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Volltext (PDF) - Qucosa

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Material und Methoden<br />

⎡ ⎛ 2 2<br />

⎛ r ⎞ ⎞ ⎛ ⎛ r ⎞ ⎞⎤<br />

⎢<br />

⎛ ⎞ ⎛ ⎞<br />

∂ G ⎜ d + R − R ⋅ 1 − ⎟ ∂ G ⎜ d + R + R ⋅ 1 −<br />

⎟⎥<br />

R ⎢ ⎜ ⎜ ⎜ ⎟<br />

R ⎟ ⎜ ⎜ ⎟<br />

R ⎟<br />

⎝ ⎝ ⎠ ⎠<br />

⎟ ⎜<br />

⎝ ⎝ ⎠ ⎠<br />

⎟⎥<br />

FSEI<br />

( d ) = −2<br />

⋅π<br />

⋅ ⎢ ⎝ ⎠ ⎝ ⎠⎥<br />

∫<br />

− ⋅ r ⋅ dr<br />

⎢<br />

∂d<br />

∂d<br />

⎥<br />

0<br />

⎢<br />

⎥<br />

⎢<br />

⎥<br />

⎣<br />

⎦<br />

F<br />

SEI<br />

( )<br />

1 2 −κ<br />

⋅( d −d0<br />

) −κ<br />

⋅( d + 2⋅R−d0<br />

)<br />

( d ) = 2⋅π<br />

⋅ R ⋅ ⋅ e + e<br />

⎡2⋅π<br />

⋅σ1σ<br />

2<br />

+ 2⋅π<br />

⋅ ⎢ ⋅<br />

2<br />

⎢⎣<br />

ε<br />

rε<br />

0<br />

⋅κ<br />

⎡2⋅π<br />

⋅σ σ<br />

⎢<br />

⎢⎣<br />

ε<br />

rε<br />

0<br />

⋅κ<br />

−κ<br />

⋅( d + 2⋅R−d0<br />

) −κ<br />

⋅( d −d0<br />

)<br />

( e − e )<br />

B ⎛<br />

+ ⋅⎜<br />

7 ⋅72⋅π<br />

⎝<br />

B ⎛<br />

+ ⋅⎜<br />

72⋅π<br />

⎝<br />

1<br />

1<br />

8<br />

( d − d ) ( d + 2⋅<br />

R − d )<br />

0<br />

⎞⎤<br />

⎟<br />

( ) ( ) ⎥ ⎥ 7<br />

7<br />

d + 2⋅<br />

R − d − ⎟<br />

0<br />

d d0<br />

⎠⎦<br />

−<br />

+<br />

1<br />

1<br />

8<br />

0<br />

⎞⎤<br />

⎟<br />

⎥<br />

⎠⎥⎦<br />

(3.23)<br />

(3.24)<br />

(B … Parameter; d … Abstand zwischen AFM-Sonde und Probenoberfläche; F … Kraft; G … Freie<br />

Wechselwirkungsenergie je Flächeneinheit; R … Radius der Sonde; r … Laufvariable; SEI … Rechenvorschrift<br />

„Surface Element Integration“; ε r … relative Dielektrizitätskonstante im Vergleich zum Vakuum;<br />

ε 0 … Dielektrizitätskonstante im Vakuum; σ 1 σ 2 … Produkt der Oberflächenladungsdichten von AFM-Sonde<br />

und Probenoberfläche; 1/κ … Debye-Länge)<br />

Sowohl für die Anwendung der Derjaguin-Näherung als auch für die Anwendung der<br />

SEI-Rechenvorschrift muss der Radius der AFM-Sonde bekannt sein. Dieser wurde in<br />

Anlehnung an Drechsler et al. (2004) und Feiler et al. (2000) für jede verwendete AFM-Sonde<br />

anhand von REM-Aufnahmen mit Hilfe der Software Scandium 5.1 (Olympus Soft Imaging<br />

Solutions GmbH, Münster, D) bestimmt. Die Aufnahme der REM-Bilder erfolgte im<br />

Anschluss an die Kraftmessungen, da die Elektronen die Oberflächenchemie der Sonde<br />

irreversibel verändern. Das Aufdampfen einer leitfähigen Schicht entfiel.<br />

3.6.3.2 Kraftmessungen zur Simulation CMP-relevanter Systeme<br />

In einem zweiten Teil wurden systematisch Kraftmessungen an CMP-relevanten Systemen<br />

durchgeführt. Sowohl die Wafer-Schleifpartikel- als auch die Schleifpartikel-Schleifpartikel-<br />

Versuche wurden in der kontinuierlichen Phase der entsprechenden Slurry durchgeführt,<br />

wobei das Schleifpartikel durch eine entsprechend modifizierte AFM-Sonde ersetzt wurde.<br />

Zur Bereitstellung der kontinuierlichen Phase wurde die Slurry mit der Zentrifuge 5804 R<br />

(Eppendorf-Netheler-Hinz GmbH, Hamburg, D) zentrifugiert (10000 U/min, 30 min, 24 °C)<br />

und lediglich der Überstand für die Kraftmessungen verwendet. Die Einstellung der<br />

gewünschten pH-Werte erfolgte, durch die Zugabe entsprechender Mengen HCl bzw. NH 4 OH<br />

(Konzentration jeweils: 10 -1 mol/l) zum Überstand. Um die Ergebnisse der Kraftmessungen<br />

untereinander vergleichen zu können, wurden die Kraft-Abstands-Kurven zunächst auf den<br />

Sondenradius skaliert und in geometrieunabhängige Kurven der Freien<br />

Wechselwirkungsenergie je Flächeneinheit (FIE) umgerechnet. In Anlehnung an Sokolov et<br />

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