Elektronika 2012-08 I.pdf - Instytut Systemów Elektronicznych

pokazuje istnienie silnych pików od Pd a także słabych od Cu, Sioraz O. Pik od Cu jest efektem fluorescencji charakterystycznejod miedzianej siatki, na której przygotowano preparat do badań.Ponieważ analizowane kuliste wydzielenie znajduje się wewnątrzosnowy z SiO 2stąd na widmie widoczne są słabe piki od tychpierwiastków (rys. 9d ).Reasumując, można wysnuć wniosek, że podczas wygrzewaniananodrutów Pd 2Si w temperaturze 900°C zachodzi następującareakcja:PodsumowaniePd 2Si + O 2→ 2Pd + SiO 2W warstwach Pd-C wytwarzanych w poszczególnych etapachprocesu technologicznego na powierzchni Si tworzą się różnorodnenanostruktury palladowe, począwszy od nanokrystalitówPd o średnicy kilku nanometrów do złożonych nanodrutów Pd 2Sio zróżnicowanej grubości i długości od kilkudziesięciu nanometrówdo kilku mikrometrów. W wyniku oddziaływania wysokiejtemperatury dochodzi do tworzenia nanostruktur składającychsię z regularnych kulek Pd o średnicy kilkudziesięciu nanometrówosadzonych w nanodrutach SiO 2. Otrzymane nanostrukturypalladu oraz palladu i krzemu będą badane w przyszłości podkątem zastosowania ich w różnego rodzaju detektorach oraz nanomedycyniei fotomedycynie.Praca była finansowana z Europejskiego Funduszu Rozwoju Regionalnegow ramach Programu Operacyjnego Innowacyjna Gospodarka2007–2013 (projekt pt. „Opracowanie technologii nowejgeneracji czujnika wodoru i jego związków dla zastosowań w warunkachponadnormatywnych”, umowa Nr UDA-POIG.01.03.01-14-071/08-07).Literatura[1] Ulan J. G., Maier W. F.: J. Org. Chem. 1987, 52, 3132.[2] Narayanan R., El-Sayed M. A.: Nano Lett. 2004, 4, 1343.[3] Kolmakov A. et. all.: Nano Lett. 2005,5, 667.[4] Xia Y., Halas N. J.: MRS Bull. 2005, 30, 338[5] Yang W. H., Schatz G. C., Van Duyne R. P.: J. Chem. Phys. 1995,103, 869.[6] Kelly K. L.: J. Phys. Chem. B 2003, 107, 668.[7] Sosa I. O., Noguez C., Barrera R. G.: J. Phys. Chem. B 2003, 107,6269.[8] Wang Z. L.: J. Phys. Chem. B 2000, 104, 1153.[9] Zhang J. M., Ma F., Xu K. W.: Appl. Surf. Sci. 2004, 229, 34.[10] Rymarczyk J.: Geometria nanokrystalitów niklu. Oficyna WydawniczaPolitechniki Wrocławskiej, s. 343–348, Wrocław 2006[11] Czerwosz E. et. all.: Properties of Pd nanocrystals prepared by PVDmethod – Vacuum Volume 82, Issue 4, pp 372–376, 12 December2007[12] Czerwosz E. et. all.: Preparation and characterization of Ni Nnanocrystalsembedded in carbonaceous matrix, Proc. SPIE., Vol. 6347, 2006[13] Kulkarni G. U., Thomas P. J., Rao C. N. R.: Mesoscale organization of metalnanocrystals. Pure Appl. Chem., Vol. 74, No. 9, pp. 1581–1591, 2002[14] Kulkarni G. U., Thomas P. J., Rao C. N. R.: Mesoscale organization ofmetal nanocrystals. Pure Appl. Chem., Vol. 74, No. 9, pp. 1581–1591,2002 G. U.System zabezpieczeń w urządzeniu do automatycznejkontroli filtrów przeciwzakłóceniowychmgr inż. Tadeusz KOZŁOWSKI, mgr inż. Kazimierz STROJNYInstytut Tele-i Radiotechniczny, WarszawaRys. 1. System do badania filtrów SKF-11Fig. 1. Testing of noise suppressing filters device SKF-1122System kontroli filtrów typ SKF-11 (rys. 1) przeznaczony jestdo automatycznego sprawdzania parametrów elektrycznych,segregacji i znakowania filtrów przeciwzakłóceniowych. Urządzenieobsługiwane jest (w trybie pracy automatycznym) przez1. operatora, którego rola sprowadza się do układania na transporterzewejściowym filtrów do badania oraz zdejmowania filtrówspełniających kryteria jakości, z transportera wyjściowegopo badaniu i znakowaniu. Filtry nie spełniające wymagań (braki)są segregowane i automatycznie wrzucane do odpowiednichpojemników.System sterowania urządzenia składa się z 3 sterownikówPLC lokalnych oraz komputera sterującego pełniącego rolę „mastera”.Komputer sterujący również wykonuje i zarządza pomiaramiparametrów elektrycznych filtrów. Sterowniki lokalne sterująposzczególnymi zespołami urządzenia:● zespołem karuzeli pomiarowej,● zespołem podawania filtrów,● zespołem segregacji i znakowania.Komunikacja w systemie sterowania odbywa się poprzez siećEthernet z protokołem Modbus TCP/IP.W przypadku awarii podsystemu podawania filtrów do badania,możliwa jest praca z ręcznym wkładaniem filtrów w głowice pomiarowe,pozostała część urządzenia pracuje wówczas bez zmiany.Źródła potencjalnych zagrożeń dla obsługiTypowym, potencjalnym źródłem zagrożenia występującym w maszyniejest zasilanie elektryczne prądem przemiennym (w tymprzypadku 3×400 VAC). W celu minimalizacji zagrożenia dla obsługistosuje się typowe elementy zabezpieczające, takie jak wyłącznikiróżnicowo-prądowe, nadprądowe oraz awaryjne w obszarzedziałania operatora.W urządzeniu występują również zagrożenia dla obsługi generowaneprzez elementy ruchome. Są to: karuzela pomiarowa, roboty,elementy ruchome drukarki tamponowej, transportery. Polerobocze drukarki tamponowej zostało osłonięte ruchomą osłoną,której stan wykrywany jest czujnikiem. Otwarcie osłony w trakciepracy urządzenia wstrzymuję pracę drukarki. Dwa transportery(wejściowy i wyjściowy) zostały tak zaprojektowane, że praktycznienie stwarzają zagrożenia dla obsługi.Karuzela pomiarowa z zamocowanymi na niej głowicami pomiarowymizostała osłonięta ze wszystkich stron: osłonami stałymioraz drzwiami do strefy podawania. Podczas pracy urządzeniaw trybie automatycznym nie ma do niej dostępu – drzwi strefypodawania są zamknięte i zaryglowane.Elektronika 8/2012