Volltext (PDF) - Qucosa
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Material und Methoden<br />
⎡ ⎛ 2 2<br />
⎛ r ⎞ ⎞ ⎛ ⎛ r ⎞ ⎞⎤<br />
⎢<br />
⎛ ⎞ ⎛ ⎞<br />
∂ G ⎜ d + R − R ⋅ 1 − ⎟ ∂ G ⎜ d + R + R ⋅ 1 −<br />
⎟⎥<br />
R ⎢ ⎜ ⎜ ⎜ ⎟<br />
R ⎟ ⎜ ⎜ ⎟<br />
R ⎟<br />
⎝ ⎝ ⎠ ⎠<br />
⎟ ⎜<br />
⎝ ⎝ ⎠ ⎠<br />
⎟⎥<br />
FSEI<br />
( d ) = −2<br />
⋅π<br />
⋅ ⎢ ⎝ ⎠ ⎝ ⎠⎥<br />
∫<br />
− ⋅ r ⋅ dr<br />
⎢<br />
∂d<br />
∂d<br />
⎥<br />
0<br />
⎢<br />
⎥<br />
⎢<br />
⎥<br />
⎣<br />
⎦<br />
F<br />
SEI<br />
( )<br />
1 2 −κ<br />
⋅( d −d0<br />
) −κ<br />
⋅( d + 2⋅R−d0<br />
)<br />
( d ) = 2⋅π<br />
⋅ R ⋅ ⋅ e + e<br />
⎡2⋅π<br />
⋅σ1σ<br />
2<br />
+ 2⋅π<br />
⋅ ⎢ ⋅<br />
2<br />
⎢⎣<br />
ε<br />
rε<br />
0<br />
⋅κ<br />
⎡2⋅π<br />
⋅σ σ<br />
⎢<br />
⎢⎣<br />
ε<br />
rε<br />
0<br />
⋅κ<br />
−κ<br />
⋅( d + 2⋅R−d0<br />
) −κ<br />
⋅( d −d0<br />
)<br />
( e − e )<br />
B ⎛<br />
+ ⋅⎜<br />
7 ⋅72⋅π<br />
⎝<br />
B ⎛<br />
+ ⋅⎜<br />
72⋅π<br />
⎝<br />
1<br />
1<br />
8<br />
( d − d ) ( d + 2⋅<br />
R − d )<br />
0<br />
⎞⎤<br />
⎟<br />
( ) ( ) ⎥ ⎥ 7<br />
7<br />
d + 2⋅<br />
R − d − ⎟<br />
0<br />
d d0<br />
⎠⎦<br />
−<br />
+<br />
1<br />
1<br />
8<br />
0<br />
⎞⎤<br />
⎟<br />
⎥<br />
⎠⎥⎦<br />
(3.23)<br />
(3.24)<br />
(B … Parameter; d … Abstand zwischen AFM-Sonde und Probenoberfläche; F … Kraft; G … Freie<br />
Wechselwirkungsenergie je Flächeneinheit; R … Radius der Sonde; r … Laufvariable; SEI … Rechenvorschrift<br />
„Surface Element Integration“; ε r … relative Dielektrizitätskonstante im Vergleich zum Vakuum;<br />
ε 0 … Dielektrizitätskonstante im Vakuum; σ 1 σ 2 … Produkt der Oberflächenladungsdichten von AFM-Sonde<br />
und Probenoberfläche; 1/κ … Debye-Länge)<br />
Sowohl für die Anwendung der Derjaguin-Näherung als auch für die Anwendung der<br />
SEI-Rechenvorschrift muss der Radius der AFM-Sonde bekannt sein. Dieser wurde in<br />
Anlehnung an Drechsler et al. (2004) und Feiler et al. (2000) für jede verwendete AFM-Sonde<br />
anhand von REM-Aufnahmen mit Hilfe der Software Scandium 5.1 (Olympus Soft Imaging<br />
Solutions GmbH, Münster, D) bestimmt. Die Aufnahme der REM-Bilder erfolgte im<br />
Anschluss an die Kraftmessungen, da die Elektronen die Oberflächenchemie der Sonde<br />
irreversibel verändern. Das Aufdampfen einer leitfähigen Schicht entfiel.<br />
3.6.3.2 Kraftmessungen zur Simulation CMP-relevanter Systeme<br />
In einem zweiten Teil wurden systematisch Kraftmessungen an CMP-relevanten Systemen<br />
durchgeführt. Sowohl die Wafer-Schleifpartikel- als auch die Schleifpartikel-Schleifpartikel-<br />
Versuche wurden in der kontinuierlichen Phase der entsprechenden Slurry durchgeführt,<br />
wobei das Schleifpartikel durch eine entsprechend modifizierte AFM-Sonde ersetzt wurde.<br />
Zur Bereitstellung der kontinuierlichen Phase wurde die Slurry mit der Zentrifuge 5804 R<br />
(Eppendorf-Netheler-Hinz GmbH, Hamburg, D) zentrifugiert (10000 U/min, 30 min, 24 °C)<br />
und lediglich der Überstand für die Kraftmessungen verwendet. Die Einstellung der<br />
gewünschten pH-Werte erfolgte, durch die Zugabe entsprechender Mengen HCl bzw. NH 4 OH<br />
(Konzentration jeweils: 10 -1 mol/l) zum Überstand. Um die Ergebnisse der Kraftmessungen<br />
untereinander vergleichen zu können, wurden die Kraft-Abstands-Kurven zunächst auf den<br />
Sondenradius skaliert und in geometrieunabhängige Kurven der Freien<br />
Wechselwirkungsenergie je Flächeneinheit (FIE) umgerechnet. In Anlehnung an Sokolov et<br />
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