 合 には、プラズマエレクトロニクス 分 科 会 から<br />
実 施 する 方 向 で 後 日 、 候 補 者 を 挙 げることが 承 認<br />
された。<br />
・ 清 水 幹 事 ( 静 大 )より、SPP-30(30 回 記 念 )<br />
の 準 備 状 況 について 説 明 が 行 われ、テーマ、 特 別<br />
講 演 候 補 者 について 議 論 された。2013/1/21~23<br />
にアクトシティ 浜 松 ・ 研 修 交 流 センターにおいて<br />
開 催 予 定 。<br />
・ 松 浦 幹 事 ( 大 阪 府 大 )より、プラズマ 新 領 域 研<br />
究 会 の 準 備 状 況 について 報 告 された。 他 学 会 との<br />
合 同 等 も 含 めて3 回 の 開 催 予 定 。<br />
・ 白 谷 諮 問 委 員 ( 九 大 )より、プラズマエレクト<br />
ロニクス 分 科 会 関 連 会 議 の 紹 介 と 進 捗 状 況 の 説 明<br />
・ 内 田 幹 事 ( 九 大 )より、 会 計 報 告 が 行 われ、 内<br />
容 について 承 認 された。<br />
4. 各 活 動 説 明<br />
・ 林 幹 事 ( 佐 賀 大 )より、 分 科 会 ミーティングの<br />
状 況 について 説 明 され、 毎 回 内 容 が 盛 り 沢 山 で 時<br />
間 的 に 厳 しいこと、 参 加 者 は、 春 が 40~50 名 、<br />
秋 が 30 名 程 度 であったとの 報 告 がなされた。<br />
・ 栗 原 幹 事 ( 東 芝 )より、シンポジウム 総 合 講 演<br />
及 び、プラズマプロセシング 研 究 会 について 説 明<br />
され、Plasma Conference2011 の 参 加 者 によるア<br />
ンケート 結 果 の 紹 介 がなされた。3 学 会 合 同 で 開<br />
催 されたものであったが、 今 回 の 反 省 点 としてパ<br />
ラレル 色 が 強 過 ぎて 融 合 が 出 来 ていなかった 点 、<br />
開 催 時 期 が 他 PE 関 連 会 議 との 日 程 が 近 かった 点<br />
等 が 挙 げられた。<br />
・ 佐 藤 幹 事 ( 室 蘭 工 大 )より、3/2 に 開 催 された<br />
「 第 26 回 光 源 物 性 とその 応 用 研 究 会 」の 内 容 に<br />
ついて 紹 介 され、 日 程 決 定 と 案 内 のタイミングが<br />
合 わなかった 点 が 課 題 であった。<br />
・ 松 浦 幹 事 ( 大 阪 府 大 )より、プラズマ 新 領 域 研<br />
究 会 について 説 明 され、 年 末 開 催 では 会 計 締 めに<br />
対 して 余 裕 がないため、 開 催 時 期 の 見 直 しと、 新<br />
56
テーマの 募 集 が 提 案 された。<br />
・ 林 幹 事 ( 佐 賀 大 )、 坪 井 幹 事 (アルバック)より、<br />
インキュベーションホールについて 説 明 され、 学<br />
生 を 中 心 に 50 数 名 の 参 加 者 があり、 台 風 の 直 撃<br />
による 早 期 解 散 のため、 参 加 者 アンケートが 取 れ<br />
なかったとの 報 告 があった。<br />
・ 清 水 幹 事 ( 静 大 )、 木 下 副 幹 事 長 ( 東 北 大 )より、<br />
プラズマエレクトロニクス 講 習 会 について 説 明 が<br />
なされた。 会 報 No.55 で 既 報 の 通 り、 実 演 等 を 試<br />
し 好 評 だったが、 参 加 人 数 の 減 少 、 関 連 学 会 Rush<br />
の 開 催 時 期 も 課 題 であり、DPS との 同 時 開 催 等 、<br />
対 策 を 検 討 中 との 報 告 があった。<br />
・ 唐 橋 幹 事 ( 阪 大 )より、プラズマエレクトロニ<br />
クス 分 科 会 ホームページについて 紹 介 され、 有 効<br />
利 用 、リニューアルについての 提 案 を 随 時 募 集 中<br />
であるとの 報 告 がなされた。<br />
57
第 11 回 プラズマエレクトロニクス 賞 受 賞 候 補 論 文 の 募 集<br />
東 京 大 学 寺 嶋 和 夫<br />
応 用 物 理 学 会 プラズマエレクトロニクス 分 科 会<br />
では、 毎 年 、プラズマエレクトロニクスに 関 する<br />
学 術 的 あるいは 工 業 的 に 価 値 のある 優 秀 な 論 文 を<br />
対 象 とし、その 著 作 者 に「プラズマエレクトロニ<br />
クス 賞 」を 贈 り 表 彰 を 行 っています。 候 補 論 文 は<br />
自 薦 ・ 他 薦 を 問 いません。 下 記 の 要 領 により, 奮<br />
ってご 応 募 下 さい。<br />
http://annex.jsap.or.jp/plasma/<br />
授 賞 対 象 論 文<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 会 が 主 催 する 研<br />
究 会 、 国 際 会 議 等 で 発 表 され、 且 つ 2010、2011,<br />
2012 年 の 発 行 の 国 際 的 な 学 術 刊 行 物 (JJAP 等 )<br />
に 掲 載 された 原 著 論 文 。 受 賞 者 は、 表 彰 の 時 点 に<br />
おいてプラズマエレクトロニクス 分 科 会 会 員 ある<br />
いは 応 用 物 理 学 会 会 員 とする。<br />
ロニクス 分 科 会 が 主 催 する 研 究 会 、 国 際 会 議 等<br />
の 会 議 録 等 のコピー。2 件 以 内<br />
‣ 著 者 全 員 について 和 文 で 以 下 を 記 入 した 書 類 。<br />
氏 名 、 会 員 番 号 、 勤 務 先 ( 連 絡 先 )<br />
‣ 推 薦 書 ( 自 薦 、 他 薦 を 問 わず、 論 文 の 特 徴 、 優<br />
れた 点 などを 400 字 程 度 わかりやすく 記 すこ<br />
と。)<br />
表 彰<br />
2013 年 春 季 応 用 物 理 学 会 期 間 中 に 行 います。 受<br />
賞 者 には 賞 状 および 記 念 品 を 贈 呈 いたします。ま<br />
た 2013 年 秋 季 講 演 会 期 間 中 に 記 念 講 演 を 依 頼 す<br />
る 予 定 です。<br />
書 類 提 出 期 限<br />
2012 年 12 月 25 日 ( 火 ) 当 日 消 印 有 効<br />
提 出 書 類<br />
以 下 の 書 類 各 1 部 、 及 びそれらの 電 子 ファイル<br />
(PDF ファイル) 一 式<br />
‣ 候 補 論 文 別 刷 (コピーでも 可 、 第 1ページに 候<br />
補 論 文 と 朱 書 すること。 関 連 論 文 があれば2 件<br />
以 内 の 別 刷 またはコピーを 添 付 。)<br />
‣ 当 該 論 文 の 内 容 が 発 表 されたプラズマエレクト<br />
書 類 提 出 先<br />
〒113-0034 東 京 都 文 京 区 湯 島 2-31-22<br />
湯 島 アーバンビル 7 階<br />
社 団 法 人 応 用 物 理 学 会<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 会 幹 事 長<br />
( 封 筒 表 に「プラズマエレクトロニクス 賞 応 募 」<br />
と 朱 書 のこと。)<br />
なお 下 記 の 賞 規 定 もご 参 照 下 さい。<br />
プラズマエレクトロニクス 賞 規 定<br />
1. この 規 定 はプラズマエレクトロニクスに 関 す<br />
る 学 術 的 あるいは 工 業 的 に 価 値 のある 優 秀 な<br />
論 文 を 表 彰 の 対 象 論 文 とし、その 著 作 者 にた<br />
いして 社 団 法 人 応 用 物 理 学 会 プラズマエレク<br />
トロニクス 分 科 会 ( 以 後 プラズマエレクトロ<br />
ニクス 分 科 会 と 言 う)が 行 う 表 彰 について 定<br />
める。<br />
2. この 表 彰 を「プラズマエレクトロニクス 賞 」<br />
という。<br />
3. 表 彰 の 対 象 論 文 は、 原 則 として、プラズマエ<br />
レクトロニクス 分 科 会 が 主 催 する 研 究 会 、 国<br />
際 会 議 等 で 発 表 され、 且 つ 募 集 期 間 から 過 去<br />
3 年 の 間 に 国 際 的 な 学 術 刊 行 物 に 掲 載 された<br />
原 著 論 文 とする。<br />
4. 受 賞 者 はプラズマエレクトロニクス 分 科 会 会<br />
員 あるいは 応 用 物 理 学 会 会 員 とする。<br />
5. 受 賞 者 は 公 募 に 応 じた 自 薦 および 他 薦 候 補 者<br />
から 選 考 する。<br />
58
6. すでに 公 に 顕 著 な 賞 を 受 けた 論 文 は、プラズ<br />
マエレクトロニクス 賞 の 対 象 論 文 としない。<br />
7. 表 彰 は 原 則 として 毎 年 2 件 以 内 とする。<br />
8. 表 彰 は 賞 状 授 与 および 記 念 品 贈 呈 とする。<br />
9. 表 彰 は 毎 年 応 用 物 理 学 会 春 季 講 演 会 において<br />
行 う。<br />
10. プラズマエレクトロニクス 分 科 会 幹 事 会 は、<br />
毎 年 11 月 までに 授 賞 候 補 者 募 集 要 項 を「プ<br />
ラズマエレクトロニクス 分 科 会 会 報 」および<br />
応 用 物 理 学 会 機 関 誌 「 応 用 物 理 」 誌 上 に 公 表<br />
し、 広 く 募 集 する。<br />
11. 受 賞 者 の 選 考 はプラズマエレクトロニクス 分<br />
科 会 幹 事 長 が 委 嘱 した「プラズマエレクトロ<br />
ニクス 賞 」 選 考 委 員 会 が 行 う。<br />
12. 受 賞 者 が 決 定 したときは、「プラズマエレクト<br />
ロニクス 賞 」 選 考 委 員 会 委 員 長 が、プラズマ<br />
エレクトロニクス 分 科 会 幹 事 会 に 選 考 の 経 過<br />
および 結 果 を 報 告 する。<br />
13. プラズマエレクトロニクス 分 科 会 幹 事 長 は、<br />
選 考 の 経 過 および 結 果 を 応 用 物 理 学 会 理 事 会<br />
に 報 告 する。<br />
14. この 賞 の 実 施 に 関 する 必 要 な 事 項 の 審 議 およ<br />
び 決 定 はプラズマエレクトロニクス 分 科 会 幹<br />
事 会 がお 行 う。<br />
15. 本 規 定 は、 理 事 会 の 承 認 を 経 て 改 訂 すること<br />
ができる。<br />
付 則 :この 規 定 は、 平 成 14 年 4 月 1 日 より 施 行 す<br />
る。<br />
59
国 際 会 議<br />
プラズマエレクトロニクス 関 連 会 議 日 程<br />
July 4-6, 2012<br />
International Conference on Microelectronics and Plasma Tcehnology (ICMAP-2012)<br />
Ramada Plaza Jeju Hotel Jeju Island, Jeju, Korea<br />
http://www.icmap.or.kr/<br />
July 8-12, 2012<br />
39th IEEE International Conference on Plasma Science (ICOPS2012)<br />
Edinburgh, UK<br />
http://icops2012.lboro.ac.uk/<br />
September 5-8, 2012<br />
9th International Bioelectrics Symposium (BIOELECTRICS 2012)<br />
KKRホテル 熊 本<br />
http://bioelectrics2012.coe.kumamoto-u.ac.jp/<br />
October 2 –5, 2012<br />
11th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology (APCPST) /<br />
25th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM)<br />
京 都 大 学 ローム 記 念 館<br />
http://www.apcpst2012.org/<br />
October 22-25, 2012<br />
65th Gaseous Electronics Conference (GEC2012)<br />
Austin, Texas<br />
https://www.ae.utexas.edu/gec2012/<br />
October 28 –November 2, 2012<br />
AVS 59h International Symposium and Exhibition<br />
Tampa, Frorida, USA<br />
http://www2.avs.org/symposium/AVS59/pages/info.html<br />
October 29 –November 2, 2012<br />
54th Annual Meeting of the APS Division of Plasma Physics<br />
Providence, Rhode Island, USA<br />
http://www.aps.org/units/dpp/meetings/dpp12/<br />
November 14-16, 2012<br />
International Conference on Plasma Physics (ICPP 2012)<br />
Venice, Italy<br />
http://www.waset.org/conferences/2012/venice/icpp/index.php<br />
November 15-16, 2012<br />
34th International Symposium on Dry Process (DPS2012)<br />
東 京 大 学 武 田 先 端 知 ビル<br />
http://www.dry-process.org/2012/index.html<br />
60
January 28 –Feburuary 1, 2013<br />
5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and<br />
Nanomaterials<br />
(ISPlasma2012)<br />
名 古 屋 大 学<br />
http://www.isplasma.jp/<br />
April 1-5, 2013<br />
2013 MRS Spring Meeting<br />
San Francisco, California<br />
http://www.mrs.org/spring2012/<br />
July 14-19, 2013<br />
The 12th Asia Pacific Physics Conference (APPC12) / The 3rd Asia-Europe Physics Summit (ASEPS)<br />
幕 張 メッセ 国 際 会 議 場<br />
http://www.jps.or.jp/APPC12/index.html<br />
July 15-19, 2013<br />
31st International Conference on the Physics of Ionised Gases (ICPIG)<br />
Granada, Spain<br />
August 4-8, 2013<br />
International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 21)<br />
Cairns, Australia<br />
http://www.ispc-conference.org/<br />
http://ispc20.plasmainstitute.org/home/ISPC-2013-for-Philadelphia.pdf (older info)<br />
September 16-20, 2013<br />
2013 JSAP Autumn Meeting (JSAP-MRS Joint Symposium)<br />
同 志 社 大 学<br />
http://www.mrs.org/jsap-2013/<br />
61
国 内 会 議 ・ 会 合<br />
2012. 9. 11-14<br />
第 72 回 応 用 物 理 学 会 学 術 講 演 会<br />
愛 媛 大 学 ・ 松 山 大 学<br />
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html<br />
2012. 9. 18-21<br />
日 本 物 理 学 会 2012 年 秋 季 大 会<br />
横 浜 国 立 大 学<br />
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html<br />
2012. 9. 19-21<br />
第 6 回 プラズマエレクトロニクスインキュベーションホール<br />
国 立 中 央 青 少 年 交 流 の 家<br />
http://annex.jsap.or.jp/plasma/PE_files/PE_SS_2012/index.html<br />
2012. 11 月 中<br />
第 11 回 プラズマエレクトロニクス 新 領 域 研 究 会<br />
「 光 ・レーザーを 用 いたプラズマ 計 測 技 術 の 最 前 線 ( 仮 )」<br />
( 第 28 回 九 州 ・ 山 口 プラズマ 研 究 会 と 合 同 開 催 )<br />
詳 細 は 追 って 下 記 分 科 会 HP に 掲 載 していく 予 定 です。<br />
http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma/<br />
2012. 11. 14<br />
第 23 回 プラズマエレクトロニクス 講 習 会<br />
東 京 大 学 本 郷 ( 浅 野 )キャンパス 武 田 先 端 知 ビル<br />
http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma/<br />
2012. 12 月 予 定<br />
第 12 回 プラズマエレクトロニクス 新 領 域 研 究 会<br />
詳 細 は 追 って 下 記 分 科 会 HP に 掲 載 していく 予 定 です。<br />
http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma/<br />
2013. 1. 21-23<br />
第 30 回 プラズマプロセシング 研 究 会 (SPP-30)<br />
アクトシティ 浜 松 ・ 研 修 交 流 センター<br />
詳 細 は 追 って 下 記 分 科 会 HP に 掲 載 していく 予 定 です。<br />
http://annex.jsap.or.jp/support/division/plasma/<br />
62
2013. 3. 26-29<br />
日 本 物 理 学 会 第 68 回 年 次 大 会<br />
広 島 大 学<br />
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html<br />
2013. 3. 27-30<br />
応 用 物 理 学 会 春 季 講 演 会<br />
神 奈 川 工 科 大 学<br />
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html<br />
2013. 9. 16-20<br />
応 用 物 理 学 会 秋 期 講 演 会<br />
同 志 社 大 学 京 田 辺 キャンパス<br />
http://www.jsap.or.jp/activities/annualmeetings/regularmeeting.html<br />
2013. 9. 20-27<br />
日 本 物 理 学 会 2013 年 秋 季 大 会<br />
高 知 大 学 (9. 20-23) [ 素 、 核 、 宇 ]<br />
徳 島 大 学 (9. 24-27) [ 物 性 ]<br />
http://www.jps.or.jp/activities/meetings/future.html<br />
63
東 日 本 大 震 災 で 被 災 された 方 への 会 費 免 除 のお 知 らせ<br />
( 社 ) 応 用 物 理 学 会<br />
2011 年 3 月 11 日 の 東 日 本 大 震 災 で 被 害 に 遭 われた 会 員 の 方 々に 心 からお 見 舞 い 申 し 上 げ<br />
ます。<br />
すでに 本 会 ホームページならびにメールでもお 知 らせ 申 し 上 げておりますが、 本 会 では、 被 害 に<br />
遭 われた 会 員 の 方 に 対 し 会 費 を 免 除 させていただくことになりました。<br />
つきましては、 地 震 で 被 災 されたことを 証 明 する 書 類 ( 注 )を 添 えて 学 会 事 務 局 までお 申 し 出 下<br />
さい。お 申 し 出 でいただいた 会 員 の 方 には、 直 近 の 会 費 を1 年 間 免 除 させていただきます。<br />
● 免 除 対 象 会 費 : 正 会 員 ( 社 会 人 ) 会 費 、 正 会 員 ( 大 学 院 生 ) 会 費 、 学 生 会 員 会 費 、 分 科 会 会 費<br />
(A 会 員 会 費 ・B 会 員 会 費 )<br />
( 注 ): 例 えば 所 属 機 関 ないし 上 長 による 被 災 証 明 書 、 指 導 教 官 による 被 災 証 明 書 、 支 部 発 行 の<br />
被 災 証 明 書 など<br />
被 災 証 明 郵 送 先 および 問 合 せ 先 :<br />
〒113-0034<br />
東 京 都 文 京 区 湯 島 2-31-22 湯 島 アーバンビル 7 階<br />
公 益 社 団 法 人 応 用 物 理 学 会 会 員 係 宛<br />
電 話 :03-5802-0862<br />
FAX:03-5802-6250<br />
e-mail:membership@jsap.or.jp<br />
64
編 集 後 記<br />
平 成 24 年 度 4 月 より、プラズマエレクトロニクス ですが、それらに 柔 軟 に 対 応 して 解 決 策 を 提 案 して<br />
分 科 会 幹 事 長 が 堀 勝 教 授 ( 名 古 屋 大 学 )から 寺 嶋 和 いけるプラズマエレクトロニクスの 懐 の 深 さと、そ<br />
夫 教 授 ( 東 京 大 学 )へと 引 き 継 がれ、 新 しいスター れを 可 能 にするため 基 礎 原 理 を 深 く 理 解 すること<br />
トを 切 りました。プラズマエレクトロニクス 分 科 会 の 重 要 さを 改 めて 感 じる 次 第 です。<br />
会 報 <strong>No.56</strong>をお 届 け 致 します。 本 誌 にご 寄 稿 頂 きま すぐに 役 立 つプラズマエレクトロニクスは 前 回<br />
した 皆 様 に 心 よりお 礼 申 し 上 げます。<br />
がCVDであったこともあり、プロセスプラズマ 応 用<br />
さて、 前 回 55 号 はプラズマエレクトロニクス25 の 双 璧 をなすエッチングについて、 安 部 先 生 にご 寄<br />
周 年 、 分 科 会 20 周 年 の 特 集 号 でした。 実 は 私 事 なが 稿 いただきました。 反 応 性 イオンエッチング(RIE)<br />
ら 昨 年 はちょうど30 歳 になった 年 でもあり、なにか をベースに 従 来 の 半 導 体 応 用 からMEMSへの 展 開<br />
奇 妙 な 縁 を 感 じております。そのような 節 目 の 折 、 まで、 丁 寧 にわかりやすく 解 説 していただいており<br />
前 回 の 特 集 号 を 経 て 今 回 編 集 を 担 当 するにあたっ ます。ご 多 忙 な 中 ご 執 筆 頂 き、 感 謝 申 し 上 げます。<br />
て、これまで 偉 大 な 先 輩 方 が 築 いた 物 を 次 の20 年 い この 他 にも 研 究 紹 介 、 海 外 の 研 究 事 情 、 会 議 報 告 、<br />
かに 盛 り 立 てていくか、 次 世 代 に 繋 いでいくかなど、 行 事 案 内 などなど、 多 くの 方 々にご 執 筆 頂 きました。<br />
様 々な 思 いに 駆 り 立 てられる 日 々でした。 ご 多 忙 の 折 にもかかわらず 快 諾 して 頂 き、すばらし<br />
今 回 、 以 前 より 分 科 会 内 でも 関 心 の 高 かった 環 い 記 事 を 執 筆 して 頂 けましたこと、 心 よりお 礼 申 し<br />
境 ・バイオ 関 連 の 応 用 についてご 寄 稿 を 頂 きました。 上 げます。 今 後 も 研 究 会 や 国 際 会 議 などの 際 には、<br />
下 名 も 所 属 する 三 菱 電 機 の 大 森 にSiCのデバイス 応<br />
用 について、 小 長 井 教 授 ( 東 工 大 )に 太 陽 電 池 応 用<br />
について、また 高 木 准 教 授 ( 岩 手 大 )に 農 作 物 の 促<br />
成 応 用 の 話 を 伺 うことが 出 来 ました。 震 災 後 のエネ<br />
ルギー 需 給 問 題 や、TPPにともなう 農 作 物 の 輸 入 ・<br />
輸 出 問 題 など、 社 会 情 勢 がめまぐるしく 変 わる 昨 今<br />
ぜひ 本 誌 に 案 内 記 事 や 会 議 報 告 をご 寄 稿 いただけ<br />
ますよう 改 めてお 願 いいたします。<br />
( 平 成 24 年 度 会 報 編 集 担 当 : 市 來 、 市 川 、 向 川 、 池 田 )<br />
( 文 責 : 池 田 )<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 会 会 報 <strong>No.56</strong><br />
2012 年 6 月 29 日 発 行<br />
編 集 : 公 益 社 団 法 人 応 用 物 理 学 会<br />
プラズマエレクトロニクス 分 科 会<br />
幹 事 長 寺 嶋 和 夫<br />
発 行 : 公 益 社 団 法 人 応 用 物 理 学 会<br />
〒113-0034 東 京 都 文 京 区 湯 島 2-31-22<br />
湯 島 アーバンビル7 階<br />
(©2012 無 断 転 載 を 禁 ず)<br />
65