Lichtstreuende Oberflächen, Schichten und Schichtsysteme zur ...

4 Materialeigenschaften von ZnO:Al
Der bei niedriger Substrat-Temperatur vom Target mit TDM = 0,2 wt% gesputterte
Film (offene graue Sterne in Abb. 4.18) zeigt einen deutlichen Anstieg
der Beweglichkeit von µ = 19 cm2 /Vs auf µ = 37 cm2 /Vs nach dem Vakuum-Tempern
für eine Stunde bei 300 ◦ C. Tempern bei höheren Temperaturen
reduziert die Beweglichkeit bis auf µ = 15 cm2 /Vs (600 ◦ C). Die Ladungsträgerdichte
bildet ein Maximum im Fall des Temperns bei 300 ◦ C bis 400 ◦ Caus
und damit im Bereich, indem auch eine hohe Beweglichkeit gemessen wird. Insgesamt
verbleibt die Ladungsträgerdichte auf einem vergleichsweise niedrigen
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Abbildung 4.19: Verhalten von ZnO:Al-Filmen – deponiert bei vergleichsweise
hoher Substrat-Temperatur von TS = 460 ◦ C (TDM 0,2 wt% bzw. 2 wt%) bzw.
TS = 300 ◦ C (TDM 1 wt%) – unter Vakuum-Tempern für je eine Stunde bei verschiedenen
Temperaturen. Beweglichkeit µ, Ladungsträgerdichte n und Transmission
(ausgewertet bei λ = 1,6 µm) sind dargestellt. Die Linien verdeutlichen die
Trends.